JP2002148219A

JP2002148219A - Ｘ線回折装置

Info

Publication number: JP2002148219A
Application number: JP2000340989A
Authority: JP
Inventors: Ukyo Kaminaga; 宇享神長; Tomoo Hagiwara; 友郎萩原
Original assignee: Mac Science Co Ltd
Current assignee: Mac Science Co Ltd
Priority date: 2000-11-08
Filing date: 2000-11-08
Publication date: 2002-05-22

Abstract

(57)【要約】【課題】入射光学系を交換する場合に、熟練者でなく
ても、簡単に精度のよい調整を行うことができるように
する。【解決手段】Ｘ線源２と、試料５を回転させるゴニオ
メータ５０と、Ｘ線検出器９５と、入射光学系ユニット
６０とを備えたＸ線回折装置において、入射光学系ユニ
ット６０をゴニオメータ本体５０Ａ上に設け、ゴニオメ
ータ５０を高さ調節台７の上に設置する。高さ調節台７
は、ベース１０と、昇降台２０と、可動ウェッジ板１５
を固定ウェッジ板１６に対して水平スライドさせること
で可動ウェッジ板１５の水平変位を昇降台２０の垂直変
位に変換するウェッジ式の昇降駆動機構８とで構成し、
昇降台２０の上にＸ線Ｆの進路と平行なガイドレール２
１を設け、このガイドレール２１にゴニオメータ５０を
スライド可能に設置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線源で発生した
Ｘ線を試料に照射し、この試料から放出される回折Ｘ線
を測定することにより、試料に含まれる物質の成分の種
類や量、あるいは成分の結晶面間隔等を分析するＸ線回
折装置に係り、特に、ゴニオメータにより試料を水平に
近い状態で保持して水平な試料軸の回りに回転させなが
ら測定する縦型のＸ線回折装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図５は縦型のＸ線回折装置の従来例を示
している。図において、１はＸ線管、２はＸ線源、Ｆは
Ｘ線、５は試料、１１０はゴニオメータである。Ｘ線源
２から出射されたＸ線Ｆは、ゴニオメータ１１０に保持
された試料５に照射される。

【０００３】ゴニオメータ１１０は、ゴニオメータ本体
１１０Ａの下部に設けられた複数のアジャスタボルト１
１１を介してＸ線管球１と同じ基準面１００に設置され
ており、これらのアジャスタボルト１１１を連携しなが
ら回すことで、試料５に対するＸ線Ｆの入射点を微妙に
調節することができるようにしている。

【０００４】このゴニオメータ１１０には、回転板１１
５の回転軸線として水平な試料軸Ａが設けられており、
試料５はこの試料軸Ａの回りに鉛直面内で角速度θで回
転させられ、試料５に対するＸ線Ｆの入射角度を変化さ
せられるようになっている。また、ゴニオメータ１１０
には、試料軸Ａを中心として試料５の回転角速度θの２
倍の回転角速度２θで回転させられる検出器アーム１２
０が設けられており、この検出器アーム１２０に、試料
５から放出された回折Ｘ線を検出するＸ線検出器１２５
が設けられている。また、試料５とＸ線検出器１２５と
の間には、散乱スリット１２１、ソーラスリット１２
２、受光スリット１２３がこの順に設けられ、Ｘ線源２
と試料５との間には、入射光学要素として、試料５に照
射するＸ線Ｆの面積を制限する発散スリット１３０が設
けられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のＸ
線回折装置では、測定内容によって、入射光学系に使用
する光学要素やその組み合わせを交換することがしばし
ばある。例えば、入射光学要素として発散スリット１３
０だけを使用し、発散スリット１３０を通過したＸ線を
直接試料５に照射して測定する場合と、Ｘ線の発散によ
る強度低下を防ぐために入射光学系に多層膜ミラー１３
５を設置し、Ｘ線を多層膜ミラー１３５で上向きに回折
させた後、試料５に照射して測定する場合とがある。こ
こで、前者の測定条件から後者の測定条件に変更するよ
うな場合、ミラー１３５通過後のＸ線ビームの進路が変
わるので、ゴニオメータ１１０全体を、ミラー１３５を
中心にして、ミラー１３５へのＸ線入射角度θｂの２倍
の２θｂだけ、Ｘ線ビームを含む面内で回転させなけれ
ばならない。また、これとは別に、Ｘ線管球１の出力を
変更するような場合にも、ゴニオメータ１１０全体の高
さ調整を行わなければならないことがある。しかし、こ
のような調整をアジャスタボルト１１１で行うのは大き
な困難が伴うため、高度な熟練者でないと、高精度の位
置決めを再現性よく行うことは非常に難しかった。

