JPH084000Y2 - 複層セラミックスヒ−タ− - Google Patents
複層セラミックスヒ−タ−Info
- Publication number
- JPH084000Y2 JPH084000Y2 JP1991027299U JP2729991U JPH084000Y2 JP H084000 Y2 JPH084000 Y2 JP H084000Y2 JP 1991027299 U JP1991027299 U JP 1991027299U JP 2729991 U JP2729991 U JP 2729991U JP H084000 Y2 JPH084000 Y2 JP H084000Y2
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- JP
- Japan
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- heater
- ceramics
- layer
- ceramic heater
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は複層セラミックスヒ−タ
−、特には温度分布を自由に制御することができ、高
温、高真空下において金属不純物の飛散が少ないことか
ら、半導体産業、宇宙産業用などに有用とされる、化学
気相蒸着法、スパッタ−法によって薄膜を形成する際の
基板の加熱用に好適とされる複層セラミックスヒ−タ−
に関するものである。
−、特には温度分布を自由に制御することができ、高
温、高真空下において金属不純物の飛散が少ないことか
ら、半導体産業、宇宙産業用などに有用とされる、化学
気相蒸着法、スパッタ−法によって薄膜を形成する際の
基板の加熱用に好適とされる複層セラミックスヒ−タ−
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体工業、宇宙産業などに使用
される加熱用ヒ−タ−については、加熱時にヒ−タ−か
ら飛散する金属不純物によってデバイスに悪影響が与え
られたり、真空度が低下するという不利が生じることが
あることから、この加熱ヒ−タ−としてはアルミナ、窒
化アルミニウム、ジルコニア、石英などの焼結体にモリ
ブデン、タングステンなどの高融点金属の線や箔をヒ−
タ−として巻きつけるか、接着したものが用いられてい
る。
される加熱用ヒ−タ−については、加熱時にヒ−タ−か
ら飛散する金属不純物によってデバイスに悪影響が与え
られたり、真空度が低下するという不利が生じることが
あることから、この加熱ヒ−タ−としてはアルミナ、窒
化アルミニウム、ジルコニア、石英などの焼結体にモリ
ブデン、タングステンなどの高融点金属の線や箔をヒ−
タ−として巻きつけるか、接着したものが用いられてい
る。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】しかし、これらの加熱
ヒ−タ−にはこの焼結体に焼結バインダ−からの金属不
純物や脱脂不充分による炭素などが混入しているという
不利があるほか、これには加熱ヒ−タ−の組み立てが煩
雑であるし、被加熱体に直接ヒ−タ−が接触できないの
で精密な温度コントロ−ルが難しく、さらにはヒ−タ−
が金属製であるために熱による変形、脆化が発生し易
く、短絡やスパ−クなどのトラブルがしばしば生じると
いう欠点がある。
ヒ−タ−にはこの焼結体に焼結バインダ−からの金属不
純物や脱脂不充分による炭素などが混入しているという
不利があるほか、これには加熱ヒ−タ−の組み立てが煩
雑であるし、被加熱体に直接ヒ−タ−が接触できないの
で精密な温度コントロ−ルが難しく、さらにはヒ−タ−
が金属製であるために熱による変形、脆化が発生し易
く、短絡やスパ−クなどのトラブルがしばしば生じると
いう欠点がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本考案はこのような不利
を解決した複層セラミックスヒーターに関するもので、
これは平面状の化学気相蒸着法で作られた金属不純物量
が10ppm 以下である熱分解窒化ほう素、窒化アルミニウ
ムまたは窒化けい素からなるセラミックスの上に、熱分
解グラファイトまたは合成有機化合物を 800〜2,200 ℃
で焼成して得た炭素膜を付着させてなる複層セラミック
スヒーターのヒーター回路部分が複数個に分割され、分
割されたヒーター回路部分それぞれに温度センサ−を設
けてなることを特徴とするものである。
を解決した複層セラミックスヒーターに関するもので、
これは平面状の化学気相蒸着法で作られた金属不純物量
が10ppm 以下である熱分解窒化ほう素、窒化アルミニウ
ムまたは窒化けい素からなるセラミックスの上に、熱分
解グラファイトまたは合成有機化合物を 800〜2,200 ℃
で焼成して得た炭素膜を付着させてなる複層セラミック
スヒーターのヒーター回路部分が複数個に分割され、分
割されたヒーター回路部分それぞれに温度センサ−を設
けてなることを特徴とするものである。
【０００５】すなわち、本考案者らは温度分布を自由に
制御することができ、高温、高真空下でも金属不純物の
飛散の少ない複層セラミックスヒ−タ−を開発すべく種
々検討した結果、この複層セラミックスヒ−タ−をセラ
ミックスを支持基材とし、この上に発熱層として炭素膜
を付着させたものとし、このセラミックスは化学蒸着法
