JPS6019916B2 - 0−置換された7β−アミノ−3−セフエム−3−オ−ル−4−カルボン酸化合物の製法 - Google Patents

0−置換された7β−アミノ−3−セフエム−3−オ−ル−4−カルボン酸化合物の製法

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JPS6019916B2
JPS6019916B2 JP55094119A JP9411980A JPS6019916B2 JP S6019916 B2 JPS6019916 B2 JP S6019916B2 JP 55094119 A JP55094119 A JP 55094119A JP 9411980 A JP9411980 A JP 9411980A JP S6019916 B2 JPS6019916 B2 JP S6019916B2
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リカルド・スカルタツツイ−ニ
ハンス・ビツケル
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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Publication of JPS6019916B2 publication Critical patent/JPS6019916B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/02Preparation
    • C07D501/04Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はェノール誘導体、詳しくは式 (この式でR;はアミノ保護基でありそしてRぎは水素
原子またはアシル基ぶcであるかまたはR{とR;はそ
の両方で2価のアミノ保護基を表わし、R2は水酸基で
あるかまたは式中のカルボニル基−C(=○)−といつ
しよに保護されたカルボキシル基を形成している基R会
であり、そしてR3はアシル基である)で表わされる0
−置換された78ーアミノー3−セフエムー3rオール
一4ーカルボン酸化合物または塩形成基をもつこのよう
な化合物の塩の製造に関するものである。
本発明によるェノール誘導体は3ーセフェム−3−オー
ル化合物のェステルである。アミ/保護基R;は水素原
子で置換できる基、主にアシル基Ac、さらにトリアリ
ールメチル基殊にトリチル基、ならびに有機シリル基ま
たは有機スタニル基である。
基R;のアシル基を含めて基Acは主に炭素原子を好ま
しくは1母固までもっている有機カルボン酸のアシル基
、殊に置換されている場合のある脂肪族、脂環式、脂環
、脂肪族、芳香族、芳香脂肪族、複秦環式または複素環
−脂肪族のカルボン酸(ぎ酸を含める)のアシル基なら
びに炭酸半議導体のアシル基である。基R;とR;とが
連結して形成している2価のアミノ保護基は殊に炭素原
子を好ましくは18個までもっている有機ジカルボン酸
の2価アシル基、主に脂肪族または芳香族ジカルボン酸
のジアシル基、さらにQ−位置に置換基例えば芳香族ま
たは複素環式基を好ましくはもっているQーアミノ酢酸
(このァミノ酢酸のアミノ基は、置換基例えばメチル基
のような低級アルキル基2個をもつのが好ましいメチレ
ン基を介して前記の窒素原子と結合している)のアシル
基である。また、基R了とR;とはその両方で炭素原子
を好ましくは18個までもっている有機ィリデン基例え
ば脂肪族、脂濠式、脂環−脂肪族または芳香脂肪族ィリ
デン基であることもできる。式−C(=○)−R多で示
される保護されたカルボキシル基は主にェステル化され
たカルボキシル基であるが、普通の混合無水物基または
置換されている場合のあるカルバモイル基またはヒドラ
ジノカルボニル基であることもできる。
故に、基R釘ま基一C(=○)一といつしよにェステル
化されたカルボキシル基を形成している炭素原子の数が
好ましくは1針圏までの有機基でエーテル化された水酸
基であることができる。
このような有機基は例えば脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族の基、殊にこの種類の置換
されている場合のある炭化水素基ならびに複素環式また
は榎素環一脂肪族基である。た、R参‘ま有機シリルオ
キシ基または有機金属性基でエーテル化された水酸基例
えば相当する有機スタニルオキシ基、殊に炭素原子を好
ましくは1乳固までもっている置換されている場合のあ
る炭化水素基例えば脂肪族炭化水素基1〜3個によって
そして場合によっては塩素原子のようなハロゲ原子によ
って置換されているシリルオキシ基またはスタニルオキ
シ基であることもできる。基−C(=0)−といつしよ
に無水物基主に混合無水物基を形成している基R参‘ま
殊にアシルオキシ基であって、この基は炭素原子を好ま
しくは18個までもっている有機カルボン酸例えば脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族カ
ルポン酸たは炭酸半ェステルのような炭酸半誘導体の相
当する基である。
基−C(=○)といつしよにカルバモィル基を形成して
いる基R多‘ま置換されている場合のあるァミ/基であ
る。
この置換基は炭素原子を好ましくは18個までもってい
る置換されている場合のある1価または2価の炭化水素
基、例えば炭素原子18個までをもっている置換されて
いる場合のある1価または2価の脂肪族、脂環式、脂環
−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに
炭素原子】8個までをもつ相当する複素環式または榎素
環−脂肪族基および(または)官能性基例えば官能的に
変えられていることのできる水酸基殊に遊離水酸基、さ
らにエーテル化またはェステル化された水酸基(そのエ
ーテル化またはェステル化している基は例えば前記の意
味をもちそして好ましくは炭素原子18個までをもって
いる)またはアシル基主に炭素原子を好ましくは18個
までもつ有機カルポン酸または炭酸半誘導体のァシル基
である。式−C(=○)−R8で示される置換されたヒ
ドラジノカルボニル基においては、その1方または両方
の窒素原子が置換されていることができる。
置換基としては主に炭素原子を好ましくは18個までも
っている置換されていることのできる1価または2価の
炭化水素基、例えば炭素原子18個までをもっている置
換されていることのできる1価または2価の脂肪族、脂
環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素
基、さらに炭素原子18個までをもっている相当する複
索環式または複素環−脂肪族基および(または)官能性
基例えばアシル基主に炭素原子を好ましくは1針固まで
もっている有機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシル
基が挙げられる。アシル基としてR3は主にぎ酸を含め
た有機カルボン酸例えば脂環式、脂環−脂肪族、芳香脂
肪族、複素環式または複素環−脂肪族カルボン酸のァシ
ル基、殊に脂肪族カルボン酸、さらに芳香族カルボン酸
および炭酸半誘導体のアシル基である。
本明細書に記載の一般用語は例えば次の意味をもってい
る。
脂肪族基(相当する有機カルボン酸の脂肪族基を含む)
ならびに相当するィリデン基は置換されている場合のあ
る1価または2価の脂肪族炭化水素基、殊に炭素原子を
例えば7個までそして好ましくは4個までもっているこ
とのできる低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基または低級アルキリデン基である。
このような基は場合によっては官能性基によって、例え
ば遊離のまたはエーテル化またはェステル化された水酸
基またはメルカプト基、例えば低級アルコキシ基、低級
アルケニルオキシ基、低級アルキレンジオキシ基、置換
されている場合のあるフェニルオキシ基またはフェニル
低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、置換されてい
る場合のあるフェニルチオ基またはフェニル低級アルキ
ルチオ基、ヘナロサィクリルチオ基またはへテロサィク
リル低級アルキルチオ基、置換されている場合のある低
級アルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカノィ
ルオキシ基、またはハロゲン原子、さらにオキソ基、ニ
トロ基、置換されている場合のあるアミノ基例えば低級
アルキルアミノ基、ジ低級アルキルァミノ基、低級アル
キレンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基または
アザ低級アルキレンアミ/基ならびにアシルアミ/基例
えば低級アルカノィアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基、ハロゲン低級アルコキシカルボニルアミノ
基、置換されている場合のあるフェニル低級ァルコキシ
カルボニルアミノ基、置換されている場合のあるカルバ
モィルアミノ基、ウレィドカルボニル基またはグアニジ
ノカルボニルアミノ基、さらにアルカリ金属塩のような
塩の形で存在する場合のあるスルホアミノ基、アチド基
、低級アルカノィル基やペンゾィル基のようなアシル基
、官能的に変えられている場合のあるカルボキシル基例
えば塩の形にあるカルボキシル基、低級アルコキシカル
ボニル基のようなェステル化されたカルボキシル基、N
−低級アルキルーまたはN,Nージ低級アルキルーカル
バモィル基のような置換されてし、場合のあるカルバモ
ィル基、さらに、置換されている場合のあるウレィドカ
ルボニル茎またはグアジニノカルボニル基、またはシア
ノ基、官能的に変えらている場合のあるスルホ基例えば
スルフアモィル基または塩の形にあるスルホ基、または
0−モノ−または0,0′−ジー置換されている場合の
あるホスホノ基(その置換基は例えば置換されている場
合のある低級アルキル基、フェニル基またはフェニル低
級アルキル基であって、0一未置換または0−モノ置換
されたホスホノ基はアルカリ金属塩のような塩の形であ
ることもできる)によってモノ置換、ジ置換またはポリ
置換されていることができる。2価脂肪族カルボン酸の
脂肪族基を含めて2価の脂肪族基は例えば低級アルキレ
ン基または低級アルケニレン基であって、これらは場合
によっては前記脂肪族基のようにモノ置換、ジ置換また
はポリ置換されていることができそして(または)その
鎖中に酸素、窒素またはいおう原子のようなへテロ原子
が介在していることができる。
脂環式基または脂環−脂肪族基(相当する有機カルボン
酸における脂環式基または脂環−脂肪族基を含む)なら
びに当する脂環式または脂環−脂肪族イリデン基は置換
されている場合のある単環式または2環式脂環式または
脂環−脂肪族炭化水素基、例えば単環式、2環式または
多環式のシクロアルキル基またはシクロアルケニル基、
さらにシクロアルキルデン基、またはシクロアルキルー
またはシクロアルケニルー低級アルキル基または−低級
ァルケニル基、さらにシクロァルキルー低級アルキリデ
ン基またはシクロアルケニル−低級アルキ1」デン基で
ある。これらの基においてシクロアルキルおよびシクロ
アルキリデンは例えば環炭素原子を12個まで、例えば
3〜8個、好ましくは3〜6個もつており、またシクロ
アルケニルは例えば環炭素原子を12個まで、例えば3
〜8個、例えば5〜8個、好ましくは5個または6個も
ちそして2重結合1個または2個をもっており、そして
脂環−脂肪族基の脂肪族部分は炭素原子を例えば7個ま
で、好ましくは4個までもっていることができる。これ
ら脂環式基または脂環−脂肪族基は所望ならば例えば置
換されている場合のある脂肪族炭化水素基によって、例
えば前に挙げた置換されている場合のある低級ァルキル
基によってまたは例えば前記脂肪族炭化水素基のように
官能性基によってモノ置換、ジ置換またはポリ置換され
ていることができる。芳香族基(相当するカルボン酸の
芳香族基を含む)は置換されている場合のある芳香族炭
化水素基、例えば単環式、2環式または多環式の芳香族
炭化水素基、殊にフェニル基ならびにビフェニリル基ま
たはナフチル基であって、これらは例えば前記の脂肪族
および脂環式炭化水素基のように場合によってはモノ置
換、ジ置換またはポリ置換されていることができる。
芳香族カルボン酸の2価の芳香族基はとりわけ1,2ー
アリーレン基特に1,2−フェニレン基であって、これ
らは例えば前記の脂肪族および脂環式炭化水素基のよう
に場合によってはモノ置換、ジ置換またはポリ置換され
ていることができる。
前記の芳香脂肪族基(相当するカルボン酸における芳香
脂肪族基を含む)およびまた芳香脂肪族イリデン基は例
えば置換されている場合のある芳香脂肪族炭化水素基、
例えば置換されている場合のある単環式、2濠式または
多環式芳香族炭化水素基を3個までもっている置換され
ている場合のある脂肪族炭化水素基であって、とりわけ
フェニルー低級アルキル基またはフェニルー低級アルケ
ニル基、ならびにフェニルー低級アルキニル基およびま
たフェニルー低級アルキリデン基であり、そしてこのよ
うな基は例えばフェニル基1〜3個をもっておりそして
場合によっては例えば前記の脂肪族および脂環式基のよ
うにその芳香族および(または)脂肪族部分においてモ
ノ置換、ジ置換またはポリ置換されていることができる
複素環式基(複素環−脂肪族基におけるもの、および相
当するカルボン酸における複素環式基または複素環−脂
肪族基を含む)は芳香族性をもつ特に単環式ならびに2
環式または多環式のアザ環式、チア環式、オキサ環式、
チアザ環式、チアジアザ環式、オキザアザ環式、ジアザ
環式、トリアザ環式またはテトラアザ環式基およびさら
にこの種類の相当する部分的にまたは全体的に飽和され
た穣素環式基であって、このような基は場合によっては
例えば前記の脂環式基のようにモノ置換、ジ置換または
ポリ置換されていることができる。
複秦環−脂肪族基にける脂肪族部分は例えば相当する脂
環−脂肪族基または芳香脂肪族基に与えた意味をもつ。
炭酸半誘導体のアシル基は相当する半ェステルのアシル
基(このェステル基の有機基は置換されている場合のあ
る脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素
基または複秦環−脂肪族基である)、とりわけ炭酸の低
級アルキル半ヱステルのアシル基(これは例えばそのQ
−または3一位置で置換されていることができる)およ
びその有機基において置換されている場合のある炭酸の
低級アルケニル、ジクロアルキル、フェニルまたはフェ
ニル−低級アルキル半ェステルのアシル基であるのが好
ましい。
炭酸半ェステルのアシル基は、さらに、その低級アルキ
ル部分が複素濠式基例えば芳香族性の前記複索環式基の
1つをもっている炭酸の低級アルキル半ェステルの相当
する基であって、その低級アルキル基および榎素環式基
はいずれも場合によっては置換されていることができる
。さらに、炭酸半議導体のアシル基はハロゲン化されて
いる場合のあるN一低級アルキルカルバモィル基のよう
なN−置換されている場合のあるカルバモィル基である
こともできる。エーテル化された水酸基は主として置換
されている場合のある低級アルコキシ基(その置換基は
主として遊離のまたは官能的に変換例えばェーナル化ま
たはェステル化された水酸基、殊に低級アルコキシ基ま
たはハロゲン原子である)、さらに低級アルケニルオキ
シ基、シクロアルキルオキシ基または贋摸されている場
合のあるフェニルオキシ基、ならびにへテロサイクリル
オキシ基またはへテロサィクリル低級アルコキシ基、殊
に置換されている場合のあるフェニル低級アルコキシ基
である。
置換されている場合のあるァミノ基は例えばアミノ基、
低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキレンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基、
チア低級アルキレンアミノ基、アザ低級アルキレンアミ
ノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシアミノ基、
低級アルカノィルオキシアミノ基、低級アルコキシカル
ボニルアミノ基または低級アルカノィルアミノ基である
置換されている場合のあるヒドラジノ基は例えばヒドラ
ジノ基、2一低級アルキルヒドラジノ基、2,2ージ低
級アルキルヒドラジノ基、2−低級ァルコキシカルボニ
ルヒドラジノ基または2−低級アルカノィルヒドラジノ
基である。
低級アルキル基は例えばメチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、ィソプロピル基、nーブチル基、ィソブチル基
、第2プチル基、第3ブチル基、ならびにn−ペンチル
基、ィソベンチル基、nーヘキシル基、イソヘキシル基
またはnーヘプチル基であり、また低級アルケニル基は
例えばビニル基、アリル基、ィソプロベニル基、2一ま
たは3ーメタリル基または3ーブテニル基であることが
でき、低級アルキニル基は例えばブロパルギル基または
2ーブチニル基であることができ、そして低級アルキリ
デン基は例えばィソプロピリデン基またはィソブチリデ
ン基であることができる。
低級アルキレン基は例えば1,2ーェチレン基、1,2
−または1,3ープロピレン基、1,4ーブチレン基、
1,5ーベンチレン基または1,6−へキシレン基であ
り、また低級アルケニレン基は例えば1,2−ェテニレ
ン基または2ーブテン−1,4−ィレン基である。
へテロ原子の介在する低級アルキレン基は例えば3−オ
キサー1,5−ベンチレン基のようなオキサ低級アルキ
レン基、3ーチアー1,5ーベンチレン基のようなチア
低級アルキレン基、または3一低級アルキルー3−アザ
−1,5−ベンチレン基例えば3ーメチルー3ーアザ−
1,5−ベンチレン基のようなアザ低級アルキレン基で
ある。シクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロベンチル基、シクロヘキシル基ま
たはシクロヘプチル基、ならびにアダマンチル基であり
、シクロアルケニル基は例えばシクロプ。
べニル基、1−、2一または3−シクロベンテニル基、
1一、2一または3−シクロヘキセニル基、3ーシクロ
ヘプテニル基または1,4−シクロヘキサジェニル基で
あって、シクロアルキリデン基は例えばシクロベンチリ
デン基またはシクロヘキシリデン基である。シクロアル
キル−低級アルキルー低級アルキル基またはシクロアル
キル−低級アルケニル基は例えばシクロプロピルー、シ
クロベンチル−、シクロヘキシル−またはシクロヘプチ
ルーメチル基、一1,1一または−1,2−エチル基、
