JPH0543090Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0543090Y2 JPH0543090Y2 JP16840186U JP16840186U JPH0543090Y2 JP H0543090 Y2 JPH0543090 Y2 JP H0543090Y2 JP 16840186 U JP16840186 U JP 16840186U JP 16840186 U JP16840186 U JP 16840186U JP H0543090 Y2 JPH0543090 Y2 JP H0543090Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- evaporation source
- vapor deposition
- shutter
- source
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 64
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 64
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、真空蒸着装置に用いられる蒸着制御
用シヤツターに関するものである。
用シヤツターに関するものである。
従来の技術
従来の蒸着制御用シヤツターを用いた真空蒸着
装置の概略について第２図を参照しながら説明す
る。
装置の概略について第２図を参照しながら説明す
る。
第２図において、１と２は蒸発源、３は蒸発源
１と２の間に設けられた熱遮蔽板、４は蒸発源
１，２と、この蒸発源１，２の蒸着物質を蒸着さ
せる基板５との間で開閉可能に設けられた金属製
で平板状の蒸着制御用シヤツターである。
１と２の間に設けられた熱遮蔽板、４は蒸発源
１，２と、この蒸発源１，２の蒸着物質を蒸着さ
せる基板５との間で開閉可能に設けられた金属製
で平板状の蒸着制御用シヤツターである。
次に上記従来例の動作について説明する。蒸発
源１と２を加熱し、蒸着物質を蒸発させ、基板２
５に二元蒸着させるに際し、蒸着制御用シヤツタ
ー４の開閉により制御する。このとき、蒸気圧が
著しく異なる二種類の蒸着物質を同時に基板５に
蒸着する場合においては、一方の蒸発源１の加熱
に伴う熱放射の影響を受けて他方の蒸発源２が温
度上昇してしまい、精度の良い蒸着コントロール
が困難となるので、熱遮蔽板３により両蒸着源１
と２の間を遮蔽している。
源１と２を加熱し、蒸着物質を蒸発させ、基板２
５に二元蒸着させるに際し、蒸着制御用シヤツタ
ー４の開閉により制御する。このとき、蒸気圧が
著しく異なる二種類の蒸着物質を同時に基板５に
蒸着する場合においては、一方の蒸発源１の加熱
に伴う熱放射の影響を受けて他方の蒸発源２が温
度上昇してしまい、精度の良い蒸着コントロール
が困難となるので、熱遮蔽板３により両蒸着源１
と２の間を遮蔽している。
考案が解決しようとする問題点
しかし、上記従来の蒸着制御用シヤツター４は
金属製で平板状に形成されているので、例えば高
温側の蒸発源１を所定温度まで上昇させる過程
で、点線矢印で示すように蒸発源１の輻射熱が蒸
着制御用シヤツター４の裏面で反射し、他方の低
温側の蒸発源２の温度上昇をもたらしてしまう。
この輻射熱の影響下で低温側の蒸発源２を温度制
御し、一定の条件になつた後、蒸着制御用シヤツ
ター４を開けて蒸着を開始すると、蒸着制御用シ
ヤツター４を開けた時点からこの輻射熱がなくな
るため、低温側の蒸発源２は温度降下を生じ、こ
の結果、両蒸発源１，２からの蒸発シートも変化
してしまう。これは低融点有機物を蒸着する場合
には、特に問題となる。
金属製で平板状に形成されているので、例えば高
温側の蒸発源１を所定温度まで上昇させる過程
で、点線矢印で示すように蒸発源１の輻射熱が蒸
着制御用シヤツター４の裏面で反射し、他方の低
温側の蒸発源２の温度上昇をもたらしてしまう。
この輻射熱の影響下で低温側の蒸発源２を温度制
御し、一定の条件になつた後、蒸着制御用シヤツ
ター４を開けて蒸着を開始すると、蒸着制御用シ
