JPS6029695B2 - m−及びp−フエニレンジアミンの製法 - Google Patents
m−及びp−フエニレンジアミンの製法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
ィソフタル酸ジアミド又はテレフタル酸ジアミドーこホ
フマン分解を行なうことを特徴とするm−及びp−フェ
ニレンジアミンの製造は特公昭57一61021号明細
書に提案されている。
フマン分解を行なうことを特徴とするm−及びp−フェ
ニレンジアミンの製造は特公昭57一61021号明細
書に提案されている。
ホフマン分解とは公知の如く、カルボン酸アミドと次亜
塩素酸塩又か次亜素酸塩との反応を指称する。該分解に
より炭素原子が1個少ない第1アミンが生じる〔ゥェィ
リス)Wallis〕及びレイン(いne)著、オーガ
ニツク・リアクシ ヨ ン ス(org.Reakti
ons)第3巻、267頁(1964年);フランツェ
ン(Franzen)著、ヒェミツシェ・ツアィトゥン
グ(Chem・Z塔)第80巻、8頁(1956年)〕
。前記の提案によればィソフタル酸ジアミド又はテレフ
タル酸ジアミドの分解を、ジアミドの水性懸濁液に別個
に製造した次亜ハロゲン酸塩溶液を添加するか、又はジ
アミドのアルカリ金属性又はアルカル士類金属性の水性
懸濁液にハロゲンを導入するか、或いはジアミドを所望
させる化学量論的量の半分のアルカリ溶液中に前以つて
装入し、ハロゲンを供給しかつ基のハロゲン化終了後に
アルカリ溶液を供給することにより行なう。その場合に
先ずアミド基の水素原子1個がハロゲン原子1個で置換
される。生じた酸性Nーハロゲンアミドはアルカリと共
に不安定な塩を作り、その陰イオンはハロゲン原子1個
を脱離する。その際中間生成物が生じ、該生成物はィソ
シアネートに転位し、該ィソシアネートは最終的に水酸
化物の作用下にアミンに変わる。該反応実施では、アミ
ドからのアミンの生成は単槽反応で行なわれ、その際反
応の経過中に均一な中間生成物を楠促することは全く不
可能である。N−ハロゲンアミド又は該アルカリ金属塩
又は該アルカリ士類金属塩が生成される、ホフマン分解
の第一工程で、次亜ハロゲン酸塩、未反応ジアミド並び
にモノハロゲンジアミド及飯ジハロゲンジァミド又は該
塩からなる不均一な混合物が存在する。しかしながら該
段階で既にホフマン分解の第二工程、すなわちハロゲン
化された中間化合物のアミンないしはジアミンへの転位
が始まる。そこでアミンはなお次亜ハロゲン酸塩の攻撃
にさらされる。このことは、一面では禾反応の又は部分
的に反応したにすぎないジアミドを完全にハロゲン化す
るために必要な次亜ハロゲン酸塩を消費し、これはジア
ミン収率で損失を惹起するものでありかつ他面では好ま
しからぬ着色した酸化生成物、例えばキノンジィミンを
形成し、該生成物はジアミンの著しい品質−及び収率低
下を惹起するものである限りは、極めて不利に働く。特
公昭57−61021号明細書の方法により入手し得る
粗製m−及びp−フェニレンジアミンは帯灰色ないいま
暗褐色の吸湿性塊状物であり、僅かに塩素又は臭素の臭
いがする。該生成物は精製しなければならない。ところ
で前記の方法によるィソフタル酸ジアミド又はテレフタ
ル酸ジアミドのホフマン分解の際に、第一方法工程でィ
ソフタル酸ジアミド又はテレフタル酸ジアミドを鉱酸々
性の希釈水性懸濁液中で塩素化し、その際反応混合物の
希釈度を塩素化反応の際に生じる塩化水素が反応の完結
時までほぼ完全に反応混合物に溶解した状態である様に
定めかつその際生じたN,N′−ジクロルーィソフタル
酸ジアミド又はN,N′−ジクロルーテレフタル酸ジア
ミドを引続きアルカリ金属−又はアルカリ土類金属水酸
化物で処理することによってm−又はp−フェニレンジ
ァミドに変える場合に、前記欠点を完全に回避すること
ができることを見出した。
塩素酸塩又か次亜素酸塩との反応を指称する。該分解に
より炭素原子が1個少ない第1アミンが生じる〔ゥェィ
リス)Wallis〕及びレイン(いne)著、オーガ
ニツク・リアクシ ヨ ン ス(org.Reakti
ons)第3巻、267頁(1964年);フランツェ
ン(Franzen)著、ヒェミツシェ・ツアィトゥン
グ(Chem・Z塔)第80巻、8頁(1956年)〕
。前記の提案によればィソフタル酸ジアミド又はテレフ
タル酸ジアミドの分解を、ジアミドの水性懸濁液に別個
に製造した次亜ハロゲン酸塩溶液を添加するか、又はジ
アミドのアルカリ金属性又はアルカル士類金属性の水性
懸濁液にハロゲンを導入するか、或いはジアミドを所望
させる化学量論的量の半分のアルカリ溶液中に前以つて
装入し、ハロゲンを供給しかつ基のハロゲン化終了後に
アルカリ溶液を供給することにより行なう。その場合に
先ずアミド基の水素原子1個がハロゲン原子1個で置換
