JPS60187910A - 合金磁気ヘツドのギヤツプ形成法 - Google Patents
合金磁気ヘツドのギヤツプ形成法Info
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- JPS60187910A JPS60187910A JP59041261A JP4126184A JPS60187910A JP S60187910 A JPS60187910 A JP S60187910A JP 59041261 A JP59041261 A JP 59041261A JP 4126184 A JP4126184 A JP 4126184A JP S60187910 A JPS60187910 A JP S60187910A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、合金磁気記録ヘッドのギャップ形成方法に関
するものである。
するものである。
(従来例の構成とその問題点)
近年、磁気記録は高密度化の方向へ進みつつある。高密
度記録を図るためには、記録減磁の点から、記録磁界の
広がりをできるだけ狭くする必要がアシ、このためには
記録媒体と磁気へ、ド間の接触をよくするヘラr構造と
7、ギャップの精密加工および磁心ギャップ近傍で磁気
飽和の生じにくい高飽和磁束密度磁心材料(自己減磁の
点から高抗磁力磁気記録媒体の使用が必要なため)が望
まれている・ そして、現在このような高性能磁気ヘッドのコア材とし
て鉄(Fe)84.2重量%・アルミニウム(At)6
.2重量%、シリコン(81)9.6重量%から成る合
金(一般にセンダストと呼ばれている)を用いた高精度
なナローギャップを有する磁気ヘッドが最も適したもの
の1つとされておシ、その普及が磁気記録の分野で切望
されている。
度記録を図るためには、記録減磁の点から、記録磁界の
広がりをできるだけ狭くする必要がアシ、このためには
記録媒体と磁気へ、ド間の接触をよくするヘラr構造と
7、ギャップの精密加工および磁心ギャップ近傍で磁気
飽和の生じにくい高飽和磁束密度磁心材料(自己減磁の
点から高抗磁力磁気記録媒体の使用が必要なため)が望
まれている・ そして、現在このような高性能磁気ヘッドのコア材とし
て鉄(Fe)84.2重量%・アルミニウム(At)6
.2重量%、シリコン(81)9.6重量%から成る合
金(一般にセンダストと呼ばれている)を用いた高精度
なナローギャップを有する磁気ヘッドが最も適したもの
の1つとされておシ、その普及が磁気記録の分野で切望
されている。
しかしながら、コア材として用いるFe −kl −8
1合金の性質上、高精度なナローギャップを形成するこ
とが極めて困難であシ、これが上述の磁気ヘッドの普及
を阻んでいた。例えば、従来のFe −At−8j合金
磁気ヘッドのギャップ形成法の一例を示すと、第1図に
示したような片方のコア1のギャップ形成面に石英(S
iO2)膜3をス・ヤッタ法にて形成し、次に低融点の
銀ロー箔(例えば銀−銅−カドミウム−亜鉛系合金)4
を接合面に用いて他方のコア2とはシ合わせるという方
法で形成されていた。しかし、上記の方法では、ギャッ
プ部(フロントギャップともいう)に用いられる石英と
Fe −AA −81合金とは、その熱膨張係数が大幅
に異なるために(石英の熱膨張係数1.7 X 10−
6/kl: 、 Fe −At−81合金の熱膨張係数
13.5XIO−6/℃)、ギヤツノ部の石英がテープ
走行時にコアからはがれてしまい、ギャップの精度が低
下する原因となっていた。すなわちギャップ欠けの原因
となっていた。またテープ走行仰1と反対側の接合面(
この部分をバックギャップともいう)に用いられている
銀ロー材4は、一般にFe −kl −81合金との結
合力を増すために低融点の銀−銅一カドミウムー亜鉛系
のロー材が用いられている。このロー材はその熱膨張係