ヤツター４を開けた時点からこの輻射熱がなくな
るため、低温側の蒸発源２は温度降下を生じ、こ
の結果、両蒸発源１，２からの蒸発シートも変化
してしまう。これは低融点有機物を蒸着する場合
には、特に問題となる。
そこで、本考案は、二元蒸着しようとする場
合、特に一方の蒸発源からの輻射熱が他方の蒸発
源に熱的影響を及ぼすのを防止し、蒸発源の温度
制御を精度良く行うことができ、蒸発量の変動を
小さくすることができるようにした蒸着制御用シ
ヤツターを提供しようとするものである。
合、特に一方の蒸発源からの輻射熱が他方の蒸発
源に熱的影響を及ぼすのを防止し、蒸発源の温度
制御を精度良く行うことができ、蒸発量の変動を
小さくすることができるようにした蒸着制御用シ
ヤツターを提供しようとするものである。
問題点を解決するための手段
そして上記問題点を解決するための本考案の技
術的な手段は、真空蒸着装置の蒸発源から放射さ
れる輻射熱を蒸発源以外の方向へ放散させる手段
を備えたものである。
術的な手段は、真空蒸着装置の蒸発源から放射さ
れる輻射熱を蒸発源以外の方向へ放散させる手段
を備えたものである。
作 用
本考案は上記構成により、蒸発源から放射され
る輻射熱を蒸発源以外の方向へ放散させるので、
蒸発源の温度が蒸発源から放射される輻射熱の影
響を受けることがなく、従つて蒸発源の温度制御
を精度良く行うことができ、特に蒸気圧が大きく
異なる二種類の蒸着物質を蒸着する場合に有用で
ある。
る輻射熱を蒸発源以外の方向へ放散させるので、
蒸発源の温度が蒸発源から放射される輻射熱の影
響を受けることがなく、従つて蒸発源の温度制御
を精度良く行うことができ、特に蒸気圧が大きく
異なる二種類の蒸着物質を蒸着する場合に有用で
ある。
実施例
以下、本考案の実施例について図面を参照しな
がら説明する。第１図は本発明の一実施例におけ
る蒸着制御用シヤツターを用いた真空蒸着装置を
示す概略図である。
がら説明する。第１図は本発明の一実施例におけ
る蒸着制御用シヤツターを用いた真空蒸着装置を
示す概略図である。
第１図において、１と２は蒸発源、３は蒸発源
１と２の間に設けられた熱遮蔽板、６は蒸発源
１，２と、この蒸発源１，２の蒸着物質を蒸着さ
せる基板５との間で開閉可能に設けられた本考案
の蒸着制御用シヤツターである。この蒸着制御用
シヤツター６は、従来例と同様に金属製であり、
その裏面には、図示されるように、各蒸発源１，
２から放射される輻射熱を自身の蒸発源１，２及
び他方の蒸発源２，１以外の方向へ放散させる手
段として、蒸着用シヤツター６と同じ材質の熱反
射面７，８が設置されている。
１と２の間に設けられた熱遮蔽板、６は蒸発源
１，２と、この蒸発源１，２の蒸着物質を蒸着さ
せる基板５との間で開閉可能に設けられた本考案
の蒸着制御用シヤツターである。この蒸着制御用
シヤツター６は、従来例と同様に金属製であり、
その裏面には、図示されるように、各蒸発源１，
２から放射される輻射熱を自身の蒸発源１，２及
び他方の蒸発源２，１以外の方向へ放散させる手
段として、蒸着用シヤツター６と同じ材質の熱反
射面７，８が設置されている。
次に上記実施例の動作について説明する。蒸発
源１と２を加熱し、蒸着物質を蒸発させ、基板５
に蒸着させるに際し、蒸着制御用シヤツター６の
開閉により制御する。このとき、各蒸発源１，２
から放射された輻射熱は点線矢印で示すように熱
反射面７，８により自身の蒸発源１，２及び他方
の蒸発源２，１以外の方向へ放散される。従つ
て、例えば、低温側の蒸発源２は高温側の蒸発源
１による熱影響を少ないので、その温度制御を精
度良く行うことができる。
源１と２を加熱し、蒸着物質を蒸発させ、基板５
に蒸着させるに際し、蒸着制御用シヤツター６の
開閉により制御する。このとき、各蒸発源１，２
から放射された輻射熱は点線矢印で示すように熱
反射面７，８により自身の蒸発源１，２及び他方
の蒸発源２，１以外の方向へ放散される。従つ
て、例えば、低温側の蒸発源２は高温側の蒸発源
１による熱影響を少ないので、その温度制御を精
度良く行うことができる。
第１図に示す本考案の蒸着制御用シヤツター６
を用いた場合と、第１図に示す従来の蒸着制御用
シヤツター４を用いた場合の効果を比較するた