一1,1−、一1,2一または一1,3−プロピル基、
ービニル基または−アリル基であって、シクロアルケニ
ルー低級アルキル基またはシクロアルケニル−低級アル
ケニル基は例えば1一、2−または3ーシクロベンテテ
ルー、1一、2一または3ーシクロヘキセニルーまたは
1一、2−または3ーシクロヘプテニル、ーメチル基、
一1,1一または−1,2ーェチル基、一1,1一、一
1,2一または−1,3−プロピル基、一ビニル基また
は−アリル基である。シクロアルキルー低級アルキリデ
ン基は例えばシクロヘキシルメチレン基でありそしてシ
クロアルケニル−低級アルキリデン基は例えば3−シク
ロヘキセニルメチレン基である。ナフチル基は1−また
は2ーナフチル基であって、ビフェニリル基例えば4ー
ピフェニリル基である。
フェニル−低級アルキル基またはフェニル−低級アルケ
ニル基は例えばペンジル基、1一または2ーフェニルヱ
チル基、1一、2−または3ーフェニルプロピル基、ジ
フェニルメチル基、トリチル基、1−または2−ナフチ
ルメチル基のようなナフチルー低級アルキル基、スチリ
ル基またはシンナミル基であって、フェニルー低級アル
キリデン基は例えばペンジリデン基である。
複素環式基はとりわけ芳香族性をもつ置換されている場
合のある複素環式基、例えば相当する単環式のモノアザ
環式、モノチア環式またはモノオキサ環式基例えば2−
ピリル基や3ーピリル基のようなピリル基、2−、3−
または4−ピリジル基のようなピリジル基およびピリジ
ニウム基、2一または3ーチェニル基のようなチェニル
基または2ーフリル基のようなフリル基、2濠式のモノ
アザ環式、モノオキサ環式またはモノチア環式基例えば
2−または3ーィンドリル基のようなインドリル基、2
一または4−キノリニル基のようなキノリニル基、1−
インキノリニル基のようなインキノリニル基、2一また
は3ーベンゾフラニル基のようなペンゾフラニル基また
は2−または3−ペンゾチェニル基のようなペンゾチェ
ニル基、単環式のジァザ環式、トリアザ環式、テトラア
ザ環式、オキサアザ環式、チアザ環式またはチアジアザ
環式基、例えば2−ィミダゾリル基のようなィミダゾリ
ル基、2−または4ーピリミジニル基のようなピリミジ
ニル基、1,2,4ートリアゾール−3−ィル基のよう
なトリアゾリル基、1一または5−テトラゾリル基のよ
うなテトラゾリル基、2−オキサゾリル基のようなオキ
サゾリル基、3−または4ーィソオキサゾ1」ル基のよ
うなィソオキサゾリル基、2−チアゾリル基のようなチ
アゾ1」ル基、3一または4−ィソチアゾリル基のよう
なィソチァゾリル基、または1,2,4−チアジアゾー
ルー3ーイル基や1,3,4−チアジアゾール−2−ィ
ル基のような1,2,4一または1,3,4−チアジア
ゾリル基、あるいは2環式のジアザ環式、オキサアザ環
式またはチアザ環式基例えば2−ペンズィミダゾリル基
のようなペンズイミダゾIJル基、2−ペンズオキサゾ
リル基のようなペンズオキサゾリル基または2−ペンズ
チァゾリル基のようなペンズチアゾリル基である。
相当する部分的にまたは全体に飽和された基は例えば2
一テトラヒドロチェニル基のようなテトラヒドロチェニ
ル基、2ーテトラヒドロフリル基のようなテトラヒドロ
フリル基または2−または4ーピベリジル基のようなピ
ベリジル基である。複素環−脂肪族基は榎素環式基特に
上記基をもつ低級アルキル基または低級アルケニル基で
ある。前記の榎素環式基は、例えば置換されている場合
のある脂肪族または芳香族炭化水素基特にメチル基のよ
うな低級アルキル基によってまたは場合によっては塩素
原子のようなハロゲン原子により置換されたフェニル基
例えばフェニル基または4ークロルフェニル基によって
または例えば前記脂肪族炭化水素基のように官能性基に
よって置換されていることができる。低級アルコキシ基
は例えばメトキシ基、ェトキシ基、nーブ。
ポキシ基、ィソプロポキシ基、nーブトキシ基、ィソブ
トキシ基、第2プトキシ基、第3プトキシ基、nーベン
トキシ基または第3ペントキシ基である。これらの基は
例えばハロゲノ−低級アルコキシ基特に2ーハロゲノ−
低級アルコキシ基例えば2,2,2ートリクロルェトキ
シ、2ークロルー、2ーブロムーまたは2−ヨードーェ
トキシ基におけるように置換されていることができ。低
級アルケニルオキシ基は例えばビニルオキシ基またはア
リルオキシ基であり、低級アルキレンジオキシ基は例え
ばメチレンジオキシ基、ヱチレンジオキシ基またはィソ
プロピリデンジオキシ基であり、シクロアルコキシ基は
例えばシクロベンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ
基またはアダマンチルオキシ基であり、フェニル−低級
アルコキシ基は例えばペンジルオキシ基または1一また
は2ーフェニルェトキシ基、ジフェニルメトキシ基また
は4,4′ージメトキシ−ジフェニルメトキシ基であり
、またへテロサィクリルーオキシ基またはへテロサィク
リル低級アルコキシ基は例えば2−ピリジルメトキシ基
のようなピリジル−低級アルコキシ基、フルフリルオキ
シ基のようなフリル−低級アルコキシ基または2−テニ
ルオキシ基のようなチェニル−低級アルコキシ基である
。低級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基またはn−ブチルチオ基であり、低級アルケニルチ
オ基は例えばアリルチオ基であって、フェニル−低級ア
ルキルチオ基は例えばペンジルチオ基であり、または複
素環式基または複素環−脂肪族基でエーテル化されたメ
ルカプト基は特に4ーピリジルチオ基のようなピリジル
チオ基、2ーイミダゾリルチオ基のようなィミダゾリル
チオ基、2−チアゾリルチオ基のようなチアゾリルチオ
基、1,2,4−チアジアゾール−3ーィルチオ基や1
,3,4ーチアジアゾール−2−イルチオ基のような1
,2,4−または1,3,4ーチアジアゾリルチオ基ま
たは1−メチル−5−テトラゾリルチオ基のようなテト
ラゾリルチオ基である。
ェステル化された水酸基はとりわけハロゲン原子例えば
ふつ素、塩素、臭素、またはよう素原子、ならびに低級
アルカノィルオキシ基例えばアセトキシ基またはプロピ
オニルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基例
えばメトキシカルボニルオキシ基、ヱトキシカルボニル
オキシ基、またはtーブチルオキシカルポニルオキシ基
、2ーハロゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ基例え
ば2,2,2ートリクロルエトキシカルボニルオキシ基
、2ーフロムェトキシカルボニルオキシ基または2ーョ
ードヱトキシカルボニルオキシ基、またはアリールカル
ボニルメトキシカルボニルオキシ基例えばフェナシルオ
キシカルボニルオキシ基である。
低級アルコキシーカルボニル基は例えばメトキシカルボ
ニル基、ェトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボ
ニル基、ィソフ。
ロポキシカルボニル基、t−ブトキシカルポニル基また
はt−ペントキシカルボニル基である。N−低級アルキ
ルーカルバモィル基またはN,N−ジー低級アルキルー
カルバモィル基は例えばN−メチルカルバモィル基、N
−エチルカルバモィル基、N,N−ジメチルカルバモィ
ル基、N,N−ジェチルカルバモィル基であるが、N−
低級アルキルスルフアモィル基は例えばN−メチルスル
フアモイル基またはN,Nージメチルスルフアモィル基
である。
アルカリ金属塩の形にあるカルボキシル基またはスルホ
基は例えばナトリウム塩またはカリウム塩の形にあるカ
ルボキシル基またはスルホ基である。
低級アルキルアミノ基またはジー低級アルキルアミノ基
は例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基またはジェチルアミノ基であり、低級アルキレン
アミ/基は例えばピロリジノ基またはピベリジノ基であ
り、オキサー低級アルキレンアミノ基は例えばモルホリ
ノ基、チア低級ァルキレンアミノ基は例えばチオモルホ
リ/基そしてァザー低級アルキレンアミノ基は例えばピ
ベラジノ基または4−メチルピベラジノ基である。
アシルアミノ基は特にカルバモィルアミノ基、メチルカ
ルバモィルアミノ基のような低級アルキルカルバモィル
アミノ基、ウレィドカルボニルアミノ基、グアニジノカ
ルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基
例えばメトキシカルボニルアミノ基、ェトキシカルボニ
ルアミノ基またはt−ブトキシカルボニルアミノ基、2
,2,2−トリクロルェトキシカルボニルアミノ基のよ
うなハロゲノ低級アルコキシカルボニルァミノ基、4ー
メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ基のようなフ
ェニル低級アルコキシカルボニルアミノ基、アセチルア
ミノ基やプロピオニルアミノ基のような低級アルカノィ
ルアミノ基、さらにフタルィミド基または塩例えばナト
リウム塩のようなアルカリ金属塩またはアンモニウム塩
の形にあることのできるスルホアミノ基である。低級ア
ルカノィル基は例えばホルミル基、アセチル基、プロピ
オニル基またはピバ。ィル基である。○−低級アルキル
ーホスホノ基は例えば0ーメチルーまたは0−エチルー
ホスホノ基、0,○′ージ低級アルキルーホスホノ基は
例えば0,0′一ジメチルーホスホノ基または0,0′
ージェチルーホスホノ基、0ーフェニル低級ァルキル−
ホスホノ基は例えば0ーベンジルーホスホノ基そして○
−低級アルキル−○′−フェニル低級アルキルーホスホ
ノ基は例えば0ーベンジルー○′−メチルーホスホノ基
である。
低級アルケニルオキシカルボニル基は例えばビニルオキ
シカルボニノレ基であって、シクロアルコキシカルボニ
ル基およびフェニルー低級アルコキシカルボニル基は例
えばアダマンチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、4ーメトキシベンジルオキシカルボニル
基、ジフェニルメトキシカルボニル基またはQ−4ーピ
フェニリルーQーメチルェトキシカルボニル基である。
その低級アルキル基が例えば単環式のモノアザ環式、モ
ノオキサ環式またはモノチア環式基をもっているような
低級アルコキシカルポニル基は例えばフルフリルオキシ
カルボニル基のようなフリル−低級アルコキシカルポニ
ル基または2ーテニルオキシカルボニル基のようなチェ
ニルー低級アルコキシカルボニル基である。2一低級ア
ルキルヒドラジノ基および2,2−ジ低級アルキルヒド
ラジノ基は例えば2ーメチルヒドラジノ基または2,2
ージメチルヒドラジノ基であり、2一低級アルコキシカ
ルボニルヒドラジノ基は例えば2ーメトキシカルボニル
ヒドラジノ基、2ーェトキシカルボニルヒドラジ/基ま
たはt−ブートキシカルボニルヒドラジノ基であって、
低級アルカノィルヒドラジノ基は例えば2ーアセチルヒ
ドラジノ基である。
アシル基Acは殊に6−アミノーベナムー3−カルボン
酸化合物または7ーアミノー3−セフェム−4−カルボ
ン酸化合物の天然に生成されるかまたは生合成、半合成
または全合成により製造できる好ましくは薬理活性なN
−アシル誘導体に含まれる炭素原子の数が好ましくは1
8個までの有機カルボン酸のアシル基、または容易に分
裂できるアシル基殊に炭酸半誘導体のアシル基である。
6−アミノーベナムー3ーカルボン酸化合物または7−
アミノ−3−セフェムー4−カルボン酸化合物の薬理活
性なNーアシル誘導体に含まれるアシル基Acというの
は、主として式〔この式でnは0でありそしてRIは水
素原子または置換されている場合のある脂環式または芳
香族炭化水素基、置換されている場合にあるそして好ま
しくは芳香族性をもつ複素環式基、官能的に変形例えば
ェステル化またはエーテル化されている水酸基またはメ
ルカプト基あるいは置換されている場合のあるアミノ基
であるか、またはnは1であり、RIは水素原子または
置換されている場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族.芳香族または芳香脂肪族の炭化水素基、その榎素環
式基が好ましくは芳香族性をもちそして(または)第4
級窒素原子をもっている置換されている場合のある複素
環式基または複素環−脂肪族基、官能的に変形(好まし
くはエーテル化またはェステル化)されている場合のあ
る水酸基またはメルカプト基、官能的に変形されている
場合のあるカルポキシル基、ァシル基、置換されている
場合のあるアミノ基またはアチド基でありそして基RO
とRmとがいずれも水素原子であるか、またはnは1で
あり、RIは置換されている場合のある脂肪族、脂環式
、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素基
またはその複秦環式基が好ましくは芳香族性を有する置
換されている場合のある複秦環式または複素環−脂肪族
基であり、RO‘ま官能的に変形例ればェステル化また
はエーテル化されている場合のある水酸基またはメルカ
プト基、例えばハロゲン原子、置換されている場合のあ
るアミノ基、官能的に変形されている場合のあるカルボ
キシル基またはスルホ基、0ーモノ置換または0,0′
ージ置換されている場合のあるホスホノ基またはアチド
基でありそしてRmは水素原子であるか、またはnは1
であり、基RIとRDとがそれぞれ官能的に変形(好ま
しくはヱーナル化またはェステル化)された水酸基また
は官能的に変形されている場合のあるカルボキシル基で
ありそしてRmは水素原子であるか、またはnは1であ
り、RIは水素原子または置換されている場合のある脂
肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族
の炭化水素基でありそしてROとRmとはその両方で置
換されている場合のあるそして2重結合によって式中の
炭素原子と結合している脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族
または芳香脂肪族の炭化水素基であるか、またはn‘ま
1であり、RIは置換されている場合のある脂肪族、脂
環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化水
素基またはその複素環式基が好ましくは芳香族性を有す
る置換されている場合のある複素環式または複素環−脂
肪族基であり、Rmま置換されている場合のある脂肪族
、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭
化水素基でありそしてRmは水素原子または置換されて
いる場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族
または芳香脂肪族の炭化水素基である〕ぜ表わされる基
である。
前記の式Aのアシル基においては、例えばnは0であり
そしてRIは水素原子または環炭素原子5〜7個をもつ
シクロアルキル基〔これは場合によってはアミノ基、ア
シルアミノ基(そのアシル基は主に低級アルコキシカル
ボニル基、2ーハロゲノ低級アルコキシカルボニル基ま
たはフェニル低級アルコキシカルボニル基のような炭酸
半ェステルのアシル基とする)またはスルホアミノ基(
これはアルカリ金属塩のような塩の形であることもでき
る)のような保護されている場合のあるアミノ基によっ
て好ましくは1一位置で置換されていることができる〕
、置換されている場合のあるフェニル基、ナフチル基ま
たはテトラヒドロナフチル基〔これらは場合によっては
好ましくは水酸基、メトキシ基のような低級ァルコキシ
基、アシルオキシ基(そのアシル基は主として低級アル
コキシカルボニル基、2ーハロゲノ低級アルコキシカル
ポニル基またはフェニル低級アルコキシカルボニル基の
ような炭酸半ェステルのアシル基とするる)および(ま
たは)塩素原子のようなハロゲン原子によって置換され
ていることができる〕、置換されている場合のある複素
環式基〔これは例えばメチル基のような低級アルキル基
によってそして(または)置換基例えば塩素原子のよう
なハロゲン原子をそれ自体もつていることのできるフェ
ニル基によって置換されていることができる〕例えば4
ーィソオキサゾリル基またはアミノ基(このァミノ基は
例えば置換基例えば塩素原子のようなハロゲン原子をも
っていることのできる低級アルキル基によってN一層摸
されているのが好ましい)であるか、またはnは1であ
り、RIは低級アルキル基〔これは場合によっては好ま
しくは塩素原子のようなハ。
ゲン原子によって、または置換基例えば水酸基、アシル
オキシ基(そのアシル基は前記の意味をもつ)および(
または)塩素原子のようなハロゲン原子をもっているこ
とのできるフヱニルオキシ基によって、または保護され
ていることのできるアミノ基および(または)カルボキ
シル基によって置換されていることができる〕、例えば
保護されている場合のあるァミノ基および(または)カ
ルボキシル基〔例えば、シリル化例えばトリメチルシリ
ル化のようなトリ低級アルキルシリル化されたアミノ基
またはアシルアミノ基例えば低級アルカノィルアミ/基
、ハ。ゲノ低級アルカノイルアミノ基またはフタロィル
アミノ基および(または)シリル化例えばトリメチルシ
リル化のようなトリ低級アルキルシリル化されているか
またはェステル化例えば低級アルキル基、2ーハロゲ/
低級アルキル基またはジフェニルメチル基のようなフェ
ニル低級アルキル基でェステル化されたカルボキシル基
〕をもつ4ーアミノー4ーカルボキシープチル基、低級
アルケニル基、フェニル基〔これは場合によっては置換
基例えば上記のようにアシル化されていることのできる
水酸基および(または)塩素原子のようなハロゲン原子
によって、さらに保護例えば上記のようにアシル化され
ていることのできるアミノメチル基のようにアシル化さ
れていることのできるアミノメチル基のようなアミノ低
級アルキル基によって、または例えば上記のようにアシ
ル化されていることのできる水酸基および(または)塩
素原子のようなハロゲン原子をもっていることのできる
フェニルオキシ基によって置換されていることができる
〕、置換基例えばメチル基のような低級アルキル基によ
ってまたは保護(例えば、上記のようにアシル化)され
ていることのできるァミノ基またはアミノメチル基によ
って置換されていることのできるピリジル基例えば4ー
ピリジル基、ピリジニウム基例えば4−ピリジニウム基
、チェニル基例えば5ーチェニル基、フリル基例えば2
ーフリル基、ィミダゾリル基例えば1−イミダゾリル基
またはテトラゾ1」ル基例えば1ーテトラゾリル基、置
換されている場合のある低級アルコキシ基例えばメトキ
シ基、フヱニルキシ基〔これは置換基、例えば保護例え
ば上記のようにアシル化されていることのできる水酸基
および(または)塩素原子のようなハロゲン原子によっ
