JPS60253597A - 粗面化および陽極酸化されたアルミニウムまたはその合金をベースとする、シート、フオイルまたはウエブの形の材料を製造する方法 - Google Patents
粗面化および陽極酸化されたアルミニウムまたはその合金をベースとする、シート、フオイルまたはウエブの形の材料を製造する方法Info
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- JPS60253597A JPS60253597A JP60102825A JP10282585A JPS60253597A JP S60253597 A JPS60253597 A JP S60253597A JP 60102825 A JP60102825 A JP 60102825A JP 10282585 A JP10282585 A JP 10282585A JP S60253597 A JPS60253597 A JP S60253597A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム、
殊にオフセット印刷板用支持体材料を、ホスホルオキソ
陰イオンを含有する水浴液で後処理する方法に関する。
殊にオフセット印刷板用支持体材料を、ホスホルオキソ
陰イオンを含有する水浴液で後処理する方法に関する。
従来の技術
オフセット印刷板用支持体材料に、一方または双方の側
に、放ｙＩｇ巌感注（感光性）層（複写層）が直接にユ
ーザーによるかまたは予備コーティングされた印刷板の
製造業者により設けられるこの層は、写真製版法による
原図の画家をつくるのを可能にする。目Ｊ刷板からの版
の製造に引続き、層支持体は、欠の印刷工程で画家部分
にインキを受理すると同時に、画家を有しない部分（非
１ＩｋＩ慮部分）Ｋ平板印刷法用親水性画家バックグラ
ウンドがつ（られる。
に、放ｙＩｇ巌感注（感光性）層（複写層）が直接にユ
ーザーによるかまたは予備コーティングされた印刷板の
製造業者により設けられるこの層は、写真製版法による
原図の画家をつくるのを可能にする。目Ｊ刷板からの版
の製造に引続き、層支持体は、欠の印刷工程で画家部分
にインキを受理すると同時に、画家を有しない部分（非
１ＩｋＩ慮部分）Ｋ平板印刷法用親水性画家バックグラ
ウンドがつ（られる。
上述の理由で、オフセット印刷板の製造に使用される複
写層用層支持体に久の装作が要求されるニ ー 露光後、比較的より可溶性にされた放射線感性層の
これらの部分は露光後、親水注非画慮部分をつくるため
に、現家操作により残分な残すことな（容易に除去する
ことができねばならない。
写層用層支持体に久の装作が要求されるニ ー 露光後、比較的より可溶性にされた放射線感性層の
これらの部分は露光後、親水注非画慮部分をつくるため
に、現家操作により残分な残すことな（容易に除去する
ことができねばならない。
−非画家部分が露呈して存在している支持体は、水に対
し高い親和力を有しなければならない、即ちこれは、平
板印刷作業の間、迅速かつ永久的に水を受理するためお
よび油性印刷インキに関して十分な反撥作用を発揮する
ために強い親水性でなければならない。
し高い親和力を有しなければならない、即ちこれは、平
板印刷作業の間、迅速かつ永久的に水を受理するためお
よび油性印刷インキに関して十分な反撥作用を発揮する
ために強い親水性でなければならない。
−放射線感性層は、露光前に十分な付眉度を示さねばな
らすかつ露光後、印刷する層のこれらの部分は、十分な
付層を示さねばならない。
らすかつ露光後、印刷する層のこれらの部分は、十分な
付層を示さねばならない。
この種の層支持体に使用される基材は、殊にアルミニウ
ムである。それは表面的に１乾式ブラッシング、湿式ブ
ラッシング、サンドプラスト、化学的および／または電
気化学的処理のような公知方法により粗面化される。欠
いで、粗面化された基材を場合により１−極酸化処理を
施して、その間に摩耗抵抗を改良するために薄い酸化物
層を形成させる。
ムである。それは表面的に１乾式ブラッシング、湿式ブ
ラッシング、サンドプラスト、化学的および／または電
気化学的処理のような公知方法により粗面化される。欠
いで、粗面化された基材を場合により１−極酸化処理を
施して、その間に摩耗抵抗を改良するために薄い酸化物
層を形成させる。
実際に、支持体材料、特にアルミニウムをベースとする
陽極酸化された支持体材料はしばしば、層の付層を改良
し、親水性特性を高めおよび／または放射線感性層の現
家力を改良するために、放射機感性層の適用前に他の石
屋工程か加えられる。このような処理は、たとえば次の
方法により行なわれる： 西ドイツ国％許（ＤＥ −Ｃ）第１６７１６１４号明細
書（＝米国′ｌ！許（ＵＳ −Ａ ）第６５１１６６１
号明細書）は、王に殊にＨ３ＰＯ４水溶液中での印刷版
用支持体材料の一極酸化を記載しており；比軟例（例１
２）では、材料を最初Ｋ Ｈ＠８０．水浴液中で一極酸
化し、仄いでＨ３Ｐ０．またはＮａ２ＨＲ）。
陽極酸化された支持体材料はしばしば、層の付層を改良
し、親水性特性を高めおよび／または放射線感性層の現
家力を改良するために、放射機感性層の適用前に他の石
屋工程か加えられる。このような処理は、たとえば次の
方法により行なわれる： 西ドイツ国％許（ＤＥ −Ｃ）第１６７１６１４号明細
書（＝米国′ｌ！許（ＵＳ −Ａ ）第６５１１６６１
号明細書）は、王に殊にＨ３ＰＯ４水溶液中での印刷版
用支持体材料の一極酸化を記載しており；比軟例（例１
２）では、材料を最初Ｋ Ｈ＠８０．水浴液中で一極酸
化し、仄いでＨ３Ｐ０．またはＮａ２ＨＲ）。
の水ｍｇ中へ浸漬することにより後処理する２工程法が
実施されており；さらに、放射巌感注絹成物から成る層
を通用するに先立って・ヒドロキシエチルセルロースの
層ン適用することが必要である。
実施されており；さらに、放射巌感注絹成物から成る層
を通用するに先立って・ヒドロキシエチルセルロースの