数が大きく(約17〜18×10−’/’C)、しかも
ギャップ形成時にFe −A/、 −81合金との相互
拡散が大きいため、銀ロー材が融解後固化する時にFe
−At−8i合金部分にひび割れが生じ、その影響を受
けて、ヤヤップ幅の制御や平行性を得ることが困難であ
った。
1合金の性質上、高精度なナローギャップを形成するこ
とが極めて困難であシ、これが上述の磁気ヘッドの普及
を阻んでいた。例えば、従来のFe −At−8j合金
磁気ヘッドのギャップ形成法の一例を示すと、第1図に
示したような片方のコア1のギャップ形成面に石英(S
iO2)膜3をス・ヤッタ法にて形成し、次に低融点の
銀ロー箔(例えば銀−銅−カドミウム−亜鉛系合金)4
を接合面に用いて他方のコア2とはシ合わせるという方
法で形成されていた。しかし、上記の方法では、ギャッ
プ部(フロントギャップともいう)に用いられる石英と
Fe −AA −81合金とは、その熱膨張係数が大幅
に異なるために(石英の熱膨張係数1.7 X 10−
6/kl: 、 Fe −At−81合金の熱膨張係数
13.5XIO−6/℃)、ギヤツノ部の石英がテープ
走行時にコアからはがれてしまい、ギャップの精度が低
下する原因となっていた。すなわちギャップ欠けの原因
となっていた。またテープ走行仰1と反対側の接合面(
この部分をバックギャップともいう)に用いられている
銀ロー材4は、一般にFe −kl −81合金との結
合力を増すために低融点の銀−銅一カドミウムー亜鉛系
のロー材が用いられている。このロー材はその熱膨張係
数が大きく(約17〜18×10−’/’C)、しかも
ギャップ形成時にFe −A/、 −81合金との相互
拡散が大きいため、銀ロー材が融解後固化する時にFe
−At−8i合金部分にひび割れが生じ、その影響を受
けて、ヤヤップ幅の制御や平行性を得ることが困難であ
った。
(発明の目的)
本発明の目的は、磁気的なナローギャップを高精度で形
成し、かつ形成されたギャップが高い機械的強度を持つ
ようにしたFe −At−81合金磁気ヘッドのギヤ、
プ形成法を提供するものである。
成し、かつ形成されたギャップが高い機械的強度を持つ
ようにしたFe −At−81合金磁気ヘッドのギヤ、
プ形成法を提供するものである。
(発明の構成)
本発明のFe −At−S1合金磁気ヘッドのギャップ
形成法は壕ず、2つのコアを結合することにより磁気ヘ
ッドの形状となる一対のFe−At−81合金コアのテ
ープ走行時側にあるフロントギャップ形成面にそれぞれ
高精度の厚みでFe −At−81合金と熱膨張係数の
近い非磁性セラミック薄膜を形成し、さらにその上に均
一な厚さで酸化亜鉛が60重量%、酸化ナトリウムが1
5重量%、酸化ケイ素が25重量%からなるガラス薄膜
を形成するとともに、テープ走行面とは反対側のパック
ギヤ、デ形成面(接合面)に、銀ロー合金としては高融
点でしかも比較的熱膨張係数がFe −At−81に近
い銀ロー(例えば銀−銅 、銀−銅一インジウム、銀−
銅2.スズ、銀−銅一)やラジウム等の合金で、いずれ
の組成も熱膨張係数が14〜15×10−6/cである
。)をス・母ツタ法で高精度に厚みを制御してそれぞれ
形成する。次に、これらのコアをガラス薄膜面どうしお
よび銀ロー面どうしを合わせた状態で保持したまま、ガ
ラスの軟化点および銀ローの液相出現温度以上の温度条
件で熱間静水圧プレス(HIP )処理を施し、合わせ
た膜どうしを拡散接合することによってナローギヤ、デ
を形成するものである。
形成法は壕ず、2つのコアを結合することにより磁気ヘ
ッドの形状となる一対のFe−At−81合金コアのテ
ープ走行時側にあるフロントギャップ形成面にそれぞれ
高精度の厚みでFe −At−81合金と熱膨張係数の
近い非磁性セラミック薄膜を形成し、さらにその上に均
一な厚さで酸化亜鉛が60重量%、酸化ナトリウムが1
5重量%、酸化ケイ素が25重量%からなるガラス薄膜