て置換されていることができる〕、低級ァルキルチオ基
例えばn−プチルチオ基または低級アルケニルチオ基例
えばアリルチオ基、置換基例えばメチル基のような低級
ァルキル基で置換されていることのできるフェニルチオ
基、4ーピリジルチオ基のようなピリジルチオ基、2ー
ィミダゾリルチオ基、1,2,4−トリアゾール−3−
ィルチオ基、1,3,4ートリアゾール−2−ィルチオ
基、1,2,4ーチアジアゾール−3ーイルチオ基例え
ば5−メチル−1,2,4−チアジアゾールー3ーィル
チオ基、1,3,4ーチアジアゾール−2−ィルチオ基
例えば5−メチル−1,3,4ーチアジアゾールー2−
ィルチオ基または5ーテトラゾリルチオ基例えば1−メ
チル−5ーテトラゾリルチオ基、ハロゲン原子特に塩素
または臭素原子、官能的に変えられている場合のあるカ
ルボキシル基例えばメトーキシカルボニル基やェトキシ
カルボニル基のような低級アルコキシカルボニル基、シ
アノ基またはN−置換例えばメチル基のような低級アル
キル基またはフェニル基でN一置換されている場合のあ
るカルバモィル基、置換されている場合のある低級アル
カノィル基例えばアセチル基またはプロピオニル基、ベ
ンゾィル基またはアチド基でありそてROとRmとは水
素原子であるか、あるいはnは1であり、RIは低級ア
ルキル基、または場合によっては例えば上記のようにア
シル化されていることのできる水酸基および(または)
塩素原子のようなハロゲン原子で置換されていることの
できるフェニル基、2ーフリル基のようなフリル基、2
一または3−フェニル基のようなチェニル基または4ー
ィソチアゾリル基のようなィソチアゾリル基、さらにま
た1,4−シクロヘキサジェニル基であり、RO‘ま保
護または置換されている場合のあるアミノ基例えばアミ
ノ基、アシルアミノ基例えば低級アルコキシカルポニル
アミノ基、2−ハロゲ/低級アルコキシカルボニルアミ
/基または鷹換基例えばメトキシ基のような低級アルコ
キシ基またはニトロ基をもっていることのできるフェニ
ル低級アルコキシカルボニルアミノ基、例えばt−ブト
キシカルボニルアミノ基、2,2,2ートリクロルェト
キシカルボニルアミノ基、4ーメトキシベンジルオキシ
カルボニルアミノ基またはジフェニルメチルオキシカル
ボニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基例えば4
−メチルフェニルスルホニルアミノ基、トリチルアミノ
基、アリールチオアミノ基例えば2−ニトロフェニルチ
オアミノ基のようなニトロフェニルチオアミノ基または
トリチルチオアミノ基、または置換基例えばェトキシカ
ルポニル基のような低級アルコキシカルボニル基やアセ
チル基のような低級アルカノィル基をもっていることの
できる2−プロピIJデンアミノ基例えば2−エトキシ
カルボニルー2ープロピリデンアミノ基、またはグアニ
ジノカルボニルアミノ基のような置換されている場合の
あるカルバモイルアミ/基、またはアルカリ金属塩のよ
うな塩の形であることのできるスルホアミノ基、アチド
基、アルカリ金属塩のような塩の形またはェステル化さ
れた形のような保護された形にあることのできるカルボ
キシル基(例えば、メトキシカルボニル基やェトキシカ
ルボニル基のような低級アルコキシカルボニル基として
またはジフェニルメトキシカルボニル基のようなフェニ
ルオキシカルボニル基としてあることができる)、シア
ノ基、スルホ基、官能的に変えられていることのできる
水酸基〔官能的に変えらた水酸基は殊にホルミルオキシ
基のようなアシルオキシ基ならびに低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、2ーハロゲノ低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基または置換基、(例えば、メトキシ基のよう
な低級アルコキシ基またはニトロ基)をもっている場合
のあるフヱニル低級アルコキシカルポニルオキシ基、例
えばtーブトキシカルボニルオキシ基、2,2,2ート
リクロルェトキシカルボニルオキシ基、4ーメトキシベ
ンゾルオキシカルボニルオキシ基またはジフヱニルメト
キシカルボニルオキシ基、または置換されている場合の
ある低級アルコキシ基例えばメトキシ基またはフェニル
オキシ基である〕、0一低級アルキルーまたは0,0′
−ジ低級アルキルーホスホノ基例えば0ーメチルホスホ
ノ基または0,0′−ジメチルホスホノ基、またはハロ
ゲン原子例えば塩素または臭素原子でありそしてRmは
水素原子であるか、またはnは1であり、RIとRmと
はそれぞれハロゲン原子例えば臭素原子または低級アル
コキシカルポニル基例えばメトキシカルポニル基であり
そしてRmは水素原子であるか、またはnは1であり、
RIは場合によっては例えば上記のようにアシル化され
ていることのできる水酸基および(または)塩素原子の
ようなハロゲン原子によって置換されていることのでき
るフェニル基、2−フリル基のようなフリル基、2−ま
たは3ーチェニル基のようなチェニル基または4ーィソ
チアゾリル基のようなィソチアゾ1」ル基、さらにまた
1,4一シクロヘキサジェニル基であり、RO‘ま場合
によっては例えば上記のように保護されたアミノメチル
基でありそしてRm‘ま水素原子であるか、またはnは
1でありそしてRIとRロとRmとがいずれも低級アル
キル基例えばメチル基である。このようなアシル基Ac
は例えばホルミル基、シクロベンチルカルボニル基、Q
ーアミノシクロベンチルカルボニル基またはQ−アミノ
シクロヘキシルカルボニル基〔これは置換されている場
合のあるアミノ基、例えば塩の形であることのできるス
ルホアミノ基、または例えばトリフルオル酢酸のような
酸性剤でまたは例えば含水酢酸の存在下での亜鉛のよう
な化学的還元剤または接触された水素で還元的に処理す
るかまたは加水分解によって好ましくは容易に分裂する
とのできるアシル基またはこのようなアシル基に変える
ことのできるアシル基で置換されたアミノ基(好ましく
は炭酸半ェステルの適当なアシル基例えばtーブトキシ
カルボニル基のような低級アルコキシカルボニル基、2
,2,2ートリクロルェトキシカルポニル基、2ーブロ
ムェトキシカルボニル基または2−ヨードェトキシカル
ボニル基のような2−ハロゲ/低級アルコキシカルボニ
ル基、フヱナシルオキシカルボニル基のようなアリール
カルボニルメトキシカルボニル基、置換基例えばメトキ
シ基のような低級アルコキシ基またはニトロ基をもって
いることのできるフェニル低級アルコキシカルボニル基
例えば4ーメトキシベンジルオキシカルボニル基、また
はジフェニルメトキシカルボニル基、または炭酸半アミ
ドの適当なアシル基例えばカルバモィル基またはN一層
検されたカルバモィル基例えばNーメチルカルバモイル
基のようなN−低級アルキルカルバモィル基によって、
さらにまた2−ニトロフェニルチオ基のようなアリール
チオ基、4−メチルフェニルスルホニル基のようなアリ
ールスルホニル基または1ーェトキシカルボニル−2−
プロピリデン基のような1−低級アルコキシカルボニル
−2ーブロピリデン基によって置換されたアミ/基)を
もっている〕、2,6−ジメトキシベンゾィル基、5,
6,7,8−テトラヒドロナフトィル基、2ーメトキシ
−1ーナフトィル基、2ーェトキシ−1ーナフトィル基
、ペンジルオキシカルボニル基、ヘキサヒドロベンジル
オキシカルボニル基、5−メチルーーフェニルー4−イ
ソオキサゾリルーカルボニル基、3−(2ークロルフエ
ニル)−5−チルー4−イソオキサゾリルカルボニル基
、3−(2,6ージクロルフエニル)一5ーメチル−4
ーイソオキサゾリルカルボニル基、2ークロルェチルア
ミノカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ピバロィル基、ヘキサノィル基、オクタノィル
基、アクリリル基、クロトノイル基、3ーブテノィル基
、2ーベンテノイルル基、メトキシアセチル基、メチル
チオアセチル基、ブチルチオアセチル基、アリルチオア
セチル基、クロルアセチル基、ブロムアセチル基、ジブ
ロムアセチル基、3−クロルプロピオニル基、3−ブロ
ムプロピオニル基、アミノアセチル基または5ーアミノ
ー5一カルボキシーバレリル基〔これらは例えば上記の
ように例えば1〜2個のアシル基例えばアセチル基やジ
クロルアセチル基のようなハロゲン化されている場合の
ある低級アルカノィル基またはフタロィル基によって置
換されていることのできるアミノ基および(または)官
能的に例えばナトリウム塩のような塩の形またはェステ
ル例えばメチルェステルやエチルェステルのような低級
アルキルエステルまたはジフエニルメチルエステルのよ
うなアリール低級アルキルェステルの形に変えられてい
ることのできるカルボキシル基をもっている〕、アチド
アセチル基、カルボキシアセチル基、メトキシカルボニ
ルアセチル基、ェトキシカルボニルアセチル基、ピスー
メトキシカルボニルアセチル基、Nーフェニルカルバモ
ィルアセチル基、シアノアセチル基、Q−シアノプロピ
オニル基、2−シアノ−3,3ージメチルアクリリル基
、フェニルアセチル基、Q−プロムフェニルアセチル基
、Qーアチドフェニルアセチル基、3ークロルフェニル
アセチル基、2−または4−アミノメチルフェニルアセ
チル基(これは例えば前記のように置換されている場合
のあるァミ/基をもつ)、フェナシルカルポニル基、フ
ェニルオキシアセチル基、4ートリフルオルメチルフェ
ニルオキシアセチル基、ペンジルオキシアセチル基、フ
ェニルチオアセチル基、ブロムフェニルチオアセチル基
、2ーフェニルオキシプロピオニル基、Qーフェニルオ
キシフェニルアセチル基、Qーメトキシフェニルアセチ
ル基、Q−ェトキシフェニルアセチル基、Q−メトキシ
ー3,4−ジクロルフェニルアセチル基、Q−シアノフ
ヱニルアセチル基、殊にフェニルグリシル基、4−ヒド
ロキシフェニルグリシル基、3ークロルー4−ヒドロキ
シフェニルグリシル基、3,5−ジクロル−4−ヒドロ
キシフェニルグリシル基、Q−アミノ−Q−(1,4一
シクロヘキサジエニル)ーアセチル基、Qーアミノメチ
ルーQフェニルアセチル基またはQーヒドロキシフェニ
ルアセチル基〔これらの基において、存在するアミノ基
は例えば上記のように置換されていることもできるもの
としそして(または)存在する脂肪族水酸基および(ま
たは)フェノール性水酸基はアミノ基と同様に例えば適
当なアシル基殊にホルミル基または炭酸半ェステルのア
シル基で保護されていることもできる〕、またはQ−○
−メチルーホスホノーフエニルアセチル基またはQ−○
,0′一ジメチルーホスホノーフェニルアセチル基、さ
らにペンジルチオアセチル基、ベンジルチオプロピオニ
ル基、Qーカルボキシフヱニルアセチル基(これは場合
によっては例えば上記のように官能的に変えられたカル
ボキシル基をもつことができる)、3−フェニルプロピ
オニル基、3−(3−シアノフェニ・ル)ープロピオニ
ル基、4一(3−メトキシフェニル)ーブチリル基、2
−ピリジルアセチル基、4ーアミノピリジニウムアセチ
ル基(これは場合によっては例えば前記のように置換さ
れたアミノ基をもつことができる)、2ーチェニルアセ
チル基、3−チェニルアセチル基、2−テトラヒドロチ
ェニルアセチル基、2ーフリルアセチル基、1−ィミダ
ゾリルアセチル基、1−テトラゾリルアセチル基、Qー
カルボキシー2−チェニルアセチル基またははQ−カル
ボキシ−3ーチェニルアセチル基(これらは場合によっ
ては例えば上記のように官能的に変えられたカルボキシ
ル基をもつことができる)、Qーシアノー2−チエニル
アセチル基、Q−アミノーQ−(2−チェニル)ーアセ
チル基、Q−アミノーQ−(2−フリル)−アセチル基
またはQ−アミノーQ−(4−イソチアゾリル)−アセ
チル基(これらは場合によっては例えば上記のように置
換されたアミノ基をもつことができる)、Qースルホフ
ェニルアセチル基(そのスルホ基は場合によっては例え
ば前記カルボキシル基ように官能的に変えられたスルホ
基であるとができる)、5ーメチル−1,2,4ーチア
ジアゾール−3ーィルチオアセチル基、5ーメチル−1
,3,4−チアジアゾールー2−イルチオアセチル基ま
たは1ーメチルー5−テトラゾリルチオァセチル基であ
る。
容易に分裂できる特に炭酸半ェステルのアシル基Acは
とりわけ還元例えば化学的還元剤で処理することにより
または酸処理例えばトリフルオル酢酸で処理することに
より分裂することのできる炭酸半ェステルのアシル基、
例えばその酸素原子に対するQ−位置の炭素原子におい
て高度に分枝しているそして(または)芳香族的に置換
されている低級アルコキシカルボニル基、またはアリ−
ルカルボニル基殊にペンゾィル基で置換されたメトキシ
カルボニル基、または8−位置でハロゲン置換された低
級アルコキシカルボニル基、例えばt−ブトキシカルボ
ニル基、t−ベントキシカルボニル基、フェナシルオキ
シカルポニル基、2,2,2−トリクロルェトキシカル
ボニル基または2ーョードェトキシカルボニル基あるい
は2−ョ一ドェトキシカルボニル基に変えることのでき
る2−クロルェトキシカルボニル基または2ーフロムェ
トキシカルポニル基のような基および好ましくは多還式
のシクロアルコキシカルボニル基例えばアダマンチルオ
キシカルボニル基、置換されている場合のあるフェニル
ー低級アルコキシカルボニル基、とりわけQーフェニル
−低級アルコキシカルポニル基(そのQ−位置は数個の
置換基をもっているのが好ましい)、例えばジフェニル
メトキシカルボニ基またはば−4ービフェニリルーは−
メチルェトキシカルボニル基、・またはフリル−低級ア
ルコキシカルポニル基とりわけQーフリル−低級アルコ
キシカルポニル基例えばフルフリルオキシカルポニル基
である。
基R;とR;とで形成されている2価のアシル基は例え
ば低級アルカンジカルボン酸また低級アルケンジカルボ
ン酸のアシル基、例えばサクシニル基、またはフタロィ
ル基のような○−アリーレンジカルボン酸のアシル基で
ある。
また、基RfとR字とで形成されている他の2価の基は
例えば、特に2一位置に置換基例えば置換されている場
合のあるフェニル基またはチェニル基をもちそして場合
によっては4一位置でメチル基のような低級アルキル基
でモノ置換またはジ置換されていることのできる1−オ
キソー3−アザー1,4ーブチレン基、例えば4,4ー
ジメチルー2−フエニルー1ーオキソー3ーアザ−1,
4ーブチレン基である。
エーテル化された水酸基R挙は、式中のカルボニル基と
いつしよに、好ましくは容易に分裂できるかまたは他の
官能的に変えらたカルボキシル基(例えば、カルバモイ
ル基またはヒドラジノカルボニル基)に容易に変えるこ
とのできるヱステル化されたカルボキシル基を形成して
いる。
このような基R会は例えばメトキシ基、ェトキシ基、n
−プロポキシ基またはィソプロポキシ基のような低級ア
ルコキシ基であって、これらはカルボニル基といつしよ
にェステル化されたカルボキシル基を形成しており、こ
れらを殊に2−セフェム化合物においては容易に遊離カ
ルボキシル基にまたは他の官能的に変えられたカルボキ
シル基に変えることができる。基−C(=○)一といつ
しよに特に容易に分裂することのできるェステル化され
たカルボキシル基を形成しているエーテル化された水酸
基R挙は、例えば、ハロゲン原子として原子量が19以
上のものをもっている2−ハロゲノー低級アルコキシ基
である。
このような基は基−C(=○)−といつしよに、中性ま
たは弱酸性条件下で化学的還元剤例えば含水酢酸の存在
下で亜鉛で処理することにより容易に分裂することので
きるエステル化されたカルボキシル基またはこのような
基に容易に変えることのできるェステル化されたカルポ
キシル基を形成している。このような基は例えば2,2
,2ートリクロルェトキシ基または2ーョードヱトキシ
基、あるいは2−ヨードェトキシ基に容易に変えること
のできる2ークロルェトキシ基または2ーブロムェトキ
シ基である。さらに、同様に中性または弱酸性条件下で
化学的還元剤例えば含水酢酸の存在下で亜鉛で処理する
ことによってまたはナトリウムチオフエノラートのよう
な適当な親核反応剤で処理することによって容易に分裂
することのできるェステル化されたカルボキシル基を基
−C(=○)−といつしよに形成しているエーテル化さ
れた水酸基R台としては、アリールカルボニルメトキシ
基(アリールは殊に置換されている場合のあるフェニル
基である)そして好ましくはフェナシルオキシ基である
,さらに、基R多‘ま、そのアリール基が殊に単環式の
好ましくは置換されている芳香族炭化水素基であるアリ
ールメトキシ基であることもできる。このような基は、
中性または酸性条件下で照射好ましくは紫外線照射によ
って容易に分裂することのできるェステル化されたカル
ポキシル基を基−C(=0)といつしよに形成している
。このようなアリールメトキシ基におけるアリール基は
殊に低級アルコキシフェニル基例えばメトキシフェニル
基〔そのメトキシ基は主として3一、4一および(また
は5−位置にあるものとする〕および(または)とりわ
けニトロフェニル基(そのニトロ基は好ましくは2一位
置にあるものとする)である。このような基は特に低級
アルコキシー、例えばメトキシーおよび(または)ニト
ロ−ペンジルオキシ基、主として3一または4ーメトキ
シベンジルオキシ基、3,5ージメトキシベンジルオキ
シ基、2−ニトロベンジルオキシ基または4,5ージメ
トキシー2一ニトロベンジルオキシ基である。さらに、
エーテル化された水酸基R会は、酸性条件下で例えばト
リフルオル酢酸またはぎ酸で処理することにより容易に
分裂できるェステル化されたカルボキシル基を基−C(
=○)−といつしよに形成している基であることもでき
る。
このような基は主として、そのメチル基が置換されてい
る場合のある炭化水素基殊に脂肪族または芳香族炭化水
素基例えばメチル基のような低級アルキル基および(ま
たは)フェニル基によってポリ置換されているかまたは
電子供与性置換基をもつ炭素環式アリール基によってま
たは環横成員として酸素またはいおう原子をもつ脂肪族
性の複索環式基によってモノ置換されているメトキシ基
であるかまたはそのメチル基が多環式脂肪族炭化水素基
における現構成員またはオキサ脂環式またはチア脂環式
基にける酸素またはいおう原子に対するQ−位置を占め
る環構成員を成しているようなメトキシ基である。この
種類のポリ置換されたメトキシ基のうちで好ましいもの
はt−低級アルコキシ基例えばt−ブチルオキシ基また
はtーベンチルオキシ基、置換されている場合のあるジ
フェニルメトキシ基、例えばジフェニルメトキシ基また
は4,4′ージメトキシージフェニルメトキシ基、さら
に2一(4−ビフェニリル)−2−プロピルオキシ基で
あり、上記の置換されたァリール基または複秦環式基を
もつメトキシ基は例えば4−〆トキシベンジルオキシ基
や3,4ージメトキシベンジルオキシ基のようなQ−低