層ン適用することが必要である。
また、西ドイツ１９Ｍ出願公開（ＤＥ −Ａ ）第２２
５１７１０最明ｌ１１１１Ｉ誉（＝英国特許（（）Ｂ−
Ａ）第１４１ｔＪ７６８号明細書）は、Ｈ２ＳＯ４水溶
液中で一極酸化された印刷板用アルミニウム支持体材料
の、Ｈ２ＳＯ４水浴液中での非１解的後処理を記載する
。同様の方法は、米国持ｆｆ（ＵＳ −Ａ）第、５８０
８［］０００号明細により記載されている。
５１７１０最明ｌ１１１１Ｉ誉（＝英国特許（（）Ｂ−
Ａ）第１４１ｔＪ７６８号明細書）は、Ｈ２ＳＯ４水溶
液中で一極酸化された印刷板用アルミニウム支持体材料
の、Ｈ２ＳＯ４水浴液中での非１解的後処理を記載する
。同様の方法は、米国持ｆｆ（ＵＳ −Ａ）第、５８０
８［］０００号明細により記載されている。
西ドイツ爾％ａ’Ｆ （ＤＥ −Ｃ）第２５４０５６１
号明最明Ｕ４（＝米国特Ｗｆ（ＵＳ −Ａ ）第４１１
６６９５号明細誉）による印刷版用支持体材料の製造法
においては、酸（たとえばメタ−、ビ四−またはポリリ
ン酸）または塩基（たとえばＮａ ３ ＰＯ４菫たはに
３ＰＯ，）を詮有する水溶液中への詮浸か、蒸気または
熱水で処理する前で慣用のアルミニウムの陽極酸化（た
とえ２ばＨ２ＳＯ４の水溶液中）後の中間工程として行
なわれる。
号明最明Ｕ４（＝米国特Ｗｆ（ＵＳ −Ａ ）第４１１
６６９５号明細誉）による印刷版用支持体材料の製造法
においては、酸（たとえばメタ−、ビ四−またはポリリ
ン酸）または塩基（たとえばＮａ ３ ＰＯ４菫たはに
３ＰＯ，）を詮有する水溶液中への詮浸か、蒸気または
熱水で処理する前で慣用のアルミニウムの陽極酸化（た
とえ２ばＨ２ＳＯ４の水溶液中）後の中間工程として行
なわれる。
ヨーロッパ待針出願公開（１１ｉｉＰ −Ａ ）第（１
）あり５７最明細誉（＝雨アフリカ共和国特許第８ＶＤ
９４７最明ａ誉）による印刷仮相アルミニウム支持体材
料の１場極酸化のための２工橿法では、′電気化学的処
理は、ａ） Ｈ２ＳＯ４の水溶液中およびｂ）リン富有
陰イオン（ホスホルオキソ函イオン、ホスホロフルオロ
陰イオンおよび／またはホスホロオキソフルオロ陰イオ
ン）を含有する水ｍ液中で行なわれる。次和、工程ｂ）
に適した化合物を挙げる二 − リン酸（Ｈ３ＰＯ４）、 リン酸二水素ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ４ン、リン酸水
素二ナトリウム（Ｎａ２ＨＰＯ４）、リン酸三ナトリウ
ム（Ｎａ３ＰＯ４）、亜リン酸（ＨｓＰＯｓ ）、 次亜リン酸二ナトリウム（Ｎａ２ＨＰ０５ ）、ニリン
ｒｌＲ（Ｈ４Ｐ２Ｏ７）、 ピロリン酸ナトリウム（Ｎａ４Ｐ２Ｏ７）、三リン酸（
Ｈ３Ｐ３０□ｏ）、 三リン酸ナトリウム（Ｎａ５Ｐ３０□。）、ポリリン酸
ナトリウム（Ｈｎ＋２ｐｎｏ３ｎ＋ｌ ）、テトラポリ
リン酸六ナトリウム（Ｎａ６ｐ４ｏ１３ ）、メタリン
酸六ナトリウム（Ｎａ６（ＰＯ３）６ ）、モノフルオ
ロリン酸二ナトリウム（Ｎａ２Ｐ０３Ｆ ）および ヘキサフルオロリン酸カリウム（ＫＰＦ６）。
）あり５７最明細誉（＝雨アフリカ共和国特許第８ＶＤ
９４７最明ａ誉）による印刷仮相アルミニウム支持体材
料の１場極酸化のための２工橿法では、′電気化学的処
理は、ａ） Ｈ２ＳＯ４の水溶液中およびｂ）リン富有
陰イオン（ホスホルオキソ函イオン、ホスホロフルオロ
陰イオンおよび／またはホスホロオキソフルオロ陰イオ
ン）を含有する水ｍ液中で行なわれる。次和、工程ｂ）
に適した化合物を挙げる二 − リン酸（Ｈ３ＰＯ４）、 リン酸二水素ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ４ン、リン酸水
素二ナトリウム（Ｎａ２ＨＰＯ４）、リン酸三ナトリウ
ム（Ｎａ３ＰＯ４）、亜リン酸（ＨｓＰＯｓ ）、 次亜リン酸二ナトリウム（Ｎａ２ＨＰ０５ ）、ニリン
ｒｌＲ（Ｈ４Ｐ２Ｏ７）、 ピロリン酸ナトリウム（Ｎａ４Ｐ２Ｏ７）、三リン酸（
Ｈ３Ｐ３０□ｏ）、 三リン酸ナトリウム（Ｎａ５Ｐ３０□。）、ポリリン酸
ナトリウム（Ｈｎ＋２ｐｎｏ３ｎ＋ｌ ）、テトラポリ
リン酸六ナトリウム（Ｎａ６ｐ４ｏ１３ ）、メタリン
酸六ナトリウム（Ｎａ６（ＰＯ３）６ ）、モノフルオ
ロリン酸二ナトリウム（Ｎａ２Ｐ０３Ｆ ）および ヘキサフルオロリン酸カリウム（ＫＰＦ６）。
これらの後処理工程がしばしば満足な結果を与えること
は本当であるが、これらは現在の実際の適用および住め
て種々の放射線感性複写層での被覆に適した支持体材料
、殊にこのような支持体材料の複雑でないおよび安価な
製造法に安水される切迫度の増加しつあるすべての要件
を満足することは不可能である。これは、ポゾチブ作用
性放射線感性複写層の分野において褐注能現鐵液を使用
する場合とくに重要なアルカリ性媒体に対する抵抗性だ
けでなく、酸化物Ｉ−の吸漕特注にもあてはまり、これ
の数値が重装である理由は、抜写層の化学的組成に依存
して、吸屑幼果により大きい確率で惹起される非画織部
分の汚染（たとえば漕色）が生ずるからである。さらに
、高速、高性能の装置で、これら支持体材料を工業的に
製造するために９工、機能不良の生起する傾向が極めて
低くかつエネルギー節約的に実施することのできる、酸
化物層の後処理法を開発することか望ましく；これはた
とえば、処理された酸化物層が比較可能な表面特注を示
す場合に、浸漬処理が電気化′！−Ｉ−理よりもすぐれ
ていることを首味する。
は本当であるが、これらは現在の実際の適用および住め
て種々の放射線感性複写層での被覆に適した支持体材料
、殊にこのような支持体材料の複雑でないおよび安価な
製造法に安水される切迫度の増加しつあるすべての要件
を満足することは不可能である。これは、ポゾチブ作用
性放射線感性複写層の分野において褐注能現鐵液を使用
する場合とくに重要なアルカリ性媒体に対する抵抗性だ
けでなく、酸化物Ｉ−の吸漕特注にもあてはまり、これ
の数値が重装である理由は、抜写層の化学的組成に依存
して、吸屑幼果により大きい確率で惹起される非画織部