【０００６】本発明は、上記事情を考慮し、入射光学系
の光学要素やその組み合わせを交換する場合やＸ線管の
出力変更を行う場合に、熟練者でなくても、簡単に精度
のよい調整を行うことができるＸ線回折装置を提供する
ことを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、試料
に対しＸ線を照射するＸ線源と、水平な試料軸を中心に
試料を上下方向に回転させることで試料に対するＸ線の
入射角度を変化させると共に検出器アームを前記試料軸
を中心として前記試料の回転角速度の２倍の回転角速度
で回転させるゴニオメータと、前記検出器アームに配さ
れて試料から放出される回折Ｘ線を検出するＸ線検出器
と、Ｘ線源と試料との間に配される入射光学系とを備え
たＸ線回折装置において、前記入射光学系をゴニオメー
タ上に設けると共に、該ゴニオメータを高さ調節台の上
に設置し、その高さ調節台を、（ａ）ベースと、（ｂ）
該ベースの上方に配され上下動ガイドにより案内されな
がら昇降自在とされた昇降台と、（ｃ）前記ベースと昇
降台の間に配されて互いに重なり合うことで昇降台を支
持する固定ウェッジ板と可動ウェッジ板とを有し、且
つ、可動ウェッジ板を水平方向にスライドさせることで
可動ウェッジ板と固定ウェッジ板の傾斜面同士を摺動さ
せて、それにより可動ウェッジ板に加えた水平変位を昇
降台の垂直変位に変換するウェッジ式の昇降駆動機構と
で構成し、前記昇降台の上にゴニオメータを設置したこ
とを特徴としている。

【０００８】この請求項１の発明のＸ線回折装置では、
可動ウェッジ板を水平方向にスライドさせることで、昇
降台を上下に変位させ、その上のゴニオメータの高さ調
整を行うことができる。この場合、可動ウェッジ板と固
定ウェッジ板の傾斜面の角度によって、可動ウェッジ板
の水平変位量に対する昇降台の垂直変位量を決めること
ができるので、傾斜角度を小さくすることによって、小
さな操作力にて、極めて微小なゴニオメータの高さ調節
が可能となる。従って、入射光学系の変更及びＸ線発生
装置の出力変更によって必要となるゴニオメータ中心高
さの調整を容易且つ高精度に実施できるようになる。

【０００９】請求項２の発明は、請求項１において、前
記昇降台の上に、Ｘ線源から出射されるＸ線の進路に対
して平行なガイドレールを設け、このガイドレール上に
ガイドレールに沿ってスライド自在にゴニオメータを載
置すると共に、ゴニオメータをスライドさせる駆動機構
を設けたことを特徴としている。

【００１０】この請求項２の発明のＸ線回折装置では、
入射光学系の各種組み合わせを選択するに当たり、光学
系に影響することなく、容易かつ自在にゴニオメータ半
径を変更することができる。

【００１１】請求項３の発明は、請求項１または２にお
いて、前記入射光学系を、ゴニオメータに設けたブラケ
ットに対し位置決め手段を介して交換可能に設けたこと
を特徴としている。

【００１２】この請求項３の発明のＸ線回折装置では、
位置決め手段を介して入射光学系をゴニオメータのブラ
ケットに取り付けているので、ほとんど無調整で任意の
入射光学系を取り付けて使用することができ、容易に高
精度・高再現性を維持しながらの測定を行うことができ
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は実施形態のＸ線回折装置の側
面図、図２は同斜視図である。このＸ線回折装置は、Ｘ
線発生装置としてのＸ線管１と、試料５を保持して回転
させるゴニオメータ５０と、ゴニオメータ５０を載せて
ゴニオメータ５０の高さ方向の位置調整を可能とする高
さ調節台７とを備えている。

【００１４】Ｘ線管１のターゲット上に設定されたＸ線
源２からは、ゴニオメータ５０によって略水平に保持さ
れた試料５の表面（上面）に向けてＸ線Ｆが出射され
る。出射されたＸ線Ｆは、ゴニオメータ５０の中心部に
設定された水平な試料軸Ａ上の試料表面に入射し、試料
５からは回折Ｘ線が放射される。ゴニオメータ５０で試
料５を回転させることにより、試料５に対するＸ線Ｆの
入射角度が変化し、試料５から放出される回折Ｘ線の進
路はその２倍の角度変化する。

