JPH0644333B2 - 磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法

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JPH0644333B2
JPH0644333B2 JP60018785A JP1878585A JPH0644333B2 JP H0644333 B2 JPH0644333 B2 JP H0644333B2 JP 60018785 A JP60018785 A JP 60018785A JP 1878585 A JP1878585 A JP 1878585A JP H0644333 B2 JPH0644333 B2 JP H0644333B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生ヘッドの製造方法およびその方法
により得られる磁気記録再生ヘッドに関する。本発明は
磁気記憶装置、特にコンピュータの記憶装置において好
適に使用される。
本発明による磁気ヘッドは、２つの磁極片、各磁極片の
まわりにそれぞれ巻回されるフラットならせん２重コイ
ル、及び非磁性物質が充填されたギャップから構成され
るタイプのものである。ギャップはいわゆる磁気ヘッド
の媒体走行面をなす平面と同じレベルとなっている。磁
気記録媒体はギャップの前方で磁気ヘッドに対向して上
記媒体走行面と平行に移動する。書き込み（記録）動作
中、巻線に流れる電流はギャップに磁場を導き、その結
果、情報を媒体に書き込むことが可能となる。反対に、
媒体に書き込まれた磁気情報は磁極片に磁場を誘起す
る。すなわちコイルに電流が誘導され、該コイルの両端
に電圧が発生し、それが読み出し信号をなす。これらの
書き込み及び読み出し動作中の磁場は磁気記録媒体と平
行であるので、水平磁気記録という述語が時折使用され
る。
（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点） 水平磁気記録による従来の磁気ヘッドは、例えば特開昭
56-83823号（出願人：富士通株式会社）に開示されてい
る。
上記文献に記載された磁気ヘッドの製造方法は、基板上
に２つの薄い磁性片をエンド・ツー・エンドーボディン
グする工程を含み、２つの磁性片はギャップを形成する
非磁性層により分離される。そしてこのアセンブリはギ
ャップの高さを減少するために加工される。支持体は別
個に形成され、２つの磁極片はまわり巻回される２重巻
線を含む。そしてこれらの２つのサブアセンブリは互い
に結合される。
上記方法は多くの不都合を有す。第１に、この方法は微
細部分の微妙な結合を必要とし、これは、工業化、自動
化方法に合わない。記録再生用磁極片はかなりの幅を持
ち、それはヘッドの効能に悪影響を及ぼすとともに再現
性が悪く、パフォーマンスの変動を導く。更にこの方法
は磁気記録媒体に干渉性磁場を誘起する。
（発明の要約及び課題） 本発明は上記従来技術の欠点を解消する磁気記録再生ヘ
ッドの製造方法に係るものである。本発明は薄膜技術に
基づく操作を使用するので、自動化に好適である。記録
再生用磁極片の幅は薄膜の厚さにより定められ、従って
その厚さは小さくすることができかつ完全に再現できる
ものとなる。更に導電性巻線が２つの磁気薄膜層の間に
挿入されるので完全なシールドが行なわれる。
本発明は、支持体の上に第１の磁性薄膜層を設ける工程
と、前記第１の磁性薄膜層をエッチングして、共通の直
線状中央部分を持つ２つのループを有する８の字状の溝
を形成することにより、前記第１の磁性薄膜層を前記２
つのループ内にて維持して、前記８の字状の溝の中央部
に相当する中央チャネルにより分離される２つの磁極片
を形成する工程と、前記溝を電気的絶縁性物質で充填す
る工程と、前記２つの磁極片のまわりにそれぞれ形成さ
れる２重の溝をなす切欠き部を前記絶縁性物質内にエッ
チングにより形成する工程と、前記２重の溝の底部に導
電性被覆を設け、かつ前記２重の溝を電気的絶縁性物質
で充填する工程と、絶縁性物質層を設ける工程と、該絶
縁性物質層をエッチングし、前記中央チャネルと対向し
かつ該チャネルの中心からわずかにずれたところに側部
を有する段階状部を形成する工程と、前記段階状部に非
磁性物質から成る薄膜層を設ける工程と、前記段階状部
の側面に設けられた前記非磁性薄膜層の一部により構成
された、前記第１の磁性薄膜層の面に対して垂直な壁部
のみを残すごとく、前記非磁性薄膜層をエッチングする
工程と、前記壁部を覆うボスを形成する第２の磁性薄膜
層を設ける工程と、前記ボスの形状を正確に追従する保
護被覆層を設け、その後に前記ボス及び前記壁部のとこ
ろの保護被覆層をカットして、ギャップにより分離され
る２つの磁極片を形成する工程と、を具備することを特
徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法に係るものであ
る。
また、本発明は上記方法により得られる磁気記録再生ヘ
ッドに係るものである。本発明のヘッドは、２つの磁性