分の汚染（たとえば漕色）が生ずるからである。さらに
、高速、高性能の装置で、これら支持体材料を工業的に
製造するために９工、機能不良の生起する傾向が極めて
低くかつエネルギー節約的に実施することのできる、酸
化物層の後処理法を開発することか望ましく；これはた
とえば、処理された酸化物層が比較可能な表面特注を示
す場合に、浸漬処理が電気化′！−Ｉ−理よりもすぐれ
ていることを首味する。
従って本発明の課題は、アルミニウムの両極酸化に対し
付加的に実施でき、こうして殊に高性能印刷板に課せら
れる上述の実際の安水を満足しかつ公知浸漬工程の効果
を改良する酸化アルミニウムの表面を生じる、シート状
アルミニウムの後処理法？：提案することであった。
付加的に実施でき、こうして殊に高性能印刷板に課せら
れる上述の実際の安水を満足しかつ公知浸漬工程の効果
を改良する酸化アルミニウムの表面を生じる、シート状
アルミニウムの後処理法？：提案することであった。
本発明は、その酸化アルミニウムｔホスホルオキソ陰イ
オンｆｆｔ言有する水浴液で後処理する１化学的、機械
的および／または電気化学的に粗面化され、陶＠咳化さ
れたアルミニウムまたはその合金をベースとするシート
、フォイルまたはクエプの形の材料を製造する公知方法
を基礎とする。本発明の方法は、酸化アルミニウム層の
後処理を、ヘキサメタホスフェート陰イオンな含有する
水浴液中への浸漬により行なうことを特徴とする。
オンｆｆｔ言有する水浴液で後処理する１化学的、機械
的および／または電気化学的に粗面化され、陶＠咳化さ
れたアルミニウムまたはその合金をベースとするシート
、フォイルまたはクエプの形の材料を製造する公知方法
を基礎とする。本発明の方法は、酸化アルミニウム層の
後処理を、ヘキサメタホスフェート陰イオンな含有する
水浴液中への浸漬により行なうことを特徴とする。
ヘキサメタホスフェート函イオンは、ポリメタリン酸Ｈ
ｎＰｎ０３ｎ ［：式中ｎ＝６（ヘキサメタホスホン酸
）］から誘導される。これは一般に、この酸の水溶性塩
、殊にＮａ６ Ｐ６０１ ＢσＸ うなアルカリ金橋塩
を水にＩ＠解することにより得られは る。方法の有利な実施飼では、この塩浴ｅ、−〜［１（
たとえは１石酸、クエン酸またはリン酸）を用いて、珠
にクエン酸のような水浴性有機酸（有利にヒドロキシカ
ルボン醒）ａ’用いて、１〜５、殊に１．５〜４．５の
−に請願される。たいてい、水ｆｔ３７没はへキサメタ
ホスフェート商イオンを１１／ｌ；〜５００ ｌ／／ｌ
！、有゛利に６１／／ｌｊ〜１５０１／ｌおよび殊に５
９／ｌ〜１００Ｉ／ｌ含有する。
ｎＰｎ０３ｎ ［：式中ｎ＝６（ヘキサメタホスホン酸
）］から誘導される。これは一般に、この酸の水溶性塩
、殊にＮａ６ Ｐ６０１ ＢσＸ うなアルカリ金橋塩
を水にＩ＠解することにより得られは る。方法の有利な実施飼では、この塩浴ｅ、−〜［１（
たとえは１石酸、クエン酸またはリン酸）を用いて、珠
にクエン酸のような水浴性有機酸（有利にヒドロキシカ
ルボン醒）ａ’用いて、１〜５、殊に１．５〜４．５の
−に請願される。たいてい、水ｆｔ３７没はへキサメタ
ホスフェート商イオンを１１／ｌ；〜５００ ｌ／／ｌ
！、有゛利に６１／／ｌｊ〜１５０１／ｌおよび殊に５
９／ｌ〜１００Ｉ／ｌ含有する。
後処理は非’１［的に、浸漬処理とし℃、非運続的かま
たは有利に連続的に、最近のクエブ製造装置中で行なわ
れる。０．５〜１２０秒の処理時間、１５℃〜８０℃、
殊に２０〜７５℃の処理一度を選択するのが傅利である
。使用される方法により１前に製造された表面状＋！１
（粗面化度および酸化物孔のような）＆工、実１ｉ！に
変化しないか、またはわずかな程度しか変化しない。
たは有利に連続的に、最近のクエブ製造装置中で行なわ
れる。０．５〜１２０秒の処理時間、１５℃〜８０℃、
殊に２０〜７５℃の処理一度を選択するのが傅利である
。使用される方法により１前に製造された表面状＋！１
（粗面化度および酸化物孔のような）＆工、実１ｉ！に
変化しないか、またはわずかな程度しか変化しない。
このため、本発明による方法は珠に、たとえば印刷版用
支持体材料の場合のようなこの表面状０を維持すること
が億めて夏装な材料を処理するためにとくに通している
。
支持体材料の場合のようなこの表面状０を維持すること
が億めて夏装な材料を処理するためにとくに通している
。
本発明により処理されるべき材料の適した基Ｕは、アル
ミニウム、またはたとえば９８．５重ｔチより多いＡｔ
含址を有し、付加的に少域の８１ 、 Ｆｅ 、 Ｔｉ
ｒ Ｃｕおよびｚｎ′１に含有するその合金である。
ミニウム、またはたとえば９８．５重ｔチより多いＡｔ
含址を有し、付加的に少域の８１ 、 Ｆｅ 、 Ｔｉ
ｒ Ｃｕおよびｚｎ′１に含有するその合金である。
殊に、印刷仮相支持不材料を製造する場合、シート状ア
ルミニウムをまず、場合により前洗浄工程後、慎械的（
たとえばブラッシングおよび／−ｉたは枡拳剤での処理
）、化学的（たとえば腐−剤）および／または電気化学
的（たとえば言水酸または塩浴液中での交流処理）手段
により粗面化する。本発明による方法では、゛岨気化♀
的租面化が有れであるが、心気化学的処理工程の前に、
これらのアルミニウム支持体材料を付加的に機械的手段
（たとえばワイヤーまたはナイ四ンデラシでのブラッシ
ングおよび／筺たは１ｔｌｆｔｌ剤での処理により）粗
面化することかできる。全ての工４は、非連続的にシー
トまたはフォイルを用いて実施できるが、有オＵには連
続的忙りエゾを用いて行なわれる。
ルミニウムをまず、場合により前洗浄工程後、慎械的（
たとえばブラッシングおよび／−ｉたは枡拳剤での処理
）、化学的（たとえば腐−剤）および／または電気化学
的（たとえば言水酸または塩浴液中での交流処理）手段
により粗面化する。本発明による方法では、゛岨気化♀
的租面化が有れであるが、心気化学的処理工程の前に、
これらのアルミニウム支持体材料を付加的に機械的手段
（たとえばワイヤーまたはナイ四ンデラシでのブラッシ