【００１５】ゴニオメータ５０は、試料軸Ａを中心軸線
として鉛直面内で回転するθ回転板５１を有しており、
この回転板５１に試料テーブル５２が突き出した形で設
けられ、この試料テーブル５２の上に試料５が保持され
ている。また、ゴニオメータ５０は、θ回転板５１と同
軸に、つまり、試料軸Ａを中心軸線として鉛直面内で回
転する２θ回転板５５を有している。θ回転板５１と２
θ回転板５５は、θ回転板５１が角速度θで回転すると
き、２θ回転板５５がその２倍の角速度２θで回転する
ように構成されている。ゴニオメータ本体５０Ａの内部
には、そのように回転駆動制御する図示略の機構が含ま
れている。

【００１６】２θ回転板５５には、Ｘ線管１のある側と
反対側に突出する検出器アーム５６が一体に設けられて
おり、この検出器アーム５６の上に、受光側光学系ユニ
ット９０とＸ線検出器９５とが搭載されている。受光側
光学系ユニット９０は、試料５からの回折Ｘ線の進路に
沿って順番に散乱スリット、ソーラスリット、受光スリ
ット等のユニットを並べたものであり、この受光側光学
系ユニット９０を通過した回折Ｘ線がＸ線検出器９５に
入射するようになっている。

【００１７】ゴニオメータ本体５０ＡのＸ線管１側に
は、入射光学系アーム５７が一体に設けられている。入
射光学系アーム５７の上端部にはブラケット７１が設け
られており、そのブラケット７１に、ブロック７２を介
して入射光学系ユニット６０が取り付けられている。

【００１８】図３は入射光学系ユニット６０の取付部分
の分解斜視図である。入射光学アーム５７にはブラケッ
ト７１が取付ボルト５８で固定され、ブラケット７１の
上面には、入射光学系ユニット６０に取り付けたブロッ
ク７２を位置決め固定するための位置決め溝（位置決め
手段）７４が設けられている。位置決め溝７４の片方の
側壁は側板７５によって構成されている。位置決め溝７
４の底面及び側面とブロック７２の底面及び側面は、ブ
ロック７２を位置決めするために互いに当接する面であ
り、これらの当接面は、精密研磨により精度よく平面化
されている。そして、この位置決め溝７４にブロック７
２を嵌め込んで幾つかのボルトを締めることで、入射光
学系ユニット６０がゴニオメータ本体５０Ａの入射光学
アーム５７に精度よく位置決めされた状態で取り付けら
れている。

【００１９】ブロック７２の側面にはＶ溝７２ａが設け
られており、このＶ溝７２ａが側板７５に通した位置決
めボルト７７の先端と嵌まり合うことで、Ｘ線ビームと
平行な方向における入射光学系ユニット６０の位置が規
定されている。ブロック７２の底面にはネジ孔（図示せ
ず）が設けられており、このネジ孔にブラケット７１の
底面から通したボルト７３をねじ込んで、ブロック７２
を位置決め溝７４の底面に引きつけることで、Ｘ線ビー
ムに対する入射光学系ユニット６０の高さが規定されて
いる。また、側板７５にねじ込んだクランピングボルト
７６で、ブロック７２を位置決め溝７４の側面に押し付
けることで、Ｘ線ビームと直角方向の入射光学系ユニッ
ト６０の位置が規定されている。

【００２０】受光側光学系である受光側光学系ユニット
９０やＸ線検出器９５も、同様の位置決め手段を用いて
検出器アーム５６に取り付けられている。即ち、図１に
示すように、検出器アーム５６の上にはブラケット８１
が設けられ、ブラケット８１に形成された位置決め溝
（図示略）を用いて、受光側光学系ユニット９０やＸ線
検出器９５を支持するブロック８２、８３が支持固定さ
れている。従って、例えば受光側光学系ユニット９０や
Ｘ線検出器９５を交換する場合であっても、精度よく、
また、再現性よく取り付けることができる。

