JPS6040943A - X線分析装置 - Google Patents

X線分析装置

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JPS6040943A
JPS6040943A JP59048261A JP4826184A JPS6040943A JP S6040943 A JPS6040943 A JP S6040943A JP 59048261 A JP59048261 A JP 59048261A JP 4826184 A JP4826184 A JP 4826184A JP S6040943 A JPS6040943 A JP S6040943A
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JP
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detector
guide
ray
crystal
slider
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JP59048261A
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ペーター.ブリンクグレーベ
デイーデリツク.クリステイアーン.コーニングスベルフアー
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Eindhoven Technical University
Original Assignee
Eindhoven Technical University
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Publication date
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はX線源、試料保持器、結晶保持器およびX線検
出装置を具え、且つ種々の構成部分を互に変位および方
向付ける移動機構を具えるX線分、。
折装置に関するものである。
斯るX線分析装置は、X線回折装置の形のアメリカ合衆
国特許第2,898,469号から既知である。
高い分解能を有するX線分析装置のような正確1゜な角
度設定および/または距離設定を必要とする装置に対し
て、または例えば工作物の引張り検査のため、または合
金の相測定のため、または例えばE X A F S 
(extended X−ray absorptio
n finestruCture )測定のようなX線
吸収測定のため、15または注入および/または拡散等
の結晶構造測定のためには既知の移動機構の精度および
再現性では、しばしば不十分である。例えばモノクロメ
ータとしてヨハンソン結晶を、使用するのが好適である
。このヨハンソン結晶は、イー・ピー・バー2・・ティ
ン著の本(” Pr1nciple and prac
tice ofX −raySpectrometer
 Analysis I′by E、P。
Bertin、 Plenum Press、 PP、
 148−160 )に他の型の結晶とともに記載され
ている。ここでヨハンソンによる結晶は彎曲しており、
ローランド5円の曲率半径に一致する曲率半径だけ離れ
た所に中心を有して凹状となっていて、X線吸収測定に
おけるローランド円上のモノクロメータ結晶の中心から
円弧に沿って等しい距離の所に焦点および照射される試
料を配置する。モノクロメータ結晶10に放射線が入射
する入射角は、試料を走査するため変化する。これは、
上述の配置において円弧に沿う距離を等しく保ちながら
ローランド円に沿って互いの方向に焦点および試料を移
動させることにより容易に達成できる。焦点およびX線
源を正li確に無理なく変位させることは難しい。この
理由のため、焦点を固定し、試料の位置および方位なら
びにモノクロメータ結晶を変化させる。またローランド
円自身は必然的に焦点を通るようにし、それによってロ
ーランド円の中心が焦点の回りを2゛円軌道を描くよう
にも動かすようにしなければならない。加えて、モノク
ロメータ結晶の方向および試料あるいは検出器あるいは
検出器糸を絶えず調整しなければならない。このため、
さらに一般的には線状スペクト四メータのため種々の構
成部分を変位および方向付ける機構は特に本発明の課題
である。
本発明の目的は、部品相互に関する調整を正確に決定で
き、且つ容易に再現できるように部品を互に変位および
方向付けする移動機構をX線分析装置に提供せんとする
にある。
本発明は、上述のX線分析装置において、移動機構には
主ガイドに沿って変位し得る主スライダと、該スライダ
