JPS6043913B2 - 蒸発源用るつぼ - Google Patents

蒸発源用るつぼ

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Publication number
JPS6043913B2
JPS6043913B2 JP2558280A JP2558280A JPS6043913B2 JP S6043913 B2 JPS6043913 B2 JP S6043913B2 JP 2558280 A JP2558280 A JP 2558280A JP 2558280 A JP2558280 A JP 2558280A JP S6043913 B2 JPS6043913 B2 JP S6043913B2
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JP
Japan
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crucible
evaporation source
crucible body
covered
present
Prior art date
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Expired
Application number
JP2558280A
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English (en)
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JPS56123368A (en
Inventor
晋作 中田
陽一 三上
和弘 深谷
正裕 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Expired legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、真空蒸着、イオンブレーティングなどの物理
的蒸着法に於て好適に用いられる蒸発源用るつぼに関す
る。
従来、常温固体状の物質を加熱蒸発せしめて被蒸着材上
に蒸着して薄膜形成を行なう真空蒸着、イオンブレーテ
ィング等に於て、常温固体状の物質を加熱蒸発せしめる
ためのるつぼとしては、黒鉛からなるものが一般的であ
つた。
ところが、黒鉛からなるるつぼを用いて1500℃以上
の高温に蒸着材料を加熱しようとする場合、るつぼ外面
からの輻射による熱エネルギーの損失が、熱伝導等によ
つて失なわれる熱エネルギーに比して急激に増加し、蒸
着材料を加熱蒸発させるために要するエネルギーが激増
する。通常、該加熱エネルギーには、電気エネルギーを
用いるが、上記理由により、るつぼ加熱のための大出力
電源が必要となつたり、消費電力も大となるなどの欠点
を有していた。又、装置内に於て、プラスチック、ゴム
等のように比較的低い温度で軟化変形したり、分解劣化
したりする部材、治具等が使用されている場合、前記輻
射熱により種々のトラブルを生ずる原因となつていた。
本発明の目的は、上記欠点、問題点を解消し、低エネル
ギーにより容易にるつぼを高温加熱することができ、且
つ高温状態にある該るつぼからの輻射熱エネルギーによ
るトラブルの生じないような蒸発源用るつぼを提供する
ことにある。
本発明の要旨は、るつぼ本体の外面が、該るつぼ本体よ
り小なる熱輻射率を有する高融点材料からなる被覆材で
被われていることを特徴とする蒸発源用るつぼに存する
本発明に於て、るつぼ本体の形状としては、容器状であ
れば開放型、密閉型等どちらでもよい。
本発明に於て、るつぼ本体の材質としては、黒鉛、アル
ミナ、ジルコニア、マグネシア、ベリリア、窒化ボロン
等の高熱に耐えうるものが使用さ・れるが、熱輻射率の
大きい黒鉛の場合が本発明に於て最も顕著な効果を発現
する。本発明に於て、るつぼ本体より小なる熱輻射率を
有する高融点材料とι、ては、タングステン、タンタル
、モリブデン、ニオブ等であり、これらの・シート状、
箔状、或は容器状となされたものをるつぼ本体の被覆材
として用いるのてある。
被覆材の厚みとしては通常0.1μ〜5Tnlftの範
囲が好ましい。薄すぎると強度が小さくなるし、厚くな
るとコストアップになる。そして、本発明に於ては、該
被覆材によりるつぼ本体の外面を、例えば第1図、第2
図に示すように被覆するのである。
第1図はクラスターイオンビーム蒸着法に用いられる密
閉型の蒸発源用るつぼの例を示したものてあり、第2図
は高真空イオンブレーティング法に用いられる開放型の
蒸発源用るつぼの例を示したものであり、図中、1,1
″はるつぼ本体、2,2′は蒸発源収納部、3,3″は
被覆材である。るつぼ本体の外面は蒸発源収納部を除い
てできる限り被われた方が好ましいのはもちろんである
高温に加熱されたるつぼは、熱輻射を行い、その熱輻射
量は、ステファン−ボルツマンの法則により、るつぼの
温度の4乗に比例することが知られている。
るつぼ本体の輻射率をE1、被覆材の輻射率をE2、る
つほ本体の全面積をS1被覆面積をS″とすると、平衡