【００２１】入射光学系ユニット６０や受光側光学系ユ
ニット９０の各ユニット間の位置関係に特に高い精度が
要求される場合には、同一のブロック上に全ての光学ユ
ニットを取り付けて一体化したまま交換できるようにす
るのが望ましいが、そこまでの精度が必要とされない場
合には、受光側光学系の場合のように、個々のユニット
をそれぞれのブロックに取り付け、これを組み合わせて
ブラケット８１上に取り付けることができる。

【００２２】次に、高さ調節台７によってゴニオメータ
５０を支持している構造について詳しく述べる。高さ調
節台７は、Ｘ線管１と同じ基準面１００の上にアジャス
タボルト１１を介して支持されたベース１０と、該ベー
ス１０の上方に配され上下動ガイド１３によって案内さ
れながら昇降自在とされたプレート状の昇降台２０と、
ウェッジ式の昇降駆動機構８とによって構成されてい
る。

【００２３】上下動ガイド１３は、ベース１０の上面
の、昇降台２０を安定ガイドできる複数個所に配されて
おり、ベース１０の上面に軸線を鉛直方向を向けて固定
されたガイド筒１３Ａと、昇降台２０の下面に固定され
ガイド筒１３Ａに対して上下スライド可能に嵌入された
ロッド１３Ｂとからなる。このように上下動ガイド１３
を介して昇降台２０が支持されていることにより、昇降
台２０は上下方向にしか移動できないように拘束されて
いる。

【００２４】ウェッジ式の昇降駆動機構８は、前記ベー
ス１０と昇降台２０の間に配されて互いに重なり合うこ
とで昇降台２０を支持する固定ウェッジ板１６と可動ウ
ェッジ板１５とを有している。固定ウェッジ板１６は昇
降台２０の下面に固定され、自身の下面が傾斜面１６ａ
とされたものである。可動ウェッジ板１５は、ベース１
０の上面に沿ってスライド自在に設けられ、上面に、固
定ウェッジ板１６の傾斜面１６ａと摺接する傾斜面１５
ａを有するものである。

【００２５】可動ウェッジ板１５の側部には、ベース１
０に軸受１８で支持された送りネジ１７の先端がナット
１４を介して連結されており、ハンドル１９を回して送
りネジ１８により可動ウェッジ板１５を水平方向にスラ
イドさせることで、可動ウェッジ板１５と固定ウェッジ
板１６の傾斜面１５ａ、１６ａ同士を摺動させて、それ
により、可動ウェッジ板１５に加えた水平変位を昇降台
２０の垂直変位に変換できるようになっている。

【００２６】また、昇降台２０の上には、Ｘ線源２から
出射されるＸ線Ｆの進路に対して平行なガイドレール２
１が複数本設けられており、ゴニオメータ本体５０Ａ
は、リニアガイド２２を介して、これらガイドレール２
１に滑動自在に取り付けられている。ゴニオメータ本体
５０Ａの下面にはナット２３が設けられており、昇降台
２０に軸受２５で支持された送りネジ２４がそのナット
２３に螺合している。従って、ハンドル２６を操作して
送りネジ２４を回すことにより、ゴニオメータ５０をＸ
線ビームと平行に移動させることができるようになって
いる。

【００２７】次に作用を説明する。入射光学系ユニット
６０における光学要素の組み合わせとしては、例えば、
図４（ａ）〜（ｄ）に示すような場合が考えられる。（ａ）は発散スリット６１のみを使用する場合（ｂ）は多層膜ミラー６２のみを使用する場合（ｃ）は多層膜ミラー６２と４結晶モノクロメータ６３
を使用する場合（ｄ）は多層膜ミラー６２と２結晶モノクロメータ６４
を使用する場合である。各場合では試料５に対するＸ線Ｆの入射高さが
変わる。

【００２８】（ａ）は入射光学系に発散スリット６１だ
けを設置した場合であり、Ｘ線ＦはＸ線源２より試料５
に向かって直進する。これに対し、（ｂ）は入射光学系
として下向きに回折する多層膜ミラー６２だけを設置し
た場合であり、多層膜ミラー６２と試料５（５’）はい
ずれも、Ｘ線Ｆの直進経路よりＬ１だけ高い位置にあ
る。また、（ｃ）は入射光学系として多層膜ミラー６２
と４結晶モノクロメータ６３を設置した場合であり、Ｘ
線Ｆの入射光学系への入射位置と試料５（５’）側への
放射位置の関係は（ｂ）と同一である。従って、（ｂ）
と（ｃ）の場合には、（ａ）の場合に比べ、ゴニオメー
タ全体をＬ１だけ高める必要がある。