級アルコキシフェニルー低級アルコキシ基または2−フ
ルフリルオキシ基のようなフルフリルオキシ基である。
メトキシ基のメチル基を好ましくは3重に分枝した環構
成員としてもっている多環式脂肪族炭化水素基は例えば
1−アダマンチル基のようなアダマンチル基であり、そ
してメトキシ基のメチル基を酸素またはいおう原子に対
するQ−位置の環構成員としてもっている上記のオキサ
−またはチアー脂環式基は例えば環原子5〜7個をもつ
2−オキサ−または2チアー低級アルキレン基または一
低級アルケニレン基、例えば2−テトラヒドロフリル基
、2一テトラヒドロピラニル基または2,3ージヒドロ
ー2ーピラニル基または相当するいおう化合物の基であ
る。さらに、基R多1ま加水分解によって例えば弱塩基
性または弱酸性条件下で分裂することのできるェステル
化されたカルボキシル基を基一C(=○)−といつしよ
に形成しているェ−テル化された水酸基であることもで
きる。
このような基は好ましくは活性化されたェステル基を基
−C(=○)−といつしよに形成しているエーテル化さ
れた水酸基例えば4一ニトロフェニルオキシ基や2,4
−ジニトロフェニルオキシ基のようなニトロフェニルオ
キシ基、4−ニトロベンジルオキシ基のようなニトロフ
ェニル低級アルコキシ基、4ーヒドロキシ−3,5一t
ーブチル−ペンジルオキシ基のようなヒドロキシ−低級
アルキル−ペンジルオキシ基、2,4,6ートリクロル
フェニルオキシ基や2,3,4,5,6−ペンタクロル
フェニルオキシ基のようなポリハロゲノフェニルオキシ
基、さらにシア/メトキシ基ならびにアシルアミノメト
キシ基例えばフタルィミノメトキシ基またはサクシニル
ィミノメトキシ基である。また、基R会‘ま水素添加分
解条件の下で分裂できるェステル化されたカルボキシル
基一C(:○)−といつしよに形成しているエーテル化
された水酸基であることもでき、これは例えばペンジル
オキシ基、4−〆トキシベンジルオキシ基または4−ニ
トロベンジルオキシ基のような例えば低級ァルコキシ基
やニトロ基で置換されているとのできるQ−フェニル低
級アルコキシ基である。また、基R針ま生理学的条件の
下で分裂することのできるェステル化されたカルボキシ
ル基−C(=○)−といつしよに形成しているエーテル
化された水酸基、主としてアシルオキシメトキシ基(そ
のアシル基は例えば有機カルボン酸、主に置換されてい
る場合のある低級アルカンカルボン酸の基であるかまた
はそのアシルオキシメチル部分はラクトンの基を形成し
ているものとする)であることもできる。このようなエ
ーテル化された水酸基は低級アルカノィルオキシメトキ
シ基例えばアセチルオキシメトキシ基またはピバロイル
オキシメトキシ基くアミノー低級アルカノイルオキシメ
トキシ基殊にQ−アミノー低級アルカノィルオキシメト
キシ基例えばグリシルオキシメトキシ基、L−バリルオ
キシメトキシ基、L−ロィシルオキシメトキシ基、さら
にフタリジルオキシ基である。シリルオキシ基またはス
タニルオキシ基としてのR釘ま置換基として好ましくは
置換されている場合のある脂肪族、脂環式、芳香族また
は芳香脂肪族炭化水素基例えば低級アルキル基、ハロゲ
ノ低級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基また
はフェニル低級アルキル基、または変えられている場合
のある官能性基例えば低級アルコキシ基のようなエーテ
ル化された水酸基または塩素原子のようなハロゲン原子
をもっており、主としてトリメチルシリルオキシ基のよ
うなトリ低級アルキルオキシ基、クロルーメトキシーメ
チルーシリル基のようなハロゲノー低級アルコキシ−低
級アルキルーシリル基またはトリ−n−ブチルスタニル
オキシ基のようなトリ低級アルキルスタニルオキシ基で
ある。
基−C(=○)−といつしよに好ましくは加水分解によ
って分裂することのできる混合無水物基を形成している
アシルオキシ基としてのR8は例えば前有機カルポン酸
たは炭酸半誘導体のアシル基をもっており、例えば場合
によってはふつ素や塩素原子のようなハロゲン原子によ
って好ましくはQ−位置で置換されていることのできる
低級アルカノィルオキシ基例えばアセチルオキシ基、ピ
バリルオキシ基またはトリクロルアセチルオキシ基ある
いは低級アルコキシカルボニルオキシ基例えばメトキシ
カルボニルオキシ基またはェトキシカルボニルオキシ基
である。
さらに、置換されている場合のあるカルバモイル基また
はヒドラジノカルボニル基を基−C(=○)−といつし
よに形成している基としてのR多は例えばアミノ基、メ
チルアミノ基やエチルアミノ基のような低級アルキルア
ミノ基、ジメチルアミノ基やジェチルアミ/基のような
ジ低級アルキルアミノ基、ピロリジノ基やピべリジ/基
のような低級アルキレンアミノ基、モルホリノ基のよう
なオキサ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシアミノ基
、ヒドラジノ基、2ーメチルヒドラジノ基のような2−
低級アルキルヒドラジノ基または2,2−ジメチルヒド
ラジノ基のような2,2−ジ低級アルキルヒドラジノ基
である。
脂肪族カルボン酸のアシル基としてのR3は主として置
換されている場合のある低級ァルカノィル基例えばアセ
チル基、プロピオニル基またはプバロィル基であって、
これらは例えばェステル化またはエーテル化された水酸
基例えばふっ素や塩素原子のようなハロゲン原子または
メトキシ基やェトキシ基のような低級アルコキシ基によ
って置換されてることができる。
芳香族カルボン酸のアシル基としてのR3は例えば置換
されている場合のあるペンゾイル基、例えばペンゾイル
基または置換基としてェステル化またはェ−テル化され
た水酸基例えばふつ黍または塩素原子のようなハロゲン
原子、メトキシ基やェトキシ基のような低級アルコキシ
基またはメチル基のような低級アルキル基をもつペンゾ
ィル基である。炭酸半誘導体のアシル基としてのR3は
殊にメトキシカルボニル基やェトキシカルボニル基のよ
うな低級アルコキシカルボニル基である。塩は、殊に酸
性基例えばカルボキシル基、スルホ基たはホスホノ基を
もつ式(1)の化合物の塩であって、主として金属塩ま
たはアンモニウム塩、例えばナトリウム、カリウム、マ
グネシウムまたはカルシウムの塩のようなアルカリ金属
またはアルカリ士類金属の塩、ならびにアンモニアまた
は適当な有機アミンとのアンモニウム塩である。
塩の形成に使用できる有機アミンはとりわけ脂肪族、脂
環式、脂環−脂肪族および芳香脂肪族の第1、第2また
は第3モノアミン、ジアミンまたはポリアミンならびに
複素環式塩基であって、このようなアミンはトリェチル
アミンのような低級アルキルアミン、2−ヒドロキシェ
チルアミン、ビスー(2ーヒドロキシエチル)−アミン
またはトリ−(2ーヒドロキシエチル)−アミンのよう
なヒドロキシ−低級アルキルアミン、4−アミノ.安息
香酸−2−ジェチルアミノーェチルェステルのようなカ
ルボン酸の塩基性脂肪族ェステル、1−エチルピベリジ
ンのような低級アルキレンアミン、ビシクロヘキシルア
ミンのようなシクロアルキルアミンまたはN,N′−ジ
ベンジルエチレンジアミンのようなペンジルアミンおよ
びまたピリジン、コリジンまたはキノリンのようなピリ
ジン型の塩である。また、塩基性基をもつ式(1)の化
合物は酸付加塩例えば塩酸、硫酸またはりん酸のような
無機酸または適当な有機カルボン酸またはスルホン酸例
えばトリフルオル酢酸または4−メチルフェニルスルホ
ン酸との酸付加塩を形成することができる。酸性基と塩
基性基とを有する式(1)の化合物は分子内塩の形すな
わちッビッターィオンの形であることもできる。本発明
による新化合物は薬理的に価値ある性質を示しまたこの
ような性質をもつ化合物の製造用中間体として使用でき
る。式(1)において例えばR;が68−アミノーベナ
ムー3ーカルボン酸化合物または70−アミノ−3−セ
フヱム−4−カルボン酸化合物の薬理活性なN−アシル
譲導体に存在するアシル基AcでありそしてR;が水素
原子であるかまたはRでとR;とがその両方で2−位置
において好ましくは例えば芳香族基または榎素環式基に
よってそして4一位置において好ましくは例えばメチル
基のような低級アルキル基2個によって置換されている
1−オキソー3−ァザー1,4ーブチレン基を表わし、
R2が水酸基であるかまたは生理学的条件の下で容易に
分裂することのできるェステル化されたカルボキシル基
をカルボニル基といつしよに形成しているエーテル化さ
れた水酸基R8でありそしてR3が前に与えた意味をも
ちそしてアシル基としてのR弁中に存在する場合のある
官能性基例えばアミノ基、カルボキシル基、水酸基およ
び(または)スルホ基が通常遊離の形で存在するような
化合物または塩形成基をもつこのような化合物の塩は、
非経腸的および(または)経口的に投与する場合に、微
生物例えばグラム腸性菌例えばスタフィロコカス・オー
リウス(StaphyIMMusa肥u雌)、ストレプ
トコカス・ピロゲネス(Streptococc雌pM
o袋nes)およびデイプロコカス・プニユーモニエ(
Diplococc雌 pnemmoniae)(例え
ばウスでは約0.001〜0.0を/k9S.C.また
はP.0.の投与量で)およびグラム陰性菌例えばェシ
ェリチア・コリ(Escherichiacoli)、
サルモネラ・チフイムリウム(Salmonellat
yphimurium)、シゲルラ・フレクスネリGh
i袋11afle柳eri)、クレブシルラ・プニユモ
ニエ(K1ebsiellapnemmoniae)、
エンテロバクター・クロアカエ(Enにro舷cter
cloacae)、プロテウス‘ブルガリス(Prot
eusV山garis)、プロテウス・レツトゲリ(P
roteusrett袋ri)およびプロテウス・ミラ
ビリス(Proteusmirabilis)(例えば
マウスにおいて約0.001〜0.15g/k9S.C
.またはP.0.の投与量で)に対し、殊にペニシリン
抵抗性細菌にも、少し、毒性で有効である。
故に、これら新化合物を例えば抗生活性な製剤の形で相
当する感染の処置に使うことができる。式(1)におい
てR;が68−アミノーベナム−3ーカルボン酸化合物
または78−アミノ−3−セフェムー4ーカルボン酸化
合物の薬理活性なN−アシル誘導体に存在するアシル基
とは異なるアミノ保護基でありそしてR救ミ水素原子で
あるかまたはR;とR;とがその両方で2−位置におい
て好ましくは例えば芳香族基または榎素環式基によって
そして4一位置において好ましくは例えばメチル基のよ
うな低級アルキル基2個によって置換されている1−オ
キソー3ーアザー1,4−プチレン基とは異なる2価の
アミノ保護基でありそしてR2が水酸基であるか、また
はRぐとR字とが前記の意味をもちそしてR2が好まし
くは容易に分裂できる保護されたカルボキシル基を基−
C(=0)−といつしよに形成している基Rさ(その保
護されたカルボキシル基は生理学的に分裂できるカルボ
キシル基ではないものとする)であり、そしてR3が前
記の意味をもつような化合物は、例えば下記のように簡
単に上記の薬理活性な化合物に変えることのできる価値
ある中間体である。
本発明は殊に式(1)におけるR;が68ーアミノ−べ
ナムー3ーカルボン酸化合物または78−アミノ−3−
セフェム−4−カルボン酸化合物の醗酵的に(すなわち
、天然産の)または生合成、半合成さたは全合成により
製造できる殊に条理活性(例えば高度に活性)なNーア
シル誘導体中に存在するァシル基例えば前記式Aのアシ
ル基の1つ(この式でRIとRロとR皿とnとは主とし
て前に好ましいとして挙げた意味をもつ)でありそして
R;が水素原子であるかまたはRfとR;とが両方で2
−位置において好ましくは例えばフェニル基のよう芳香
族または複素環式基によってそして4一位置において好
ましくは例えばメチル基のような低級ァルキル基2個に
よって置換ごている1ーオキソ−3−アザ−1,4−ブ
チレン基であり、そしてR2は水酸基、低級アルコキシ
基〔これは場合によっては好ましくはQ−位置において
、例えば置換されている場合のあるアリールオキシ基例
えば4−〆トキシフェニルオキシ基のような低級アルコ
キシフェニルオキシ基、アセチルオキシ基やピバロイル
オキシ基のような低級アルカノィルオキシ基、グリシル
オキシ基、Lーバリルオキシ基またはL−ロィシルオキ
シ基のようなQーアミノ低級アルカノィルオキシ基、ア
リールカルボニル基例えばペンゾィル基、または置換さ
れている場合のあるアリール基例えばフェニル基、4ー
メトキシフェニル基のような低級アルコキシフェニル基
、4ーニトロフェニル基のようなニトロフェニル基また
は4−ビフヱニリル基のようなビフェニリル基によって
またはP−位置においてハロゲン原子例えば塩素、臭素
またはよう素原子によってモノ置換またはポリ置換され
ていることができる。例えばメトキシ基、ェトキシ基、
n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブ
チルオキシ基、tーブチルオキシ基またはt−ベンチル
オキシ基のような低級アルコキシ基、低級アルコキシ置
換されていることのできるビスーフェニルオキシーメト
キシ基例えばビスー4−メトキシフェニルオキシーメト
キシ基、低級アルカノィルオキシーメトキシ基例えばア
セチルオキシメトキシ基またはピバロィルオキシメトキ
シ基「 Q−アミノ低級アルカノィルオキシーメトキシ
基例えばグリシルオキシメトキシ基、フェナシルオキシ
基、置換されていることのできるフェニル低級アルコキ
シ基殊にフェニルメトキシ基のような1ーフェニル低級
ァルコキシ基(このような基は例えば置換基例えばメト
キシ基のような低級アルコキシ基、ニトロ茎またはフェ
ニル基によって置換されている場合のあるフェニル基1
〜3個をもつことができる)、例えばペンジルオキシ基
、4ーメトキシベンジルオキシ基、2−ビフェニリル−
2−プロピルオキシ基、4−ニトロベンジルオキシ基、
ジフェニルメトキシ基、4,4′−ジメトキシージフェ
ニルメトキシ基またはトリチルオキシ基、または2ーハ
ロゲノ低級アルコキシ基例えば2,2,2ートリクロル
ェトキシ基、2ークロルェトキシ基、2−ブロムェトキ
シ基または2ーョードェトキシ基である〕、さらに2ー
フタリジルオキシ基ならびにアシルオキシ基(例えば、
メトキシカルボニルオキシ基やェトキシカルボニルオキ
シ基のような低級アルコキシカルボニルオキシ基または
アセチルオキシ基やピバロィルオキシ基のような低級ア
ルカノィルオキシ基)、トリメチルシリルオキシ基のよ
うなトリ低級アルキルシリルオキシ基、またはアミノ基
またはヒドラジノ基(これらは場合によっては例えばメ
チル基のような低級アルキル基または水酸基によって置
換されていることができる。例えば、ァミノ基、メチル
アミノ基のような低級アルキルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基のようなジ低級アルキルアミノ基、ヒドラジノ基、
2−メチルヒドラジノ基のような2−低級ァルキルヒド
ラジノ基、2,2−ジメチルヒドラジノ基のような2,
2ージ低級アルキルヒドラジノ基またはヒド。キシアミ
ノ基である)であり、そしてR3が低級アルカノィル基
例えばアセチル基またはプロピオニル基、低級アルコキ
シカルボニル基例えばメトキシカルポニル基またはペン
ゾイル基(これは場合により例えばメチル基のような低
級アルキル基、メトキシ基のような低級アルコキシ基ま
たはふつ素や塩素原子のようなハロゲン原子で置換され
ていることができる)である3−セフェム−化合物また
は塩形成基をもつこのような化合物の塩に関するもので
ある。式(1)の3ーセフェムー化合物または塩形成基
をもつこれら化合物の塩において、主として、RNま6
8−アミノ−べナム−3ーカルボン酸化合物または78
ーアミノー3ーセフェムー4ーカルボン酸化合物の醗髪
菱(すなわち、天然産)によるまたは生合成的に製造で
きるN−アシル誘導体中に存在するアシル基殊に式風の
基(この式でR1,RD,R囚およびnは主として先に
好ましいと挙げた意味をもつ)、例えば水酸基で置換さ
れている場合のあるフェニルアセチル基またはフェニル
オキシアセチル基、さらに場合によっては例えば低級ア
ルキルチオ基または低級アルケニルチオ基、置換例えば
アシル化されている場合のあるァミノ基および(または
)官能的に変えられたカルボキシル基(例えば、ェステ
ル化されていることのできるカルポキシル基)によって
置換されていることのできる低級アルカノイル基または
低級アルケノィル基、例えば4ーヒドロキシーフヱニル
アセチル基、ヘキサノィル基、オクタノィル基またはn
−ブチルチオアセチル基および殊に5−アミノ−5−カ
ルボキシル−バレリル基〔そのアミノ基および(または
)カルポキシル基は場合によっては保護されており、例
えばアシルアミノ基またはェステル化されたカルボキシ
ル基として存在することができる〕、フェニルアセチル
基またはフェニルオキシアセチル基であるか、または6
3ーァミノーベナムー3ーカルボン酸化合物または78
−アミ/−3ーセフェムー4ーカルボン酸化合物の高活
性N−アシル誘導体中に存在するアシル基殊に式■の基
(この式でR1,R0,Rmおよびnは主に先に好まし
いと挙げた意味をもつ)、例えばホルミル基、2ークロ
ルェチルカルバモィル基のような2ーハロゲノェチルカ
ルバモィル基、シアノアセチル基、フェニルァセチル基
、2ーチェニルアセチル基のようなチェニルアセチル基
または1−テトラゾリルアセチル基のようなテトラゾリ
ル基、しかし特にQ−位置において脂環式、芳香族また
は複素環式基のような環式基主に単環式基によっておよ
び官能性基主にアミノ基、カルボキシル基、スルホ基ま
たは水酸基によって置換されたアセチル基、殊にフェニ
ルグリシル基〔この基におけるフェニル基は場合によっ
ては例えば保護されている場合のある水酸基例えばアシ
ルオキシ基例えばハロゲン置換されていることのできる
低級アルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカノ
ィルオキシ基によっておよび(または)ハロゲン原子例
えば塩素原子によって置換されていることのできるフェ
ニル基、例えばフェニル基、3一または4−ヒドロキシ
ー、3ークロル−4−ヒドロキシーまたは3,5ージク
ロルー4ーヒドロキシフェニル基(その水酸基は保護基
例えばアシル化された水酸基であこともできる)であり
、そしてアミノ基は場合によっては置換されていること
もできそして例えば塩の形であることもできるスルホア
ミ/基または置換されたアミノ基(例えば、置換基とし
て、加水分解により分裂できるトリチル基または主とし
てアシル基例えば置換されている場合のあるカルバモイ
ル基例えばゥレィドカルボニル基やN3−トリクロルメ
チルゥレィドカルポニル基のような置換されている場合
のあるウレイドカルボニル基、またはグアニジノカルボ
ニル基のような置換されている場合のあるグアニジノカ