を形成するとともに、テープ走行面とは反対側のパック
ギヤ、デ形成面(接合面)に、銀ロー合金としては高融
点でしかも比較的熱膨張係数がFe −At−81に近
い銀ロー(例えば銀−銅 、銀−銅一インジウム、銀−
銅2.スズ、銀−銅一)やラジウム等の合金で、いずれ
の組成も熱膨張係数が14〜15×10−6/cである
。)をス・母ツタ法で高精度に厚みを制御してそれぞれ
形成する。次に、これらのコアをガラス薄膜面どうしお
よび銀ロー面どうしを合わせた状態で保持したまま、ガ
ラスの軟化点および銀ローの液相出現温度以上の温度条
件で熱間静水圧プレス(HIP )処理を施し、合わせ
た膜どうしを拡散接合することによってナローギヤ、デ
を形成するものである。
ここで、HIP処理を施すことKよってフロントギャッ
プ面では、非磁性セラミック薄膜のごく表面とガラス薄
膜のごく表面が化学反応して別種の組成の化合物となる
が、この化学反応に寄与しなかった大部分のガラスは、
コアの接合面から外部へ押し出されてしまう。すなわち
、ギャップの部分は非磁性セラミック層部分と、新たに
化学反応によって生成したセラミックスとが2スの両組
成からなるごく薄い化合物層とからなり、ギャップ幅は
コアのギャップ面に形成された非磁性セラミック膜の厚
さで規定できることになる。
プ面では、非磁性セラミック薄膜のごく表面とガラス薄
膜のごく表面が化学反応して別種の組成の化合物となる
が、この化学反応に寄与しなかった大部分のガラスは、
コアの接合面から外部へ押し出されてしまう。すなわち
、ギャップの部分は非磁性セラミック層部分と、新たに
化学反応によって生成したセラミックスとが2スの両組
成からなるごく薄い化合物層とからなり、ギャップ幅は
コアのギャップ面に形成された非磁性セラミック膜の厚
さで規定できることになる。
一方、バックギヤ、プ面では、使用する高融点銀ローは
、通常、温度制御だけでは、Fe −At−81合金側
に拡散しにくい組成である(従って接合強度が低い)が
、高温高圧(例えば900℃、1000kg/cJ)の
HIP処理によりFe −At−81合金側へ銀ローが
拡散し、コアの強固な結合が得られる。しかもこの組成
の銀ローは、従来使用していた銀ローのように融点を下
けるための(したがって熱膨張係数の大きい)金属であ
るカドミウムや亜鉛が含まれていないため、HIP処理
後もコアの接合部分にひび割れ等を生じることがなく機
械的に高い強度を保持するものである。
、通常、温度制御だけでは、Fe −At−81合金側
に拡散しにくい組成である(従って接合強度が低い)が
、高温高圧(例えば900℃、1000kg/cJ)の
HIP処理によりFe −At−81合金側へ銀ローが
拡散し、コアの強固な結合が得られる。しかもこの組成
の銀ローは、従来使用していた銀ローのように融点を下
けるための(したがって熱膨張係数の大きい)金属であ
るカドミウムや亜鉛が含まれていないため、HIP処理
後もコアの接合部分にひび割れ等を生じることがなく機
械的に高い強度を保持するものである。
(実施例の説明)
以下、実施例について詳細に説明する。
第2図は、本発明の一実施例を示したもので、まず、第
2図(&)のような幅3間、高さ2闘、長さ20mmの
棒状のFe −kl−’St合金型処、ダイヤモンド砥
石によりて幅0.35 mmの巻線用の87を形成した
一対の鉛量のコア5m 、5bを用意し、フロントギヤ
、プ形成面8、バックギャップ形成面9をそれぞれ鏡面
研摩(最大表面荒さRmAXO,91μm)した。
2図(&)のような幅3間、高さ2闘、長さ20mmの
棒状のFe −kl−’St合金型処、ダイヤモンド砥
石によりて幅0.35 mmの巻線用の87を形成した
一対の鉛量のコア5m 、5bを用意し、フロントギヤ
、プ形成面8、バックギャップ形成面9をそれぞれ鏡面
研摩(最大表面荒さRmAXO,91μm)した。
