JPH0594603A - 垂直磁気ヘツド - Google Patents
垂直磁気ヘツドInfo
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- JPH0594603A JPH0594603A JP27859491A JP27859491A JPH0594603A JP H0594603 A JPH0594603 A JP H0594603A JP 27859491 A JP27859491 A JP 27859491A JP 27859491 A JP27859491 A JP 27859491A JP H0594603 A JPH0594603 A JP H0594603A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 再生効率に優れ、疑似信号の発生がなく、高
精度で生産性に優れた垂直磁気ヘッドを提供する。 【構成】 ２層膜構造の記録媒体８を垂直磁化させる垂
直磁気ヘッドにおいて、主磁極３２、リターンパスコア
３６、コイル４６及び絶縁層４４等の各部材を構成する
にあたり、メッキ法、蒸着法等によりそれらの構成部材
を堆積すると共にフォトリソグラフィ技術によりパター
ンを形成することにより各部材を構成し、リターンパス
コア３６を主磁極３２に対して記録媒体８のトラック幅
方向に配置する。これにより、疑似信号の発生を抑制
し、精度、効率及び量産性等を向上させる。
精度で生産性に優れた垂直磁気ヘッドを提供する。 【構成】 ２層膜構造の記録媒体８を垂直磁化させる垂
直磁気ヘッドにおいて、主磁極３２、リターンパスコア
３６、コイル４６及び絶縁層４４等の各部材を構成する
にあたり、メッキ法、蒸着法等によりそれらの構成部材
を堆積すると共にフォトリソグラフィ技術によりパター
ンを形成することにより各部材を構成し、リターンパス
コア３６を主磁極３２に対して記録媒体８のトラック幅
方向に配置する。これにより、疑似信号の発生を抑制
し、精度、効率及び量産性等を向上させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、垂直磁気ヘッドに係
り、特に、構造が簡単にして疑似信号の発生を抑制する
ことができる垂直磁気ヘッドに関する。
り、特に、構造が簡単にして疑似信号の発生を抑制する
ことができる垂直磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、２層膜媒体と単磁極ヘッドとを
用いた垂直磁気記録は、原理的に短波長記録が可能であ
り、トラック幅方向の記録再生分解能も優れていること
から高トラック密度化に有利であるので、最近注目を浴
びている。この記録方式としては、図５に示すように、
基板２上に第１磁性層４と第２磁性層６とを形成して成
る記録媒体８と単磁極型と称される垂直磁気ヘッド１０
との組合せが良好な記録再生特性と示すものとして、有
望視されている。ところで、高記録密度を達成するため
には主磁極１２の幅、すなわちトラック幅を狭くしなけ
ればならないが、このトラック幅が狭くなると再生出力
は低下するので、再生出力乃至再生感度を上げるため
に、主磁極１２とリターンパスコア１４との間隔Ｄを狭
めなければならない。
用いた垂直磁気記録は、原理的に短波長記録が可能であ
り、トラック幅方向の記録再生分解能も優れていること
から高トラック密度化に有利であるので、最近注目を浴
びている。この記録方式としては、図５に示すように、
基板２上に第１磁性層４と第２磁性層６とを形成して成
る記録媒体８と単磁極型と称される垂直磁気ヘッド１０
との組合せが良好な記録再生特性と示すものとして、有
望視されている。ところで、高記録密度を達成するため
には主磁極１２の幅、すなわちトラック幅を狭くしなけ
ればならないが、このトラック幅が狭くなると再生出力
は低下するので、再生出力乃至再生感度を上げるため
に、主磁極１２とリターンパスコア１４との間隔Ｄを狭
めなければならない。
【０００３】しかしながら、主磁極１２とリターンパス
コア１４との間隔Ｄが狭くなると、リターンパスコア１