される。生じた酸性Nーハロゲンアミドはアルカリと共
に不安定な塩を作り、その陰イオンはハロゲン原子1個
を脱離する。その際中間生成物が生じ、該生成物はィソ
シアネートに転位し、該ィソシアネートは最終的に水酸
化物の作用下にアミンに変わる。該反応実施では、アミ
ドからのアミンの生成は単槽反応で行なわれ、その際反
応の経過中に均一な中間生成物を楠促することは全く不
可能である。N−ハロゲンアミド又は該アルカリ金属塩
又は該アルカリ士類金属塩が生成される、ホフマン分解
の第一工程で、次亜ハロゲン酸塩、未反応ジアミド並び
にモノハロゲンジアミド及飯ジハロゲンジァミド又は該
塩からなる不均一な混合物が存在する。しかしながら該
段階で既にホフマン分解の第二工程、すなわちハロゲン
化された中間化合物のアミンないしはジアミンへの転位
が始まる。そこでアミンはなお次亜ハロゲン酸塩の攻撃
にさらされる。このことは、一面では禾反応の又は部分
的に反応したにすぎないジアミドを完全にハロゲン化す
るために必要な次亜ハロゲン酸塩を消費し、これはジア
ミン収率で損失を惹起するものでありかつ他面では好ま
しからぬ着色した酸化生成物、例えばキノンジィミンを
形成し、該生成物はジアミンの著しい品質−及び収率低
下を惹起するものである限りは、極めて不利に働く。特
公昭57−61021号明細書の方法により入手し得る
粗製m−及びp−フェニレンジアミンは帯灰色ないいま
暗褐色の吸湿性塊状物であり、僅かに塩素又は臭素の臭
いがする。該生成物は精製しなければならない。ところ
で前記の方法によるィソフタル酸ジアミド又はテレフタ
ル酸ジアミドのホフマン分解の際に、第一方法工程でィ
ソフタル酸ジアミド又はテレフタル酸ジアミドを鉱酸々
性の希釈水性懸濁液中で塩素化し、その際反応混合物の
希釈度を塩素化反応の際に生じる塩化水素が反応の完結
時までほぼ完全に反応混合物に溶解した状態である様に
定めかつその際生じたN,N′−ジクロルーィソフタル
酸ジアミド又はN,N′−ジクロルーテレフタル酸ジア
ミドを引続きアルカリ金属−又はアルカリ土類金属水酸
化物で処理することによってm−又はp−フェニレンジ
ァミドに変える場合に、前記欠点を完全に回避すること
ができることを見出した。
有利には第一方法工程で生じるN,N′ージクロルジア
ミドを先ず反応混合物から分離しかつその時点で初めて
アルカリ金属−又はアルカリ金属士類金属水酸化物を用
いる処理を施す。
ミドを先ず反応混合物から分離しかつその時点で初めて
アルカリ金属−又はアルカリ金属士類金属水酸化物を用
いる処理を施す。
本発明により第一工程で製造されるN,N′−ジクロル
ーテレフタル酸ジアミドは新規化合物である。
ーテレフタル酸ジアミドは新規化合物である。
実際にN,N′−ジクロルーィソフタル酸ジアミドは既
に米国特許第3105848号明細書に群説されており
、該明細書に公開された方法によればイソフタル酸ジア
ミドをニトロベンゼン中でかつ炭酸ナトリウムの存在で
塩素化するが、しかしながら理論値の3.5%という収
率で得られるにすぎない。従ってN,N′−ジクロルー
テレフタル酸ジアミド並じにN,N′−ジクロルーイソ
フタル酸ジアミドを、相応するジアミドを水性/鉱酸々
性媒体中で不活性溶剤及び塩化水素受容体の不在下に塩
素化することによって非常に高い収率及び純度で短い塩
素化反応時間で取得することができることは意Y想外で
ある。更に、この様にして得た純粋なジクロルジアミド
を水酸化物で処理することによって既に室温で無色溶液
で相応するジアミドに変えることができ、そこで該ジア
ミドが極めて高い純度及び非常に良好な安定性で得らる
ことは驚異的である。水性の錫酸々性媒体としては例え
ば希釈した含水塩酸、硫酸及び燐酸である。
に米国特許第3105848号明細書に群説されており
、該明細書に公開された方法によればイソフタル酸ジア
ミドをニトロベンゼン中でかつ炭酸ナトリウムの存在で
塩素化するが、しかしながら理論値の3.5%という収
率で得られるにすぎない。従ってN,N′−ジクロルー
テレフタル酸ジアミド並じにN,N′−ジクロルーイソ
フタル酸ジアミドを、相応するジアミドを水性/鉱酸々
性媒体中で不活性溶剤及び塩化水素受容体の不在下に塩
素化することによって非常に高い収率及び純度で短い塩
素化反応時間で取得することができることは意Y想外で
ある。更に、この様にして得た純粋なジクロルジアミド
を水酸化物で処理することによって既に室温で無色溶液
で相応するジアミドに変えることができ、そこで該ジア
ミドが極めて高い純度及び非常に良好な安定性で得らる
ことは驚異的である。水性の錫酸々性媒体としては例え
ば希釈した含水塩酸、硫酸及び燐酸である。
有利には本発明による方法の第一工程ではアミドの中性
懸濁液から出発し、その際塩素化反応の際に副生成物と
して生じる塩化水素は反応混合物に溶けかつそれによっ