薄膜層の存在が特徴であり、これはらせんコイルをそれ
らの間に完全に固定する。また、記録再生用磁極片が磁
性薄膜層の断面により構成されることも特徴である。
（実施例） 以下本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図において、支持部20は、セラミック物質、誘電性
物質等により、半導体技術で使用されるシリコンウェハ
のごとき形態で構成される。この場合、ウェハは熱酸化
により形成されるシリコン被覆層22によりコーティング
される。更に、フェライトあるいはＦｅとＮｉもしくは
Ｃｏ、Ｚｒ、Ｎｂ等の合金のごとき高透磁率でかつ強い
磁性を有する物質から成る薄膜層24が付着される。この
薄膜層24の厚さは０．５〜５μｍである。
第２図及び第３図は薄膜層24に８の字状にエッチングさ
れた溝26を示す。溝26のエッチングは中央の直線状チャ
ネル26c により分離される２２つの磁極片26a 、26b を
残す。溝26はホトリソグラフィにより形成された樹脂マ
スクを用いて化学エッチングまたはドライエッチングに
より得られる。
溝26のエッチング深さは薄膜層24の厚さの数分の１（例
えば1/3 または1/2 ）に相当する。
第４図はシリカまたは樹脂のごとき誘電性物質27で溝26
を充填した様子を示す。周知の平面化操作により、誘電
性物質27が確実に溝26内にのみ設けられ、薄膜層24の表
面には設けられない。
次に、２重らせんの溝28及び30が、充填された誘電性物
質27内に形成される（第４図）。その後、２重らせんの
溝28及び30の底部に導電性物質層31が付着される。ここ
で誘電性物質としては例えば銅またはアルミニウムを用
いることができる。そして、コイル面が磁気記録媒体と
平行となるコイルの形成が行なわれる。コイルは磁極片
26a に巻回されるハーフと磁極片26b に巻回されるハー
フとから成る。
第９図はコイルの形態をより明確に表わしている。コイ
ルの中央側の誘電体の幅は２つの側方の誘電体の幅より
も小さくなっており、その結果前者の部分に高電流密度
が生じ、これが磁気ヘッドの優れた効率に寄与する。次
に溝28、30は誘電性物質27と同じかあるいは類似した絶
縁性物質で充填される。
次に誘電性層32が上記アセンブリ上に付着される。この
誘電性層32は感光性樹脂により構成されるのが好まし
く、その厚さは０．５〜数μｍである。そして段階状部
がホトリソグラフィにより形成され、その側部33は磁極
片26a 、26b を分離する中央チャネル26c に対向して設
けられ、中央チャネル26c の中心からわずかに偏倚して
るいる。この偏倚は後に付着される非磁性薄膜層34の厚
さの半分にほぼ等しい。この非磁性薄膜層34はシリカま
たはアルミナであるのが有利であり、第６図に示すよう
に段階状部を覆う。
次に、第７図に示すように、異方的反応性イオンエッチ
ング及びそれに続く樹脂の溶解により、垂直壁部34a が
残る。垂直壁部34a の厚さは非磁性薄膜層34の厚さと等
しいかそれよりわずかに小さく、垂直壁部34a の高さは
誘電性層32の厚さと等しいかそれよりわずかに小さい。
次に、磁性薄膜層36が付着される。この薄膜層36は薄膜
層24と同じ性質のものであって良い。薄膜層36は第８図
に示すように壁部34a のところでボス37を形成する。そ
の後に、堅固な絶縁性保護被覆層38がアセンブリ上に付
着される。この被覆層38はシリカまたはアルミナより構
成することができ、ボス37の形状を正確に追従する。
次に、樹脂層40が付着し、ボス37と壁部34a を一時的に
固定させて、保護被覆層38のところでカットする。この
カットにより、壁部34a の頂部を露出させ、２つの磁極
片36a 、36b の間のギャップを形成する。磁性薄膜層36
は非常に薄く、０．２〜１．５μｍの厚さを有する。磁
性薄膜層36は磁極片36a 、36b に対してもあてがわれ
る。磁極片36a 、36b の幅は磁性薄膜層36の厚さとほぼ
同じ程度となる。このことは本発明による磁気ヘッドの
優れた効果を導く。
第９図は最終的に得られる磁気ヘッドを示す。
矢印は被覆層38の残部により構成される走行面41の前方
を移動する磁気記録媒体42への記録時のフラックスある
いは磁気力線を示す。
コイルの２つの側部は２つの薄膜層24、36により磁気的
にシールドされ、その結果これらは磁気記録媒体42に向
けて何の洩れ磁場も発生しない。
第10図は走行面の前方より見た磁気ヘッドを示す図であ
る。壁部34aにより分離された記録再生用磁極片36a 、3
6b の端部が走行面と同じレベル（高さ）になってい
る。
（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明によれば、（ａ）垂
直な壁部（スペーサ）の厚さが非常に正確に設定可能な
非磁性層の厚さによって決定されるので、さらにスペー
サの高さがこれも非常に正確に設定可能な層の厚さによ
って決定されるので、このスペーサの反復再現性が極め
て優れたものとなる、（ｂ）導電体（コイル３１）を第