４のエッジ部が疑似的な磁気記録再生ギャップの作用を
呈し、図６に示すように主信号１６の後に疑似信号１８
が発生して出力波形に歪みが生じる問題があった。そこ
で、この問題を解決するために種々の解決策が提案され
ている。例えば特開昭６１−２４２３１０号公報におい
ては、図７に示すように主磁極２０に対向するリターン
パスコア２２の主磁極対向面２４を主磁極に対して非平
行に形成し、疑似信号の発生を防止している。また、特
開昭６３−７０９０７号公報においては、図８に示すよ
うにリターンパスコア２８のエッジ部が主磁極２６と磁
性媒体走行方向において対向しないように、主磁極２６
のトラック幅方向のみに磁束のリターンパスコア２８を
配置して疑似信号の発生を防止している。
コア１４との間隔Ｄが狭くなると、リターンパスコア１
４のエッジ部が疑似的な磁気記録再生ギャップの作用を
呈し、図６に示すように主信号１６の後に疑似信号１８
が発生して出力波形に歪みが生じる問題があった。そこ
で、この問題を解決するために種々の解決策が提案され
ている。例えば特開昭６１−２４２３１０号公報におい
ては、図７に示すように主磁極２０に対向するリターン
パスコア２２の主磁極対向面２４を主磁極に対して非平
行に形成し、疑似信号の発生を防止している。また、特
開昭６３−７０９０７号公報においては、図８に示すよ
うにリターンパスコア２８のエッジ部が主磁極２６と磁
性媒体走行方向において対向しないように、主磁極２６
のトラック幅方向のみに磁束のリターンパスコア２８を
配置して疑似信号の発生を防止している。
【０００４】また更に、特開昭５６−３４２２号公報に
示されるようにリターンパスコアの主磁極側対向面のエ
ッジ部を面取りした磁気ヘッドや特開昭６３−２９２４
０５号公報に示されるように、リターンパスコアを透磁
率の異なる複数の材料で構成し、リターンパスコアの中
心部から離れるに従ってその透磁率が下がるようにして
リターンパスコアのエッジ部に磁束が集中することを防
止した磁気ヘッドが提案されている。
示されるようにリターンパスコアの主磁極側対向面のエ
ッジ部を面取りした磁気ヘッドや特開昭６３−２９２４
０５号公報に示されるように、リターンパスコアを透磁
率の異なる複数の材料で構成し、リターンパスコアの中
心部から離れるに従ってその透磁率が下がるようにして
リターンパスコアのエッジ部に磁束が集中することを防
止した磁気ヘッドが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した特
開昭６１−２４２３１０号公報に示すヘッドにあって
は、リターンパスコア２２の材料となるフェライト基板
と主磁極２０を非平行に形成することは、工程が非常に
複雑となり生産性が大幅に劣化するという問題点があっ
た。また、特開昭６３−７０９０７号公報に示すヘッド
にあっては、疑似信号の発生を生ずることなくリターン
パスコア２８と主磁極２６とを接近させることができ、
高い再生感度を得ることが期待できるが、主磁極２６と
なる磁性薄膜を堆積する面とコイル等を形成する面が垂
直であるために、上述と同様に工程が複雑になり、高精
度、高信頼性の品質を有するヘッドを作製することが極
めて困難となる。
開昭６１−２４２３１０号公報に示すヘッドにあって
は、リターンパスコア２２の材料となるフェライト基板
と主磁極２０を非平行に形成することは、工程が非常に
複雑となり生産性が大幅に劣化するという問題点があっ
た。また、特開昭６３−７０９０７号公報に示すヘッド
にあっては、疑似信号の発生を生ずることなくリターン
パスコア２８と主磁極２６とを接近させることができ、
高い再生感度を得ることが期待できるが、主磁極２６と
なる磁性薄膜を堆積する面とコイル等を形成する面が垂
直であるために、上述と同様に工程が複雑になり、高精
度、高信頼性の品質を有するヘッドを作製することが極
めて困難となる。
【０００６】更に、前記特開昭５６−３４２２号公報及
び前記特開昭６３−２９２４０５号公報に示すヘッドに
あっても、十分な疑似信号防止効果を上げることが期待
できないのみならず、製造工程も複雑で、生産性が低下