に回転自在に連結された検出器ガイドとを設け、該検出
器ガイドには、これに沿って変位し得る検出器スライダ
と、検出器・センタ軸間アームと、結晶保持器・センタ
l1iff1間アームと、X線源・センタ軸間アームと
を設け、これら8個のアームは共通センタ軸を中心とし
て相互に回動自在とするとともに検出器スライダおよび
結晶保持器に夫々回動自在に連結され且つ焦点軸線に、
も回動自在に連結されるようにしたことを特徴とする0 本発明によるX線分析装置は、好ましくは原理的に全て
の構成部品を支持する調節自在の8点支持の土台を有す
る主ガイドを含むため、装置を支持するための表面が平
担であるように接しさせる要求が従来のより厳格ではな
い。主スライダを摩擦駆動により駆動するため、連続な
バツクラツシ・フリーおよび極めて信頼できる主スライ
ダの変位を確保できる。例えば適当な定規を追加するこ
とにより高い精度で主スライダの変位を容易に測定でき
るし、あるいは変位距離を制御できる。
好適実施例において、主スライダと主ガイドとの間の結
合を運動学的に決定し、これがため主スライダは、例え
ば主ガイドに関する5対の支持部分を含み、これらは主
ガイドのガイド表面に対で取り付けられている。とりわ
け、前もって張力を供給するヒンジを必要とするが、こ
れは主スライダの上板および底板にスリットを設けるこ
とによ2′□り画板に弾性的ヒンジ留めを達成できる。
本発明のX線分析装置の特にEXAFS測定するのに適
した好適実施例において、X線管の当射点は焦点を形成
し、結晶保持器は、彎曲し好ましくは曲率中心が離れた
所にあるモノクロメータ結晶を含み、検出器スライダ上
に照射される試料を配置し、好ましくはその試料の両側
にビーム通路に向いてビーム検出器を配置する。この点
で、焦点、モノクロメータ結晶および試料、あるいは第
1検出器の入射スリット全てが、センタに位置するアー
ムにより決定されるローランド円上に置かれる。この点
について、焦点を通るスピンドルを例えば玉軸受連結を
介して主ガイドに連結される取り付はブロックに提供す
る。xIM#!・センタ軸間アームを同様に取り付はブ
ロックを介して主ガイドに連結し、従って焦点をX線源
・センタ軸間アームの回転軸に一致させるようにする。
結晶保持器内のモノクロメータ結晶、検査されビーム通
路方向に向けられ、好ましくはビーム通路の前後に首か
れた試料、および検出器スライダ上のX線検出器の配置
は、EXAFS測定のた。めの高品質な装置を達成する
。本例で重要であるX線源の焦点とモノクロメータ結晶
との間の距離の調整のため必要なものは、ここに十分に
満足させることができる。例えば主ガイドおよび検出器
ガイドに定規を追加することにより距離をも正確に測定
できる。主ガイド上の定規から得られた測定値を検出器
ガイドに沿う検出器スライダ上の試料をモノクロメータ
結晶に関して等しい距離に調整するため使用できる。
例えば試料を焦点の側から照射し、結晶保持器の代わり
に結晶交換器上の結晶保持器に分析する結晶を置き、X
線検出器を検出器スライダに装着すれば、極めて正確な
線状スペクトロメータを達成できる。しかし実際には、
本例における試料を照射する放射線源は固定位置を占有
するのを認めなければならない。
モノクロメータを主ガイドの軸線上にiき、検査される
試料を結晶保持器に置き、検出器を検出器スライダ上に
装着すると、適切な構成部品に対する正確な位置合わせ
、すなわち例えば組織および相測定に対するような高分
解能を有する性能測定を可能とするディ7ラクトメータ
を達成する。
アノード表面とビームとの間の角度の変動のため、アノ
ード上の焦点スポットすなわち焦点に関するX線管の測
定値変化の調整は、取り付はブロックに関するX線管の
位置合わせにより達成できる。保持器に置かれたモノク
ロメータ結晶の曲率半径の調整のため、好適実施例にお
いて、結晶保持器アーム、検出器アームおよび中央に位
置するアームを長さ調整自在とするかあるいは容易に交
換可能とする。
図面につき本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図には、例えばモノクロメータ結晶としてのヨハン
ソン結晶によりEXAFS測定しようとする装置の種々
の構成部品の固定された測定位置に対するビーム通路を
示している。コノ1ンソン結晶Kを曲率半径2Rで湾曲
し、その結果この結晶面と平行な各結晶面りもまた湾曲
する。湾曲した凹状結晶面Fは曲率半径Rだけ離れた所
に中心を有するようにする。ここにRは、測定位置に一
致する結晶面Fに接するローランド円Sの半径である。
X線管のアノード当射点と一致するビーム焦点A及び放
射線にさらされる試料Cもまたo−ラ>ド円上に置くよ