次に第2図(b)のように、フロントギャップ形成面8
に、ス・ヤツタ法を用いて酸化ジルコニウム(Zr()
2)の薄膜10を形成し、さらにその−FK同じくスパ
ッタ法でガラス薄膜11を形成した。この場合バックギ
ャップ形成面9には、Z r02やガラスが入らないよ
うにマスクをほどこした。形f+、7 した酸化ジルコ
ニウム薄膜10の厚さは均一で、0.15μmであった
。また、ガラス薄膜11は、厚さが均一に0.05 μ
mで、その組成は、5IO2が25重量%、pboが6
0重量%、Na2Oが15重量%からなる鉛系ガラスで
あシ、軟化点が約580℃のものである。
に、ス・ヤツタ法を用いて酸化ジルコニウム(Zr()
2)の薄膜10を形成し、さらにその−FK同じくスパ
ッタ法でガラス薄膜11を形成した。この場合バックギ
ャップ形成面9には、Z r02やガラスが入らないよ
うにマスクをほどこした。形f+、7 した酸化ジルコ
ニウム薄膜10の厚さは均一で、0.15μmであった
。また、ガラス薄膜11は、厚さが均一に0.05 μ
mで、その組成は、5IO2が25重量%、pboが6
0重量%、Na2Oが15重量%からなる鉛系ガラスで
あシ、軟化点が約580℃のものである。
次に、同じくスi+ツタ法にて、バックギャップ形成面
9に銀ロー薄膜12を形成した。この場合フロントギャ
ップ部には銀ローが入らないようにマスクをしておく。
9に銀ロー薄膜12を形成した。この場合フロントギャ
ップ部には銀ローが入らないようにマスクをしておく。
形成した銀ロー薄膜12は、厚さが均一に0.20μm
でsb、その組成は・銀72重量%、銅28重量%から
なるものであった。
でsb、その組成は・銀72重量%、銅28重量%から
なるものであった。
以上のように・フロントギャップ形成面8、・fツクギ
ャップ形成面9にそれぞれ薄膜を形成した一対のコア5
a、5bを互いに突き合わせた状態で、熱間静水圧プレ
ス法(HIP法)によ、9900℃、1000kl?−
z−2の温度と圧力栄件で1時間の処理を施し、各ギャ
ップ部の薄膜どうしの拡散接合により、コアを接合した
。このようにして結合したコアブロックを所要の厚さに
切断するとともに機械的研摩を施し、第3図に示したよ
うな、厚さ150μmの薄片状のへ、ドピースを得た。
ャップ形成面9にそれぞれ薄膜を形成した一対のコア5
a、5bを互いに突き合わせた状態で、熱間静水圧プレ
ス法(HIP法)によ、9900℃、1000kl?−
z−2の温度と圧力栄件で1時間の処理を施し、各ギャ
ップ部の薄膜どうしの拡散接合により、コアを接合した
。このようにして結合したコアブロックを所要の厚さに
切断するとともに機械的研摩を施し、第3図に示したよ
うな、厚さ150μmの薄片状のへ、ドピースを得た。
得うれたヘッドピースのフロントギャップ部13および
バックギャップ部14を研摩し、ギャップの幅を光学顕
微鏡を用いて測定した結果、両ギャップともに0.31
μmであり、ギャップ面が平行であることが観測された
。しかもフロントギャップおよびバックギャップを形成
した材料の熱膨張係数がFe −At−81合金と近い
ために、接合面にひび割れなどが発生していなかった。
バックギャップ部14を研摩し、ギャップの幅を光学顕
微鏡を用いて測定した結果、両ギャップともに0.31
μmであり、ギャップ面が平行であることが観測された
。しかもフロントギャップおよびバックギャップを形成
した材料の熱膨張係数がFe −At−81合金と近い
ために、接合面にひび割れなどが発生していなかった。
さらに、形成されたギャップ部の機械的強度を検討する
ために、ギヤ、プの両側のコア5a 、5bに10kg
・朋−2の外力を加えて引張シ試験したが、接合面での
剥離はなく・機械的にもすぐれていることがわかった。
ために、ギヤ、プの両側のコア5a 、5bに10kg
・朋−2の外力を加えて引張シ試験したが、接合面での