するという問題点があった。本発明は、以上のような問
題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたもの
である。本発明の目的は、再生効率に優れ、疑似信号の
発生がなく、しかも高精度で生産性に優れた垂直磁気ヘ
ッドを提供することにある。
び前記特開昭６３−２９２４０５号公報に示すヘッドに
あっても、十分な疑似信号防止効果を上げることが期待
できないのみならず、製造工程も複雑で、生産性が低下
するという問題点があった。本発明は、以上のような問
題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたもの
である。本発明の目的は、再生効率に優れ、疑似信号の
発生がなく、しかも高精度で生産性に優れた垂直磁気ヘ
ッドを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、主磁極、リターンパスコア、コイル及
び絶縁層よりなり、２層膜構造の記録媒体を垂直磁化さ
せる垂直磁気ヘッドにおいて、非磁性基板上に前記主磁
極、リターンパスコア、コイル及び絶縁層を堆積させて
形成すると共に、堆積時に前記リターンパスコアを前記
主磁極に対して前記記録媒体のトラック幅方向に配置す
るように構成したものである。
解決するために、主磁極、リターンパスコア、コイル及
び絶縁層よりなり、２層膜構造の記録媒体を垂直磁化さ
せる垂直磁気ヘッドにおいて、非磁性基板上に前記主磁
極、リターンパスコア、コイル及び絶縁層を堆積させて
形成すると共に、堆積時に前記リターンパスコアを前記
主磁極に対して前記記録媒体のトラック幅方向に配置す
るように構成したものである。
【０００８】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、主磁
極、リターンパスコア、コイル及び絶縁層は、微細加工
可能な例えばフォトリソグラフィ技術により一層毎に堆
積形成されることになり、従って、主磁極とリターンパ
スコアとの間隔を極力小さくでるので、磁気抵抗を減少
させることができ、効率及び周波数特性も向上させるこ
とが可能となる。また、磁性材料等の金属材料の堆積技
術やフォトリソグラフィ技術も略確立されて構成部材を
一度に形成できるので、量産性も大幅に向上させること
ができる。更に、リターンパスコアは主磁極に対してト
ラック幅方向に配置されるので、疑似信号の発生も大幅
に抑制することが可能となる。
極、リターンパスコア、コイル及び絶縁層は、微細加工
可能な例えばフォトリソグラフィ技術により一層毎に堆
積形成されることになり、従って、主磁極とリターンパ
スコアとの間隔を極力小さくでるので、磁気抵抗を減少
させることができ、効率及び周波数特性も向上させるこ
とが可能となる。また、磁性材料等の金属材料の堆積技
術やフォトリソグラフィ技術も略確立されて構成部材を
一度に形成できるので、量産性も大幅に向上させること
ができる。更に、リターンパスコアは主磁極に対してト
ラック幅方向に配置されるので、疑似信号の発生も大幅
に抑制することが可能となる。
【０００９】
【実施例】以下に、本発明に係る垂直磁気ヘッドの一実
施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係
る垂直磁気ヘッドを示す平面図、図２は図１に示す垂直
磁気ヘッドの側面図、図３は本発明に係る垂直磁気ヘッ
ドの製造工程を説明するための工程図である。図示する
ように、この垂直磁気ヘッド２９の全体は、例えばアル
ミナチタンカーバイトよりなる非磁性基板３０上に蒸着
法等により堆積形成される。この主磁極３２は、パーマ
ロイ等の磁性材料により略正方形状に形成されており、
これよりも厚く形成された主磁極ヨーク３４に接続され
ている。この主磁極３２の両側、すなわち記録媒体８の
トラック幅方向には、それぞれ間隔Ｄを隔てて磁束のリ
ターンパスを行うためのリターンパスコア３６、３６が
設けられると共に、これらリターンパスコア３６、３６
はカギ状に成形されて、その端部は上記主磁極ヨーク３
４に接続されている。