うにする。この配置において、結晶表面りの曲率中心点
Mは、円周上にあり、放射線源点A及び試料点0は、点
Mから円弧上等距離にある。モノクロメータ結晶の中心
としてBをおくと、常にAB−Beとなる。ここに焦点
Aから放射されるX線ビームX−1は、結晶にの結晶面
り上に全結晶面Fにわたって等しい角度θで当射し、前
記角度と結晶面りの結晶製面距離がブラック条件Nλ−
2d−sinθを満足する波長λの放射線を回折後ビー
ムX−2に集中され試料C上に当射する。
試料の吸収量を正確に測定するため、検出器を試料の前
及び後に配置するのが良好である。従って入射線に対す
る量を検出器D−1で得て、試料を透過した放射線に対
する量を検出器D−2で得る。これら測定において、試
料Oの代わりに検出器D−1の入射スリットをローラン
ド円に置いても好適である。ローランド円の半径Rの長
さを例えば5QC1nとする。図からさらにAB−X−
2Rsinθであるのが分かり、これはブラック条件N
λ−2dsinθにおいてX−RλPから得られ、ただ
しPはdの逆数であり、Lは結晶面からの距離である。
これがため距離Xと使用された放射線の波長との間には
比列関係があり、即ち距離Xと使用された放射線のエネ
ルギーとの間には逆比例関係がある。固定位置の焦点A
と共に入射角θの所望な通路即ち所望な波長路或いはエ
ネルギー路にわたって測定するため、検出器と共にモノ
クロメータ結晶及び試料を相互の方向に向けて配置し、
これに関してローランド円の中心0は焦点Aの回りに円
を描く。
第2図には斯る測定通路の場合に発生する幾つかの位置
を示すが、これは線状スペクトロメータに対する位置で
ある。横に配設されたX線源Eにより放射され検査され
る試料Cの一部分から放射するけい光性放射線に対して
入射スリットにより焦点Aを形成する。分析する結晶位
If Kl、 K2. K8及びに4並びに検出器DI
、D2. D3及びD4を一連のローランド円位置SL
、82. 88及びS4の各々に対して図示する。ロー
ランド内位[84において、検出器は焦点Aに一致する
。測定中、結晶には、結晶通路Gに沿う方向を向くと共
に第1図の直線x−iに一致する直線移動をする。これ
に関連して、アメリカ合衆国特許第2,898,469
号明細書に示されるような道筋CAMに対応する道筋H
に沿ってこの検出器は動く。
第8図に示すような本発明のX線分析装置は特にEXA
F、S測定に適しており、この分析装置は、X線源1、
結晶保持器8及び検出器6及び8と共に検出器保持器5
を含む。実行するiす定におし1で、1これら構成部品
をすでに示されてし)るように相互に関して変位させる
と共に方位づけする。このため、この装置は主ガイドt
を有する移動機構を含み、この主ガイド1に沿って主ス
ライタ゛を例え+?駆動モータ11により移動すること
力(でき、この駆動モータ11を主スライタ゛に装着す
るカタ、イ也のもので組み立てることもできる。検出器
ガイド15を主スライダに結晶保持器軸120回りを回
転自在となるように装着する。焦点軸11の回りに回転
自在に装着された放射線源・センタ軸間アーム19と、
軸18の回りに回転自在に装着された結晶保持器・セン
タ軸間アーム21と、検出軸z8の回りに回転自在に装
着された検出器・センタ軸間アーム25とヲ全てセンタ
スピンドル2ワに[iffる。このセンタスピンド)v
27 Gf 、前回におし1て示したローランド円平面
に垂直にローランド円の中心を通って延在する。X線源
&ま、既知のX線管でもよいがこの場合のような高し1
放射綿密度を必要とする場合に回転するアノードを有す
る既知の、X線管が好適である。X線管1のアノードの
放卯線焦点に一致する実際の場合に焦点80を回転軸1
7に位置する。焦点軸線17とセンタ軸線27との間の
アーム19の長さはローランド円の半径を決定する。結
晶保持器軸線18.検出軸線23及び焦点軸17をロー
ランド円平面に垂直にローランド円の円周上の焦点の所
に配設する。焦点軸線17に配置された焦点30.結晶
保持器軸線13に配置された結晶保持器点32及び検出
器軸fi!!28に配置された検出点84の全てがロー
ランド円上にある。
主スライダ9は、駆動装置系で駆動される主要構成部品
である。この主スライダ9を駆動するため、駆動モータ
11の駆動軸26を例えば張り車24に締付は固定し、
この張り車24は摩擦駆動81を経て第1前置張力ロー
ラ83に連結するのが好適である註ガイドに関する主ス
ライダの正確な位置決めのため、主スライダはさらに主
ガイドの符号85及び86のようなガイド表面だけに接
触している前置張力ローラ37を具える。主ガイドに関
して相互に対向して配置し、好ましくはカバー板43及
び45にスリット41を付B口した前置張力ローラをは