ングおよび／筺たは１ｔｌｆｔｌ剤での処理により）粗
面化することかできる。全ての工４は、非連続的にシー
トまたはフォイルを用いて実施できるが、有オＵには連
続的忙りエゾを用いて行なわれる。
殊に連続的方法では、′ｔＩｔ気化♀的祖面化工程にお
ける方法パラメーターは、通常久の範囲内圧ある二妹に
酸０．６〜６．０電ｆ％（塩の場合はとのき鎗より−く
てもよい）を有する水性電解液の温度２０〜６０℃、電
気ＶＢ度６〜２υＯＡ／ ａ＝” ｓ ｍ ｓ液中で粗
面化される材料スポットの面質時間６〜１００秒１．ｆ
ｆｌ血化される材料の表面上での電解液の流速５〜１０
００ｍ／、。非連続的方法では、所望のＸ流蜜匿はそれ
ぞれの場合に示された範囲のむしろ下方の範囲内にかつ
、醋一時間はむしろ上方の範囲内にあり、電解液の流れ
は、これらの方法においてはなしですますことさえでき
る。普通に使用される電流のｉ類は、通常５０〜６０
Ｈｚの周波数を有する交流であるが、陰極電流または陽
極電流のために異なる１ｌｆｒｔ強度振幅、低い周波数
、電流の断続または異なる周波数および波形の２つの電
流の重畳を有する交流のような変形電流タイプを使用す
ることもできる。粗面化された表面の山−谷の平均高さ
Ｒｚは１〜１５μｍ１特に１．５〜８．０μｍである。
ける方法パラメーターは、通常久の範囲内圧ある二妹に
酸０．６〜６．０電ｆ％（塩の場合はとのき鎗より−く
てもよい）を有する水性電解液の温度２０〜６０℃、電
気ＶＢ度６〜２υＯＡ／ ａ＝” ｓ ｍ ｓ液中で粗
面化される材料スポットの面質時間６〜１００秒１．ｆ
ｆｌ血化される材料の表面上での電解液の流速５〜１０
００ｍ／、。非連続的方法では、所望のＸ流蜜匿はそれ
ぞれの場合に示された範囲のむしろ下方の範囲内にかつ
、醋一時間はむしろ上方の範囲内にあり、電解液の流れ
は、これらの方法においてはなしですますことさえでき
る。普通に使用される電流のｉ類は、通常５０〜６０
Ｈｚの周波数を有する交流であるが、陰極電流または陽
極電流のために異なる１ｌｆｒｔ強度振幅、低い周波数
、電流の断続または異なる周波数および波形の２つの電
流の重畳を有する交流のような変形電流タイプを使用す
ることもできる。粗面化された表面の山−谷の平均高さ
Ｒｚは１〜１５μｍ１特に１．５〜８．０μｍである。
水性を解液が酸、妹にＨＣ／および／またはＨＮＯ５を
含有する場合、アルミニウムイオンはアルミニウム塩、
殊にＡｊ（Ｎｏ３）３および／筐たはＡｔＣｌ３の形で
添加することもできる；ホウｔ１！！たはホウ酸塩のよ
うな特定の他の酸および塩を麻加するかまたはアミンの
ような防ｍＷ質を添加することも公知である。
含有する場合、アルミニウムイオンはアルミニウム塩、
殊にＡｊ（Ｎｏ３）３および／筐たはＡｔＣｌ３の形で
添加することもできる；ホウｔ１！！たはホウ酸塩のよ
うな特定の他の酸および塩を麻加するかまたはアミンの
ような防ｍＷ質を添加することも公知である。
予備洗浄は、たとえば、脱脂剤および／または錯形成剤
、トリクロロエチレン、アセトン、メタノールｌたはア
ルミニウム処理剤として公またはいくつかの粗面化工種
の場合にを工、個々の工程の間で付加的腐蝕処理を冥施
し、２Ｉ！／ｍ２の厳大ｔ （１ｍ ｔｔの工程の間で
は５１／ｍ”まで）を除去するができる。一般に腐ｍｕ
液は、アルカリ金楓水酸化物水浴液またはアルカリ注反
応を示す塩の水溶液またはそれぞれＨＮＯ３、）Ｉ２８
０４またはＨ３Ｐ０．を生体とする酸の水浴液である。
、トリクロロエチレン、アセトン、メタノールｌたはア
ルミニウム処理剤として公またはいくつかの粗面化工種
の場合にを工、個々の工程の間で付加的腐蝕処理を冥施
し、２Ｉ！／ｍ２の厳大ｔ （１ｍ ｔｔの工程の間で
は５１／ｍ”まで）を除去するができる。一般に腐ｍｕ
液は、アルカリ金楓水酸化物水浴液またはアルカリ注反
応を示す塩の水溶液またはそれぞれＨＮＯ３、）Ｉ２８
０４またはＨ３Ｐ０．を生体とする酸の水浴液である。
粗面化工程と久の陽極酸化工程の間で行なわれる腐蝕処
理工程とは別に、実質的に純すすぎおよび／または清浄
効果を有し、たとえば粗面化の間圧形成された沈殿物（
”スマット“）を除去するため罠または単に峨′Ｓ液残
分を除去するため忙使用される、公知の非電気化学的処
理も存在し；これらの処理にたとえば布アルカリ金属水
酸化物水溶液または水が使用することができる。
理工程とは別に、実質的に純すすぎおよび／または清浄
効果を有し、たとえば粗面化の間圧形成された沈殿物（
”スマット“）を除去するため罠または単に峨′Ｓ液残
分を除去するため忙使用される、公知の非電気化学的処
理も存在し；これらの処理にたとえば布アルカリ金属水
酸化物水溶液または水が使用することができる。
電気化学的徂面化工程ＫＸ鵞〜＼１■たとえば支持体材
料の表面の摩耗および付−Ｍ％注を改良するために、別
の工程でアルミニウムの陽極酸化が続く。Ｈ２ＢＯ３、
Ｈ２ＰＯ４、ＨｇＣ２０ａ ％ ７ミげスルホン酸、ス
ルホコハク酸、スルホテリチル酸またはそれらの混合物
のような常用の゛電解液が陽極酸化のために使用するこ
とができ；ＨｇＳＯ４オヨヒＨ３”０４がとく忙有利で
あり、これらは単独かまたは混合物でおよび／また１工
多工程閘極酸化法で使用することができ；最も有利ＩＣ
Ｈ２ＢＯ３およびＡｔ３＋イオンを含有する水＃１ｆｆ
７゜が使用される。通常、酸化物層の取置は殊に１〜８
１１７ｍ” （ＦＩ Ｌ３．３〜２．５ ｔｔｒｎの層
厚に相当）である。
料の表面の摩耗および付−Ｍ％注を改良するために、別
の工程でアルミニウムの陽極酸化が続く。Ｈ２ＢＯ３、
Ｈ２ＰＯ４、ＨｇＣ２０ａ ％ ７ミげスルホン酸、ス
ルホコハク酸、スルホテリチル酸またはそれらの混合物
のような常用の゛電解液が陽極酸化のために使用するこ
とができ；ＨｇＳＯ４オヨヒＨ３”０４がとく忙有利で
あり、これらは単独かまたは混合物でおよび／また１工
多工程閘極酸化法で使用することができ；最も有利ＩＣ
Ｈ２ＢＯ３およびＡｔ３＋イオンを含有する水＃１ｆｆ