施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係
る垂直磁気ヘッドを示す平面図、図２は図１に示す垂直
磁気ヘッドの側面図、図３は本発明に係る垂直磁気ヘッ
ドの製造工程を説明するための工程図である。図示する
ように、この垂直磁気ヘッド２９の全体は、例えばアル
ミナチタンカーバイトよりなる非磁性基板３０上に蒸着
法等により堆積形成される。この主磁極３２は、パーマ
ロイ等の磁性材料により略正方形状に形成されており、
これよりも厚く形成された主磁極ヨーク３４に接続され
ている。この主磁極３２の両側、すなわち記録媒体８の
トラック幅方向には、それぞれ間隔Ｄを隔てて磁束のリ
ターンパスを行うためのリターンパスコア３６、３６が
設けられると共に、これらリターンパスコア３６、３６
はカギ状に成形されて、その端部は上記主磁極ヨーク３
４に接続されている。
【００１０】上記各リターンパスコア３６、３６は、そ
れぞれアモルファス等より成るコア中心層３８の両面に
これと同一または異種材料の磁性材料よりなる２つのコ
ア表面層４０、４２をサンドイッチ状に形成することに
より磁気飽和を避けるように構成されている。そして、
上記主磁極３２の周囲及び主磁極ヨーク３４と上記各リ
ターンパスコア３６、３６とにより形成される空間部に
は、例えばＳｉＯ2 よりなる絶縁層４４が形成されてい
る。更に、上記各リターンパスコア３６、３６には、こ
れより絶縁された銅等の導電材よりなるコイル４６、４
６が巻回して設けられている。
れぞれアモルファス等より成るコア中心層３８の両面に
これと同一または異種材料の磁性材料よりなる２つのコ
ア表面層４０、４２をサンドイッチ状に形成することに
より磁気飽和を避けるように構成されている。そして、
上記主磁極３２の周囲及び主磁極ヨーク３４と上記各リ
ターンパスコア３６、３６とにより形成される空間部に
は、例えばＳｉＯ2 よりなる絶縁層４４が形成されてい
る。更に、上記各リターンパスコア３６、３６には、こ
れより絶縁された銅等の導電材よりなるコイル４６、４
６が巻回して設けられている。
【００１１】このような垂直磁気ヘッド２９の製造方法
を具体的に説明すると、まず、図３（Ａ）に示すように
非磁性基板３０上にフェライト、パーマロイ、センダス
ト、アモルファス等の磁性材料をメッキ法、蒸着法等に
より薄膜状に堆積し、下側のコア表面層４０を形成す
る。尚、この操作に先立って、上記各コイル４６、４６
の巻線下側部を非磁性基板３０上に予め形成して図示し
ない絶縁膜により被うと共に、この絶縁膜のコイル巻線
側部に対応する部分にフォトリソグラフィ技術により例
えば銅を堆積させておく。図３（Ａ）に示すように下側
のコア表面層４０を形成したならば、次に、フォトリソ
グラフィ技術により主磁極ヨーク３４及び両リターンパ
スコア３６、３６に対応する部分を残して絶縁層４４に
対応する部分をエッチングして、図３（Ｂ）に示すよう
にこのエッチングした部分に絶縁材４８を蒸着法等によ
り形成する。尚、この絶縁材４８のコイル巻線側部に対
応する部分にもフォトリソグラフィ技術により例えば銅
を堆積させておく。
を具体的に説明すると、まず、図３（Ａ）に示すように
非磁性基板３０上にフェライト、パーマロイ、センダス
ト、アモルファス等の磁性材料をメッキ法、蒸着法等に
より薄膜状に堆積し、下側のコア表面層４０を形成す
る。尚、この操作に先立って、上記各コイル４６、４６
の巻線下側部を非磁性基板３０上に予め形成して図示し
ない絶縁膜により被うと共に、この絶縁膜のコイル巻線
側部に対応する部分にフォトリソグラフィ技術により例
えば銅を堆積させておく。図３（Ａ）に示すように下側
のコア表面層４０を形成したならば、次に、フォトリソ
グラフィ技術により主磁極ヨーク３４及び両リターンパ
スコア３６、３６に対応する部分を残して絶縁層４４に
対応する部分をエッチングして、図３（Ｂ）に示すよう
にこのエッチングした部分に絶縁材４８を蒸着法等によ
り形成する。尚、この絶縁材４８のコイル巻線側部に対
応する部分にもフォトリソグラフィ技術により例えば銅
を堆積させておく。
【００１２】次に、図３（Ｃ）に示すようにフェライ