温度Tに加熱されているときの、るつぼ本体のみの熱輻
射量Q1は、Q1=σε1T1Sとなり、被覆材で被わ
れたるつぼの熱輻射量Q2は、Q2=σElT4(S−
S″)+σε2T4S″となる。ここでσは輻射定数で
ある。したがつて、被覆材で被覆しない場合と被覆した
場合、の熱輻射量の差ΔQ=Q1−Q2は、ΔQ=σ(
ε1上2)T4S″となる。例えば、黒鉛の輻射率は0
.85〜0.95もあるので、被覆材に輻射率の小さい
材料(モリブデンの輻射率は約0.2)を選定すること
により、非常に大きな量のエネルギーの輻!射による損
失を防止することができる。特に温度の4乗に比例する
ので高温においては著しいものとなる。上述のとおり、
本発明の蒸発源用るつぼは、るつぼ本体の外面が該るつ
ぼ本体より小なる熱輻射!率を有する高融点材料からな
る被覆材で被われているから、るつぼを加熱する場合に
、るつぼ外面からの熱輻射量が減少し、低エネルギーで
容易に高温加熱することができ、且つ高温に加熱された
るつぼからの輻射熱によるトラブルも解消され1る。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例 外径が11wmφ、高さが25Tn1nの円柱状の黒鉛
るつぼ本体と、輻射熱が約0.2である厚み0.1順の
モリブデン板を被覆材として用い、黒鉛るつぼ本体の側
面を被覆材で被い、加熱時の変形を防止する目的で0.
17n!nφのタンタル線をその外側に一重に巻いて被
覆材を固定し、本発明の蒸発源用るつほとaした。
そして、該蒸発源用るつぼ(実施例)と、比較のための
被覆材で被われていない上記と同様の黒鉛るつぼ本体(
比較例)とを、クラスターイオンビーム蒸着装置の真空
容器(真空度2X10−5t0rr)内で電子衝撃法に
より加熱し、るつぼの温度と加熱に要する電力とを測定
した。
るつぼ温度は光温度計(横河電機製作所製、26741
型)により測定した。るつぼの温度とその時の必要電力
及び比較例と実施例の必要電力の比を第1表に示す。
本実施例では、モリブデン板を被覆材として用いること
により、1000〜1600℃の間で、約32〜44%
の印加電力を減少できた。
また放出される輻射熱量の低下により、特別な保護装置
、例えば基材冷却装置等を導入することなく、基材等の
熱劣化等を防止することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明蒸発源用るつぼの一例を示す断面図、第
2図は本発明蒸発源用るつぼの他の例を示す断面図であ
る。 1,1・......るっぼ本体、3,3″・・・・・
・被覆材。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 るつぼ本体の外面が、該るつぼ本体より小なる熱輻
    射率を有する高融点材料からなる被覆材で被われている
    ことを特徴とする蒸発源用るつぼ。 2 るつぼ本体が黒鉛からなるものである特許請求の範
    囲第1項記載の蒸発源用るつぼ。 3 被覆材がモリブデンからなるものである特許請求の
    範囲第1項又は第2項記載の蒸発源用るつぼ。
JP2558280A 1980-02-29 1980-02-29 蒸発源用るつぼ Expired JPS6043913B2 (ja)

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JPS56123368A JPS56123368A (en) 1981-09-28
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60152670A (ja) * 1984-01-20 1985-08-10 Ulvac Corp 高周波誘導加熱蒸発源
JPS6389963U (ja) * 1986-11-28 1988-06-10
US7364772B2 (en) * 2004-03-22 2008-04-29 Eastman Kodak Company Method for coating an organic layer onto a substrate in a vacuum chamber
FR3036710B1 (fr) * 2015-05-27 2020-06-19 China Triumph International Engineering Co., Ltd. Diaphragme a comportement d'emission thermique optimise
US11441235B2 (en) * 2018-12-07 2022-09-13 Showa Denko K.K. Crystal growing apparatus and crucible having a main body portion and a low radiation portion
JP7440304B2 (ja) * 2020-03-06 2024-02-28 株式会社アドバンテック ステージ

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