７゜が使用される。通常、酸化物層の取置は殊に１〜８
１１７ｍ” （ＦＩ Ｌ３．３〜２．５ ｔｔｒｎの層
厚に相当）である。
本発明により製造される材料は、有利にオフセット印刷
版の支持体として使用される、即ち支持体材料の一万ま
たは双方の表面が、予備センシタイジングされた印刷板
の製造業者かまたは直接ニーず−により、放射域感性組
成物で披機される◇放射？ＩＩＮＩＡ性（感光性）層は
、根本的に照射（′４元）、場合により引続く現鐵およ
び／または定漕後、印刷のために使用できるＩ＃家構成
の表面を生じるすべての層を包含する。
版の支持体として使用される、即ち支持体材料の一万ま
たは双方の表面が、予備センシタイジングされた印刷板
の製造業者かまたは直接ニーず−により、放射域感性組
成物で披機される◇放射？ＩＩＮＩＡ性（感光性）層は
、根本的に照射（′４元）、場合により引続く現鐵およ
び／または定漕後、印刷のために使用できるＩ＃家構成
の表面を生じるすべての層を包含する。
多くの用途に使用されるハロゲン化銀含有層は別として
、種々の他の層が公却であり、これらはたとえば、コデ
ール（Ｊａｒｏｍｉｒ Ｋｏｓａｒ ）により１ライト
−センシティブ システムズ（Ｌｌｇｈｔ−８ｅｎｓｉ
ｔ１ｖｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ ） ” （発行者シヨ？／
−ウ（リー＆テンズ（Ｊｏｈｎ Ｗｌｌｅｙ ＆ ５ｏ
ｎｓ ）、ニューヨーク在、１９６５年〕に記載されて
いるニクロム酸塩および重クロム酸塩を富有するコロイ
ド層（コデール、８ｇ２章）；不胞和化合物を含有し、
露光の際これらの化合物が異性体化、転位、環化または
架橋される層（コデール、第４章〕；光重合されうる化
合物を富有し、露光される際にモノマーまたはプレポリ
マーが、場合により開始剤を用いる重合を受ける層（コ
”ｊ’−ル、第５１）；およびす７トキノンージアジド
のような０−ジアゾキノン、ｐ−ジアゾキノンまたはジ
アゾニウム塩の縮合生成物を含有するノ１ｍ （コず−
ル、第７承）′。
、種々の他の層が公却であり、これらはたとえば、コデ
ール（Ｊａｒｏｍｉｒ Ｋｏｓａｒ ）により１ライト
−センシティブ システムズ（Ｌｌｇｈｔ−８ｅｎｓｉ
ｔ１ｖｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ ） ” （発行者シヨ？／
−ウ（リー＆テンズ（Ｊｏｈｎ Ｗｌｌｅｙ ＆ ５ｏ
ｎｓ ）、ニューヨーク在、１９６５年〕に記載されて
いるニクロム酸塩および重クロム酸塩を富有するコロイ
ド層（コデール、８ｇ２章）；不胞和化合物を含有し、
露光の際これらの化合物が異性体化、転位、環化または
架橋される層（コデール、第４章〕；光重合されうる化
合物を富有し、露光される際にモノマーまたはプレポリ
マーが、場合により開始剤を用いる重合を受ける層（コ
”ｊ’−ル、第５１）；およびす７トキノンージアジド
のような０−ジアゾキノン、ｐ−ジアゾキノンまたはジ
アゾニウム塩の縮合生成物を含有するノ１ｍ （コず−
ル、第７承）′。
適曲な層はまた、電子写真層、即ち無機または有機光導
電体を含有する層をも含有する。感光性物質に対し付加
的に、これらの層はもちろんたとえば樹脂、染料または
可塑剤のような他の成分も含有できるう殊に、欠の感光
性組成物または化合物が、本発明により製造される支持
体材料の塗布において使用することができる：０−キノ
ンジアジド、有利に０−ナフトキノンジアジド、たとえ
ば高分子量または低分子鎗のナフトキノン−（１，２）
−シアシト−（２）−スルホン酸エステルまたはアミｌ
ｒＶ感ｙｔ注化合物として含有するボジチブ複写層（た
とえば西ドイツ国特許（ｖｗ −Ｃ）第８５４８９ｔＪ
−１、同第８６５１０９号、同第８７９２０３号、同第
８９４９５９号、同第９３８２３３号、同第１１０９５
２１号、ｌｉ［１１４４７０５号、同＠１１１８６０６
号、同第１１２０２７５号、同第１１２４８１７号およ
び同４２６６１６７７号明最明ａ書およびヨーロッパ特
許出願公開（ｇｐ−Ａ）第００２１４２８号オヨヒｊｆ
ｆｌｉＫ００５５８１４号＃４細書参照）； 芳香族ジアゾニウム塩および活性カルボニル基を有する
化合物からの縮合生成物、殊にジフェニルアミンジアゾ
ニウム塩およびホルムアルデヒドから形成される縮合生
成物を含有するネガチゾ複写層（たとえば西ドイツ国特
許（Ｄｇ−Ｃ）第５９６７３１号、同第１１３８３９９
号、同第１１３８４００号、同第１１３８４０１号、同
第１１４２８７１号、同！１１５４１２３最明ａｍ、
米ｔｓ特許（ＵＳ −Ａ ） 第２６７９４９８号およ
び同！３０５０５０２最明細誉および英国特許第７１２
６０６号明細最明照）；たとえば西ドイツ国特許（ＤＥ
−Ｃ） 第２０６５７３２号明剣誉忙記載されているような、芳
香族ジアゾニウム化合物の共縮合生成物を含有するネガ
チデ複写層該共縮合生成物はａ）縮合反応に関与しうる
芳香族シアゾニウム塩化合物および ｂ）フェノールエーテルまたは芳香族チオエーテルのよ
うな縮合反応に関与しうる化合物のそれぞれ少なく）一
本１単位を有し、これらがメテレン基のような、縮合反
応に関与しうるカルボニル化合物から誘４される２価の
架橋員により結合されている； 西ドイツ国特許出願公開（ＤＥ −Ａ ）第２６１０８
４２号明細誉、西ドイツ国特許（ＤＫ −Ｃ）第２７１
８２５４最明則誉または西ドイツ国％許出願公開（Ｄｇ
−Ａ ）第汐２＆Ｓ５６号明細書によるボジチプ層は
、照射される際に１酸を脱離する化合物、酸により脱離
し５る少なくとも１つのＣ−０−Ｃ−基（たとえばオル
トカルボン酸エステル基またはカルボ／酸アミドアセタ
ール基）ヲ有するモノマーまたはポリマーの化合物、お
よび適当な場合にはバインダーを含有する： 光重合可能なモノマー、光開始剤、バインダーおよび所
望によりさらに添加物から構成されたネガチゾ層。これ
らの層中で、たとえばアクリル酸−およびメタクリル酸