などで作られた窒化ほう素、窒化アルミニウム、窒化け
い素などからなるもの、また炭素膜は熱分解グラファイ
トまたは合成有機化合物の焼成で得たものとすれば高
温、高真空下でも金属不純物の飛散の少ないものとする
ことができるし、このヒ−タ−回路部分に温度センサ−
を設けて温度制御をすればこのヒ−タ−の温度分布を自
由に制御できることを見出して本考案を完成させた。以
下にこれをさらに詳述する。
制御することができ、高温、高真空下でも金属不純物の
飛散の少ない複層セラミックスヒ−タ−を開発すべく種
々検討した結果、この複層セラミックスヒ−タ−をセラ
ミックスを支持基材とし、この上に発熱層として炭素膜
を付着させたものとし、このセラミックスは化学蒸着法
などで作られた窒化ほう素、窒化アルミニウム、窒化け
い素などからなるもの、また炭素膜は熱分解グラファイ
トまたは合成有機化合物の焼成で得たものとすれば高
温、高真空下でも金属不純物の飛散の少ないものとする
ことができるし、このヒ−タ−回路部分に温度センサ−
を設けて温度制御をすればこのヒ−タ−の温度分布を自
由に制御できることを見出して本考案を完成させた。以
下にこれをさらに詳述する。
【０００６】
【作用】本考案は複層セラミックスヒ−タ−に関するも
ので、これは平面状のセラミックスの上に炭素膜を付着
させてなる複層セラミックスヒ−タ−のヒ−タ−回路部
分に温度センサ−を設けてなるものである。
ので、これは平面状のセラミックスの上に炭素膜を付着
させてなる複層セラミックスヒ−タ−のヒ−タ−回路部
分に温度センサ−を設けてなるものである。
【０００７】本考案の複層セラミックスヒーターは基本
的には支持基材となる平面状のセラミックスの上に発熱
層としての炭素膜を設けたものとされるが、このセラミ
ックスはそれが焼結バインダ−を加えて焼結したものと
すると前記したように焼結バインダ−からの金属不純物
や脱脂不充分による炭素などが混入してくるので、この
ものは化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）で作られた金属不純
物が10ppm 以下である熱分解窒化ほう素（ＰＢＮ）、窒
化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化けい素（Ｓｉ3Ｎ4 ）
とされる。
的には支持基材となる平面状のセラミックスの上に発熱
層としての炭素膜を設けたものとされるが、このセラミ
ックスはそれが焼結バインダ−を加えて焼結したものと
すると前記したように焼結バインダ−からの金属不純物
や脱脂不充分による炭素などが混入してくるので、この
ものは化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）で作られた金属不純
物が10ppm 以下である熱分解窒化ほう素（ＰＢＮ）、窒
化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化けい素（Ｓｉ3Ｎ4 ）
とされる。
【０００８】また、この発熱層となる炭素膜もプロピレ
ンガスなどの熱分解で作られた熱分解炭素（ＰＧ）とす
るか、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリオレフイン
などの熱可塑性樹脂、フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂を 800〜2,200 ℃
で焼成して得た炭素からなるものとされるが、これによ
れば高温、高真空下でも金属不純物が飛散することがな
いので被処理物が汚染されるという不利が防止される。
ンガスなどの熱分解で作られた熱分解炭素（ＰＧ）とす
るか、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリオレフイン
などの熱可塑性樹脂、フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂を 800〜2,200 ℃
で焼成して得た炭素からなるものとされるが、これによ
れば高温、高真空下でも金属不純物が飛散することがな
いので被処理物が汚染されるという不利が防止される。
【０００９】また、本考案の複層セラミックスヒーター
ではこの炭素膜からなるヒーター回路部分に温度センサ
−が設けられる。これは例えば図１に示したようにヒー
ター回路部分に設けられるのであるが、これによればこ
のヒーターの発熱を自由に調節することができるので、
目的に応じてこの温度を調整することができる。しか
し、この温度センサ−の設置は１個だけでなく、図１に
示したようにヒーター回路部分を複数個に分割して、そ
のそれぞれに温度センサ−を設けられるので、これによ
ればより細かにこの発熱温度を制御することができると
いう有利性が与えられる。
ではこの炭素膜からなるヒーター回路部分に温度センサ
−が設けられる。これは例えば図１に示したようにヒー
ター回路部分に設けられるのであるが、これによればこ
のヒーターの発熱を自由に調節することができるので、
目的に応じてこの温度を調整することができる。しか
し、この温度センサ−の設置は１個だけでなく、図１に
示したようにヒーター回路部分を複数個に分割して、そ
のそれぞれに温度センサ−を設けられるので、これによ
ればより細かにこの発熱温度を制御することができると
いう有利性が与えられる。