１の磁性層に形成された溝の内部に一体的に形成してい
るので、全体を平坦に形成できる、（ｃ）コイルのまわ
りが２つの膜によって磁気的にシールドされるので、磁
気媒体に向かう漏れ磁束が生じない、（ｄ）壁部（スペ
ーサ）が基板や磁性層にまさに垂直に形成されるので、
磁束がギャップに対して完全に対称となる、（ｅ）２つ
の磁極片が同一の層（第２の磁性薄膜層）から得られる
のでこれら磁極片は互いに同一であり、完全に対称な磁
束を得ることができる。従って本発明は、磁気ヘッドの
工業的製造、自動化製造に好適である。
【図面の簡単な説明】
第１図〜第８図は本発明の方法による磁気ヘッドの各製
造段階を示す図、第９図は本発明の磁気ヘッドの断面
図、第10図は本発明の磁気ヘッドの一部を切欠いて示す
図である。 20……支持体、22……シリカ被覆層、 24……磁性薄膜層、26……溝、 26a，26b……磁極片、26c……中央チャネル、 27……誘電性物質、28，30……２重らせん溝、 31……導電性物質層、32……誘電性層、 33……側部、34……非磁性薄膜層、 34a……垂直壁部、36……磁性薄膜層、 36a，36b……磁極片、37……ボス、 38……保護被覆層、40……樹脂層。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】支持体の上に第１の磁性薄膜層を設ける工
    程と、 前記第１の磁性薄膜層をエッチングして、共通の直線状
    中央部分を持つ２つのループを有する８の字状の溝を形
    成することにより、前記第１の磁性薄膜層を前記２つの
    ループ内にて維持して、前記８の字状の溝の中央部に相
    当する中央チャネルにより分離される２つの磁極片を形
    成する工程と、 前記溝を電気的絶縁性物質で充填する工程と、 前記２つの磁極片のまわりにそれぞれ形成される２重の
    溝をなす切欠き部を前記絶縁性物質内にエッチングによ
    り形成する工程と、 前記２重の溝の底部に導電性被覆を設け、かつ前記２重
    の溝を電気的絶縁性物質で充填する工程と、 絶縁性物質層を設ける工程と、 該絶縁性物質層をエッチングし、前記中央チャネルと対
    向しかつ該チャネルの中心からわずかにずれたところに
    側部を有する階段状部を形成する工程と、 前記階段状部に非磁性物質から成る薄膜層を設ける工程
    と、 前記階段状部の側面に設けられた前記非磁性薄膜層の一
    部により構成された、前記第１の磁性薄膜層の面に対し
    て垂直な壁部のみを残すごとく、前記非磁性薄膜層をエ
    ッチングする工程と、 前記壁部を覆うボスを形成する第２の磁性薄膜層を設け
    る工程と、 前記ボスの形状を正確に追従する保護被覆層を設け、そ
    の後に前記ボス及び前記壁部のところの保護被覆層をカ
    ットして、ギャップにより分離される２つの磁極片を形
    成する工程と、 を具備することを特徴とする磁気記録再生ヘッドの製造
    方法。
  2. 【請求項２】前記第１の磁性薄膜層が設けられる前記支
    持体が誘電性物質の被覆によりコーティングされること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。
  3. 【請求項３】前記第２の磁性薄膜層の厚さが、０．２〜
    １．５μｍであることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項に記載の方法。
  4. 【請求項４】前記階段状部がエッチング形成される被覆
    部を構成している前記絶縁性物質が、溶解により除去可
    能な感光性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲
    第１項に記載の方法。
  5. 【請求項５】２つの磁極片のまわりに巻回される２重コ
    イルの配される第１の磁性薄膜層と、該第１の磁性薄膜
    層を覆う第２の磁性薄膜層と、前記第１の磁性薄膜層の
    面に垂直な非磁性物質から成る壁部とを有し、前記第１
    及び第２の磁性薄膜層は前記２重コイルのシールドを完
    全に行ない、前記第２の磁性薄膜層は、２つの記録再生
    用磁極片を形成するため、前記磁極片の両側に設けられ
    た保護被覆層とともに前記壁部の両端に支持されかつ前
    記壁部の端部と同じレベルとなることを特徴とする磁気
    記録再生ヘッド。
JP60018785A 1984-02-03 1985-02-04 磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法 Expired - Lifetime JPH0644333B2 (ja)

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EP (1) EP0152326B1 (ja)
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