エステルまたはジイソシアネートと多１ｄｌｊアルコー
ルの部分エステルとの反応生成物が、たとえば米国特Ｗ
ｆ（ＵＳ−Ａ）第２７６０８６３号および同第３０６０
０２３号明細誉およ最明ビイツ国特許出願公開（ＤＥ−
Ａ）第２０６４０７９号および同第２３６１０４１号明
細！に記載されているように、モノマーとして使用され
る； 西ドイツ国特許出願公開第３０３６０７７最明ｄＷＫよ
るネガテブＩ−は、感光性化合物としてシアゾニウム塩
重縮合生成物または有機アジド化合物、およびバインダ
ーとしてアルケニルスルホニルランタンまたはシクロア
ルケニルスルホニルウレタン１１４Ｉ鎖を有する一分子
被ポリマーを含有する。
電体を含有する層をも含有する。感光性物質に対し付加
的に、これらの層はもちろんたとえば樹脂、染料または
可塑剤のような他の成分も含有できるう殊に、欠の感光
性組成物または化合物が、本発明により製造される支持
体材料の塗布において使用することができる：０−キノ
ンジアジド、有利に０−ナフトキノンジアジド、たとえ
ば高分子量または低分子鎗のナフトキノン−（１，２）
−シアシト−（２）−スルホン酸エステルまたはアミｌ
ｒＶ感ｙｔ注化合物として含有するボジチブ複写層（た
とえば西ドイツ国特許（ｖｗ −Ｃ）第８５４８９ｔＪ
−１、同第８６５１０９号、同第８７９２０３号、同第
８９４９５９号、同第９３８２３３号、同第１１０９５
２１号、ｌｉ［１１４４７０５号、同＠１１１８６０６
号、同第１１２０２７５号、同第１１２４８１７号およ
び同４２６６１６７７号明最明ａ書およびヨーロッパ特
許出願公開（ｇｐ−Ａ）第００２１４２８号オヨヒｊｆ
ｆｌｉＫ００５５８１４号＃４細書参照）； 芳香族ジアゾニウム塩および活性カルボニル基を有する
化合物からの縮合生成物、殊にジフェニルアミンジアゾ
ニウム塩およびホルムアルデヒドから形成される縮合生
成物を含有するネガチゾ複写層（たとえば西ドイツ国特
許（Ｄｇ−Ｃ）第５９６７３１号、同第１１３８３９９
号、同第１１３８４００号、同第１１３８４０１号、同
第１１４２８７１号、同！１１５４１２３最明ａｍ、
米ｔｓ特許（ＵＳ −Ａ ） 第２６７９４９８号およ
び同！３０５０５０２最明細誉および英国特許第７１２
６０６号明細最明照）；たとえば西ドイツ国特許（ＤＥ
−Ｃ） 第２０６５７３２号明剣誉忙記載されているような、芳
香族ジアゾニウム化合物の共縮合生成物を含有するネガ
チデ複写層該共縮合生成物はａ）縮合反応に関与しうる
芳香族シアゾニウム塩化合物および ｂ）フェノールエーテルまたは芳香族チオエーテルのよ
うな縮合反応に関与しうる化合物のそれぞれ少なく）一
本１単位を有し、これらがメテレン基のような、縮合反
応に関与しうるカルボニル化合物から誘４される２価の
架橋員により結合されている； 西ドイツ国特許出願公開（ＤＥ −Ａ ）第２６１０８
４２号明細誉、西ドイツ国特許（ＤＫ −Ｃ）第２７１
８２５４最明則誉または西ドイツ国％許出願公開（Ｄｇ
−Ａ ）第汐２＆Ｓ５６号明細書によるボジチプ層は
、照射される際に１酸を脱離する化合物、酸により脱離
し５る少なくとも１つのＣ−０−Ｃ−基（たとえばオル
トカルボン酸エステル基またはカルボ／酸アミドアセタ
ール基）ヲ有するモノマーまたはポリマーの化合物、お
よび適当な場合にはバインダーを含有する： 光重合可能なモノマー、光開始剤、バインダーおよび所
望によりさらに添加物から構成されたネガチゾ層。これ
らの層中で、たとえばアクリル酸−およびメタクリル酸
エステルまたはジイソシアネートと多１ｄｌｊアルコー
ルの部分エステルとの反応生成物が、たとえば米国特Ｗ
ｆ（ＵＳ−Ａ）第２７６０８６３号および同第３０６０
０２３号明細誉およ最明ビイツ国特許出願公開（ＤＥ−
Ａ）第２０６４０７９号および同第２３６１０４１号明
細！に記載されているように、モノマーとして使用され
る； 西ドイツ国特許出願公開第３０３６０７７最明ｄＷＫよ
るネガテブＩ−は、感光性化合物としてシアゾニウム塩
重縮合生成物または有機アジド化合物、およびバインダ
ーとしてアルケニルスルホニルランタンまたはシクロア
ルケニルスルホニルウレタン１１４Ｉ鎖を有する一分子
被ポリマーを含有する。
また、たとえば西Ｐイツ国特許第１１１７３９１号、同
第１５２２４９７号、同第１５７２３１２号、同第２６
２２０４７号明ｍ１４Ｆ最明載されているような光半導
体層を、本発明により製造した支持体材料に適用するこ
ともでき、その結果として高い感光性の電子写真印刷板
が得られる。
第１５２２４９７号、同第１５７２３１２号、同第２６
２２０４７号明ｍ１４Ｆ最明載されているような光半導
体層を、本発明により製造した支持体材料に適用するこ
ともでき、その結果として高い感光性の電子写真印刷板
が得られる。
本発明により製造された、支持体材料から製造され、迩
布されたオフセット印刷板から所望の版は、公知方法で
画１＃による露光または照射、引続（現１象剤、有利に
現像水溶液を用いる非画像部分の洗浄により得られる。
布されたオフセット印刷板から所望の版は、公知方法で
画１＃による露光または照射、引続（現１象剤、有利に
現像水溶液を用いる非画像部分の洗浄により得られる。
屑いたことに、その支持体材料が本発明の方法九より後
処理されて−るオフセット印刷板は、ホスホルオキソ陰
イオン７￥：含有する他の水浴液で後処理された同じ支
持体材料の印刷板と比較に して、汚染順向の減少より区別される（下記の比較例参
照）。純浸漬処理におけるヘキテメタホスフエート原イ
オンのこの特別な効果ハ、電気化学的処理で全ての陰イ
オン群が類似の効果を有するので予測できなかった。
処理されて−るオフセット印刷板は、ホスホルオキソ陰
イオン７￥：含有する他の水浴液で後処理された同じ支
持体材料の印刷板と比較に して、汚染順向の減少より区別される（下記の比較例参
照）。純浸漬処理におけるヘキテメタホスフエート原イ
オンのこの特別な効果ハ、電気化学的処理で全ての陰イ
オン群が類似の効果を有するので予測できなかった。