て反応は希釈された水性/塩酸々性媒体中で行なわれる
。
懸濁液から出発し、その際塩素化反応の際に副生成物と
して生じる塩化水素は反応混合物に溶けかつそれによっ
て反応は希釈された水性/塩酸々性媒体中で行なわれる
。
その他にアミドの希釈した塩酸々性又は希釈した硫酸々
性水性懸濁液から出発するのが有利である。収率及び塩
素化反応速度は反応混合物中の酸濃度に強く左右される
。
性水性懸濁液から出発するのが有利である。収率及び塩
素化反応速度は反応混合物中の酸濃度に強く左右される
。
反応混合物の酸濃度は塩素化反応の経過中に遊離する塩
化水素によって連続的に高まるので、塩素化反応速度に
反応が進行するに従って緩慢になる。強力に濃縮された
酸、例えば5の重量%の硫酸又は25重量%の塩酸から
出発する場合には、僅かな収率が得られるにすぎない。
例えば濃塩酸又は濃硫酸中では一般に反応は起きない。
反応混合物中の酸濃度が特定の値を越える場合には、反
応は急速に緩慢になる。この超えてはならない最高の酸
濃度は前以つて装入される個々の鍵酸に特有であり、こ
れはその上反応温度及び反応圧力に左右される。この最
高酸濃度は、塩素化反応の経過中に生ずる塩化水素がも
はや完全に反応混合物に溶解しえない場合、すなわち反
応条件下に反応混合物中の塩化水素の飽和濃度を超えう
る場合に定められることが判明した。塩素化反応で遊離
する塩化水素の量は使用したァミドの量から算出するこ
とができるので、反応煤体を選択する際に既に合目的に
反応混合物の希釈度を相応して決めることができる。言
う迄もなく反応混合物を反応経過中に水又は希釈した鉱
酸で希釈することもできる。テレフタル酸ジアミド及び
ィソフタル酸ジアミドの塩素化反応は発熱的に進行する
。
化水素によって連続的に高まるので、塩素化反応速度に
反応が進行するに従って緩慢になる。強力に濃縮された
酸、例えば5の重量%の硫酸又は25重量%の塩酸から
出発する場合には、僅かな収率が得られるにすぎない。
例えば濃塩酸又は濃硫酸中では一般に反応は起きない。
反応混合物中の酸濃度が特定の値を越える場合には、反
応は急速に緩慢になる。この超えてはならない最高の酸
濃度は前以つて装入される個々の鍵酸に特有であり、こ
れはその上反応温度及び反応圧力に左右される。この最
高酸濃度は、塩素化反応の経過中に生ずる塩化水素がも
はや完全に反応混合物に溶解しえない場合、すなわち反
応条件下に反応混合物中の塩化水素の飽和濃度を超えう
る場合に定められることが判明した。塩素化反応で遊離
する塩化水素の量は使用したァミドの量から算出するこ
とができるので、反応煤体を選択する際に既に合目的に
反応混合物の希釈度を相応して決めることができる。言
う迄もなく反応混合物を反応経過中に水又は希釈した鉱
酸で希釈することもできる。テレフタル酸ジアミド及び
ィソフタル酸ジアミドの塩素化反応は発熱的に進行する
。
本発明による方法は温度0〜100つ0で行なわれる。
高い温度を使用することは、該条件下で加水分解につて
著量のテレフタル酸又はイソフタル酸が生じる限りは不
利である。経済的理由から塩素化反応を有利には0〜6
000で実施し、その際反応熱に水冷による導出するこ
とができる。塩素化反応を常圧で実施してもよいし高め
た圧力で実施してもよい。
高い温度を使用することは、該条件下で加水分解につて
著量のテレフタル酸又はイソフタル酸が生じる限りは不
利である。経済的理由から塩素化反応を有利には0〜6
000で実施し、その際反応熱に水冷による導出するこ
とができる。塩素化反応を常圧で実施してもよいし高め
た圧力で実施してもよい。
実際に塩素圧が高まると共に反応所要時間は減少するが
、有利な塩素圧範囲は経済的理由からほぼ1〜2瓜ta
(絶対比)の間である。選択した圧力条件及び温度条件
に相応して液状もしくはガス状の塩素を使用する。本発
明によれば塩素化反応は不均一相で行なわれるので、懸
濁液を良く混合するこは配慮すべきである。
、有利な塩素圧範囲は経済的理由からほぼ1〜2瓜ta
(絶対比)の間である。選択した圧力条件及び温度条件
に相応して液状もしくはガス状の塩素を使用する。本発
明によれば塩素化反応は不均一相で行なわれるので、懸
濁液を良く混合するこは配慮すべきである。
反応混合物の希釈度を少なくとも、反応混合物を難なく
擬梓もしくはその他の方法で混合することができる様に
定めておくべきである。有利な反応バッチの希釈度は水
又は含水鉱酸1夕当りジアミド約20〜400夕であり
、これは水又は含水鉱酸1そ当りアミド約0.1〜2.
5モルの濃度に相応する。前記方法条件を厳守する場合
には塩素化反応は約2〜6雌ご後に完結する。
擬梓もしくはその他の方法で混合することができる様に
定めておくべきである。有利な反応バッチの希釈度は水
又は含水鉱酸1夕当りジアミド約20〜400夕であり
、これは水又は含水鉱酸1そ当りアミド約0.1〜2.