ね圧力で締め付けて互し1に連結する。ガイド表面47
に接する前置張力ローラ46を横方向の正確な位置合わ
せのため設ける。
主スライダの位置が変化する場合には、焦点30と結晶
保持器点82を第1に設定する。この調整は、変位に結
びつく機構、例えば主ガイドに沿って装着された定規に
よって、例えば1μmまで正確に行なわれる。このこと
から得られ電気信号に変換された測定値を検出器ガイド
15に沿って検出器スライダ51を移動するのに使用で
きる。このため主スライダのような検出器スライダニ(
マ摩擦駆動及び前置張力ローラ55等を有する駆動モー
タ63を備える。これらは全部を図示してなし)jが主
スライダのものと大部分同じ大きさでできる。
主スライダの変位に一致する検出器スライタ゛の変位を
2個のスライダ間の連結機構、例えGず西独国策2,4
18,872号明細書に記載されている機構によっても
達成することができる0 この機構は、これらの動作に
おいて、結晶保持器8と放射線源8,0との間の距離を
常に結晶保持器8と検出器保持器゛5との間の距離と同
一にするのを確保する。主スライダ9の移動中には、焦
点80、結晶保持器点32及び検出器点34をローラン
ド円の円周上に常に維持し、軸27はセンタ軸線を構成
する0これがため実際の動作中にローランド円の中心は
、軸27が照射試験体の軸17の回りに円を描くように
して変位していく。これがため焦点80は、測定動作中
に恒久的に一点に固定維持される唯一の点である。すで
に説明したように重い構成部品を部分的に必要とされる
高圧ケーブルの連結部の結果としてX線管は、正確に動
くことが難しい重い@成部品であることが実際′に考慮
する際に障害となっている註スライダ及び検出器スライ
ダの変位はまた開ループ状にすることもできる。そこで
スライダの位置をスライダ上の固定点から限定する。各
固定点間の間隔をステップモータの多数のステップ、直
流モータに対するi<ルス状供給電流からの多数のパル
ス或いは同様な供給源Oこよって与える。一定の開始点
位置のため及び装置の衝突を防止するため、例えば駆動
モータを制御するマイクロスイッチをスライダとガイド
との間に)固定する。
第4図には、第8図に基づいて記された装置に適合する
移動機溝の主構成部分を異なる視点から示したものであ
る。主ガイド7はすでに記したように4個のガイド表面
85を包含する。これら表面を例えば主ガイド上に装着
された金属或いはプラスチックの細条片57のつや出し
した側面により形成し、前記細条片は例えば長さ500
+++m、高さ20閣及び厚さ5朋である。ガイド表面
61を有する細条片59を案内のため固着し、主ガイド
の長手方向に対して2番目の横方向で支持する。生ガイ
ドの一万の端部には支持物63を取り付け、この支持物
68には例えば第8図に示すような調整ねじ65を取り
付ける。主ガイドの他方の端部には軸受ブロック67を
設け、この軸受ブロック67により照射試験体を正確な
場所に配置することができる。このため軸受ブロック6
7を玉軸受を介して主ガイドに連結するのが好適である
。正確な位置で軸受ブロックを主ガイドに固定できる。
主ガイドに対する第8支持点を軸受ブロック67に近い
主ガイドの端部に配置する。検出器ガイドを装着した主
スライダの側面に結合部分71及び578を備えること
ができる。第8図に基づいた解決法を変更して、駆動モ
ータを主スライダに装着しない即ち駆動モータは生スラ
イダと共に移動しなくとも主スライダを移動させること
ができるが、主スライダの広い範囲をまがなうことを考
慮すると魅力があまりない。そこでより正確に調整でき
、廉価でもある直流モータが駆動モータとして好適であ
る。主スライダの変位する速度を適宜調整してスリップ
の原因である急激な加減速を避けることができる。ここ
に与えた例においては、センタアーム19を軸受ブロッ
ク67を介して主ガイドに連結する。結果として装置を
調整する場合に焦点を主ガイドに平行に結晶保持器点8
2を通る直線上に正確に位置させることができる。焦点
8゜の位置に放射線入射スリットを有する線状スペクト
ロメータの場合に放射線入射スリットを恒久的に主ガイ
ドに結合すると共に照射される試料を調整自在の保持器
に位置させることは利点があるが、この場合照射するX
線ビームは、試料の所望な表面に照準を定めなければな
らないので正確さはやや落ちる。
生スライダの変位及び検出器スライダの相互に関連して
変位する場合、アーム19 、21及び25は、検出器
保持器5及び結晶保持器8相互の関係及び本共に焦点に
関して正確な方向づけを確保する。起り得る偏差を調整
する最適相互位置合わせを可能とするため、例えば好適
実施例において結晶保持器8にアーム19.21及び2