め、それぞれ高温側の蒸発源１の温度を400℃に
昇温し、低温側の蒸発源２は無加熱の状態で温度
をモニターした。その結果、従来の蒸着制御用シ
ヤツター４を用いた場合には、低温側の蒸発源２
の温度は約75℃まで上昇した。これに対し、本考
案の蒸着制御用シヤツター６を用いた場合には、
低温側の蒸発源２の温度の上昇は少なく、約40℃
であつた。
を用いた場合と、第１図に示す従来の蒸着制御用
シヤツター４を用いた場合の効果を比較するた
め、それぞれ高温側の蒸発源１の温度を400℃に
昇温し、低温側の蒸発源２は無加熱の状態で温度
をモニターした。その結果、従来の蒸着制御用シ
ヤツター４を用いた場合には、低温側の蒸発源２
の温度は約75℃まで上昇した。これに対し、本考
案の蒸着制御用シヤツター６を用いた場合には、
低温側の蒸発源２の温度の上昇は少なく、約40℃
であつた。
考案の効果
以上述べたように本考案によれば、真空蒸着装
置の蒸発源から放射される輻射熱を蒸発源以外の
方向へ放散させる手段を備えているので、特に一
方の蒸発源からの輻射熱が他方の蒸発源に熱影響
を及ぼすのを防止することができる。従つて蒸発
源の温度制御を精度良く行うことができ、蒸発量
の変動を小さくすることができ、特に蒸気圧が大
きく異なる二種類の蒸着物質を蒸着する場合に有
用である。
置の蒸発源から放射される輻射熱を蒸発源以外の
方向へ放散させる手段を備えているので、特に一
方の蒸発源からの輻射熱が他方の蒸発源に熱影響
を及ぼすのを防止することができる。従つて蒸発
源の温度制御を精度良く行うことができ、蒸発量
の変動を小さくすることができ、特に蒸気圧が大
きく異なる二種類の蒸着物質を蒸着する場合に有
用である。
第１図は本考案の一実施例における蒸着制御用
シヤツターを用いた真空蒸着装置の概略図、第２
図は従来の蒸着制御用シヤツターを用いた真空蒸
着装置の概略図である。 １，２……蒸発源、３……熱遮蔽板、５……基
板、６……本考案の蒸着制御用シヤツター、７，
８……熱反射面（熱放散手段）。
シヤツターを用いた真空蒸着装置の概略図、第２
図は従来の蒸着制御用シヤツターを用いた真空蒸
着装置の概略図である。 １，２……蒸発源、３……熱遮蔽板、５……基
板、６……本考案の蒸着制御用シヤツター、７，
８……熱反射面（熱放散手段）。
Claims (1)
- 真空蒸着装置の蒸発源から放射される輻射熱を
蒸着源以外の方向へ放散させるための金属製の熱
反射面を備えたことを特徴とする蒸着制御用シヤ
ツター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16840186U JPH0543090Y2 (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16840186U JPH0543090Y2 (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6373360U JPS6373360U (ja) | 1988-05-16 |
| JPH0543090Y2 true JPH0543090Y2 (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=31101250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16840186U Expired - Lifetime JPH0543090Y2 (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543090Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-10-31 JP JP16840186U patent/JPH0543090Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6373360U (ja) | 1988-05-16 |
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