5モルの濃度に相応する。前記方法条件を厳守する場合
には塩素化反応は約2〜6雌ご後に完結する。
ァミドは、中間的に溶液を生じることなく、実際に定量
的にN,N′−ジクロルジアミド‘こ変わる。塩素化反
応終了後に存在する懸濁液は固体としてはN,N′−ジ
クロルーテレフタル酸ジアミド又はN,N′−ジクロル
ーィソフタル酸ジァミドを含有するだけである。生成物
を極めて簡単な方法で、例えば猿取又は遠心分離によっ
て分離することができる。例えば冷水で洗浄しかつ例え
ば70午Cで真空中で乾燥した後、該生成物は極めて高
い純度で得られ、これを直接本発明による方法の第二工
程に使用することができる。本発明による方法の第二工
程では、N,N′−ジクロルーィソフタル酸ジアミド又
はN,N′−ジクロル−テレフタル酸ジアミドをアルカ
リ金属−又はアルカリ士類金属を用いてm−又はpーフ
ェニレンジアミンに変える。
的にN,N′−ジクロルジアミド‘こ変わる。塩素化反
応終了後に存在する懸濁液は固体としてはN,N′−ジ
クロルーテレフタル酸ジアミド又はN,N′−ジクロル
ーィソフタル酸ジァミドを含有するだけである。生成物
を極めて簡単な方法で、例えば猿取又は遠心分離によっ
て分離することができる。例えば冷水で洗浄しかつ例え
ば70午Cで真空中で乾燥した後、該生成物は極めて高
い純度で得られ、これを直接本発明による方法の第二工
程に使用することができる。本発明による方法の第二工
程では、N,N′−ジクロルーィソフタル酸ジアミド又
はN,N′−ジクロル−テレフタル酸ジアミドをアルカ
リ金属−又はアルカリ士類金属を用いてm−又はpーフ
ェニレンジアミンに変える。
このことは、N’N′ージクロルジアミドを有利には含
水水酸化物に溶かすか又は懸濁しかつ加熱することによ
って行なわれる。水酸化物としては全てのアルカリ金属
−及びアルカリ士類金属水酸化物が好適であるが、経済
的理由から水酸化ナトリウム及び水酸化カルシウムが有
利である。水酸化物は有利には化学量論的量で使用れる
。過剰の水酸化物を使用することは必要でも有利でもな
い。有利にはN,N′−ジクロルジアミドの反応を20
〜95午0の範囲の温度、有利には30〜800○の温
度で行なう。
水水酸化物に溶かすか又は懸濁しかつ加熱することによ
って行なわれる。水酸化物としては全てのアルカリ金属
−及びアルカリ士類金属水酸化物が好適であるが、経済
的理由から水酸化ナトリウム及び水酸化カルシウムが有
利である。水酸化物は有利には化学量論的量で使用れる
。過剰の水酸化物を使用することは必要でも有利でもな
い。有利にはN,N′−ジクロルジアミドの反応を20
〜95午0の範囲の温度、有利には30〜800○の温
度で行なう。
しかしながら本発明による方法の場合には転位反応のた
めに、相応する特公昭57−61021号発明の工程の
場合よりも低い温度及び高い濃度を使用することができ
る。有利には5〜45重量%のN,N′ージクロルジア
ミド溶液又はN,N′−ジクロルジアミド懸濁液を使用
する。ジアミドの反応混合物からの単離を、クロロホル
ム、1,2−ジクロルェタン又はその他の溶剤を用いる
抽出により行なうことができる。しかしながらジアミン
は反応混合物中に、分別結晶により分離することもでき
る様な純度で生じる。その他の分離実施例としては、ア
ミンを硫酸又は塩酸を用いて塩として沈殿させることが
挙げらる。転位反応は強力は発熱反応でありかつ有利に
は断熱的に実施される。N,N′−ジクロルテレフタル
酸ジアミドの出発時濃度が高い場合に、高度の熱発生に
よって断熱的作業方法がもはや可能ではない場合には、
反応は蒸発冷却(Ver船mpf皿袋kuhlung)
(例えば蒸発剤として塩化メチルレンを用いて)下に実
施することができる。本発明による方法は下記の理由か
ら特公昭57−61021号発明である特顔昭48一0
3718号に対する改良法である:特公昭57−610
21号発明の方法では、次亜ハロゲン酸塩を生成するた
め及びィソシアネートを分解するために理論的に既にア
ミド基1個当り水酸化物4当量を必要とし、従ってテレ
フタル酸ジアミド又はィソフタル酸ジアミド1モル当り
水酸化合物合計8当量が必要である。
めに、相応する特公昭57−61021号発明の工程の
場合よりも低い温度及び高い濃度を使用することができ
る。有利には5〜45重量%のN,N′ージクロルジア
ミド溶液又はN,N′−ジクロルジアミド懸濁液を使用
する。ジアミドの反応混合物からの単離を、クロロホル
ム、1,2−ジクロルェタン又はその他の溶剤を用いる
抽出により行なうことができる。しかしながらジアミン
は反応混合物中に、分別結晶により分離することもでき
る様な純度で生じる。その他の分離実施例としては、ア
ミンを硫酸又は塩酸を用いて塩として沈殿させることが
挙げらる。転位反応は強力は発熱反応でありかつ有利に
は断熱的に実施される。N,N′−ジクロルテレフタル
酸ジアミドの出発時濃度が高い場合に、高度の熱発生に
よって断熱的作業方法がもはや可能ではない場合には、
反応は蒸発冷却(Ver船mpf皿袋kuhlung)
(例えば蒸発剤として塩化メチルレンを用いて)下に実
施することができる。本発明による方法は下記の理由か
ら特公昭57−61021号発明である特顔昭48一0
3718号に対する改良法である:特公昭57−610
21号発明の方法では、次亜ハロゲン酸塩を生成するた
め及びィソシアネートを分解するために理論的に既にア
ミド基1個当り水酸化物4当量を必要とし、従ってテレ
フタル酸ジアミド又はィソフタル酸ジアミド1モル当り
水酸化合物合計8当量が必要である。
しかしながらジアミン生成に関する選択性は過剰の水酸
化物で助成されるので、原発明の方法では水酸化物対ィ
ソフタル酸ジアミド又は水酸化物対テレフタル酸ジアミ
ドの9:1〜10:1の当量比が使用される。これに対
して本発明による方法では、理論的にはジアミド又はN
,N′−ジクロルジアミド1当量当り水酸化物6当量を
必要とするにすぎない。更に、化学量論的モル比を使用
する際に既に最高の選択性から得られることが確認され
、それ故本発明による方法の場合には水酸化物対N,N
′−ジクロルジアミドのモル比は6:1である。従って
本発明による方法はその理由からだけでも経済的である
。このことを除いても本発明による方法は特公階57−
61021号発明による方法に対して、収率が高いこと
、集中的に操作できること、反応混合物の後処理が容易
なこと及び得られる化合物が著しく純粋でありかつ安定
であることによって卓越している。次に本発明を実施例
につき詳説する。
化物で助成されるので、原発明の方法では水酸化物対ィ
ソフタル酸ジアミド又は水酸化物対テレフタル酸ジアミ