5を装着した湾曲モノクロメータ結晶の曲率半径の長さ
を調節自在とするか或いは種々の長さのアームに取り代
えて調節自在とする。
EXAFS測定方法を使用して、結晶構造及びアモルフ
ァス材料の構造を高分解能で決定できる〇これに関して
、湾曲し且つ離れた所に中心をおくモノクロメータ結晶
(時々焦点合わせ七ノクシメータ結晶とも呼ばれる。)
は、単色性を犠牲にすることなくX線ビームの比較的大
部分を効果的に使用できる利点がある。この結晶はジョ
ハンソン結晶のように半径2Rで円筒状に湾曲し、曲率
半径Rだけ離れた所に中心を置く門状の表面を有し、R
をローランド円の半径とする。例えば6度の比較的小さ
なアノード角でX線ビームを放射することにより、例え
ばQ、Q5mxlQ−の小さな試験体面を光学的に得る
ことができる。例えば5Qtnmの大きさの適切な結晶
で約5度までの開口角のX線ビームを使用することがで
きる。等しい曲率を有するae又はSi結晶、Asから
ptまでのに線を有する元素、TOからOmまでのL線
を有する元素の結晶面(111)及び(811)の両方
を使用することにより−X線ビームに対する2・5乃至
25k19Vのエネルギー範囲で測定できる。
前述したように分光学的測定のためX線源を主ガイドに
関して横方向に装着し、照射される試料を主ガイドと一
致させて置き、放射線入射スリットを焦点80の位置に
置くようにする。結晶保持器のモノクロメータ結晶を、
既知であるようにケイ素又はゲルマニウムから成る分析
用結晶に取り代える。また前述の分析用結晶以外にも、
飼えばフッ化リチウムステアリン酸鉛、フタル酸タリウ
ム、ペンタエリトリット及び同様な物質の分析用結晶が
ある。このサンプルから放射される多色放射線は、結晶
で波長に依存して回折される。斯るスペクトロメータに
おいて、例えば炭素からアンチモンまでの元素のに線の
強さ及びウランまでの元素のL線の強さを測定可能とす
るため、種々の分析結晶を測定位置に容易におくことが
できる結晶交換器としての結晶保持器を設計することが
しばしば所望される。検出器保持器には、−個の検出器
を付けるが、結晶で回折された放射線の波長路を角度変
動により調節することで測定するためできれば複合検出
器を付ける。
検出器スライダを有する検出器ガイドの構造と同様に主
スライダを有する主ガイドの構造は、円形ガイドとして
設計されたガイドでもよい。このためには主スライダの
比較的わずかの変更を必要とするだけである。従って検
出器、試料或いは分析結晶を、斯るガイドに沿いセンタ
アームで再び種々の部品量相互の配置の正確な位置合ゎ
せを確保しながら移動できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は全溝成部品を固定位置とするEXAFS測定用
のX線分析装置のビーム通路を示す説明図、第2図は、
X線分析装置が測定円中に占める一連の位置を示す説明
図、 第3図は、本発明のX線分析装置の斜視図、第4図は、
本発明のX線分析装置の移動機構の詳細図である。 ■・・・X線源、 3・・・結晶保持器、5・・・検出
器保持器、 6,18・・・検出器、7・・・主ガイド
、11.・53・・・駆動モータ、13・・・結晶保持
器軸線、15・・・検出器ガイド、17・・・焦点軸線
、 19・・・X線源・センタ軸間アーム、 21・・
・結晶保持器・センタ軸間アーム、 23・・・検出器
軸、24・・・張り車1 .25・・・検出器・センタ軸間アーム、26・・・駆
動軸、 27・・・センタスピンドル(センタ軸線)、80・・
・焦点(放射線源)、81・・・摩擦駆動、82・・・
結晶保持器点、 38・・・第1前置張カローラ、84・・・検出器点、
85、86.61・・・ガイド表面、 87、46.55・・・前置張力ローラ、41・・・ス
リット、48.45・・・カバー板、51・・・検出器
スライダ、67.59・・・ストリップ、68・・・支
持物、 65・・・調整ねじ、67・・・軸受ブロック
、 71.78・・・結合部分。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L X線源(1)、試料保持器、結晶保持器(8)およ
    びX線検出装M(5)を具え、且つ種々の構成部分を互
    に変位および方向付ける移動機構を具え、該移動機構に
    は主ガイド(7)に沿って変位し得る主スライダ(9)
    と、該スライダに回転自在に連結された検出器ガイド(
    15ンとを設け、該検出器ガイドにはこれに沿って変位
    し得る検出器スライダ(51)と、検出器・センタ軸間
    アーム(25ンと、結晶保持器・センタ軸間アーム(2
    1)と、X線源・センタ軸間アーム(19)とを設け、