剥離はなく・機械的にもすぐれていることがわかった。
また、ヘッドのトラック幅が25μmになるように機械
加工した時およびこの磁気ヘッドに磁気テープ(保磁力
H:1400エルステ、ラド、飽和磁束密度Br:30
00ガウス)を相対速度3、45 yn/seeで走行
させた時、ギャップ部の欠けの発生は認められなかった
。捷たこのヘッドの巻線みぞにコイルを25タ一ン巻い
た時の5 MHzでのヘッドの再生出力電圧は、250
μV(ピークツ−ビーク)でありた。
加工した時およびこの磁気ヘッドに磁気テープ(保磁力
H:1400エルステ、ラド、飽和磁束密度Br:30
00ガウス)を相対速度3、45 yn/seeで走行
させた時、ギャップ部の欠けの発生は認められなかった
。捷たこのヘッドの巻線みぞにコイルを25タ一ン巻い
た時の5 MHzでのヘッドの再生出力電圧は、250
μV(ピークツ−ビーク)でありた。
以上の結果を表の試料番号1に示す。
J″J、下回様の方法で、フロントギャップ部の非磁性
薄膜およびパックギャップ部の銀ロー薄膜の材質や組成
を変えたヘッドピースを製作し、上記と同様の検査を行
なって得られた結果を表の試料番号2〜12に示す。
薄膜およびパックギャップ部の銀ロー薄膜の材質や組成
を変えたヘッドピースを製作し、上記と同様の検査を行
なって得られた結果を表の試料番号2〜12に示す。
なお以上の実施例において、磁気特性に影響をおよほす
Fe −At−S1合金の組成については、HIP処理
の前後で何ら変化していないことが、X線マイクロアナ
ライザを用いた分析によって確認された。その結果、F
e −At−S1合金の飽和磁束密度B8は8650ガ
ウス、保磁力Hは0.03エルステツド、交流初透磁率
μは61(ただし200μm厚の場合)であシ、HIP
処理による磁気特性の変化も認められなかった。また非
磁性セラミック薄膜の組成であるMg + At +
Zr等のイオンは001μm以上深(Fe −Al −
Si合金内部に拡散していないことも確認できた。
Fe −At−S1合金の組成については、HIP処理
の前後で何ら変化していないことが、X線マイクロアナ
ライザを用いた分析によって確認された。その結果、F
e −At−S1合金の飽和磁束密度B8は8650ガ
ウス、保磁力Hは0.03エルステツド、交流初透磁率
μは61(ただし200μm厚の場合)であシ、HIP
処理による磁気特性の変化も認められなかった。また非
磁性セラミック薄膜の組成であるMg + At +
Zr等のイオンは001μm以上深(Fe −Al −
Si合金内部に拡散していないことも確認できた。
また比較のために、従来の形成法によるギヤッ7をもつ
ヘッドピースを作製した。すなわちフロントギャップ部
に硬質石英膜を形成し、パックギヤ、プ部K 3 ti
m厚のAg −Cu −Zn −Cd糸銀ロー箔を用い
てヘッドピースを溶着し、第3図に示すものと同じFe
−At−81合金ヘッドを作製した。
ヘッドピースを作製した。すなわちフロントギャップ部
に硬質石英膜を形成し、パックギヤ、プ部K 3 ti
m厚のAg −Cu −Zn −Cd糸銀ロー箔を用い
てヘッドピースを溶着し、第3図に示すものと同じFe
−At−81合金ヘッドを作製した。
とのへラドピースのギャップ部分についても実施例と同
様の検査を行なった。その結琳、10kg・mri2の
外力による引張シ試験′でははがれなかったが、ギャッ
プ面の平行性は著しく劣っていた。フロントギャップの
幅は0.53μmであシ、パックギャップの幅は、0.
24μmであった。次に実施例と同様にヘッド前部を機
械加工した時および磁気テープを走行させた時に、ギャ
ップ部分に欠けが生じた。
様の検査を行なった。その結琳、10kg・mri2の
外力による引張シ試験′でははがれなかったが、ギャッ
プ面の平行性は著しく劣っていた。フロントギャップの
幅は0.53μmであシ、パックギャップの幅は、0.
