JPS60179917A - 磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法

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JPS60179917A
JPS60179917A JP60018785A JP1878585A JPS60179917A JP S60179917 A JPS60179917 A JP S60179917A JP 60018785 A JP60018785 A JP 60018785A JP 1878585 A JP1878585 A JP 1878585A JP S60179917 A JPS60179917 A JP S60179917A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生ヘッドの製造方法およびその方法
によりｆτＩられる磁気記録再生ヘッドに関する０本発
明は磁気記憶装置、特にコンピュータの記憶装置におい
て好適に使用される。
本発明による磁気ヘッドは、２つの磁極片、各磁極片の
まわりにそれぞれ巻回されるフラットならせん２重コイ
ル、及び非磁性物質が充填された１ギヤツプから構成さ
れるタイプのものである。ギャップはいわゆる磁気ヘッ
ドの媒体走行面をなす平面と同じレベルとなっている。
磁気記録媒体はギャップの前方で磁気ヘッドに対向して
上記媒体走行面と平行に移動する。書き込み（記録）動
作中、巻線に流れる電流はギャップに磁場を導き、その
結果、情報を媒体に書き込むことが可能となる０反対に
、媒体に書き込まれた磁気情報は磁極片に磁場を誘起す
る。すなわちコイルに電流が誘導され、該コイルの両端
に電圧が発生し、それが読み出し信号をなす、これらの
書き込み及び読み出し動作中の磁場は磁気記Ｎ、奴体と
平行であるので、木・１ｉ、磁気記録という述ｉ；ｈが
時折使用される。
（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点） 水１１磁気記録による従来の磁気ヘッドは、例えば特開
昭５８−８３８２３号（出願人：富士通株式会社）に開
示されている。
１−記文献に記載された磁気ヘッドの製造方法は、基板
上に２つの蒔い磁性片をエンドφツー拳エンドーポンデ
ィングする工程を含み、２つの磁性片はギャップを形成
する非磁性層により分限される。そしてこのアセンブリ
はギャップの高さを減少するために加工される。支持体
は別個に形成され、２つの磁極片のまわりに巻回される
２重巻線を含む。そしてこれらの２つのサブアセンブリ
は７７−いに結合される。
Ｌ配力法は多くの不都合を有する。第１に、この方法は
微細部分の微妙な結合を必要とし、これは、１．文化、
自動化方法に合わない、記録ＰＪ生用ｆｆ１Ｊｓ片はか
なりの幅を持ち、それはヘッドの効能に悪影響を及ぼす
とともに１４現性が悪く２、パフォーマンスの変動を導
く。更にこの方法は磁気記録媒体に干渉性磁場を誘起す
る。
（発明の要約及び課題） 本発明は１−記従来技街の欠点を解消する磁気記録再生
ヘッドの製造方法に係るものである。未発”明は０膜技
術に基づく操作を使用するので、自動化に好適である。
記録再生用磁極片の幅はｓ股の厚さにより定められ、従
ってその厚さは小さくすることができかつ完全に再現で
きるものとなる。
更に導電性巻線が２つの磁気薄膜層の間に挿入されるの
で完全なシールドが行なわれる。
本発明は、支持体の上に第１の磁性薄膜層を設ける１−
程と、前記第１の磁性ｔｌｌ１２層をエツチングして、
共通の直線状中央部分を持つ２つのループを有する８の
字状の溝を形成することにより、前記第１の磁性＠膜層
を前記２つのループ内にて維持して、前記８の字状の溝
の中央部に相当する中央チャネルにより分離される２つ
の＃ｊ磁極片形成する工程と、前記溝を電気的絶縁性物
質で充填する１程と、前記２つの磁極片のまわりにそれ
ぞれ形成される２重の溝をなす切欠き部を前記絶縁性物
質内にエツチングにより形成する工程と、前記２重の溝
の底部に導電性被覆を設け、かつ前記２東の溝を電気的
絶縁性物質で充填する工程と、絶縁性物質層を設ける工
程と、該絶縁性物質層をエツチングし、前記中央チャネ
ルと対向しかつ該チャネルの中心かられずかにずれたと
ころに側部を有する階段状部を形成するＣ程と、前記階
段状部に非磁性物質から成る薄膜層を設ける工程と、前
記階段状部の側面に設けられた前記非磁性Ｓａ層の一部
により構成された、前記第１の磁性＠、膜層の面に対し
て垂直な壁部のみを残すごとく、前記非磁性−、シ膜層
をエツチングする工程と、前記壁部な覆うボスを形成す
る第２の磁性薄膜層を設ける工程と、前記ボスの形状を
正確に追従する保護波ｒｌＩ層を設け、その後に前記ボ
ス及び前記！Ｐ：部のところの保護波ｒＩＩ層をカット
して、ギャップにより分離される２つの磁極片を形成す
る工程と、を具備することを特徴とする磁気記録再生ヘ