ドの9:1〜10:1の当量比が使用される。これに対
して本発明による方法では、理論的にはジアミド又はN
,N′−ジクロルジアミド1当量当り水酸化物6当量を
必要とするにすぎない。更に、化学量論的モル比を使用
する際に既に最高の選択性から得られることが確認され
、それ故本発明による方法の場合には水酸化物対N,N
′−ジクロルジアミドのモル比は6:1である。従って
本発明による方法はその理由からだけでも経済的である
。このことを除いても本発明による方法は特公階57−
61021号発明による方法に対して、収率が高いこと
、集中的に操作できること、反応混合物の後処理が容易
なこと及び得られる化合物が著しく純粋でありかつ安定
であることによって卓越している。次に本発明を実施例
につき詳説する。
例1〜8
次の例1〜8は本発明による方法の第一工程によるN,
N′−ジクロルーテレフタル酸ジアミド及びN,N′−
ジクロルーィソフタル酸ジアミドの製造に関する。
N′−ジクロルーテレフタル酸ジアミド及びN,N′−
ジクロルーィソフタル酸ジアミドの製造に関する。
例1
テレフタル酸ジアミド5409(3.29モル)を水1
0そに懸濁した。
0そに懸濁した。
懸濁液に激し〈撹拝しながら2時間、1分間当り塩素4
夕を導入した。僅かに冷却することによって反応温度を
25q0に保った。圧力は1.瓜taであった。その後
反応混合物を薄過し、残酒を冷水2そで洗浄しかつ70
q○で真空中で乾燥した。無色のN,N′−ジクロルー
テレフタル酸ジァミド55夕(理論値の98.4%)ぱ
得られた。例2 テレフタル酸ジアミド32夕(0.195モル)をガラ
スオートクレープ中で17重量%の塩酸0.6そに懸濁
した。
夕を導入した。僅かに冷却することによって反応温度を
25q0に保った。圧力は1.瓜taであった。その後
反応混合物を薄過し、残酒を冷水2そで洗浄しかつ70
q○で真空中で乾燥した。無色のN,N′−ジクロルー
テレフタル酸ジァミド55夕(理論値の98.4%)ぱ
得られた。例2 テレフタル酸ジアミド32夕(0.195モル)をガラ
スオートクレープ中で17重量%の塩酸0.6そに懸濁
した。
飴ねで櫨梓下かつ冷却下に2500で塩素33夕を供給
した。8分後にオートクレープ中は一定圧力となり、従
って反応は完結した。
した。8分後にオートクレープ中は一定圧力となり、従
って反応は完結した。
反応混合物を例1と同様に後処理した。純粋なN,N′
−ジクロルテレフタル酸ジアミドの収量は44.2夕(
理論値の97.2%)であった。例3 テレフタル酸ジアミド1200夕(7.317モル)を
17重量%の塩酸7そに懸濁した。
−ジクロルテレフタル酸ジアミドの収量は44.2夕(
理論値の97.2%)であった。例3 テレフタル酸ジアミド1200夕(7.317モル)を
17重量%の塩酸7そに懸濁した。
懸濁液に25こ○で3び分間で塩素1100夕を、圧力
が常に笹taに保たれぬ様にして供給した。その後反応
混合物を例1に記載の方法で後処理したN,N′−ジク
ロルテレフタル酸ジアミドの収量は1690夕(理論値
の99.1%)であった。例4 1り重量%の塩酸1そ中のテレフタル酸ジアミド400
夕(2.439モル)の懸濁液に常圧で55℃で140
分間以内に塩素360夕を導入した。
が常に笹taに保たれぬ様にして供給した。その後反応
混合物を例1に記載の方法で後処理したN,N′−ジク
ロルテレフタル酸ジアミドの収量は1690夕(理論値
の99.1%)であった。例4 1り重量%の塩酸1そ中のテレフタル酸ジアミド400
夕(2.439モル)の懸濁液に常圧で55℃で140
分間以内に塩素360夕を導入した。
反応混合物の後処理は例1に記載したうにして行なった
。N,N′−ジクロルーテレフタル酸ジアミドの収量は
522夕(理論値の92%)であった。例5 10%の含水硫酸200地中のテレフタル酸ジアミド5
夕(0.0305モル)の懸濁液に損梓下、常圧かつ温
度25℃で2時間、1分間当り塩素約0.19と導入し
た。
。N,N′−ジクロルーテレフタル酸ジアミドの収量は
522夕(理論値の92%)であった。例5 10%の含水硫酸200地中のテレフタル酸ジアミド5
夕(0.0305モル)の懸濁液に損梓下、常圧かつ温
度25℃で2時間、1分間当り塩素約0.19と導入し
た。
N,N′−ジクロルーテレフタル酸ジアミドを櫨取し、
水で洗浄しかつ乾燥した。収量は6.94夕(理論値の
97.7%)であった。例6イソフタル酸ジアミト64
夕(0.39モル)を15%の塩酸0.5夕を懸濁した
。
水で洗浄しかつ乾燥した。収量は6.94夕(理論値の
97.7%)であった。例6イソフタル酸ジアミト64
夕(0.39モル)を15%の塩酸0.5夕を懸濁した
。
雌投下した室温及び常圧で3時間以内にガス状塩素90
夕を鴨濁液に導入した。その後反応混合物を狸過し、残
澄を冷水で洗浄しかつ乾燥した。隔点73.5〜760
のN,N′−ジクロルィソフタル酸ジアミド90夕(理
論値の99.0%)が得られる。例3 テレフタル酸ジアミド16.4夕(0.10モル)を1
7重量%の塩酸500の【懸濁しかつホウロウ引きオー
トクレープ(Emaille−Autoklaven)
中で34o0に加熱した。
夕を鴨濁液に導入した。その後反応混合物を狸過し、残
澄を冷水で洗浄しかつ乾燥した。隔点73.5〜760
のN,N′−ジクロルィソフタル酸ジアミド90夕(理
論値の99.0%)が得られる。例3 テレフタル酸ジアミド16.4夕(0.10モル)を1
7重量%の塩酸500の【懸濁しかつホウロウ引きオー
トクレープ(Emaille−Autoklaven)
中で34o0に加熱した。
次いで激しく燭拝しながら酌量添加キュベツトを用いて
液状塩素22.8夕(0.32モル)を供給した。水冷
により反応温度3500を保った。反応圧力は1世ねで
あった。5分後に反応懸濁を迅速に放圧し、オートクレ
ープから搬出し、櫨遇しかつ水200の【で洗浄した。
液状塩素22.8夕(0.32モル)を供給した。水冷
により反応温度3500を保った。反応圧力は1世ねで
あった。5分後に反応懸濁を迅速に放圧し、オートクレ
ープから搬出し、櫨遇しかつ水200の【で洗浄した。
残澄を70℃で真空下に乾燥した。N,N′−ジクロル
ーテレフタル酸ジアミド22.6夕(理論値の97%)
が得られた。例8 テレフタル酸ジアミド16.4夕(0.10モル)を1
7重量%の塩酸500のとに懸濁しかつホウロゥ引きオ
ートクレープ中で素早く加熱して45ooにした。
ーテレフタル酸ジアミド22.6夕(理論値の97%)
が得られた。例8 テレフタル酸ジアミド16.4夕(0.10モル)を1
7重量%の塩酸500のとに懸濁しかつホウロゥ引きオ
ートクレープ中で素早く加熱して45ooにした。