【００２９】（ｄ）は入射光学系に多層膜ミラー６２と
２結晶モノクロメータ６３を設置した場合であり、初期
状態のままではＸ線Ｆが試料５’よりＬ２だけ下に進
む。よって、入射光学系ユニット６０の下にＬ２の厚さ
のスペーサ６５を挟み、ゴニオメータ全体をＬ２だけ低
くすれば、Ｘ線Ｆと入射光学系並びに試料との関係を満
足することができる。

【００３０】このように入射光学系ユニット６０の光学
要素をどういう構成にするかによって、ゴニオメータ５
０の高さ調整の必要が生じてくる。そこで、そのような
高さ調整を、このＸ線回折装置では、ハンドル１９を操
作し、可動ウェッジ板１５を図１の左右方向へスライド
させることで行う。即ち、可動ウェッジ板１５を水平変
位させると、昇降台２０を上下に変位させることができ
るので、それによって昇降台２０の上のゴニオメータ５
０の高さ調整を行う。

【００３１】この場合、可動ウェッジ板１５と固定ウェ
ッジ板１６の傾斜面１５ａ、１６ａの角度によって、可
動ウェッジ板１５の水平変位量に対する昇降台２０の垂
直変位量を決めることができるので、傾斜角度を非常に
小さくすることによって、小さな操作力にて、極めて微
小なゴニオメータ５０の高さ調節を行うことが可能とな
る。例えば、昇降台２０の変動量を、送りネジ１７のピ
ッチの数分の一とすることができるため、精密な高さ調
節を容易に行うことができる。

【００３２】なお、図４（ｂ）〜（ｄ）の例では、図５
に示した従来例と違って、入射するＸ線Ｆを多層膜ミラ
ー６２により下向きに回折させている。従って、従来の
上向きに回折させる場合には、高さ調節するに当たり入
射光学系群の高さを減じる方向の調整を行わなければな
らず、調整するのに複雑な機構が必要で、しかも精度維
持が困難であったが、上記の例では、入射光学系群の高
さを増す方向の調整を行えばよいため、入射光学系ユニ
ット６０の下側にスペーサ６５を挟むだけですむように
なり、機構的に簡略化する上、精度維持が簡単になる。

【００３３】また、Ｘ線管１の出力変更の際にも発生熱
量の変化により、Ｘ線管とゴニオメータとの間で熱膨張
の差が生じ、Ｘ線発生源の高さが変化するため、ゴニオ
メータ５０の高さ調整が必要になるが、その場合にも、
上記と同様の操作により、簡単且つ精密に入射Ｘ線と入
射光学系と試料との関係の調整をすることができる。

【００３４】また、このＸ線回折装置では、ハンドル２
６を回すことで、Ｘ線ビームの進路に沿って、光学系を
すべて搭載したゴニオメータ５０全体を移動することが
できるので、Ｘ線ビームとの関係を維持しながら、光学
系に影響を及ぼすことなく、ゴニオメータ半径を容易且
つ自在に変更することができる。また、位置決め溝７４
を介して入射光学系ユニット６０を自由に交換できるよ
うにしているので、ほとんど無調整で、任意の入射光学
系ユニットを取り付けて使用することができ、容易に高
精度・高再現性を維持しながら測定を行うことができ
る。

【００３５】因みに具体的な実施例を提示すると、ゴニ
オメータ半径が３１０ｍｍの縦型ゴニオメータを使用し
た場合において、ブロック７２とブラケット７１をニッ
ケル鋼で作り、熱処理後、精密研磨して当接面を平均粗
さ０．１μｍ以下に仕上げたところ、入射光学系を着脱
した場合の高さ変動は±０．２μｍであった。その際、
取り付けた多層膜ミラーの焦点距離は１００ｍｍであっ
たため、ミラーと試料間の距離は２１０ｍｍとなり、±
０．２μｍの高さ変動は、試料へのＸ線入射角として±
０．５／１００００度、多層膜ミラーへのＸ線入射角と
して±１／１００００度の変動となった。

【００３６】また、上記Ｘ線回折装置にピッチ２ｍｍの
送りネジ２４を使用してゴニオメータ全体をＸ線ビーム
の進路に沿って傾斜移動させたところ、Ｘ線光学系に影
響を与えることなく、±１０μｍの再現性でゴニオメー
タ半径を１８５ｍｍから３６０ｍｍまで容易に変化させ
ることができた。