ルボニル基、または例えばトリフルオル酢酸のような酸
でまたは含水酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元
剤または蟻鯛された水素で還元的に処理した場合にまた
は加水分解によって分裂することのできるアシル基また
はこのようなアシル基に変えることのできるアシル基、
好ましくは炭酸半ヱステルの適当なアシル基例えばハロ
ゲン置換またはペンゾィル置換されている場合のあるア
ルキルオキシカルボニル基例えばt−プチルオキシカル
ポニル基、2,2,2−トリクロルェチルオキシカルボ
ニル基、2ークロルェトキシカルボニル基、2−ブロム
ェトキシカルボニル基、2ーョードェトキシカルポニル
基、またはフェナシルオキシカルボニル基、低級アルコ
キシ置換またはニトロ置換されている場合のあるフェニ
ル低級アルコキシカルボニル基例えば4ーメトキシベン
ジルオキシカルボニル基またはジフェニルメトキシカル
ボニル基、またはカルバモィル基やN−メチルカルバモ
ィル基のような炭酸半ァミドのアシル基、さらにまたシ
アン化水素酸、亜硫酸またはチオ酢酸アミドのような親
核性剤によって分裂される(アリールチオ基またはアリ
ール低級アルキルチオ基例えば2ーニトロフェニルチオ
基またはトリチルチオ基、電解還元で分裂できるアリー
ルスルホニル基例えば4−メチルフェニルスルホニル基
、またはぎ酸または無機水溶液例えば塩酸またはりん酸
のような酸性剤で分裂できる1−低級アルコキシカルボ
ニル−2−プロピリデン基または1−低級アルカノィル
−2ープロピリデン基例えば1−ェトキシカルボニルー
2−プロピリデン基をもっている)である〕、さらにQ
−1,4−シクロヘキサジエニルーグリシル基、Q−2
一またはQ−3ーチェニルグリシル基のようなQーチェ
ニルグリシル基、Q−2ーフリルグリシル基のようなQ
−フリルグリシル基、またはQ−4ーィソチアゾリル−
ゲリシル基のようなQーィソチアゾリルグリシル基(こ
れらの基のアミノ基は例えば先にフェニルグリシル基に
述べたように置換または保護されていることができる)
、さらにQーカルボキシーフエニルアセチル基またはQ
−カルボキシーチェニルアセチル基例えばQーカルボキ
シー2ーチェニルアセチル基(これらは場合によっては
官能的に変えられたカルボキシル基例えばナトリウム塩
のような塩の形またはェステル例えばメチルェステルま
たはエチルェステルのような低級アルキルェステルやジ
フェニルェステルのようなフェニルー低級アルキルェス
テルの形にあるカルボキシル基をもっていてもよい)ま
たはQ−スルホーフエニルアセチル基(これは場合によ
っては例えば上記のカルボキシル基のように官能的に変
えられたスルホ基をもっていてもよい)、Q−ホスホノ
ー、Q−○ーメチルホスホノ−またはQ−○,0′−ジ
メチルホスホノーフェニルアセチル基、またはQ−ヒド
ロキシーフェニルアセチル基〔これは官能的に変えられ
た水酸基、殊にアシルオキシ基(このアシル基は例えば
トリフルオル酢酸のような酸性剤で処理するかまたは含
水酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元剤で処理す
る場合に好ましくは容易に分裂することのできるアシル
基またはこのようなアシル基に変えることのできるアシ
ル基、好ましくは炭酸半ェステルのアシル基例えば前記
の例えばハロゲン置換またはペンゾィル置換されている
ことのできる低級アルコキシカルボニル基、例えば2,
2,2ートリクロルエトキシカルボニル基、2ークロル
ェトキシカルボニル基、2ーフロムエトキシカルボニル
基、2−ヨードェトキシカルポニル基、tーブチルオキ
シカルボニル基またはフエナシルオキシカルボニル基、
さらにホルミル基である)をもっていることができる〕
〜ならびに1−アミノーシクロヘキシルカルボニル基、
2一または4ーアミノメチルーフエニルアセチル基のよ
うなアミノメチルフェニルアセチル基または4ーアミノ
ピリジニウムアセチル基のようなアミノーピリジニウム
アセチル基(これらも例えば上記のよう置換されたァミ
ノ基をもっていることもできる)、または4−ピリジル
チオアセチル基のようなピリジルアセチル基であり、そ
してR;は水素原子であるか、またはRぐとR辛とはそ
の両方で4一位置にメチル基のような低級アルキル基2
個をもつ場合のある1ーオキソー3ーアザ−1,4−ブ
チレン基〔これは2−位置において好ましくは、場合に
よっては保護された水酸基例えばアシルオキシ基例えば
ハロゲン置換されていることのできる低級アルコキシカ
ルボニルオキシ基または低級アルカノィルオキシ基によ
っておよび(または)ハロゲン原子例えば塩素原子によ
って置換されていることのできるフェニル基、例えばフ
ェニル基、または3−または4−ヒドロキシ−、3ーク
ロルー4ーヒドロキシーまたは3,5ージクロルー4−
ヒドロキシーフェニル基(その水酸基は保護例えば上記
のようにアシル化されていることもできる)をもってい
ることができる〉をもっていることができる〕であり、
そしてR2は水酸基、低級ァルコキシ基殊にQ−位置で
高度に分枝した低級アルコキシ基例えばt−プトキシ基
、さらにメトキシ基またはェトキシ基、2−ハロゲノ低
級アルコキシ基または2,2,2−トリクロルェトキシ
基、2−ョ−ドェトキシ基またはこの基に容易に変える
ことのできる2ークロルェトキシ基または2−フロムェ
トキシ基、フェナシルオキシ基、低級アルコキシ基また
はニトロ基で置換されていることのできるフェニル基1
〜3個をもつ1−フェニル低級アルコキシ基例えば4ー
メトキシベンジルオキシ基、4一ニトロベンジルオキシ
基、ジフェニルメトキシ基、4,4′ージメトキシージ
フェニルメトキシ基またはトリチルオキシ基、低級アル
カノィルオキシメトキシ基例えばァセチルオキシメトキ
シ基またはピバロィルオキシメトキシ基、Q−アミノ低
級アルカノィルオキシメトキシ基例えばグリシルオキシ
メトキシ基、2−フタリジルオキシメトキシ基、低級ァ
ルコキシカルボニルオキシ基例えばェトキシカルポニル
オキシ基または低級アルカノィルオキシ基例えばアセチ
ルオキシ基、さらにトリ低級アルキルシリルオキシ基例
えばトリメチルシリルオキシ基であり、そしてR3は低
級アルカノィル基例えばアセチル基またはプロピオニル
基、低級アルコキシカルボニル基例えばメトキシカルボ
ニル基またはペンソー、ィル基である。
本発明は主として式(1)においてRギカミ式〔この式
でRaはフェニル基またはヒドロキシフェニル基例えば
3−または4−ヒドロキシフェニル基、さらにヒドロキ
シークロルフェニル基例えば3−クロル−4−ヒドロキ
シルフェニル基または3,5−ジクロル−4−ヒドロキ
シフエニル基(これらの基において水酸基はハロゲン化
されていることのできる低級アルコキシカルボニル基例
えばtーブトキシカルボニル基または2,2,2−トリ
クロルェトキシカルボニル基のようなアシル基によって
保護されていることができる)、2−または3−チェニ
ル基のようなチェニル基、さらに4−ピリジル基のよう
なピリジル基、4ーアミノピリジニウム基のようなアミ
ノピリジニウム基、2ーフリル基のようなフリル基、4
−イソチアゾリル基のようなィソチアゾリル基、1ーテ
トラゾリル基のようなテトラゾリル基または1,4一シ
クロヘキサジェニル基であり、Xは酸素またはいおう原
子であり、mは0または1であり、そしてRbは水素原
子またはmが0である場合にはアミノ基、保護されたァ
ミノ基例えばァシルァミ/基例えばtーブトキシカルボ
ニルアミノ基のようなQ一位置で高度に分枝した低級ア
ルコキシカルボニルアミノ基、2,2,2−トリクロル
ェトキシカルボニルアミノ基、2ーョードェトキシカル
ボニルアミノ基または2ーフロムェトキシカルボニルア
ミノ基のような2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニル
アミノ基、または低級アルコキシ置換またはニトロ置換
されている場合のあるフヱニル低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基例えば4ーメトキシベンジルオキシカルポニ
ルアミノ基またはジフェニルメトキシカルポニルアミノ
基、または3−グアニルウレィド基、さらスルホアミノ
基、トリチルアミノ基、フリールチオアミノ基例えば2
ニトロフヱニルチオアミノ基、アリールスルホニルアミ
ノ基例えば4ーメチルフェニルスルホニルアミノ基また
は1一低級アルコキシカルボニル−2−プロピリデンア
ミノ基例えば1−ェトキシカルボニル−2−プロピリデ
ンアミノ基、カルボキシ基または塩例えばナトリウム塩
のようなアルカリ金属塩の形にあるカルボキシル基、保
護されたカルボキシ基例えばェステル化されたカルボキ
シル基例えばジフェニルメトキシカルボニル基のような
フェニル低級アルコキシカルボニル基、スルホ基または
塩例えばナトリウム塩のようなアルカリ金属塩の形にあ
るスルホ基、保護されたスルホ基、水酸基または保護さ
れた水酸基例えばアシルオキシ基例えばtープトキシカ
ルボニルオキシ基のようなQ−位置で高度に分枝した低
級アルコキシカルボニルオキシ基、2,2,2−トリク
ロルェトキシカルボニルオキシ基、2ーョードェトキシ
カルボニルオキシ基または2−フロムェトキシカルボニ
ルオキシ基のような2−ハロゲノ低級ァルコキシカルボ
ニルオキシ基、さらにホルミルオキシ基、または0−低
級アルキルホスホノ基または0,0′−ジ低級アルキル
ホスホノ基例えば0−メチルホスホノ基または0,0′
一ジメチルホスホノ基である〕で示されるアシル基また
は5ーアミノー5−カルボキシバレリル基(そのアミノ
基およびカルボキシル基は保護されていることもでき、
例えばアシルアミノ基例えばアセチル基のような低級ア
ルカノィルアミノ基、ジクロルアセチルアミノ基のよう
なハロゲノ低級アルカノィルアミ/基、ベンゾィルアミ
ノ基またはフタロィルアミノ基としてまたはェステル化
されたカルボキシル基例えばジフェニルメトキシカルボ
ニル基のようなフェニル低級アルコキシカルボニル基と
してあることができる)であり(なお、Raがフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシークロルフェニ
ル基またはピリジル基である場合にmは好ましくは1で
あり、そしてRaがフェニル基、ヒドロキシフェニル基
、ヒドロキシークロルフェニル基、チェニル基、フリル
基、イソチアゾリル基または1,4−シクロヘキサジェ
ニル基である場合にmは0であってRbは水素原子でな
いのが好ましい)、R;が水素原子であり、R2が主と
して水酸基、さらに低級ァルコキシ基殊にQ−位置で高
度に分枝した低級アルコキシ基例えばt−ブトキシ基、
2ーハロゲノー低級アルコキシ基例えば2,2,2−ト
リクロルェトキシ基、2−ヨードェトキシ基または2−
ブロムェトキシ基、または例えメトキシ基のような低級
アルコキシ基で置換されている場合のあるジフェニルメ
トキシ基例えばジフェニルメトキシ基または4,4′−
ジメトキシージフェニルメトキシ基、さらにトリメチル
シリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシリルオキシ
基でありそしてR3は低紙アルカノイル基例えばアセチ
ル基またはプロピオニル基、または低級アルコキシカル
ボニル基例えばメトキシカルボニル基である3−セフェ
ムー化合物または塩形成基をもつこのような化合物の塩
殊に医薬的に使用できる無毒な塩、例えばR2が水酸基
である化合物のナトリウム塩のようなアルカリ金属塩、
カルシウム塩のようなアルカリ士類金属塩またはアミン
塩を含めたアンモニウム塩、またはR2が水酸基であり
そして式{B}のァシル基中に遊離アミノ基をもってい
る化合物の分子内塩に関するものである。
式(1)の化合物は次のようにして得られる。
すなわち、式で表わされる3−ヒドロキシ−3−セフェ
ム化合物または相当するセフアムー3ーオン化合物また
はそれらの1−オキシドを、アシル基R3導入剤で処理
し、そて式(1)の化合物を単離するのである。
そして所望ならば、得られた式(1)の化合物において
式−C(=○)R会の保護されたカルボキシル基を遊離
カルボキシル基または他の保護されたカルボキシル基に
変え、そして(または)所望ならば、得られた(1)式
の化合物を式(1)の他の化合物に変え、そして(また
は)所望ならば、得られた塩形成基をもつ化合物を塩に
変えまたは得られた塩を遊離化合物またはまたは他の塩
に変え、そして(または)所望ならば、得らた異性体化
合物の混合物を個個の舞性体に分離するのである。式(
0)の原料において、R2は水酸基であるかまたは殊に
穏和な条件の下分裂することのできるェステル化された
カルボキシル基を基−C(=○)−といつしよに形成し
ているエーテル化された水酸基R挙であって、このカル
ボキシル保護基R多において存在する場合のある官能性
基はこれをそれ自体公知の方法によって保護しておくこ
とができる。
基R姿は殊にハロゲン置換されている場合のある低級ア
ルコキシ基例えばQ−位置で高度に分枝した低級アルコ
キシ基例えばt−ブトキシ基または2−ハロゲノ低級ア
ルコキシ基(ハロゲンは例えば塩素、臭素またはよう素
である)、主に2,2,2ートリクロルェトキシ基、2
ーフロムェトキシ基または2ーョードェトキシ基、また
は例えばメトキシ基のような低級アルコキシ基やニトロ
基で置換されていることのできる1ーフヱニル低級アル
コキシ基例えば上記のように置換されていることのでき
るペンジルオキシ基またはジフェニルメトキシ基例えば
ペンジルオキシ基、4−〆トキシベンジルオキシ基、4
−ニトロベンジルオキシ基、ジフェニルメトキシ基また
は4,4′ージメトキシージフェニルメトキシ基、さら
に有機シリルオキシ基またはスタニルオキシ基、例えば
トリメチルオキシ基のようなトリ低級アルキルシリルオ
キシ基である。式(0)の原料において、基R;はアミ
ノ保護基たとえばァシル基Acであり、この基Rでにお
いては存在することのある遊離官能基例えばァミノ基、
水酸基、カルボキシル基またはホスホノ基が〔アミノ基
の場合は例えば前記のアシル基、トリチル基、シリル基
またはスタニル基さらに置換されているチオ基またはス
ルホニル基により、そして水酸基、カルポキシル基また
はホスホノ基の場合は前記のエーテル基またはェステル
基(シリル基またはスタニル基を含む)により〕それ自
体公知の方法で保護されていてもよいものとし、そして
Rョは水素原子である。式(ロ)の3ーヒドロキシ−3
ーセフェム化合物はェノール型および(または)ケト基
であることができる。
一般に、式(0)の化合物はェノール型から式(1)の
ヱノール譲導体に変えられる。さらに、式(0)の化合
物と相当する1ーオキシドとの混合物を原料として使う
こともでき、こうして生成物として式(1)の化合物と
相当する1−オキシドとの混合物が得られる。従って、
式(0)の原料を純粋な形でまたはその製造に際して得
られる粗製の反応混合物の形で使うことができる。式(
0)の原料はそれ自体公知の方法によってェノール譲導
体に変えられる。
ェノールェステルすなわちR3がアシル基である式(1
)の化合物はェノール基のェステル化に適する任意の方
法によって得られる。
アシル化剤として、そのアシル基に相当する式R3一〇
H (X) で表わされるカルボン酸またはその反応性酸誘導体、殊
に相当する無水物(これはカルポン酸の分子内無水物す
なわちケテンまたはカルバミン酸やチオカルバミン酸の
分子内無水物すなわちィソシアネートやィソチオシアネ
ート、または混合無水物例えばふつ化水素酸や塩酸のよ
うなハロゲン化水素酸、シアン化水素酸、クロルぎ酸の
エチルェステルやイソブチルェステルのようなハロゲノ
ぎ酸低級アルキルェステルまたはトリクロル酢酸クロラ
ィドを使って生成されるような無水物すなわち相当する
ふつ化物や塩化物のようなハロゲン化物さらに偽ハロゲ
ン化物、そのカルボン酸に相当するシアノカルボニル化
合物または低級アルコキシカルボニルオキシカルボニル
化合物例えばェトキシカルボニルオキシカルポニル化合
物またはィソブトキシカルボニルオキシカルボニル化合
物をも包含する)または活性化されたェステル例えばビ
ニル属アルコール(すなわち、ェノール)とのヱステル
例えば酢酸インプロベニルェステルのような低級アルカ
ンカルボン酸のビニル属低級アルカノールェステルを使
い、そして必要ならば適当な縮合剤の存在の下で、例え
ば酸を使えばジシクロヘキシルカルボジイミドのような
カルボジイミド化合物またはジイミダゾリルカルボニル
のようなカルボニル化合物の存在の下で、反応性酸誘導
体を使えば例えば塩基性剤例えばトリェチルアミンのよ
うなトリ低級アルキルアミンまたはピリジンのような複
素濠式塩基の存在の下でそしてビニル属アルコールとの
ェステルを使えば酸性剤例えば硫酸のような無機酸また
はP−トルェンスルホン酸のような強いスルホン酸の存
在の下で操作する。
このアシル化反応を溶媒または溶媒混合物の不在または
存在の下で、冷却、室温または加熱の下でそして必要な
らば密封容器内でそして(または)窒素のような不活性
ガスの下で行うことができる。適する溶媒は例えば置換
殊に塩素化されている場合のある脂肪族、脂環式または
芳香族炭化水素例えばベンゼンまたはトルェンであり、
この場合に無水酢酸のような適当なェステル化剤を希釈
剤として使うこともできる。上記のェステル化反応にお
いては、原料および反応条件によって、式 (1)の純
粋な化合物またはこれと相当する2ーセフェム化合物と
の混合物が得られる。
後者は、例えば2価クロムの化合物のような重金属化合
物を含む式(0)の原料を使う場合に生成するかまたは
この化合物をその製造に際して式(血)の化合物から単
離せずに相当する不純な式(刈)の化合物を使う場合に
生成するかまたは塩基性条件下で反応させる場合に生成
する。こうして2−セフェム化合物に富んだものが得ら
れる。こうして得られた混合物をそれ自体公知の方法例
えば適当な分離方法によって、例えばシリカゲルまたは
酸化アルミニウムのような適当な吸着剤と溶離剤とを使
うクロマトグラフィ(カラム、ペーパーおよび薄クロマ
トグラフイ)を含めた吸着および分別溶離によって、さ
らに分別結晶化、溶媒分配その他によって分離すること
ができる。本発明方法ならびに所望によっては行うこと
のできる追加工程においては、必要ならば、その原料ま
たは本発明方法によって得られる化合物中の反応に関与
しない遊離の官能性基を、例えば遊離アミノ基はこれを
例えばアシル化、トリチル化またはシリル化によて、遊
離水酸基またはメルカプト基はこれを例えばエーテル化
またはェステル化によってそして遊離カルボキシル基は
これを例えばシリル化を含めたェステル化によって、予
じめそれ自体公3和の方法によって一時的に保護しそし
て反応終了後にそれ自体公知の方法によってそれらの基
を所望ならば個個にまたは同時に遊離させることができ