次いで酌量添加キュベットを用いて擬投下かつ水冷下に
液状塩素23夕(0.325モル)を供給したが、その
際温度は3の段・以内に55q0に上昇しかつ圧力は2
仇Pに上昇した。3分後に反応混合物をオートクレープ
から搬出しかつ猿適した。
液状塩素23夕(0.325モル)を供給したが、その
際温度は3の段・以内に55q0に上昇しかつ圧力は2
仇Pに上昇した。3分後に反応混合物をオートクレープ
から搬出しかつ猿適した。
残澄を水200の‘で洗浄しかつ真空中で700○で乾
燥した。収率は理論値の94%であった。次の例9〜1
3は本発明の方法の第2工程によるN,N′−ジクロル
ーィソフタル酸ジァミド又はN,N′−ジクロルーテレ
フタル酸ジアミドからのm−及びp−フェニレンジアミ
ンの製造に関する。
燥した。収率は理論値の94%であった。次の例9〜1
3は本発明の方法の第2工程によるN,N′−ジクロル
ーィソフタル酸ジァミド又はN,N′−ジクロルーテレ
フタル酸ジアミドからのm−及びp−フェニレンジアミ
ンの製造に関する。
例9
内容2その三つ首コルベン中で水酸化ナトリウム溶液1
.2そ(水1200夕、NaOHI05夕)に窒素下に
5℃でN,N′ージクロルテレフタル酸ジアミド100
9(0.43モル)を混入し、次いで徐々に加熱してl
yoにした。
.2そ(水1200夕、NaOHI05夕)に窒素下に
5℃でN,N′ージクロルテレフタル酸ジアミド100
9(0.43モル)を混入し、次いで徐々に加熱してl
yoにした。
その際澄明な無色溶液が生じた。該時点で溶液を引続し
加熱した。
加熱した。
35ooで発熱的転位反応が開始した。
断熱的条件下で温度は迅速に上昇し続け、約2分後には
7〆Cになった。その時僅かに帯褐色である溶液をなお
1粉ご間室温で放置し、次いで冷却しかつ窒素雰囲気下
にクロロホルムで抽出した。抽出物からクロロホルムを
取出した後、p−フェニレンジアミン46夕(理論値の
99.0%)が単離された。例 10 還流冷却器を具備した内容2その三つ首コルベン中で、
N,N′ージクロルテレフタル酸ジアミド100夕(0
.43モル)を5℃で水酸化ナトリウム溶液0.8夕(
水800夕、NaOHI05夕)に混入し、次いで徐々
に加熱して1500にした。
7〆Cになった。その時僅かに帯褐色である溶液をなお
1粉ご間室温で放置し、次いで冷却しかつ窒素雰囲気下
にクロロホルムで抽出した。抽出物からクロロホルムを
取出した後、p−フェニレンジアミン46夕(理論値の
99.0%)が単離された。例 10 還流冷却器を具備した内容2その三つ首コルベン中で、
N,N′ージクロルテレフタル酸ジアミド100夕(0
.43モル)を5℃で水酸化ナトリウム溶液0.8夕(
水800夕、NaOHI05夕)に混入し、次いで徐々
に加熱して1500にした。
該時点で塩化メチレン400泌を一気に供給したので、
ェマルジョンが生じた。引続き加熱して370にし、次
いで水浴を取除いた。反応は非常に激しく始まり、これ
は開始する激しい塩化メチレンー還流で認識しうる。約
1び分間後に反応は完結し、これを引続き2び分間38
00に保ち、塩化メチレンを蒸発除去し、次いでp−フ
ェニレンジアミンを例9に記載の方法で単離した。収量
:45.3夕(理論値の97.5%)。例11 例9と同様にしてN,N′−ジクロルテレフタル酸ジア
ミド50夕(0.215モル)を水1そに懸濁しかつC
a(OH)250夕(0.67モル)を冷却下に5℃で
混入した。
ェマルジョンが生じた。引続き加熱して370にし、次
いで水浴を取除いた。反応は非常に激しく始まり、これ
は開始する激しい塩化メチレンー還流で認識しうる。約
1び分間後に反応は完結し、これを引続き2び分間38
00に保ち、塩化メチレンを蒸発除去し、次いでp−フ
ェニレンジアミンを例9に記載の方法で単離した。収量
:45.3夕(理論値の97.5%)。例11 例9と同様にしてN,N′−ジクロルテレフタル酸ジア
ミド50夕(0.215モル)を水1そに懸濁しかつC
a(OH)250夕(0.67モル)を冷却下に5℃で
混入した。
該時点で混合物を1雌ご間以内で加熱して50qoにし
かつ2粉ご間該温度で放置し、引続いて更に3晩ご間7
000に保った。懸濁液を熱時猿過しかつ櫨過残澄を熱
水各100の【で3回十分に洗浄した。次いで合した猿
液及び洗浄水から例9に記載の方法によりp−フェニレ
ンジアミンをクロロホルム抽出につて単離した。収量:
pーフェニレンジアミン22夕(理論値の94.7%)
。例 12例9と同様にしてN,N′−ジクロルテレフ
タル酸ジアミド100夕(0.43モル)を5℃で水酸
化カリウム溶液1.2〆(水1200夕、KOH145
夕)に混入し、反応させかつ後処理した。
かつ2粉ご間該温度で放置し、引続いて更に3晩ご間7
000に保った。懸濁液を熱時猿過しかつ櫨過残澄を熱
水各100の【で3回十分に洗浄した。次いで合した猿
液及び洗浄水から例9に記載の方法によりp−フェニレ
ンジアミンをクロロホルム抽出につて単離した。収量:
pーフェニレンジアミン22夕(理論値の94.7%)
。例 12例9と同様にしてN,N′−ジクロルテレフ
タル酸ジアミド100夕(0.43モル)を5℃で水酸
化カリウム溶液1.2〆(水1200夕、KOH145
夕)に混入し、反応させかつ後処理した。
p−フェニレンジアミン45.2夕(理論値の97.3
%)が得られた。例 13 例9と同様にしてN,N′−ジクロルィソフタル酸ジア
ミド50夕(0.215モル)を5℃で水酸化ナトリウ
ム溶液800の上(モチ20800夕、NaOH529
)に混入しかつ水浴を用いて35ooに加熱した。
%)が得られた。例 13 例9と同様にしてN,N′−ジクロルィソフタル酸ジア
ミド50夕(0.215モル)を5℃で水酸化ナトリウ
ム溶液800の上(モチ20800夕、NaOH529
)に混入しかつ水浴を用いて35ooに加熱した。
発生した反応熱によって温度は4分間以内に6000に
上昇した。反応生成物を1粉ご間該温度に保ち、次いで
(例9に従って)mーフェニレンジアミンを単離した。
収量は22.3夕(理論値の96.2%)であった。次
に本発明の実施態様を列記する。
上昇した。反応生成物を1粉ご間該温度に保ち、次いで
(例9に従って)mーフェニレンジアミンを単離した。
収量は22.3夕(理論値の96.2%)であった。次
に本発明の実施態様を列記する。
【1} 塩素化反応の際にジアミドの中性、塩酸々性又
は稀酸々性の希釈水性懸濁液から出発することを特徴と
する特許請求の範囲に記載の方法。
は稀酸々性の希釈水性懸濁液から出発することを特徴と
する特許請求の範囲に記載の方法。
【21 塩素化反応を温度0〜100oo、有利には0