ッドの製造方法に係るものである。
また、木゛発明は上記方法により得られる磁気記録再生
ヘッドに係るものである。本発明のヘッドは、２つの磁
性Ｆ、Ｗ　Ｍ層の存在が特徴であり、これはらせんコイ
ルをそれらの間に完全に固定する。
また、記録再生用磁極片が磁性薄膜層の断面により構成
されることも特徴である。
（実施例） 以Ｆ本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図において、支持部２ｏは、セラミック物質、誘電
性物質等により、半導体技術で使用されるシリコンウェ
ハのごとき形態で構成される。
この場合、ウェハは熱酸化により形成されるシリカ被覆
層２２によりコーティングされる。更に、フェライトあ
るいはＦｅとＮｉもしくはＣｏ、Ｚｒ、Ｎｂ等の合金の
ごとき高透磁率でかつ強い磁性を有する物質から成る薄
膜層２４が付着される。この薄膜層２４の厚さは０．５
〜５ＪＬ園である。
ｆｆ５Ｚ図及びｔＪＳａ図は薄膜層２４に８の字状にエ
ツチングされた溝２６を示す、溝２Ｂのエツチングは中
央の直線状チャネル２６ｃにより分離される２つの磁極
片２Ｂａ　、　２ｅｂを残す。溝２６はホトリソグラフ
ィにより形成された樹脂マスクを用いて化学エツチング
またはドライエツチングにより得られる６溝２Ｂのエツ
チング深さは薄膜層２４の厚さの数分の１（例えば１７
３またはｌ／２）に相当する。
第４図はシリカまたは樹脂のごとき誘電性物質２７で溝
２Ｂを充填した様子を示す０周知の平面化操作により、
誘電性物質２７が確実に溝２６内にのみ設けられ、薄膜
層２４の表面には設けられない。
次に、２川らせんの溝２８及び３０が、充填された誘電
性物質２７内に形成される（第４図）、その後、２重ら
せんの溝２８及び３ｏの底部に導電性物質層３１が付着
される。ここで誘電性物質としては例えば銅またはアル
ミニウムを用いることができる。そして、コイル面が磁
気記録媒体と平行となるコイルの形成が行なわれる。コ
イルは磁極片２６ａに巻回されるハーフとｍｓｉ片２１
１１ｂに巻回されるハーフとから成る。
第９図はコイルの形態をより明確に表わしている。コイ
ルの中央側の導電体の幅は２つの何方の導電体の幅より
も小さくなっており、その結果前者の部分に高電流密度
が生じ、これが磁気ヘッドの優れた効率に′８与する。
次に溝２８．３ｏは誘゛屯性物質２７と同じかあるいは
類似した絶縁性物質で充填される。
次に誘電性層３２が上記アセンブリ上に付着される。こ
の誘電性層３２は感光性樹脂により構成されるのが好ま
しく、その厚さは０．５〜数４ｍである。そして階段状
部がホトリソグラフィにより形成され、その側部３３は
磁極片２ｆｉａ　、　２８ｂを分離する中央チャネル２
８ｃに対向して設けられ、中央チャネル２Ｂ−ｃの中心
かられずかに偏倚している。
この偏倚は後に付着される非磁性薄側■４の厚さの半分
にほぼ等しい、この非磁性’ｄｅ４層３＜はシリカまた
はアルミナであるのが有利であり、第６図に示すように
階段状部を覆う。
次に、第７図に示すように、異方的反応性イオンエッチ
ング及びそれに続く樹脂の溶解により、取直壁部３４ａ
が残る。垂直壁部３４ａの厚さは非磁′性ｔａｕ　ｆ！
層３４の１１さと等しいかそれよりわずかに小さく、垂
直壁部３４ａの高さは誘電性ｆｆ３３２の厚さと等しい
かそれよりわずかに小さい。
次に、磁性薄１悶層３Ｇが付着される。この薄膜層３６
は助ｎり層２４と同じ性質のものであって良い。薄ＷＩ
　Ｈ３Ｂは第８５４に示すように壁部３４ａのところで
ポス３７を形成する。その後に、堅固な絶縁性保護被覆
層３８がアセンブリ１−に付着される。この被覆層３８
はシリカまたはアルミナより構成することができ、ポス
３７の形状を正確に追従する。
次に、樹脂層４０が付着し、ポス３７と壁部３４ａを一
時的に固定させて、保護被覆層３８のところでカットす
る。このカットにより、壁部３４ａの頂部を露出させ、
２つのａＪ４１片３８ａ　、　３８ｂの間のギャップを
形成する。磁性薄膜層３８は非常に薄く、０．２〜１．
５　ｐ、ｖｘの厚さを有する。磁性＃ｆｙ膜屑３６は磁
極片３８ａ　、　３８ｂに対してもあてがわれる。磁極
片３１３ａ　、　３８ｂの幅は磁性９８層３Ｂの厚さと
ほぼ回じ程度となる。このことは本発明による磁気ヘッ
ドの優れた効率を導く。
第９図は最終的に得られる磁気ヘッドを示す。
矢印は被覆層３８の残部により構成される走行面４１の
前方を移動する磁気記録媒体４２への記録時のフラック
スあるいは磁気力線を示す。
コイルの２つの側部は２つの薄ＩＦＪ　層２４．３Ｂニ
より磁気的にシールドされ、その結果これらは磁気記録
媒体４２に向けて何の洩れ磁場も発生しない。
第１θ図は走行面の前方より見た磁気ヘッドを示す図で
ある。壁部３４ａにより分離された記録再生用磁極片３
６ａ　、　３ｉの端部が走行面と同じレベル（高さ）に
なっている。