24μmであった。次に実施例と同様にヘッド前部を機
械加工した時および磁気テープを走行させた時に、ギャ
ップ部分に欠けが生じた。
またこのヘッドの巻線みぞにコイルを25タ一ン巻いた
時の5 MJ(zでのヘッドの再生出力Wj圧は50μ
V、−2であった。この結果も表の試料番号13に示す
。
時の5 MJ(zでのヘッドの再生出力Wj圧は50μ
V、−2であった。この結果も表の試料番号13に示す
。
なお非磁性セラミック薄膜としては、酸化ジルコニウム
(Zr02)、酸化マグネシウム(MgO)、スピネル
(Mg(lAt20.)が好適であり、それはFe−A
t−8i合金と比較的熱膨張係数が近((ZrOz 1
0 X 10−’/CMgO12X10−’/’C,M
gO−At20310X10−6/℃)l、かも硬度が
大きいのでテープ走行時にギャップの欠けがおこりにく
いためである。
(Zr02)、酸化マグネシウム(MgO)、スピネル
(Mg(lAt20.)が好適であり、それはFe−A
t−8i合金と比較的熱膨張係数が近((ZrOz 1
0 X 10−’/CMgO12X10−’/’C,M
gO−At20310X10−6/℃)l、かも硬度が
大きいのでテープ走行時にギャップの欠けがおこりにく
いためである。
また銀ローの組成は、銀72重量%−銅28重量%のも
の、銀60重量%−銅27重量%−インゾウム13重量
%のもの、銀60重量%−銅27重量%−スズ13重量
%のもの、銀68重量%−銅27重i%−パラジウム5
重着係のもの等が好適であわ、これらはそれぞれの液相
出現温度が上記組成でも低い値を取っているため、Fe
−At −81合金との相互拡散が行なわれやすく、
したがって上記組成で最も強固な結合が得られる。上記
組成が多少ずれてもかなりの強度が得られることは言う
までもない。
の、銀60重量%−銅27重量%−インゾウム13重量
%のもの、銀60重量%−銅27重量%−スズ13重量
%のもの、銀68重量%−銅27重i%−パラジウム5
重着係のもの等が好適であわ、これらはそれぞれの液相
出現温度が上記組成でも低い値を取っているため、Fe
−At −81合金との相互拡散が行なわれやすく、
したがって上記組成で最も強固な結合が得られる。上記
組成が多少ずれてもかなりの強度が得られることは言う
までもない。
さらに、ガラスの組成としては、PbOが60重量%、
Na 20が15重量%、8102が25重t%のもの
が好適であり、それは、この組成のものがFe−At−
8i合金の熱膨張係数と、一致しており、したがって熱
ひずみが入りに<<、強い接着強度が得られるためであ
る。
Na 20が15重量%、8102が25重t%のもの
が好適であり、それは、この組成のものがFe−At−
8i合金の熱膨張係数と、一致しており、したがって熱
ひずみが入りに<<、強い接着強度が得られるためであ
る。
なお、熱膨張係数がFe−At−8i合金と一致してい
るガラスであれば上記以外の組成でもかなり強い接着力
が得られることが確認された。
るガラスであれば上記以外の組成でもかなり強い接着力
が得られることが確認された。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明はFe−At−81合金か
らなる一対のコアを突き合わせて構成する磁気ヘッドに
おいて、コアのフロントギャップ形成面に高精度の厚み
で非磁性セラミック薄膜を形成し、さらにその上に均一
な厚さでpboが60重鯖チ、Na 20が15重−1
%、5IO2が25重量%からなるガラス薄膜を形成す
るとともに、バックギャップ形成面に銀−銅系、銀−銅
−インジウム系、銀−銅一スズ系、又は銀−銅一パラジ
ウム系の釧ロー薄膜を形成した後、各ガラス薄膜面、銀
ロー薄膜面が互いに当接するようにして一対のコアを突
き合わせ、これを保持したままガラスの軟化点以上でし
かも銀ローが溶融する温度以上の温度条件で熱間静水圧
プレス(HIP )処理し、合わせた薄膜どうしを拡散
接合することによってナローギャップを形成するもので
あり、HIP処理によって接合に寄与しないほとんどの
ガラスはギャップ外へ押し出されるので、非磁性セラミ
ック薄膜の厚さによってギャップ幅が規定されることに
なる。またパックギャップ部は、HIP処理によし銀ロ
ーがFe −At−8i合金側に拡散し、一対のコアの
強固な結合が得られる。以上のように、非磁性薄膜形成
時の膜厚をコントロールすることによって、ギャップ幅
の制御が容易になり、かつHIP処理によってパックギ
ャップ部の強固な接合が得られるために、高精度々ナロ
ーギャップの形成が容易になり、その結果高密度磁気記
録に適し九Fe−At−8i合金磁気ヘッドを実現する
ことが可能になった。
らなる一対のコアを突き合わせて構成する磁気ヘッドに
おいて、コアのフロントギャップ形成面に高精度の厚み
で非磁性セラミック薄膜を形成し、さらにその上に均一
な厚さでpboが60重鯖チ、Na 20が15重−1
%、5IO2が25重量%からなるガラス薄膜を形成す
るとともに、バックギャップ形成面に銀−銅系、銀−銅
−インジウム系、銀−銅一スズ系、又は銀−銅一パラジ
ウム系の釧ロー薄膜を形成した後、各ガラス薄膜面、銀
ロー薄膜面が互いに当接するようにして一対のコアを突
き合わせ、これを保持したままガラスの軟化点以上でし
かも銀ローが溶融する温度以上の温度条件で熱間静水圧
プレス(HIP )処理し、合わせた薄膜どうしを拡散
接合することによってナローギャップを形成するもので
あり、HIP処理によって接合に寄与しないほとんどの
ガラスはギャップ外へ押し出されるので、非磁性セラミ
ック薄膜の厚さによってギャップ幅が規定されることに
なる。またパックギャップ部は、HIP処理によし銀ロ
ーがFe −At−8i合金側に拡散し、一対のコアの