〜60ooで実施することを特徴とする特許請求の範囲
及び前記第1項に記載の方法。【3} 塩素化反応を圧
力1〜2瓜taで実施するとを特徴とする特許請求の範
囲及び前記第1〜2項に記載の方法。
〜60ooで実施することを特徴とする特許請求の範囲
及び前記第1項に記載の方法。【3} 塩素化反応を圧
力1〜2瓜taで実施するとを特徴とする特許請求の範
囲及び前記第1〜2項に記載の方法。
‘41 塩素化反応で反応バッチの希釈度がテレフタル
酸ジアミド又はィソフタル酸ジアミド20〜400夕/
そであることを特徴とする特許請求の範囲及び前記第1
〜3項に記載の方法。
酸ジアミド又はィソフタル酸ジアミド20〜400夕/
そであることを特徴とする特許請求の範囲及び前記第1
〜3項に記載の方法。
{51 第二方法工程で温度20〜95℃、有利には3
0〜80つ0を使用することを特徴とする特許請求の範
囲及び前記第1〜4項に記載の方法。
0〜80つ0を使用することを特徴とする特許請求の範
囲及び前記第1〜4項に記載の方法。
【6} 第二万法工程で4〜45重量%のN,N′−ジ
クロルジアミド−溶液又は−懸濁液を使用することを特
徴とする特許請求の範囲及び前記第1〜5項に記載の方
法。
クロルジアミド−溶液又は−懸濁液を使用することを特
徴とする特許請求の範囲及び前記第1〜5項に記載の方
法。
(7} 第二方法工程で水酸化物対N,N′−ジクロル
ジアミドのモル比が6:1であることを特徴とする特許
請求の範囲及び前記第1〜6項に記載の方法。
ジアミドのモル比が6:1であることを特徴とする特許
請求の範囲及び前記第1〜6項に記載の方法。
(8} 第一方法工程で生じるN,N′−ジクロルジア
ミドを先ず反応混合物から分離しかつその後初めてアル
カリ金属−又はアルカリ士類金属水酸化物を用いる処理
を施すことを特徴とする特許請求の範囲及び前記第1〜
7項に記載の方法。
ミドを先ず反応混合物から分離しかつその後初めてアル
カリ金属−又はアルカリ士類金属水酸化物を用いる処理
を施すことを特徴とする特許請求の範囲及び前記第1〜
7項に記載の方法。
Claims (1)
- 1 m−及びp−フエニレンジアミンとイソフタル酸ジ
アミド又はテレフタル酸ジアミドのホフマン分解によつ
て製造するに当り、第一方法工程でイソフタル酸ジアミ
ド又はテレフタル酸ジアミドを希釈した鉱酸々性の水性
懸濁液中で塩素化し、その際反応混合物の希釈度が、塩
素化反応で生じる塩化水素が反応の完結時までほぼ完全
に反応混合物に溶解したままである様に定めれているべ
きであり、かつその際生じるN,N′−ジクロル−イソ
フタル酸ジアミド又はN,N′−ジクロル−テレフタル
酸ジアミドを引続きアルカリ金属−又はアルカリ土類金
属水酸化物を用いて処理することによつてm−又はp−
フエニレンジアミンにかえることを特徴とする、m−及
びp−フエニレンジアミンの製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2313496A DE2313496C3 (de) | 1973-03-19 | 1973-03-19 | Verfahren zur Herstellung von m- und p- Phenylendiamin |
DE2313496.5 | 1973-03-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59130243A JPS59130243A (ja) | 1984-07-26 |
JPS6029695B2 true JPS6029695B2 (ja) | 1985-07-12 |
Family
ID=5875163
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49031434A Pending JPS49134635A (ja) | 1973-03-19 | 1974-03-19 | |
JP58238054A Expired JPS6029695B2 (ja) | 1973-03-19 | 1983-12-19 | m−及びp−フエニレンジアミンの製法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49031434A Pending JPS49134635A (ja) | 1973-03-19 | 1974-03-19 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3897498A (ja) |
JP (2) | JPS49134635A (ja) |
AT (1) | AT327170B (ja) |
AU (1) | AU6656174A (ja) |
BE (1) | BE812358R (ja) |
CA (1) | CA1025884A (ja) |
CH (1) | CH591419A5 (ja) |
DD (1) | DD110648A6 (ja) |
DE (1) | DE2313496C3 (ja) |
ES (1) | ES423367A2 (ja) |
FR (1) | FR2222352B2 (ja) |
GB (1) | GB1413946A (ja) |
IT (1) | IT1046774B (ja) |
NL (1) | NL7402872A (ja) |
SE (1) | SE386890B (ja) |
SU (1) | SU545251A3 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2502411C2 (de) * | 1975-01-22 | 1977-02-24 | Akzo Gmbh | Verfahren zur herstellung von bis-n-chloramiden gesaettigter aliphatischer dicarbonsaeuren |
FR2298532A1 (fr) | 1975-01-22 | 1976-08-20 | Akzo Nv | Bis-n-chloramides des acides carboxyliques aromatiques et cycloaliphatiques |
DE3019491C2 (de) * | 1980-05-22 | 1985-02-21 | Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal | Verfahren zur Herstellung von Oximcarbamaten |