る。
従って、好ましくは例えばアシル基としてのR{または
R;におけるアミ/基、水酸基、カルボキシル基または
ホスホノ基を例えば前記のようなアシルアミノ基例えば
2,2,2−トリクロルェトキシカルボニルアミ/基、
2ーブロムェトキシカルボニルアミノ基、4ーメトキシ
ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ジフェニルメトキ
シカルボニルアミ/基またはtーブトキシカルボニルア
ミノ基の形で、アリールチオアミ/基またはアリール低
級アルキルチオアミ/基例えば2−ニトロフェニルチオ
アミ/基の形で、アリールスルホニルアミ/基例えば4
ーメチルフヱニルスルホニルアミノ基の形で、1一低級
アルコキシカルボニル−2ープロピリデンアミノ基の形
で、前記のようなアシルオキシ基例えばtーブトキシカ
ルボニルオキシ基、2,2,2−トリクロルェトキシカ
ルボニルオキシ基または2ーブロムェトキシカルボニル
オキシ基の形で、前記のようなェステル化されたカルボ
キシル基例えばジフェニルメトキシカルボニル基の形で
あるいは前記のような○,0′ージ置換されたホスホノ
基例えば0,01′ージメチルホスホノ基のような○,
0′ージ低級アルキルホスホノ基の形でそれぞれ保護し
そして後に、場合によってはその保護基を変換(例えば
2−ブロムェトキシカルボニル基を2ーョードェトキシ
カルボニル基に)してから、それ自体公知の方法によっ
てそして保護基の種類によって、例えば2,2,2ート
リクロルエトキシカルボニルアミノ基または2ーョード
ェトキシカルボニルァミノ基はこれを含水酢酸の存在下
での亜鉛のような適当な還元剤で処理し、ジフェニルメ
トキシカルボニルアミノ基やt−ブトキシカルポニルア
ミノ基はこれをぎ酸またはトリフルオル酸で処理し、ア
リールチオアミノ基やアリール級アルキルチオアミノ基
はこれを亜硫酸のような親核性剤で処理し、アリールス
ルホニルアミノはこれを鰭解還元によって、1一低級ア
ルコキシカルボニル−2ープロピリデンアミノ基はこれ
を無機酸水溶液で処理し、t−ブトキシカルボニルオキ
シ基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸で処理し、2
,2,2ートリクロルェトキシカルポニルオキシ基はこ
れを含水酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元剤で
処理し、ジフェニルメトキシカルポニル基はこれをぎ酸
またはトリフルオル酢酸で処理するかまたは加水分解し
、または0,0′ージ贋撰されたホスホノ基はこれをア
ルカリ金属のハロゲン化物で処理して所望ならば例えば
部分的に分裂することができる。本発明方法によって得
られた、式−C(=0)一R82 の保護基にェステル
化されたカルボキシル基をもつ式(1)の化合物におい
て、これをそれ自体公知の方法によって、例えば基R参
の種類によって、遊離カルボキシル基に変えることがで
きる。
適当な2−ハロゲノ低級アルキル基またはアリールカル
ボニルメチル基でェステル化されたカルボキシル基はこ
れを例えば化学的還元剤例えば亜鉛のような金属または
2価クロムの塩化物のような還元性金属塩で、一般にそ
の金属によって発生期の水素を生成することのできる水
素給体例えば酸主に酢酸またはぎ酸あるいはアルコール
(好ましくはこれらに水を加える)の存在の下で処理す
ることによって、またアリーカルボニルメチル基でェス
テル化されたカルボキシル基はこれをナトリウムチオフ
エノラートまたはよう化ナトリウムのような親核性の好
ましくは塩形成性の反応剤で処理することによって、ま
た適当なアリールメチル基でェステル化されたカルボキ
シル基はこれを例えば照射によって〔好ましくはそのア
リールメチル基が3一、4−および(または)5−位置
において例ば低級アルコキシ基および(または)ニトロ
基で置換されている場合あるペンジル基であれば例えば
29瓜h仏以下の紫外線を便し、そしてそのアリールメ
チル基が例えば2一位置でニトロ基によって置換された
ペンジル基であれば例ぱ2胸mA以上の長波長紫外線を
使う〕、またtープチル基やジフェニルメチル基のよう
な適当に置換されたメチル基でェステル化されたカルボ
キシル基はこれを例えばぎ酸またはトリフルオル酢酸の
ような適当な酸性剤で、場合によってはフェノールやア
ニソールのような親核性化合物を加えて処理することに
よって、また活性ェステル化されたカルボキシル基およ
びまた無水物の形にあるカルボキシル基はこれを加水分
解例えば塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液または冊約7
〜9のりん酸カリウム緩衝水溶液のような酸性または弱
塩基性の水性剤で処理することによって、そしてまた水
素添加分解で分裂できるェステル化されたカルボキシル
基はこれを例えばパラジウム触媒のような貴金属触媒の
存在の下で水素で処理することによって分裂させること
ができる。保護例えばシリル化またはスタニル化によっ
て保護されているカルボキシル基は、これを常法によっ
て例えば水またはアルコールで処理して遊離することが
できる。
式(1)においてR;とR;とがアシル化基である化合
物においては、これらの基の1方(好ましくは立体障害
の少し、方)を例えば加水分解またはァミノリシスによ
って選択的に除去することができる。
得られた式(1)の化合物をそれ自体公知の方法によっ
て式(1)の他の化合物に変えるこことができる。
すなわち、得られた化合物において、例えばアミノ保護
基RでまたはR白、殊に容易に分裂できるアシル基をそ
れ自体公知の方法によって分裂することができそして他
のアミ/保護基で置換することができる。
従って、例えば、t−ブトキシカルボニル基のようなQ
−位置で高度に分枝した低級アルコキシカルボニル基は
これをトリフルオル酢酸で処理することによって、また
2,2,2−トリクロルェトキシカルポニル基や2ーョ
ードェトキシカルボニル基のような2ーハロゲノ低級ア
ルコキシカルボニル基またはフェナシルオキシカルボニ
ル基はこれを適当な還元性金属または相当する金属化合
物例えば亜鉛または2価クロムの塩化物や酢酸塩のよう
な2価クロム化合物で、有利にはこの金属または金属化
合物といつしよに発生期の水素を生成するような水素給
体の存在の下で、好ましくは含水酢酸の存在の下で処理
することによって、分裂することができる。さらに、式
(1)の得られた化合物において、式−C(=0)−R
2のカルボキシル基が好ましくは例えばシリル化を含め
たェステル化によって、例えばトリメチルクロルシラン
のような適当な有機ハロゲノけし、素化合物またはトリ
−n−フチルすずクロラィドのような有機ハロゲ/すず
(W)化合物との反応によって保護されたカルボキシル
基である場合には、アシル基R{(この基中に存在する
ことのできる遊離の官能性基は場合によっては保護され
ていることができる)を除去するように、ィミドーハラ
イド形成剤で処理し、得られたィミドーハライドをアル
コールと反応させそしてこうして生成したイミノヱーテ
ルを分裂することができる。
この反応の過程中に、保護例えば有機シリル基で保護し
ておいたカルボキシル基を遊離させることができる。ハ
ロゲン原子が親電子性中心原子に結合しているイミドー
ハラィド形成剤はとりわけ酸ハロゲン化物、例えば酸臭
化物および特に酸塩化物である。
これらは主として無機酸とりわけりん含有酸の酸ハロゲ
ン化物例えばオキシハロゲン化りん、3ハロゲン化りん
および特に5ハロゲン化りん、例えばオキシ塩化りん、
3塩化りんおよび主に5塩化りん、ならびにピロカテキ
ル−3塩化りん、ならびにいおう含有酸またはカルボン
酸の酸ハ。ゲン化物特に塩化物、例えば塩化チオニル、
ホスゲンまたは塩化オキザリルである。上記ィミドーハ
ラィド形成剤の1つと反応させるには、一般に適当な塩
基特に有機塩基とにわけ第3アミン例えば第3脂肪族モ
ノアミンまたはジアミン例えばトリー低級アルキルアミ
ン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミンまたはN
,Nージイソプロピル−Nーエチルーアミン、さらにN
,N,NN′ーテトラー低級アルキルー低級アルキレン
ジアミン例えばN,N,NN−テトラメチル一1,5ー
ベンチレンジアミンまたはN,N,N′,N′ーテトラ
メチル−1,6ーヘキシレンジアミン、単環式または2
環式のモノアミンまたはジアミン例えばN−置換(例え
ば、N−低級アルキル化)されたアルキレンアミン、ア
ザアルキレンアミンまたはオキサアルキレンアミン例え
ばNーメチルピベリジンまたはNーメチルモルホリン、
または2,3,4,6,7,8−へキサヒドローピロー
ロ〔1,2一a〕ピリミジン(すなわち、ジアザビシク
ロノネン、DBN)、または第3芳香族アミン例えばジ
ー低級アルキルアニリン例えばN,N−ジメチルアニリ
ンまたはとりわけ第3複素環式単環式または2環式塩基
例えばキ/リンやインキ/リン、特にピリジンの存在の
下で、好ましくはハロゲン化(例えば、塩素化)されて
いる場合のある脂肪族または芳香族炭化水素例えば塩化
メチレンのような溶媒の存在の下で反応させる。
この反応においては、イミドーハライド形成剤および塩
基をほぼ当モル量で使うことができるが、塩基を過剰に
または当量より少し、量で、例えば約0.2〜1倍量ま
たは約1M音の過剰量までの量、特に約3〜5倍過剰量
の量で使うこともできる。このィミドーハラィド形成剤
との反応を冷却しながら、例えば約一50〜十10℃で
行うのが好ましいが、原料の安定性および生成物の安定
性が一層高い温度を許容するならば一層高い温度すなわ
ち例えば約75qCまでの温度で反応させることもでき
る。
こうして生成したィミドーハラィド生成物を一般に単離
しないで、好ましくは前記塩基の1つの存在の下で、ア
ルコールと反応させてィミノェ−テルを得る。
アルコールとしては例えば脂肪族または芳香脂肪族アル
コール、とりわけハロゲン化(例えば塩素化)のような
置換されている場合のある低級アルカノールまたは別に
水酸基をさらにもつ低級アルカノール、例えばエタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、特にメタ/ール、なるびに2,2,2−トリクロ
ルエタノールや2−フロムヱタノールのような2ーハロ
ゲ/低級アルカノール、およびまた置換されている場合
のあるフェニルー低級アルカノール例えばペンジルアル
コールが適する。このアルコールを一般に過剰量例えば
約10の音までの過剰量で使い、そしてその工程を冷却
しながら例えば約一50〜十10℃で行うのが好ましい
。こうして生成したィミノェーテル生成物を有利には単
離せずに分裂することができる。このイミノェ−テルの
分裂は適当なヒドロキシ化合物で処理することによって
、好ましくは加水分解またはさらにアルコーリシスによ
って蓬せられる(このアルコーリシスを前記イミノェー
テルの生成に引続いて過剰量のアルコールを使って行う
ことができる)。この際に水、またはアルコール特にメ
タノールのような低級アルカノール、またはアルコール
のような有機溶媒の水との混合物を使うのが好ましい。
この工程を一般に酸性嬢質中で例えば約1〜5の斑値で
行い、そしてこのpH値は、必要ならば、塩基性剤例え
ば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムのようなアルカリ
金属水酸化物の水溶液または酸例えぱ塩酸、硫酸、りん
酸、ふつ化ほう素酸、トリフルオル酢酸またはP−トル
ェンスルホン酸のような無機酸または有機酸を加えるこ
とによって調整することができる。上記のアシル基を分
裂するための3段階工程を、途中でイミドーハライドお
よびイミノェーナル中間体を単機せずに、一般にはそれ
ら反応体に対し不活性な有機溶媒例えば塩化メチレンの
ようなハロゲン化されている場合のある炭化水素の存在
下でそして(または)窒素ガスのような不活性ガスの中
で行うのが有利である。
上記の方法によって得られるィミドーハラィド中間体を
アルコールと反応させる代りにカルポン酸特に立体障害
のあるカルポン酸のアルカリ金属塩のような塩と反応さ
せれば、式(1)におけるR{とR字とが共にアシル基
である化合物が得られる。
式(1)における基R;とR;とがいずれもアシル基で
ある化合物においては、これらの基の1方好ましくは立
体障害の少し、方の基を選択的に例えば加水分解または
アミノリシスによって除くことができる。
式(1)の化合物においてR;とR;とがそれらの結合
している窒素原子と共にフタルィミド基を表わす場合に
は、これを例えばヒドラジノリシスによって(すなわち
、このような化合物をヒドラジンで処理すことによって
)遊離アミノ基に変えることができる。
本発明方法によって得た化合物におけるアシルアミノ基
のアシル基R{の中では、例えば5ーアミノ−5一カル
ボキシーバレリル基〔そのカルボキシル基は例えばェス
テル化によって、特にジフェニルメチル基によって、そ
して(または)アミノ基は例えばアシル化によって、特
に有機カルボン酸のアシル基例えばジクロルアセチル基
のようなハロゲノ低級アルカノイル基またはフタロイル
基によって保護されていることもできる〕は塩化ニトロ
シルのようなニトロシル化剤、ベンゼンジアゾニウムク
ロラィドのような炭素環式アレン−ジアゾニウム塩また
はN−ハロゲンーアミドまたはN−ハロゲンーィミド例
えばNーブロムこはく酸ィミドのような陽・性ハロゲン
原子を供与する反応剤で、好ましくは適当な溶媒または
溶媒混合物、例えばニトロ−低級アルカンまたはシアノ
−低級アルカンといつしよにぎ酸の中で処理し、その反
応生成物を水または低級アルカノール例えばメタノール
のような水酸基をもつ化合物と混合するか、または基R
でとしての5−アミノー5ーカルボキシ−バレリル基に
おけるァミノ基が未置換でありそしてカルボキシル基が
例えばェステル化によって保護されておりそしてR;が
アシル基であるのが好ましいが水素原子であることもで
きる場合には、ジオキサンまたはハロゲン化された脂肪
族炭化水素例えば塩化メチレンのような適当な溶媒の中
で放置し、そして必要ならばこうして生成した遊離のま
たはモノアシル化されたアミ/化合物をそれ自体公知の
方法によって後処理することによって、分裂させること
ができる。
ホルミル基Rデは、酸性剤例えばP−トルェンスルホン
酸または塩酸、弱塩基性剤例えば希薄なアンモニアまた
は脱カルボニル化剤例えばトリス−(トリフエニルホス
フイン)ーロジウムクロライドで処理することによって
除去することもできる。
トリチル基のようなトリアリールメチル基R了は、例え
ば無機酸のような酸性剤例えば塩酸で処理することによ
って除去できる。
7−位置に遊離アミノ基をもつ得られた化合物において
、この基をそれ自体公知の方法によって置換することが
でき、殊にカルボン酸のような酸またはその反応性誘導
体で処理してアシル化することができる。
このアシル化に遊離酸(この酸が官能性例えばアミノ基
をもつ場合には、これを保護しておくのが好ましい)を
使う場合には、一般に適当な縮合剤例えばカルボジィミ
ド例えばN,N′ージェチルー、N,N′ージブロピル
ー、N,N′ージイソプロピルー、N,N′ージシクロ
ヘキシル−またはNーエチルーN′−3ージメチルアミ
ノプロピルーカルボジィミド、適当なカルボニル化合物
例えばカルボニルジイミダゾールまたはイソオキサゾリ
ニウム塩、例えばN−エチル一5ーフェニルーイソオキ
サゾリニウム−3′ースルホネートおよびN−t−ブチ
ル−5ーメチルーイソオキサゾリニゥムパークロレート
こまたは適当なアシルアミ/化合物例えば2−ヱトキシ
−1−ェトキシカルボニル−1,2ージヒドロキノリン
を使う。
この縮合反応を後に述べる無水反応煤質例えば塩化メチ
レン、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリルの中
で行うのが好ましい。また、アミドの形成に使う酸の官
能性誘導体(これはアミノ基のような官能性基をもつ場
合にはこの基を保護しておくのが好ましい)としては、
主にこのような酸の無水物、好ましくは混合無水物であ
る。
混合無水物は例えば無機酸殊にハロゲン化水素酸との無
水物すなわち相当する酸ハロゲン化物例えば酸塩化物ま
たは臭化物、さらにアジ化水素酸との無水物すなわち相
当する酸アチド、リン含有酸例えばりん酸または亜りん
酸、いおう含有酸例えば硫酸またはシアン化水素酸との
無水物である。他の適する無水物は例えば有機酸例えば
ふつ素または塩素原子のようなハロゲン原子で置換され
ている場合のある低級アルカンカルボン酸のような有機
カルボン酸例えばピバル酸またはトリクロル酢酸との無
水物または炭酸の半ェステル例えばエチル半ェステルや
ィソブチル半ェステルのような特に低級アルキル半ェス
テルとの無水物あるいは有機殊に脂肪族または芳香族ス
ルホン酸例えばPートルヱンスルホン酸との無水物であ
る。さらに、アシル化剤として分子内無水物、例えばジ
ケテンのようなケテン、イソシアネート(すなわち、カ
ルバミン酸化合物の分子内無水物)、またはカルボキシ
置換された水酸基またはアミ/基をもつカルボン酸化合
物の分子内無水物例えばマンデル酸一〇一カルボキシア
ンハィドラィドまたは1一Nーカルボキシアミノーシク
ロヘキサンカルボン酸の無水物を使うことができる。
また、遊離アミ/基との反応に適する他の酸誘導体は活
性化されたェステル(これが官能性基をもつ場合には一
般にこれを保護しておくのが好ましい)、例えばビニル
属低級アルカノールのようなビニル属アルコール(すな
わち、ェノール)とのェステル、またはアリールェステ
ル例えば好ましくは例えばニトロ基または塩素のような
ハロゲン原子で置換されたフェニルェステル例えばペン
タクロルフエニルエステル、4ーニトロフエニルエステ
ルまたは2,4ージニトロフエニルエステル、ヘテロ芳
香族ェステル例えばペンズトリアゾールエステル、また
はサクシニルイミ/エステル、やフタリルイミノエステ
ルのようなジアシルイミノヱステルである。
他のアシル化剤として、例えば酸の置換されたホルムィ
ミノ誘導体例えば置換されたN,N′−ジメチルクロム
ホルムィミノ誘導体、またはN,Nージアシルアミノが
ある。
無水物または殊に酸ハロゲン化物のような酸議導体でア
シル化するには、酸結合剤例えば有機アミンのような有
機塩基例えば第3アミン例えばトリェチルアミンのよう
なトリ低級アルキルアミン、N,Nージメチルアニリン
のようなN,N−ジ低級アルキルアニリンまたはピリジ
ン型の塩基例えばピリジン、無機塩基例えばアルカリ金
属またはアルカリ士類金属の水酸化物、炭酸塩たは重炭
酸塩例えばナトリウム、カリウムまたはカルシウムの水
酸化物、炭酸塩または重炭酸塩、またはオキシラン例え
ばエチレンオキシドやプロピレンオキシドのような低級
1,2ーアルキレンオキシドの存在の下で行うことがで