    これら8個のアームは共通センタ軸1(27)を中心と
    して相互に回動自在とすると共に検出器スライダおよび
    結晶保持器に夫々回動自在に連結され且つ焦点軸線(8
    ンにも回動自在に連結されるようにしたことを特徴とす
    るX線分析装置。 区 主ガイドを支持面で調整ねじ(65)に、対し調整
    し得るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のX線分析装置。 & 主ガイドに沿って主スライダを変位する駆動モータ
    (11)’iE−摩擦クラッチ(81)を経て主ガイド
    のガイド表面(4)に接触する前置張力ローラ(8B)
    に結合するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項または第2項に記載のX線分析装置。 表 弾性変形を行うスリット(41)を主スライダの取
    付は板(43,46)に形成し、該取付は板(48,4
    5)は主ガイドの両側に位置しそのガイド表面(85、
    87)と接触する前置張力ローラ間でガイド表面の両側
    に位置させるよつにしたことを特徴とする特許請求の範
    囲第8項記載のX線分析装置。 五 検出器ガイド(15)に沿って検出器スライダを変
    位させるために、第2駆動モータ □(55)を設け、
    該駆動モータを主スライダの変位により得られた位置信
    号により制御し得るようにしたことを特徴とする特許請
    求の1範囲第1項乃至第4項の何れかに記載のX線分析
    装置。 & 検出器スライダの駆動モータは、前置張力ローラ(
    55)を有する摩擦クラッチを経て検出器ガイドに結合
    するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第5項
    記載のXffM分析装置。 7、 主ガイドを支持ブロック(67)&こ固着し、該
    ブロックは、これを玉軸受けを経て主ガイドに連結し、
    これによって主ガイドに結合されていない焦点を経て回
    転軸線(17)を調整し得るようにしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項乃至第6項の何れかGこ記載の
    X線分析装置。 & 結晶・センタ軸間アーム、X線源・センタ軸間アー
    ムおよび検出器・センタ軸間アームを長さ方向に調整し
    得るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    乃至第7項の何れかに記載のX線分析装置。 9、X線源を回転陽極を有するX線管とし、結1品保持
    器は円筒状に彎曲したモノクロメータ結晶を支持するよ
    うに装着し、検出器保持器は照射すべき試料および少く
    とも1個の放射線検出器(e、s)を支持するように装
    着す5ることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
    8項の何れかに記載のX線分析装置。 10、主ガイドの外側に設定されたX線管(E)と、主
    ガイドに対しライン状に設定された試料保持器(0)と
    、X線源・センタ軸間アー10ムの焦点回転軸の個所に
    位置する放射線入射スリット(A)とを具えることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項乃至第8項の何れかに記
    載のX線分析装置。 11 結晶保持器の個所に結晶交換器を組込むよ1′−
    うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第10項記載
    のX線分析装置。 1z 少くとも主ガイドを円弧に沿って延在させるよう
    にしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第8
    項の何れかに記載のX線分析装置。
JP59048261A 1983-03-15 1984-03-15 X線分析装置 Pending JPS6040943A (ja)

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8607481D0 (en) * 1986-03-26 1986-04-30 Howe S Grading orientation errors in crystal specimens
NL8702475A (nl) * 1987-10-16 1989-05-16 Philips Nv Roentgen analyse apparaat.