US5011997A (en) * | 1987-10-07 | 1991-04-30 | Hoechst Celanese Corp. | Process for bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane |
DE3909142A1 (de) * | 1989-03-21 | 1990-10-04 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von aminen |
EP1636166A2 (en) * | 2003-06-23 | 2006-03-22 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for production of fluorinated phenylenediamine |
RU2449983C1 (ru) * | 2010-12-23 | 2012-05-10 | Открытое акционерное общество "Каустик" (ОАО "Каустик") | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ п-ФЕНИЛЕНДИАМИНА |
KR101885110B1 (ko) * | 2016-11-10 | 2018-08-03 | 주식회사 오크켐텍 | 파라페닐렌디아민의 제조방법 |
CN111100012B (zh) * | 2019-12-16 | 2021-01-22 | 上海交通大学 | 一种制备间苯二胺的方法 |
CN113563199A (zh) * | 2020-04-29 | 2021-10-29 | 深圳有为技术控股集团有限公司 | 苯甲酰肼重排法制备间苯二胺和对苯二胺 |
CN112174828B (zh) * | 2020-10-29 | 2022-01-07 | 山东兴强化工产业技术研究院有限公司 | 一种制备间苯二胺的方法 |
CN113135826A (zh) * | 2021-04-14 | 2021-07-20 | 中芳特纤股份有限公司 | 一种对苯二胺的制备工艺 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3457311A (en) * | 1967-04-11 | 1969-07-22 | Armour Ind Chem Co | Process for preparing primary and secondary amines from amides |
GB1238332A (ja) * | 1968-05-29 | 1971-07-07 | ||
US3567746A (en) * | 1968-07-10 | 1971-03-02 | Pennwalt Corp | N-aryl benzamides |
-
1973
- 1973-03-19 DE DE2313496A patent/DE2313496C3/de not_active Expired
-
1974
- 1974-02-13 IT IT48283/74A patent/IT1046774B/it active
- 1974-02-14 AT AT118974A patent/AT327170B/de not_active IP Right Cessation
- 1974-02-15 CH CH213774A patent/CH591419A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-02-18 FR FR7405429A patent/FR2222352B2/fr not_active Expired
- 1974-02-18 ES ES423367A patent/ES423367A2/es not_active Expired
- 1974-02-25 CA CA193,459A patent/CA1025884A/en not_active Expired
- 1974-02-27 DD DD176832A patent/DD110648A6/xx unknown
- 1974-03-04 NL NL7402872A patent/NL7402872A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-03-12 AU AU66561/74A patent/AU6656174A/en not_active Expired
- 1974-03-13 US US450675A patent/US3897498A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-03-15 BE BE142048A patent/BE812358R/xx active
- 1974-03-18 SE SE7403586A patent/SE386890B/xx unknown
- 1974-03-19 JP JP49031434A patent/JPS49134635A/ja active Pending
- 1974-03-19 GB GB1206974A patent/GB1413946A/en not_active Expired
- 1974-03-19 SU SU2006474A patent/SU545251A3/ru active
-
1983
- 1983-12-19 JP JP58238054A patent/JPS6029695B2/ja not_active Expired
Also Published As
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---|---|
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BE812358R (fr) | 1974-07-01 |
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DE2313496C3 (de) | 1979-07-19 |
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SE386890B (sv) | 1976-08-23 |
CA1025884A (en) | 1978-02-07 |
FR2222352B2 (ja) | 1977-09-16 |
DE2313496B2 (ja) | 1978-11-16 |
CH591419A5 (ja) | 1977-09-15 |
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