【００１０】
【実施例】つぎに本考案の実施例をあげる。 実施例１ 直径100mm φの金属不純物量が２ppm である熱分解窒化
けい素からなるセラミックス支持基板に、化学気相蒸着
法（ＣＶＤ法）で発熱層となる熱分解グラファイトを厚
さ50μm に形成させ、この中央およびこの発熱層を４分
割し、この各々に炭化けい素製の温度センサ−を取りつ
け、この上にさらに熱分解窒化ほう素をコ−ティングし
たのち、各々の端子を加熱制御装置と結線した。つい
で、このようにして得た複層セラミックスヒーターに電
圧を印加して加熱し、円板上の温度分布を測定したとこ
ろ、このものは 600〜1,400 ℃の範囲で±0.1 ℃の制御
が可能であり、これによれば中央部の温度を高くして周
囲を徐々に低温にしたり、所望の温度分布に制御するこ
とができ、これはまた高温にしても金属不純物による汚
染も防止することができた。
けい素からなるセラミックス支持基板に、化学気相蒸着
法（ＣＶＤ法）で発熱層となる熱分解グラファイトを厚
さ50μm に形成させ、この中央およびこの発熱層を４分
割し、この各々に炭化けい素製の温度センサ−を取りつ
け、この上にさらに熱分解窒化ほう素をコ−ティングし
たのち、各々の端子を加熱制御装置と結線した。つい
で、このようにして得た複層セラミックスヒーターに電
圧を印加して加熱し、円板上の温度分布を測定したとこ
ろ、このものは 600〜1,400 ℃の範囲で±0.1 ℃の制御
が可能であり、これによれば中央部の温度を高くして周
囲を徐々に低温にしたり、所望の温度分布に制御するこ
とができ、これはまた高温にしても金属不純物による汚
染も防止することができた。
【００１１】実施例２ 直径50mmφ、高さ100mm、厚さ２mmの金属不純物量が２pp
m である熱分解窒化けい素製の円筒の外周に、化学気相
蒸着法で発熱層となる熱分解グラファイトを厚さ50μm
に形成させ、この発熱層を高さ方向で４分割してヒータ
ーパタ−ンを作り、このそれぞれに炭化けい素製の温度
センサ−を取りつけ、さらにこの上に熱分解窒化ほう素
をコ−ティングして複層セラミックスヒーターを作り、
これに通電してその温度分布を測定したところ、実施例
１と同じ結果が得られた。
m である熱分解窒化けい素製の円筒の外周に、化学気相
蒸着法で発熱層となる熱分解グラファイトを厚さ50μm
に形成させ、この発熱層を高さ方向で４分割してヒータ
ーパタ−ンを作り、このそれぞれに炭化けい素製の温度
センサ−を取りつけ、さらにこの上に熱分解窒化ほう素
をコ−ティングして複層セラミックスヒーターを作り、
これに通電してその温度分布を測定したところ、実施例
１と同じ結果が得られた。
【００１２】
【考案の効果】本考案は複層セラミックスヒーターに関
するものであり、これは前記したように化学気相蒸着法
で作られた平面状のセラミックスの上に、熱分解グラフ
ァイトまたは合成有機化合物を 800〜2,200 ℃で焼成し
た炭素膜を付着させてなる複層セラミックスヒーターの
複数個に分割されたヒーター回路部分に温度センサーを
設けてなることを特徴とするものであるが、これによれ
ばこの複層セラミックスヒータの発熱温度温度分布を目
的に応じて自由に制御することができるという有利性が
与えられるし、このセラミックスが化学気相蒸着法で作
られ、この炭素膜が熱分解グラファイトまたは合成有機
化合物の焼成で作られたものなので、このセラミックス
炭素膜からの金属不純物の飛散を少なくすることができ
るという有利性も与えられる。
するものであり、これは前記したように化学気相蒸着法
で作られた平面状のセラミックスの上に、熱分解グラフ
ァイトまたは合成有機化合物を 800〜2,200 ℃で焼成し
た炭素膜を付着させてなる複層セラミックスヒーターの
複数個に分割されたヒーター回路部分に温度センサーを
設けてなることを特徴とするものであるが、これによれ
ばこの複層セラミックスヒータの発熱温度温度分布を目
的に応じて自由に制御することができるという有利性が
与えられるし、このセラミックスが化学気相蒸着法で作
られ、この炭素膜が熱分解グラファイトまたは合成有機
化合物の焼成で作られたものなので、このセラミックス
炭素膜からの金属不純物の飛散を少なくすることができ
るという有利性も与えられる。
【図１】本考案の複層セラミックスヒ−タの正面図であ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 山口 和弘 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社 精密機能材料研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−216283（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−110917（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】平面状の化学気相蒸着法で作られた金属不
純物量が10ppm 以下である熱分解窒化ほう素、窒化アル
ミニウムまたは窒化けい素からなるセラミックスの上
に、熱分解グラファイトまたは合成有機化合物を 800〜
2,200 ℃で焼成して得た炭素膜を付着させてなる複層セ
ラミックスヒーターのヒーター回路部分が複数個に分割
され、分割されたヒーター回路部分それぞれに温度セン