【００３７】また、上記Ｘ線回折装置における可動ウェ
ッジ板１５及び固定ウェッジ板１６の傾斜を１／１０と
し、ピッチ１ｍｍの送りネジ１７で昇降台２０を上下さ
せたところ、±０．５μｍの精度でゴニオメータ全体の
高さを容易に調節できた。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、入射光学系の変更及びＸ線発生装置の出力変更
によって必要となるゴニオメータ中心高さの調整を、ウ
ェッジ式の昇降駆動機構を含んだ高さ調節台を用いて行
うようにしたので、取り扱いが容易となり、熟練者でな
くても、高精度、高再現性を維持しながら調整できるよ
うになった。また、調節に要する時間が短縮し、装置の
稼働率が向上することに加え、装置の小型軽量化が図れ
ると共に、メンテナンスが容易となった。

【００３９】また、請求項２の発明によれば、入射光学
系の各種組み合わせを選択するに当たり、光学系に影響
することなく、容易かつ自在にゴニオメータ半径を変更
できるようになる。また、請求項３の発明によれば、入
射光学系の各種組み合わせを選択して交換するに当た
り、Ｘ線ビームに対する各々の位置や角度をあまり調整
せずに容易に交換できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態のＸ線回折装置の側面図であ
る。

【図２】同Ｘ線回折装置の斜視図である。

【図３】同Ｘ線回折装置の入射光学系の取付部分の分解
斜視図である。

【図４】同Ｘ線回折装置において、入射光学系ユニット
の光学要素を変えた場合の高さ調整の必要性を説明する
図で、（ａ）は発散スリットのみ使用する場合、（ｂ）
は多層膜ミラーのみ使用する場合、（ｃ）は多層膜ミラ
ーと４結晶モノクロメータを使用する場合、（ｄ）は多
層膜ミラーと２結晶モノクロメータを使用する場合の説
明図である。

【図５】従来のＸ線回折装置の側面図である。

【符号の説明】

ＦＸ線２Ｘ線源５試料７高さ調節台８ウェッジ式の昇降駆動機構１３上下動ガイド２１ガイドレール５０ゴニオメータ５０Ａゴニオメータ本体５６検出器アーム６０入射光学系ユニット７１ブラケット７２ブロック９５Ｘ線検出器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2G001 AA01 BA18 CA01 EA01 GA01 GA13 JA04 JA08 JA11 KA01 KA08 PA12 PA14 QA10 SA01 SA04 SA07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】試料に対しＸ線を照射するＸ線源と、水
平な試料軸を中心に試料を回転させることで試料に対す
るＸ線の入射角度を変化させると共に検出器アームを前
記試料軸を中心として前記試料の回転角速度の２倍の回
転角速度で回転させるゴニオメータと、前記検出器アー
ムに配されて試料から放出される回折Ｘ線を検出するＸ
線検出器と、前記Ｘ線源と試料との間に配される入射光
学系とを備えたＸ線回折装置において、前記入射光学系をゴニオメータ上に設けると共に、該ゴ
ニオメータを高さ調節台の上に設置し、該高さ調節台
を、ベースと、該ベースの上方に配され上下動ガイドにより案内されな
がら昇降自在とされた昇降台と、前記ベースと昇降台の間に配されて互いに重なり合うこ
とで昇降台を支持する固定ウェッジ板と可動ウェッジ板
とを有し、且つ、可動ウェッジ板を水平方向にスライド
させることで可動ウェッジ板と固定ウェッジ板の傾斜面
同士を摺動させて、それにより可動ウェッジ板に加えた
水平変位を昇降台の垂直変位に変換するウェッジ式の昇
降駆動機構とで構成し、前記昇降台の上にゴニオメータを設置したことを特徴と
するＸ線回折装置。
【請求項２】前記昇降台の上に、Ｘ線源から出射され
るＸ線の進路に対して平行なガイドレールを設け、この
ガイドレール上にガイドレールに沿ってスライド自在に
ゴニオメータを載置すると共に、ゴニオメータをスライ
ドさせる駆動機構を設けたことを特徴とする請求項１記
載のＸ線回折装置。
【請求項３】前記入射光学系を、ゴニオメータに設け
たブラケットに対し位置決め手段を介して交換可能に設
けたことを特徴とする請求項１または２記載のＸ線回折
装置。