強固な結合が得られる。以上のように、非磁性薄膜形成
時の膜厚をコントロールすることによって、ギャップ幅
の制御が容易になり、かつHIP処理によってパックギ
ャップ部の強固な接合が得られるために、高精度々ナロ
ーギャップの形成が容易になり、その結果高密度磁気記
録に適し九Fe−At−8i合金磁気ヘッドを実現する
ことが可能になった。
第1図は、従来のFe−At−81合金磁気ヘッドの接
合したコアを示す平面図、第2図(−) 、 (b)は
、本発明の一実施例におけるFe−At−81合金コア
の分解斜視図、第3図は、同コアを接合したものの斜オ
見図である。 5 a 、 5 b −= Fe−At−8t合金コア
、8−70ントギャップ形成面、9・・・接合面、IO
・・・非磁性セラミック薄膜、11・・・ガラス薄膜、
12・・・銀ロー薄膜。 第1図 3 第2図 (a) (b)
合したコアを示す平面図、第2図(−) 、 (b)は
、本発明の一実施例におけるFe−At−81合金コア
の分解斜視図、第3図は、同コアを接合したものの斜オ
見図である。 5 a 、 5 b −= Fe−At−8t合金コア
、8−70ントギャップ形成面、9・・・接合面、IO
・・・非磁性セラミック薄膜、11・・・ガラス薄膜、
12・・・銀ロー薄膜。 第1図 3 第2図 (a) (b)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)それぞれテープ走行面側に磁気的ギャップ形成面
を有し、テープ走行面側とは反対側に接合を目的とした
接合面を有する左右一対の鉄−アルミニウム−シリコン
合金からなるコアを互いに突き合わせて構成する磁気ヘ
ッドにおいて、前記コアの各ギャップ形成面にそれぞれ
非磁性セラミック薄膜を形成し、さらに前記セラミック
薄膜上にそれぞれガラス薄膜を形成するとともに前記接
合面にそれぞれ銀−銅系合金からなる銀ロー薄膜を形成
した後、前記ギャップ形成面及び接合面をそれぞれ合わ
せるようにして一対のコアを突き合わせ、前記ガラスの
軟化点および銀ローの液相が出現する温度以上の温度東
件で、熱間静水圧プレス処理を施して前記一対のコアを
固着し、磁気的ギャップを形成することを特徴とする合
金磁気ヘッドのギャップ形成法。 (2)前記非磁性セラミック薄膜が、酸化ジルコニウム
(ZrO□)、酸化マグネシウム(MgO) 、スピネ
ル(MgO−Az2o5)のうちのいずれか−釉からな
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)記載28重
f%)系合金、銀−銅一インジウム(Ag60重量%−
Cu 27重量% −In 13重輩係)系合金、銀−
銅一錫(Ag60.!h’1%−Cu 27重量%−8
n 13重量%)系合金、銀−銅一パラジウム(Ag
68重量% −Cu 27.7a量%−PdS重1%)
系合金のうちのいずれか一種からなることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)項記載の合金磁気ヘッドのギャ
ップ形成法。 (4)前記ガラス薄膜が、酸化鉛(PbO) 60重量
%、酸化す) IJウム(Na2O) 15重量%、酸
化ケイ素(8102)25重量%からなることを特徴と
する特許請求の範囲第(1)項記載の合金磁気ヘラPの
ギャップ形成法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59041261A JPS60187910A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 合金磁気ヘツドのギヤツプ形成法 |
EP84306941A EP0138580B1 (en) | 1983-10-12 | 1984-10-11 | Alloy magnetic recording head |
DE8484306941T DE3482070D1 (de) | 1983-10-12 | 1984-10-11 | Aufnahmemagnetkopf aus legierung. |
KR1019840006310A KR890005214B1 (ko) | 1983-10-12 | 1984-10-12 | 합금자기헤드 및 그 제조방법 |
US07/022,577 US4811148A (en) | 1984-03-06 | 1987-03-10 | Alloy magnetic recording head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59041261A JPS60187910A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 合金磁気ヘツドのギヤツプ形成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60187910A true JPS60187910A (ja) | 1985-09-25 |
JPH0581964B2 JPH0581964B2 (ja) | 1993-11-17 |
Family
ID=12603500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59041261A Granted JPS60187910A (ja) | 1983-10-12 | 1984-03-06 | 合金磁気ヘツドのギヤツプ形成法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4811148A (ja) |