きる。
上記のアシル化を水性または好ましくは非水性溶媒また
は溶媒混合物、例えばN,N−ジ低級アルキルアミド例
えばジメチルホルムアミドのようなカルボン酸アミド、
塩化メチレン、4塩化炭素またはクロルベンゼンのよう
なハロゲン化された炭化水素、アセトンのようなケトン
、酢酸エチルのようなエステルまたはアセトニトリルの
ようなニトリルまたはそれらの混合物の中でそして必要
ならば低めた温度または高めた温度でそして(または)
窒素のような不活性ガスの下で行うことができる。
上記のNーアシル化反応では、式(1)の化合物として
R2が前記の意味をもつものから出発するとができる。
この場合に、式−C(=○)−R2の遊離カルボキシル
基(すなわち、R2は水酸基)をもつ化合物を、塩例え
ばトリェチルアミン塩のようなアンモニウム塩の形でま
たは適当な有機ハロゲン化りん化合物例えばメチル−2
塩化りん、エチル−2臭化りんまたはメトキシー2塩化
りんのような低級アルキルーまたは低級アルコキシーり
んージハラィドとの反応によって保護されたカルボキシ
ル基をもつ化合物の形でも使うことができる。こうして
得たアシル化生成物において、その保護されたカルボキ
シル基をそれ自体公知の方法により、例えば加水分解ま
たはアルコ−リシスを含めた後記の方法によって遊離さ
せることができる。また、7−位置に遊離アミノ基をも
つ化合物を例えば脂肪族、芳香族または芳香脂肪族アル
デヒドのようなアルデヒドで処理してそのアミノ基をィ
リデソ基で置換し、こうして得た化合物を例えば前記の
方法によってアシル化しそしてこのアシル生成物を好ま
しくは中性または弱酸性媒質中で加水分解することによ
って、アシル基を導入することもできる。
またアシル基を段階を経て導入することもできる。
すなわち、例えば、7−位置に遊離アミノ基をもつ化合
物中にハロゲノ低級アルカノィル基例えばブロムアセチ
ル基を導入しまたは例えばホスゲンのような炭酸ジハラ
イドで処理してクロルカルボニル基のようなハロゲノカ
ルボニル基を導入しそしてこうして得られるN−(ハロ
ゲノ−低級アルカノィル)ーアミノ化合物またはN−(
ハロゲノカルポニル)−ァミノ化合物を適当な置換剤例
えばテトラゾールのような塩基性化合物、2−メルカプ
トー1一メチルーイミダゾールのようなチオ化合物、ァ
ジ化ナトリウムのような金属塩またはアルコール例えば
t−ブタノールのような低級アルカノールと反応させる
ことによって、置換されたN−低級アルカノィルアミノ
またはN−ヒドロキシカルボニルアミ/化合物を得るこ
とができる。上記のアシル化反応中に両反応体における
遊離官能性基をそれ自体公知の方法によって一時的に保
護しておくことができそしてこのアシル化反応の後にそ
れ自体公知の方法例えば上記の方法によって遊離させる
ことができる。
さらに、既存のアシル基を他の好ましくは立体障害のあ
るアシル基で例えば上記の方法によって交換することに
よってァシル化することもできる。
この場合に、そのイミドハラィド化合物を製造し、これ
を酸の塩で処理しそしてこうして得た生成物中のアシル
基の1つ(一般には立体障害の少し、方のアシル基)を
加水分解によって分裂させるのである。さらに、例えば
、式(1)におけるRデカミQ−位置で好ましくは置換
されているグリシル基例えばフェニルグリシル基であり
そしてR;が水素原子である化合物をホルムアルデヒド
のようなアルデヒドまたはケトン例えばアセトンのよう
な低級アルカノンと反応させることによって、R;とR
;とがその両方でこれらの結合している窒素原子と共に
5−オキソー1,3ージアザーシクロベンチル基(これ
は4−位置で好ましくは置換されておりそして2一位置
で場合によっては置換されていることができる)を表わ
す式(1)の化合物が得られる。
また、7−位置に遊離アミノ基をもつ式(1)の化合物
を例えば塩化トリチルのようなトリアリールメタノール
の反応性ェステルで好ましくはピリジンのような塩基性
剤の存在下で処理してトリアリールメチル基を導入する
ことによって、その遊離アミノ基を保護することもでき
る。
また、シリル基またはスタニル基を導入することによっ
て、アミ/基を保護することもできる。
このような基を導入するには、それ自体公知の方法によ
って、例えば適当なシリル化剤例えばジクロルジメチル
シランのようなジハロゲノージ低級アルキルシラン、メ
トキシーメチルージクロルシランのような低級アルコキ
シ−低級アルキルージハロゲノシランまたはトリメチル
シリルクロライドやジメチル−tーブチルシリルクロラ
イドのようなトリ低級アルキルシリルハラィド(これら
をピリジンのような塩基の存在下で使うのが好ましい)
で処理するか、N−モノ低級アルキル化、N,N−ジ低
級アルキル化、Nートリ−低級アルキルシリル化または
N−低級アルキル−Nートリー低級ァルキルシリル化さ
れている場合のあるN−(トリー低級アルキルーシリル
)ーアミノ(例えば、イギリス特許第1,073,53
び号の明細書を参照され度い)またはシリル化されたカ
ルポン酸アミド例えばビスートリメチルシリルーアセト
アミドのようなビスートリ低級アルキルシリルーアセト
アミドまたはトリフルオルシリルアセトアミドで処理す
るか、または適当なスタニル化剤例えばビスー(トリ.
n−ブチル−すず)−オキサイドのようなビスー(トリ
ー低級アルキルーすず)ーオキサイド、トリエチル一す
ずーハイドロオキサィドのようなトリー低級アルキルす
ずハイドロオキサィド、トリー低級アルキル−低級アル
コキシ−すず化合物、テトラ−低級アルコキシすず化合
物またはテトラ−低級アルキルすず化合物あるし・はト
リーn−ブチルすずクロライドのようなトリ−低級アル
キルすずハラィド(例えば、オランダ袴願第67/11
107号の明細書を参照され度い)で処理するのである
。本発明方法によって得られた、式−C(=○)−R2
の遊離カルボキシル基をもつ式(1)の化合物において
は、この基をそれ自体公知の方法によって保護されたカ
ルボキシル基に変えることができる。
すなわち、例えば適当なジアゾ化合物例えばジアゾメタ
ンやジアゾブタンのようなジアゾ−低級アルカンまたは
ジフェニルジアゾメタンのようなフェニルジアゾー低級
アルカンで必要ならば3ふっ化ほう素のようなルイス酸
の存在の下で処理するか、またはェステル化剤例えばジ
シクロヘキシルカルポジイミドのようなカルボジイミド
またはカルボニルジィミダゾールの存在の下でェステル
化に適するアルコールと反応させるか、またはN,N′
ージ置換された○−またはS−置換ィソ尿素またはィソ
チオ尿素と反応させるか(その0一およびS−置換基は
例えばアルキル基、殊にt−ブチル基、フェニル低級ア
ルキル基またはシクロァルキル基でありそしてN−また
はN′−置換基は例えば低級アルキル基殊にイソプロピ
ル基、シクロアルキル基またはフェニル基である)、ま
たはその酸の塩をアルコールと強い無機酸または強い有
機スルホン酸との反応性ェステルと反応させるような他
の公知の適当なヱステル方法によって、ェステルが得ら
れる。さらに、酸塩化物のような酸ハロゲン化物(これ
は例えば塩化オキザリルで処理して作られる)、活性化
されたェステル(これは例ばNーヒドロキシーサクシノ
イミドのようなNーヒドロキシー窒素化合物を使って生
成される)または混合無水物(これは例えばクロルぎ酸
エチルやクロルぎ酸ィソブチルのようなハロゲノぎ酸低
級アルキルェステルまたはトリクロル酢酸クロラィドの
ようなハロゲ/酢酸ハラィドを使って生成される。場合
によってはピリジンのような塩基の存在下で、アルコー
ルと反応させることによって、ェステル化されたカルボ
キシル基に変えることができる。式−C(=0)−R2
のェステル化された基をもつ得られた化合物においては
、この基を同じ式で表わされる他の基に変えることがで
きる。
例えば、2ークロルェトキシカルボニル基または2−フ
ロムェトキシカルボニル基をアセトンのような適当な溶
媒の下でよう化ナトリウムのようなよう秦塩で処理して
2ーョードェトキシカルボニル基に変えることができる
。混合無水物は、式(1)における基−C(=0)−R
2が遊離カルボキシル基である化合物または好ましくは
その塩特にナトリウム塩のようなアルカリ金属塩または
トリエチルアンモニウム塩のようなアンモニウム塩を酸
の反応性誘導体例えば酸塩化物のようなハロゲン化物ま
たはハロゲノぎ酸低級アルキルェステルまたは低級アル
カンカルボン酸クロラィドと反応させるおとによって製
造される。
本発明方法によって得られた基−C(;○)−R2が遊
離カルボキシル基である化合物において、この基を置換
されている場合のあるカルバモィル基またはヒドラジノ
カルボニル基に変えるとができる。
この場合に、好ましくは反応性の官能的に変えられた誘
導体例えば前記の酸ハロゲン化物、一般にヱステル例え
ば前記の活性化されたェステルまたは相当する酸との混
合無水物をアンモニア、ヒドロキシルアミンを含たアミ
ンまたはヒドラジンと反応させる。有機シリル基または
スタニル基で保護されたカルボキシル基はそれ自体公知
の方法によって、例えば式(1)におけるR2が水酸基
である化合物またはその塩例えばナトリウム塩のような
アルカリ金属塩を前記のシリル化剤またはスタニル化剤
の1つのよな適当なシリル化剤またはスタニル化剤で処
理することによって形成される。
これについては例えばイギリス特許第1,073,53
び号またはオランダ特磯第67/17107号の明細書
を参照され度い。さらに、基Rで,R;および(または
)R2における置換されたたアミノ基、アシル化された
水酸基、ェステル化されたカルボキシル基または0,○
′−ジ置換されたホスホノ基のような変えらた官能性基
をそれ自体公知の方法によって例えば前記の方法によっ
て遊離させることができるし、または基R;,R;およ
び(または)R2における遊離のアミノ基、水酸基、カ
ルボキシル基またはホスホノ基のような遊離の官能性基
をそれ自体公知の方法によって例えばアシル化、ェステ
ル化または置換反応によって官能的に変えることができ
る。
従って、例えばアミノ基を3酸化いおう(好ましくは有
機塩基例えばトリェチルアミンのようなトリ低級アルキ
ルアミンとの錯体の形にあるもの)で処理してスルホア
ミノ基に変えることができる。さらに、4ーグアニルセ
ミカルバチドの酸付加塩と亜硝酸ナトリウムとの反応に
よって得られた反応混合物を、式(1)におけるアミノ
保護基R{力ミ例えば置換されている場合のあるグリシ
ル基である化合物と反応させことによって、そのアミノ
基を3ーグアニルウレィド基に変えることができる。さ
らに、脂肪族結合したハロゲン原子例えば置換されてい
る場合のあるQ−ブロムアセチル基をもつ化合物をトリ
低級アルキルホスフアィト化合物のような頭りん酸ェス
テルと反応させれば、相当するホスホノ化合物が得られ
る。本発明方法によって得らた式(1)の化合物とその
相当する1−オキシドとの混合物は式(1)の3−セフ
ェム化合物に直接還元するとができる。
前記の還元処理はそれ自体公知の方法によって、必要な
らば活性化剤の存在の下で、還元剤で処理して還元する
ことができる。還元剤としては次のものが挙げられる。
接触的に活性化された水素(パラジウム、白金またはロ
ジウムのような貴金属触媒を、場合によっては炭や硫酸
バリウムのような適当な担体上に担持して使う)、還元
性のすず、鉄、鋼またはマンガンの陽イオン〔これらを
無機または有機の相当する化合物または錆体の形で、例
えばすず(ロ)の塩化物、ふつ化物、酢酸塩またはぎ酸
塩として、鉄(1)の塩化物、硫酸塩、しゆう酸塩また
はこはく酸塩として、銅(1)の塩化物、安息香酸塩ま
たは酸化物として、またはマンガン(ロ)の塩化物、硫
酸塩、酢酸塩または酸化物として、あるいは錆体例えば
エチレンジアミンテトラ酢酸またはニトロールトリ酢酸
との鍵体として使う〕、還元性の重亜硫酸陰イオン、よ
う素陰イオンまたはシアン化鉄(0)陰イオン(これら
を相当する無機または有機塩の形で、例えば亜硫酸水素
ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、よう化ナトリウム、
よう化カリウム、フエロシアン化ナトリウムまたはフエ
ロシアン化カリウムのようなアルカリ金属塩またはよう
化水素酸のような相当する酸の形で使う)、還元性の3
価の無機または有機りん化合物例えばホスフィン、さら
に鰹ホスフィン酸、亜ホスホン酸または亜りん酸のェス
テル、アミ‐ドおよびハロゲン化合物ならびにこれらり
ん・酸素化合物に相当するりん・いおう化合物(これら
化合物中の有機基は主として脂肪族、芳香族または芳香
脂肪族基例えば置換されている場合のある低級アルキル
基、フェニル基またはフェニル低級アルキル基である)
、例えばトリフェニルホスフイン、トリ−n−ブチルホ
スフィン、ジフェニル亜ホスフィン酸メチル、ジフエニ
ルクロルホスフイン、フエニルジクロルホスフィン、ベ
ンゼン亜ホスホン酸ジメチルェステル、ブタン亜ホスホ
ン酸メチルステル、亜りん酸トリフェニルヱステル、亜
りん酸トリメチルェステル、3塩化りん、3臭化りん、
その他、還元性のハロゲノシラン化合物(これらはけし
、素原子に結合した水素原子少くとも1個をもちそして
さらに塩素、臭素またはよう素のようなハロゲン原子、
有機基例えば脂肪族または芳香族基例えば置換されてい
る場合のある低級アルキル基またはフェニル基をもって
いることができる)、例えばクロルシラン、フロムシラ
ン、ジーまたはトリークロルシラン、ジーまたはトリー
ブロムシラン、ジフエニルクロルシラン、ジメチルクロ
ルシランその他、還元性の第4級クロルメチレンーィミ
ニウム塩、殊に相当するクロライドまたはブロマイド(
そのィミニウム基は2価の有機基または2個の1価有機
基例えば置換されている場合のある低級アルキレン基ま
たは低級アルキル基によって置換されているものとする
)、例えばN−クロルメチレンーN,N−ジエチルイミ
ニウムクロライドまたはNークロルメチレン−ピロリジ
ニウムクロラィド、および塩化コバルトm)のような適
当な活性化剤の存在下での水素化ナトリウムほう素のよ
うな錯金属水素化物、ならびにボランジク。ライド。そ
れ自体非ルイス酸性を示す上記還元剤といつしよに使う
、すなわち主として重亜硫酸塩還元剤、よう素還元剤、
シアン化鉄(0塊量元剤またはハロゲンを含まない3価
りん還元剤といつしよにまたは接触還元の場合に加える
活性化剤としては、殊に有機カルボン酸およびスルホン
酸のハロゲン化物、さら2次加水分解定数が塩化ペンゾ
ィルと同じかまたはそれより大きいいおう、りんまたは
けし、素のハロゲン化物例えばホスゲン、塩化オキザリ
ル、酢酸クロラィドまたはブロマイド、クロル酢酸クロ
ラィド、ピバリン酸クロラィド、4−メトキシ安息香酸
クロラィド、4−シアノ安息香酸クロラィド、P−トル
ェンスルホン酸クロラィド、メタンスルホン酸クロラィ
ド、塩化チオニル、オキシ塩化りん、3塩化りん、3臭
化りん、フエニルジクロルホスフィン、ベンゼン亜ホス
ホン酸クロラィド、ジメチルクロルシランまたはトリク
ロルシラン、さらにトリフルオル酢酸無水物のような適
当な酸簸水物、または環状サルトン、例えばェタンサル
トン、1,3−プロパンサルトン、1,4ーブタンサル
トンまたは1,3−へキサンサルトンが挙げられる。
上記の還元反応を溶媒またはその混合物の中で行うのが
好ましい。溶媒の選択は主として原料の溶解性および環
元剤の種類による。すなわち、例えば接触還元では低級
アルカンカルボン酸またはそのェステル例えば酢酸およ
び酢酸エチルを便し、そして化学的還元剤では例えばハ
ロゲン化またはニトロ化のような置換されている場合の
ある脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭化水素
例えばベンゼン、塩化メチレン、クロロホルムまたはニ
トロメタン、適当な酸議導体例えば酢酸エチルのような
低級アルカンカルボン酸ェステル、アセトニトリルのよ
うな低級アルカノニトリル、無機または有機酸のアミド
例えばジメチルホルムアミドまたはへキサメチルりん酸
アミド、エーテル例えばジェチルェーテル、テトラヒド
ロフランまたはジオキサン、ケトン例えばアセトンまた
はスルホン殊に脂肪族スルホン例えばジメチルスルホン
またはテトラメチレンスルホンを使い、これら溶媒は水
を含まないのが好ましい。一般に約一20〜十100q
Cで行うが、非常に反応性の活性化剤を使う場合には一
層低い温度で反応を行うことができる。式(1)の化合
物の塩はそれ自体公知の方法によって製造される。
すなわち、式(1)におけるR2が水素原子である化合
物を例えば適当なカルボン酸のアルカリ金属塩のような
金属化合物例えばQーェチルカプロン酸のナトリウム塩
またはアンモニアまたは適当な有機アミンで処理するこ
とによって、その塩を生成することができる。この目的
には、その塩形成剤を化学量論的量または僅かに過剰な
量で使うのが好ましい。また、塩基性基をもつ式(1)
の化合物の酸付加塩は常法によつて、例えば酸または適
当な陰イオン交換剤で処理することによって得られる。
塩形成するアミノ基と遊離カルボキシル基とをもつ式(
1)の化合物の分子内塩は、例えばその酸付加塩のよう
な塩を等雷点まで例えば弱塩基で中和するかまたは液状
イオン交換剤で処理することによって生成される。塩は
これを常法により遊離化合物に変えることができる。
例ば、金属塩およびアンモニウム塩を適当な酸で処理す
ることによって、また酸付加塩を例えば適当な塩基性剤
で処理することによって、遊離化合物に変えることがで
きる。得らた異性体温合物は、これをそれ自体公知の方
法によって、例えばジアステレオマー異性体の混合物を
分別結晶化し.、吸着クロマトグラフィ(力ラムクロマ
トグラフィまたは薄層クロマトグラフィ)または他の適
当な分離方法によって個個の異性体に分けることができ
る。
得らたラセミ体は、これを常法によって、適当ならば適
当な塩形成基を導入した後に、例えば光学活性の塩形成
剤とのジァステレオマー塩混合物を生成し、この混合物
を各ジアステレオマー塩に分けそしてこうして分けたジ
アステレオマー塩を遊離化合物に変えることによって、
または光学活性の溶媒から分別結晶化することによって
、個個の対掌体に分けることができる。本発明は、その
工程で中間体として生成する化合物を原料として便し、
そして残りの工程段階を行うかまたはその工程を任意の
段階で中断するような具体例をも包含する。
さらに、原料を誘導体の形で使うことができるしまたは
その反応中に生成させることができる。なお、原料およ
び反応条件としては、先に殊に好ましいものとして挙げ
た化合物が得られるように選ぶのが好ましい。
本発明方法で使う式(D)の原料は例えば次のようにし
て作られる。
式(この式でR2は好ましくは水酸基であるが、R会で
もある)で表わされるセフェム化合物において、アセチ
ルオキシメチル基を例えば軸9〜10の水酸化ナトリウ
ム水溶液のような弱塩基性煤質中で加水分解するかまた