（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明によれば、再現性が
良く、パフォーマンスの変動のない優れた効率を有する
磁気ヘッドを提供することができる。更に未発ＵＪ１は
磁気ヘッドの工業的製造、自動化製造に好適であるとい
う利点を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図〜第８図は本発明の方法による磁気ヘッドの各製
造段階を示す図、第９図は本発明の磁気ヘッドの断面図
力８１の磁気ヘー、ドの一部を切欠いて示す図である。 ２０−−−　支持体、２２−−−　シＩＪ　力被ｒＱＫ
ｆ、２４−一一磁性薄ＩＦ′Ａ層、２６−−−溝、２６
ａ、　２８ｂ−−−（ａｌ棒片、２ｅｃ−−一中央チャ
ネル、２７−−−誘電性物質、２８．３０−−−２屯ら
せん溝、３１−ｍ−導電性物質層、３２−一一誘電性層
、３３−ｍ−側部、３４−一一非磁性薄膜層、３４ａ−
−一重直壁部、３Ｂ−一一磁性薄晩層、３１３ａ、３６
ｂ−−−磁ＪＳ片、３７−−−ポス、３８−ｍ−保護被
覆層、４０−ｍ−樹脂層。 特　許　出　願　人 コミッサリア　ア　レネルジイ　アトミ・ンク特詐出願
代理人 弁理士　山木恵− ＦＩＧ、Ｉ ＦＩＧ、２ ＦＩＧ、３

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）支持体の」二にｆ：ｆＳｌの磁性侍ｒ９層を設け
    る工程と、 前記第１の磁性ｔｉｙ膜層をエツチングして、共通の直
    線状中央部分を持つ２つのループを有する８の字状の溝
    を形成することにより、前記第１の磁性薄膜層を前記２
    つのループ内にて維持して、前記８の字状の溝の中央部
    に相当する中央チャネルにより分離される２つのｍｗ４
    片を形成する工程と、 前記溝を電気的絶縁性物質で充填する工程と、前記２つ
    の磁極片のまわりにそれぞれ形成される２重の溝をなす
    切欠き部を前記絶縁性物質内にエツチングにより形成す
    る二［程と、 前記２重の溝の底部に導電性被覆を設け、かつ前記２重
    の溝を電気的絶縁性物質で充填する工程と。 絶縁性物質層を設ける工程と、 該絶縁性物質層をエツチングし、前記中央チャネルと対
    向しかつ該チャネルの中心かられずかにずれたところに
    側部を有する階段状部を形成する工程と、 前記階段状部に非磁性物質から成る薄膜層を設ける工程
    と。 前記階段状部の側面に設けられた前記非磁性薄膜層の一
    部により構成された、前記第１の磁性薄膜層の面に対し
    て垂直な壁部のみを残すごとく、前記非磁性薄膜層をエ
    ツチングする工程と、前記壁部を覆うボスを形成する第
    ２の磁性Ｑ膜層な設ける工程と、 前記ボスの形状を正確に追従する保護波１Ｍ！層を設け
    、その後に前記ボス及び前記壁部のところの保護被覆層
    をカットして、ギャップにより分離される２つのｍ、極
    片を形成する工程と、を具備することを特徴とする磁気
    記録再生ヘッドの製造方法。
  2. （２）前記第１の磁性薄膜層が設けられる前記支特休が
    誘電性物質の被覆によりコーティングされることを特徴
    とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。
  3. （３）前記第２の磁性薄膜層の厚さが、０．２〜１．５
    　ｐ、ｍであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
    に記載の方法。
  4. （４）前記階段状部がエツチング形成される被覆部を構
    成している前記絶縁性物質が、溶解により除去可能な感
    光性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲ｗＳ１
    項に記載の方法。
  5. （５）２つの磁極片のまわりに巻回される２屯コイルの
    配される第１の磁性薄ＩＦＪ層と、該第１の磁性薄ｒｇ
    層を覆う第２の磁性薄膜層と、前記第１の磁性薄膜層の
    面に垂直な非磁性物質から成る壁部とを有し、前記第１
    及び第２の磁性薄膜層＃よ前記２重コイルのシールドを
    完全に行ない、前記第２の磁性薄膜層は、２つの記録再
    生用磁極片を形成するため、前記磁極片の両側に設けら
    れた保護液ＶＩ層とともに前記壁部の両端に支持されか
    つ前記壁部の端部と同じレベルとなることを特徴とする
    磁気記録再生ヘッド。
JP60018785A 1984-02-03 1985-02-04 磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法 Expired - Lifetime JPH0644333B2 (ja)

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