DE4102850A1 (de) * 1991-01-31 1992-08-06 Philips Patentverwaltung Roentgenographisches spannungsmessgeraet
EP0547695B1 (en) * 1991-12-18 1997-09-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. X-ray analysis apparatus
US5268954A (en) * 1992-10-14 1993-12-07 Wisconsin Alumni Research Foundation Mounting apparatus for double crystal monochromators and the like
US5596620A (en) * 1993-04-30 1997-01-21 The University Of Connecticut X-ray based extensometry device for radiography
JP3488843B2 (ja) * 1999-08-26 2004-01-19 理学電機株式会社 X線分光装置及びxafs測定装置
US6680996B2 (en) * 2002-02-19 2004-01-20 Jordan Valley Applied Radiation Ltd. Dual-wavelength X-ray reflectometry
TW200948894A (en) * 2007-12-19 2009-12-01 Asahi Glass Co Ltd Ether composition
DE102008020108B3 (de) * 2008-04-22 2010-01-14 Bruker Axs Gmbh Röntgendiffraktometer zum mechanisch korrelierten Verfahren von Quelle, Detektor und Probenposition
US8259901B1 (en) 2010-05-25 2012-09-04 Rubicon Technology, Inc. Intelligent machines and process for production of monocrystalline products with goniometer continual feedback
US8724776B2 (en) 2010-09-10 2014-05-13 Brookhaven Science Associates, Llc Two-axis sagittal focusing monochromator
AU2016287001A1 (en) 2015-06-30 2018-01-04 Xplorex Gmbh Improved X-ray diffractometer
NL2015060B1 (en) * 2015-06-30 2017-01-24 Xplorex Gmbh Improved X-ray diffractometer.
ES2911717T3 (es) * 2015-12-28 2022-05-20 Univ Washington Métodos para alinear un espectrómetro
EP4048990A4 (en) * 2019-10-21 2023-11-08 Easyxafs, LLC SPECTROMETER
CN110702711B (zh) * 2019-11-21 2022-02-25 山东建筑大学 非晶态合金结晶动力学特征的原位exafs表征方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59124348U (ja) * 1983-02-10 1984-08-21 日本エックス線株式会社 X線測定装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3123710A (en) * 1964-03-03 Mechanical motion and x
US2898469A (en) * 1956-09-11 1959-08-04 Gen Electric X-ray diffraction apparatus
US3051833A (en) * 1959-03-30 1962-08-28 Ontario Research Foundation X-ray spectrometer
DE1472373B2 (de) * 1964-05-23 1970-02-26 Chirana Praha n.p., Prag Spindel, insbesondere für Röntgengo niomet er
US3445653A (en) * 1964-10-10 1969-05-20 Hitachi Ltd X-ray monochromator of linear type
US3384756A (en) * 1965-04-21 1968-05-21 Applied Res Lab Inc Peaked monochromator having a sharply blazed diffraction grating which is always operated at the peak of the blaze
FR1575196A (ja) * 1967-08-05 1969-07-18
DE2633114C2 (de) * 1976-07-23 1978-08-03 Allianz-Zentrum Fuer Technik Gmbh, 8000 Muenchen Spannungsmeßgoniometer für die Bauteilprüfung
JPS5772050A (en) * 1980-10-22 1982-05-06 Jeol Ltd Goniometer such as x-ray microanalyzer
US4446568A (en) * 1981-06-05 1984-05-01 California Institute Of Technology Versatile focusing radiation analyzer

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59124348U (ja) * 1983-02-10 1984-08-21 日本エックス線株式会社 X線測定装置

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EP0118965B1 (en) 1988-05-25
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NL8300927A (nl) 1984-10-01

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