は適当なェステラーゼ例えばリゾビウム.トリトリイ(
Rhizobimmtritolii)、リゾビウム・
ルピニイ(Rhizobi肌m lupinii)、リ
ゾビウム・ジヤポニカム(Rhizobj山m ppo
nlcmm)またはバチルス・サブチリス(Bacjl
l船subtilis)からの相当する酵素で処理して
ヒド。
キシメチル基に変え、式−C(=○)−R2の遊離カル
ボキシル基を適当な方法によって官能的に変えく例えば
、ジフエニルジアゾメタンのようなジアゾ化合物で処理
してェステル化し)、そして上記のヒドロキシメチル基
を例えばハ。ゲン化剤例えば塩化チオニルのような塩素
化剤またはN−メチル−N,N′−ジシクロヘキシル−
力ルボジイミジウムアィオダィドのようなよう素化剤で
処理してクロルメチル基またはヨードメチル基のような
ハロゲノメチル基に変える。クロルメチル基はこれを例
えば適当な2価クロム化合物例えば2価クロムの塩化物
や酢酸塩のような無機または有機塩でジメチルスルホキ
シドのような適当な溶媒中で処理して直藤にメチレン基
に変えるか、または間接的にそのヨードメチル基(これ
は例えばクロルメチル化合物をアセトンのような適当な
溶媒中でよう化ナトリウムのような金属よう化物で処理
することによって生成される)にしてから、このヨード
メチル化合物を酢酸の存在下で亜鉛のような適当な還元
剤で処理してメチレン基に変える。こうして得た式で表
わされる化合物〔これは式(紅)の化合物から、例えば
電気化学的還元または2価クロム塩やアルミニウムアマ
ルガムで還元するとにことによっても得られる〕におい
てメチレン基は酸化的に減成される。
式(皿)の化合物のメチレン基をセフアム環の3−位置
にオキソ基を形成しながら酸化分裂するには、オゾンで
処理してオゾン化合物を生成させて行うのが好ましい。
この場合に、オゾンを一般に溶媒例えば低級アルカノー
ル例えばメタノールやエタノールのようなアルコール、
低級アルカノン例えばアセトンのようなケトン、ハロゲ
ン化されている場合のある脂肪族、脂環式または芳香族
炭化水素例えば塩化メチレンや4塩化炭素のようなハロ
ゲノ低級アルカンまたは水性混合物を含めた溶媒混合物
の中でそして冷却または加熱の下で例えば約一90〜十
40qoで使う。こうして中間体として生成するオゾニ
ドを還元分裂する。
この場合に、接触的に活性化された水素例えばニッケル
またはパラジウム触媒(好ましくは炭酸カルシウムや炭
のような適当な担体上に担持する)のような重金属水素
化触媒の存在下の水素、または化学的還元剤例えば重金
属合金または重金属アマルガムを含めた還元性重金属例
えば水素総体例えば酢酸のような酸または低級アルカノ
ールのようなアルコールの存在下での亜鉛、還元性無機
塩例えば水素結体例えば酢酸のような酸の存在下でのよ
う化ナトリウムのようなアルカリ金属よう化物またはぎ
酸のような還元性有機化合物、還元性サルフアィド化合
物例えばジメチルサルフアィドのようなジ低級アルキル
サルフアィド、ホスフィンのような還元性有機りん化合
物(これは置換されている場合のある脂肪族または芳香
族炭化水素基を置換基としてもっていることができる)
例えばトリーnーブチルホスフインのようなトリ低級ア
ルキルホスフインまたはトリフエニルホスフインのよう
なトリアリールホスフイン、さらに置換されている場合
のある脂肪族炭化水素基を置換基としてもつているホス
フアィト例えばトリメチルホスフアィトのようなトリ低
級アルキルホスフアイト(これは一般には相当するアル
コール付加化合物の形にある)または置換されている場
合のある脂肪族炭化水素基を置換基としてもっている函
りん酸トリアミド例えばへキサメチル亜りん酸トリアミ
ドのようなへキサ低級アルキル亜りん酸トリァミド(こ
れは好ましくはメタノール付加物の形にある)またはテ
トラシアノェチレンを使うことができる。上言己の一般
には単離しないオゾニドを通常その製造に採用した条件
の下で、すなわち適当な溶媒または溶媒混合物の存在の
下でそして冷却または僅かに加熱して分裂させる。この
ような混合物は式(0)の化合物と相当する1ーオキシ
ドとに分離することができ、またはそのものとしても使
うことができる。
式(ロ)の化合物と相当する1ーオキシドとの混合物は
常法により、例えば分別結晶化またはクロマトグラフイ
(例えば、カラムク。マトグラフイ、薄層クロマトグラ
フィ)によって個個の成分に分けることができる。本発
明方法に従って式(0)の原料を式(1)のェノール誘
導体に変える場合、本発明方法では式(D)の原料をそ
の製造後に単離する必要がない。
すなわち、式(刈)の化合物をその製造後に直接に好ま
しくは粗反応混合物の形で式(1)の化合物に変えるこ
とができる。本発明による薬理的に有用な化合物は、例
えばこの活性物質の医薬として有効な量を経腸投与また
は非経腸投与に適する無機または有機の固体または液体
の医薬的に有用な担体といつしよにまたは混合して含む
医薬用製剤の製造に使うことができる。
従って、この活性物質を希釈剤例えば乳糖、ぶどう糖、
しよ糖、マンニット、ソルビット、セルロースおよび(
または)グリシンおよび潤滑剤例えばシリカ、タルク、
ステアリン酸またはステアリン酸マグネシウムやステア
リン酸カルシウムのようなステアリン酸塩および(また
は)ポリエチレングリコールといつしよに含む錠剤また
はゼラチンカプセルを使う。錠剤としては、結合剤例え
ばレナい酸マグネシウムアルミニウム、でんぷん例えば
とうもろこしでんぷん、小麦でんぷん、米でんぷんまた
はアロー・ルートでんぷん、ゼラチン、トラガカントゴ
ム、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロースおよび(または)ポリビニルピロリドンおよび
所望ならば砕解剤例えばでんぷん、寒天、アルギン酸ま
たはアルギン酸ナトリウム、または起泡性混合物および
(または)吸着剤、染料、香料および甘味剤を含むこと
ができる。さらに、それら新築理活性化合物を注射用例
えば静脈内投与用配合物または注入溶液の形で使うこと
ができる。このような溶液は等張性の水溶液または水性
懸濁体であるのが好ましく、これらは例えばもその活性
物質だけを含むかまたは担体例えばマンニツトといつし
よに含む真空凍結乾燥された配合物から投与前に調製さ
れる。これら医薬用製剤を殺菌しそして(または)助剤
例えば防腐剤、安定剤、湿潤剤および(または)乳化剤
、可溶化剤、浸透圧を調整する塩および(または)緩衝
剤を含ませることができる。これら医薬用製剤はそれ自
体公知の方法によって、例えば慣用の濃、額粒化、打錠
、溶解または真空凍結乾燥の方法によって作られそして
活性物質を約0.1〜100%殊に約1〜50%(真空
凍結乾燥物は100%までの量)の量で含みそして所望
によっては他の薬理的に価値ある物質を含むことができ
る。なお、本明細書において、低級と示された有機基は
特に定義してない限り炭素原子を7個まで、好ましくは
4個までもつものである。
アシル基は炭素原子を2の固まで、好ましくは12個ま
でそして主として7個までもつものである。次に実施例
によって本発明をさらに具体的に説明する。
例1メタノール50叫の中で3−メチレンー78ーフエ
ニルアセチルアミノーセフアムー4Q−力ルボン酸ジフ
ェニルメチルェステル0.5雌を−70こ○で酸素・オ
ゾン混合物で青色に呈色し始めるまで処理する。
余分のオゾンを窒素で追い出す。これをジメチルサルフ
アィド0.5の‘と混合して室温で1.5時間かきまぜ
る。こうして得た78ーフェニルアセチルアミノーセフ
アム−3−オンー4f−力ルボン酸ジフェニルメチルェ
ステルと78ーフェニルアセチルアミノーセフアムー3
ーオンー4隻ーカルボン酸ジフェニルメチルェステルー
1−オキシドとの混合物を含む反応混合物を減圧下で乾
くまで蒸発し、残分をピリジン10泌に溶かして無水酢
酸5叫と混合しそして0℃で1母音間放置する。これを
高真空の下で乾くまで蒸発し、残分を酢酸エチルに溶か
しそしてこの有機溶液を炭酸水素ナトリウムの飽和水溶
液および塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗い、硫酸ナト
リウムで乾かしそして減圧下で蒸発する。残分をシリカ
ゲル3雌上でクロマトグラフ処理する。こうしてトルェ
ンと酢酸エチルとの4:1の混合物によって3ーアセチ
ルオキシー78ーフエニルアセチルアミノー3ーセフエ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチルェステルが溶離さ
れる。この生成物をアセトンとジェチルェーテルとの混
合物から結晶として取り出す。融点158〜160qo
紫外吸収スペクトル(95%エタノール水溶液中):入
max=2斑伽ム(ご=6斑0)および264m山(ご
=6550)、赤外吸収スペクトル(塩化メチレン中)
:2.95r、5.59r、5.69山(肩)、5.7
8山、5.91一、6.06山(肩)および6.67A
Iこ特性バンド。例2 粗製の78−(D−Q−t−ブチルオキシカルボニルア
ミノーQーフエニルーアセチルアミノ)ーセフアム−3
−オンー4fーカルボン酸ジフヱニルェステル0.25
1gと塩化メチレン12.5私との混合物を0℃でジィ
ソプロピルーェチルーアミン0.044凧【およびクロ
ルぎ酸メチルェステル0.038の‘と混合して、窒素
ガスの下で0℃で30分間そして室温で1.虫時間かき
まぜる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (この式でR^A_1はアシルアミノ基で任意に置換
    されていてもよいアリールアルカノイル基であり、R^
    b_1は水素原子であり、R^A_2はアリールアルコ
    キシ基である)で表わされる3−ヒドロキシ−3−セフ
    エム化合物または相当するセフアム−3−オン化合物ま
    たはそれらの1−オキシドを、アシル基R_3導入剤で
    処理し、そして得られるO−置換された7β−アミノ−
    3−セフエム−3−オール−4−カルボン酸化合物また
    はその1−オキシドを単離し、そして所望により、得ら
    れた塩形成基をもつ化合物を塩に変えまたは得られた塩
    を遊離の化合物に変え、そして(または)所望により、
    得られた異性体混合物を各異性体に分離することを特徴
    とする、▲数式、化学式、表等があります▼ (この式でR^A_1とR^b_1とは前記と同じ意
    味であり、R_2は前記の基R^A_2であり、R_3
    はアシル基である)で表わされるO−置換された7β−
    アミノ−3−セフエム−3−オール−4−カルボン酸化
    合物、またはその1−オキシド、または塩形成基をもつ
    このような化合物の塩の製法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0345198Y2 (ja) * 1985-03-08 1991-09-24
JPH0351758Y2 (ja) * 1986-04-21 1991-11-07
JPH0651816U (ja) * 1992-12-15 1994-07-15 株式会社ニコン 測量機のクランプ装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4045435A (en) * 1974-10-09 1977-08-30 Eli Lilly And Company Preparation of cephalosporin ethers
JPH064638B2 (ja) * 1985-05-17 1994-01-19 大塚化学株式会社 β−ラクタム誘導体の製造方法
DE3851449T2 (de) * 1987-02-27 1995-03-16 Banyu Pharma Co Ltd Cephalosporinderivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und antibakterielle Mittel.
DE102010003919A1 (de) 2010-04-13 2011-10-13 Wacker Chemie Ag Oberflächenbehandlung von zementären Untergründen
EP4296262A1 (de) 2019-07-12 2023-12-27 Alzchem Trostberg GmbH Verfahren zur herstellung einer metastabilen kristallmodifikation von n-(aminoiminomethyl)-2-aminoethansäure (iv)
DE102019118898A1 (de) 2019-07-12 2021-01-14 Alzchem Trostberg Gmbh Konzentrat zur Herstellung einer Tränklösung
DE102019121526A1 (de) 2019-08-09 2021-02-11 Alzchem Trostberg Gmbh Konzentrat zur Herstellung von Tränklösungen (II)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2117903A1 (de) * 1970-04-14 1971-10-28 Beecham Group Ltd., Brentford, Middlesex (Grossbritannien) 4-Isopropyliden-3-oxocephame und ihre Säureadditionssalze, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Ausgangsmaterialien für die Herstellung von antibakteriell wirksamen Verbindungen

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3234223A (en) * 1962-02-16 1966-02-08 Ciba Geigy Corp Preparation of 7-amino-cephalosporanic acid and derivatives
GB1070312A (en) * 1962-11-23 1967-06-01 Glaxo Lab Ltd Preparation of 7-aminocephalosporanic acid
CH447172A (de) * 1963-03-15 1967-11-30 Ciba Geigy Verfahren zur Herstellung von 7-Amino-cephalosporansäure-estern
US3503964A (en) * 1966-11-29 1970-03-31 Ciba Geigy Corp Process for the manufacture of esters of 7-aminocephalosporanic acid
US3549628A (en) * 1967-07-07 1970-12-22 Lilly Co Eli Side chain cleavage in desacetoxycephalosporin esters
US3641014A (en) * 1968-10-03 1972-02-08 Lilly Co Eli Reduction of delta**3-cephalosporin sulfoxides
US3647786A (en) * 1968-10-03 1972-03-07 Lilly Co Eli Preparation of cephalosporin sulfoxides
US3641018A (en) * 1969-06-26 1972-02-08 Lilly Co Eli Process for preparing 7-amino cephalosporanic acid
JPS5035079B1 (ja) * 1970-10-17 1975-11-13

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2117903A1 (de) * 1970-04-14 1971-10-28 Beecham Group Ltd., Brentford, Middlesex (Grossbritannien) 4-Isopropyliden-3-oxocephame und ihre Säureadditionssalze, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Ausgangsmaterialien für die Herstellung von antibakteriell wirksamen Verbindungen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0345198Y2 (ja) * 1985-03-08 1991-09-24
JPH0351758Y2 (ja) * 1986-04-21 1991-11-07
JPH0651816U (ja) * 1992-12-15 1994-07-15 株式会社ニコン 測量機のクランプ装置

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JPS5976089A (ja) 1984-04-28
PL104396B1 (pl) 1979-08-31
JPS5668684A (en) 1981-06-09
SU542474A3 (ru) 1977-01-05
JPS597716B2 (ja) 1984-02-20
JPS55105691A (en) 1980-08-13
JPS5938955B2 (ja) 1984-09-20
ZA734050B (en) 1974-05-29
JPS55105690A (en) 1980-08-13
JPS618070B2 (ja) 1986-03-11
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JPS5976090A (ja) 1984-04-28
JPS6054320B2 (ja) 1985-11-29
JPS55105692A (en) 1980-08-13
JPS5951957B2 (ja) 1984-12-17
JPS5649390A (en) 1981-05-02
CH587268A5 (en) 1977-04-29
SU609469A3 (ru) 1978-05-30
JPS5934196B2 (ja) 1984-08-21

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