前述の記載および久の実施例において、パーセンテージ
は常に、別記しないかぎり、重量パーセントを表わす。
は常に、別記しないかぎり、重量パーセントを表わす。
重重部と容量部の関係はｙとｃＩｒＬ３との関係に同じ
である。さらに〜仄の方法が、パラメタの６４１Ｊ足の
ために例忙おいて使用された。
である。さらに〜仄の方法が、パラメタの６４１Ｊ足の
ために例忙おいて使用された。
表面か染料吸着（層色）％注を示すかどうかを試験する
ために１放射線感性層で！ｉ！積された印刷板材料の一
切片を露光し、現慮し、およびその後その半分を抹消液
（ｄｅｌｅｔｉｏｎ ｆｌｕｉｄ）で処理する。多くの
染料が支持体材料の表面の未処理部分に吸着されて＾る
ほど、たとえば未処理の半分と処理された半分との間の
色の明度における相違が太き（なる。染料吸着力は０〜
５の範囲の値を有し、０は染料吸着なしを表わし、１は
＠敵な染料吸着を表わし、５は強い染料吸７ｆを表わす
；０．５段階のみが示される。５より上の埴は、付加的
に配化物層が除去されたことを示す。
ために１放射線感性層で！ｉ！積された印刷板材料の一
切片を露光し、現慮し、およびその後その半分を抹消液
（ｄｅｌｅｔｉｏｎ ｆｌｕｉｄ）で処理する。多くの
染料が支持体材料の表面の未処理部分に吸着されて＾る
ほど、たとえば未処理の半分と処理された半分との間の
色の明度における相違が太き（なる。染料吸着力は０〜
５の範囲の値を有し、０は染料吸着なしを表わし、１は
＠敵な染料吸着を表わし、５は強い染料吸７ｆを表わす
；０．５段階のみが示される。５より上の埴は、付加的
に配化物層が除去されたことを示す。
支持体材料に適用される、適当な放射巌感注層は、ポリ
ビニルブチラールとプロペニルスルホニルイソシアネー
トの反応生成物、６−メドキシーゾフエニルアミンー４
−ゾアゾニクムスル７エート１モルおよび４．４′−ビ
スメトキシメチルジフェニルエーテル１モルから得られ
、メシチレンスルホネートとして沈殿される重縮合生成
物、Ｈ３ＰＯ４、ビクトリア ビエア ブルー（Ｖｌｊ
ｃｔｏｒｌａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ ） ＦＧＡおよび
７工二ルアシージフェニルアミンを含有するネガチゾ層
か、またはクレゾール／ホルムアルデヒドノボラック、
ナフトキノン−（１，２）−ジアジに−（２）−スルホ
ン酸−（４）の４−（２−フコニルプロア’−２−イル
）−フェニルエステル、ポリビニルブチラール、ナンド
キノン−（１゜２）−シアシト−（２）−スルホン散り
ロリビー（４）およびクリスタルバイオレットを含有す
るボゾテグ層である。こうして、実際の使用に適した印
刷板および印刷版が、製造される。
ビニルブチラールとプロペニルスルホニルイソシアネー
トの反応生成物、６−メドキシーゾフエニルアミンー４
−ゾアゾニクムスル７エート１モルおよび４．４′−ビ
スメトキシメチルジフェニルエーテル１モルから得られ
、メシチレンスルホネートとして沈殿される重縮合生成
物、Ｈ３ＰＯ４、ビクトリア ビエア ブルー（Ｖｌｊ
ｃｔｏｒｌａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ ） ＦＧＡおよび
７工二ルアシージフェニルアミンを含有するネガチゾ層
か、またはクレゾール／ホルムアルデヒドノボラック、
ナフトキノン−（１，２）−ジアジに−（２）−スルホ
ン酸−（４）の４−（２−フコニルプロア’−２−イル
）−フェニルエステル、ポリビニルブチラール、ナンド
キノン−（１゜２）−シアシト−（２）−スルホン散り
ロリビー（４）およびクリスタルバイオレットを含有す
るボゾテグ層である。こうして、実際の使用に適した印
刷板および印刷版が、製造される。
実施例
１＄１１および比較例Ｃ１
ＨＮＯ３７，４％およびＡｔ（ＮＯ３）３６％を討有す
る水溶液中で、アルミニウムウェブを交流（６５℃で１
１５Ａ／ａｍ” ） Ｙ用いて′電気化学的に粗面化し
、次いで直流を用いて、Ｈ２ＥｆＯ４およびＡｔ”＋イ
オンを含有する水浴液中で一極酸化する。
る水溶液中で、アルミニウムウェブを交流（６５℃で１
１５Ａ／ａｍ” ） Ｙ用いて′電気化学的に粗面化し
、次いで直流を用いて、Ｈ２ＥｆＯ４およびＡｔ”＋イ
オンを含有する水浴液中で一極酸化する。
約２．５ ｇ／ ｍ”の重量を有する酸化物ｌ―を、へ
・−サメタリン酸六ナトリウム（Ｎａ６ Ｐ６０□８）
を含有し、７０−を何する水浴液中へ、４５〜５０℃の
温度で１５秒間浸漬する。この塩の量の増大による染料
吸着の変化を表に挙げる。
・−サメタリン酸六ナトリウム（Ｎａ６ Ｐ６０□８）
を含有し、７０−を何する水浴液中へ、４５〜５０℃の
温度で１５秒間浸漬する。この塩の量の増大による染料
吸着の変化を表に挙げる。
比較例は後処理なしに実施した。
例２および比較例Ｃ２
方法は、ＨＣｌ０．９％を含有する水溶液を使用する点
乞除き、例１におけると同じである。
乞除き、例１におけると同じである。
例６および比較例Ｃ６
方法は、Ｎａ６ ｐ６０１８の溶液が付加的にクエン酸
１０Ｆ！／ｌを含有し、こうして２．５のｐｉ（を有す
る点を除き、例１におけると同じである０例４および比
較例Ｃ４ 方法は、Ｎａ６ ｐ、 Ｏ□８の溶液が付加的にクエン
酸１０１１／ＩＩＹ：含有し、こうして２．５の−を有
する点を除き、例２におけると同じである。
１０Ｆ！／ｌを含有し、こうして２．５のｐｉ（を有す
る点を除き、例１におけると同じである０例４および比
較例Ｃ４ 方法は、Ｎａ６ ｐ、 Ｏ□８の溶液が付加的にクエン
酸１０１１／ＩＩＹ：含有し、こうして２．５の−を有
する点を除き、例２におけると同じである。
例５および比較例Ｃ２０
方法は、ホスホルオキソ函イオンを生じる他の化合物（
表参照）を使用するか、後処理を実施しない点を除き、
例１（０５〜Ｃｌ２）または例２（ＣＩ３〜Ｃ２０）に
おけると同じである場合の染料吸Ｍは、ホスホルオキソ
陰イオンを生じる他の塩または酸を使用する場合よりも