サ−を設けてなることを特徴とする複層セラミックスヒ
ーター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991027299U JPH084000Y2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 複層セラミックスヒ−タ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991027299U JPH084000Y2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 複層セラミックスヒ−タ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04116397U JPH04116397U (ja) | 1992-10-16 |
| JPH084000Y2 true JPH084000Y2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=31911613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991027299U Expired - Lifetime JPH084000Y2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 複層セラミックスヒ−タ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084000Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011919A1 (fr) * | 1999-08-09 | 2001-02-15 | Ibiden Co., Ltd. | Appareil de chauffage en ceramique |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3641193B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2005-04-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置及び熱処理方法並びに保温ユニット |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63216283A (ja) * | 1987-03-03 | 1988-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱装置 |
| JPH02110917A (ja) * | 1988-06-15 | 1990-04-24 | Teru Kyushu Kk | 熱処理装置 |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP1991027299U patent/JPH084000Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011919A1 (fr) * | 1999-08-09 | 2001-02-15 | Ibiden Co., Ltd. | Appareil de chauffage en ceramique |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04116397U (ja) | 1992-10-16 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment |
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| FPAY | Renewal fee payment |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090112 |
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| FPAY | Renewal fee payment |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100112 |
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| FPAY | Renewal fee payment |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100112 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110112 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment |
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| FPAY | Renewal fee payment |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130112 |