JP (1) | JPS60187910A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4901179A (en) * | 1985-02-15 | 1990-02-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having a laminated structure |
US5113299A (en) * | 1989-07-24 | 1992-05-12 | Pioneer Electronic Corporation | Magnetic head with improved bonding between magnetic core halves |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5086360A (en) * | 1990-09-06 | 1992-02-04 | Applied Magnetics Corporation | Constant flying height slider |
US5901001A (en) * | 1996-02-20 | 1999-05-04 | Seagate Technology, Inc. | Detection of asperities in recording surface of storage medium |
US6071007A (en) * | 1997-05-21 | 2000-06-06 | Seagate Technology, Inc. | Thermal asperity detection head |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3629519A (en) * | 1967-05-23 | 1971-12-21 | Rca Corp | Magnetic heads with poles joined by molecular transport bonding |
US3672045A (en) * | 1970-04-29 | 1972-06-27 | Surface Technology Corp | Process for bonding magnetic heads |
US3639701A (en) * | 1970-07-02 | 1972-02-01 | Ibm | Magnetic recording head having a nonmagnetic ferrite gap |
US3750274A (en) * | 1971-05-28 | 1973-08-07 | Texas Instruments Inc | Method of making glass bonded recording heads |
GB1591237A (en) * | 1976-12-13 | 1981-06-17 | Texas Instruments Inc | Magnetic recording/reproducing head |
US4182643A (en) * | 1977-07-05 | 1980-01-08 | Control Data Corporation | Method of forming gaps in magnetic heads |
JPS5827565B2 (ja) * | 1977-09-19 | 1983-06-10 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
JPS58189816A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Tohoku Metal Ind Ltd | 磁気ヘツド |
JPS58130426A (ja) * | 1983-01-12 | 1983-08-03 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気ヘツドコアのギヤツプ形成方法 |
JPS6166209A (ja) * | 1984-09-10 | 1986-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 合金磁気ヘツド及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-03-06 JP JP59041261A patent/JPS60187910A/ja active Granted
-
1987
- 1987-03-10 US US07/022,577 patent/US4811148A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4901179A (en) * | 1985-02-15 | 1990-02-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having a laminated structure |
US5113299A (en) * | 1989-07-24 | 1992-05-12 | Pioneer Electronic Corporation | Magnetic head with improved bonding between magnetic core halves |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0581964B2 (ja) | 1993-11-17 |
US4811148A (en) | 1989-03-07 |
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