著しく減少することを示す。この効果は、たとえばクエ
ン酸の添加によりＰ）Ｉを変える場合にさらに増加し；
同様の効果は、他の強すぎない戚を添加した場合ＰＨ１
〜５の範囲内で観察される。
表参照）を使用するか、後処理を実施しない点を除き、
例１（０５〜Ｃｌ２）または例２（ＣＩ３〜Ｃ２０）に
おけると同じである場合の染料吸Ｍは、ホスホルオキソ
陰イオンを生じる他の塩または酸を使用する場合よりも
著しく減少することを示す。この効果は、たとえばクエ
ン酸の添加によりＰ）Ｉを変える場合にさらに増加し；
同様の効果は、他の強すぎない戚を添加した場合ＰＨ１
〜５の範囲内で観察される。
／
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 化学的、機械的および／または電気化学的に粗面
化されかつ陽極酸化されたアルミニウムまたはその合金
をベースとする、シート、フォイルまたはクエプの形の
材料を製造するため、その酸化アルミニウム層をホスホ
ルオキソ陰イオンを含有する水ｍ液で後処理する方法疋
おいて、アルミニウム層の淡処理をヘキサメタホスフェ
ート陰イオンを富有する水浴１ｇｉ、中への言浸により
行なうことを％黴とする、粗面化および陽極酸化された
アルミニウムまたはその合釜をベースとする、シート、
フォイルまたはウェブの形の材料を製造する方法。 ２、水浴液がへキサメタリン酸の水溶性塩を特徴する特
許請求の範囲第１１Ａ記載の方Ｉ！２２゜６、水溶液が
へキテメタ勺ン酸六ナトリウムを特徴する特許請求の範
囲第１項またＱ工第２ＪＡ記載の方法。 ４、水浴液を、酸を用いて１〜５の−に調節する、特許
請求の範囲第１項から第６項までのいずれか１項記載の
方法。 ５、使用される酸がヒドロキシカルボン酸である、特ｉ
！Ｉｆ請求の範囲第４項記載の方法。 ６、使用される酸がクエン酸である、特許請求の範囲第
５項記載の方法。 Ｚ ヘキサメタホスフェート陰イオン３１／！１〜１５
．０１／ｉｊを水浴液中に含有する、・特許請求の範囲
５ｇ１項から第６項までのいずれか１項記載の方法。 ８、釘科を、ＥＩＣｔおよび／ ｉ タ＋Ｘ、 ＨＮｏ
、３ ’！’ 生体とする水性電解液中で゛電気化学的
に粗面化する、％ｆＦ請求の範囲５ｐ、１項から第７項
までのいずれか１項記載の方法。 ９ 材料を、Ｈ２ＳＯ４を主剤とする水浴液中で陽極酸
化する、特許請求の範囲第１項から第８項までのいずれ
か１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3418111.3 | 1984-05-16 | ||
| DE19843418111 DE3418111A1 (de) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Verfahren zur nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit phosphoroxo-anionen enthaltenden waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60253597A true JPS60253597A (ja) | 1985-12-14 |
| JPH0545437B2 JPH0545437B2 (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=6235962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60102825A Granted JPS60253597A (ja) | 1984-05-16 | 1985-05-16 | 粗面化および陽極酸化されたアルミニウムまたはその合金をベースとする、シート、フオイルまたはウエブの形の材料を製造する方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4650739A (ja) |
| EP (1) | EP0161608B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60253597A (ja) |
| BR (1) | BR8502292A (ja) |
| CA (1) | CA1271958A (ja) |
| DE (2) | DE3418111A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA853680B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07119151B2 (ja) * | 1987-12-07 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体 |
| US5230988A (en) * | 1991-03-12 | 1993-07-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of making lithographic printing plate |
| DE69932794T2 (de) * | 1998-12-22 | 2006-12-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte |
| JP4868020B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2012-02-01 | 株式会社デンソー | アルミニウムの陽極酸化方法、および陽極酸化アルミニウム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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