ト、パーマロイ、センダスト、アモルファス等よりなる
磁性材料５０を、蒸着法等により全面に渡って形成す
る。この磁性材料５０は、上記下側のコア表面層４０を
形成する材料と同じでもよいし、異なるようにしてもよ
い。次に、図３（Ｄ）に示すように、フォトリソグラフ
ィ技術により主磁極３２、主磁極ヨーク３４及びリター
ンパスコア３６、３６に対応する部分を残して絶縁層４
４に対応する部分をエッチングにより削除し、更に、エ
ッチングした箇所に図３（Ｅ）に示すように絶縁材を蒸
着法等により堆積させる。これにより、主磁極３２、主
磁極ヨーク３４及び両リターンパスコア３６、３６のコ
ア中心層３８、３８が同一平面上に連続して同一材料に
より堆積形成されることになる。尚、第２層目の絶縁材
にもコイル巻線側部に対応する部分には、フォトリソグ
ラフィ技術により例えば銅を堆積させておく。
ト、パーマロイ、センダスト、アモルファス等よりなる
磁性材料５０を、蒸着法等により全面に渡って形成す
る。この磁性材料５０は、上記下側のコア表面層４０を
形成する材料と同じでもよいし、異なるようにしてもよ
い。次に、図３（Ｄ）に示すように、フォトリソグラフ
ィ技術により主磁極３２、主磁極ヨーク３４及びリター
ンパスコア３６、３６に対応する部分を残して絶縁層４
４に対応する部分をエッチングにより削除し、更に、エ
ッチングした箇所に図３（Ｅ）に示すように絶縁材を蒸
着法等により堆積させる。これにより、主磁極３２、主
磁極ヨーク３４及び両リターンパスコア３６、３６のコ
ア中心層３８、３８が同一平面上に連続して同一材料に
より堆積形成されることになる。尚、第２層目の絶縁材
にもコイル巻線側部に対応する部分には、フォトリソグ
ラフィ技術により例えば銅を堆積させておく。
【００１３】次に、図３（Ｆ）に示すように表面全体に
前記下側のコア表面層４０と同じ材料の磁性材料５２を
蒸着法等により堆積形成し、次いで、図３（Ｇ）示すよ
うに、この磁性材料５２から主磁極ヨーク３４及び両リ
ターンパスコア３６、３６に対応する部分を残して絶縁
層４４に対応する部分をエッチングして除去する。そし
て、図３（Ｈ）に示すようにこのエッチングした部分に
絶縁材を蒸着法等により堆積形成し、絶縁層４４の全体
を完成する。尚、この第３層目の絶縁材にもコイル巻線
側部に対応する部分には、フォトリソグラフィ技術によ
り例えば銅を堆積させ、これにより各層の絶縁材に堆積
させた銅が上下方向に連続して接続され、コイル巻線側
部を形成することになる。以上のようにして絶縁層４４
の全体を完成したならば、次に、リターンパスコア３
６、３６上に絶縁材を堆積させると共に、その上よりコ
イル４６、４６に対応する部分に例えば銅を蒸着法等に
より堆積することによりコイル巻線上側部を形成し、こ
れによりコイル４６、４６の全体も構成されることにな
る。
前記下側のコア表面層４０と同じ材料の磁性材料５２を
蒸着法等により堆積形成し、次いで、図３（Ｇ）示すよ
うに、この磁性材料５２から主磁極ヨーク３４及び両リ
ターンパスコア３６、３６に対応する部分を残して絶縁
層４４に対応する部分をエッチングして除去する。そし
て、図３（Ｈ）に示すようにこのエッチングした部分に
絶縁材を蒸着法等により堆積形成し、絶縁層４４の全体
を完成する。尚、この第３層目の絶縁材にもコイル巻線
側部に対応する部分には、フォトリソグラフィ技術によ
り例えば銅を堆積させ、これにより各層の絶縁材に堆積
させた銅が上下方向に連続して接続され、コイル巻線側
部を形成することになる。以上のようにして絶縁層４４
の全体を完成したならば、次に、リターンパスコア３
６、３６上に絶縁材を堆積させると共に、その上よりコ
イル４６、４６に対応する部分に例えば銅を蒸着法等に
より堆積することによりコイル巻線上側部を形成し、こ
れによりコイル４６、４６の全体も構成されることにな
る。
【００１４】次に、以上のように構成された本実施例の
作用について説明する。まず、本実施例においては、両
リターンパスコア３６、３６は図中において主磁極３２
の左右、すなわち主磁極３２に対してトラック幅方向に
配置されるので、磁束は記録トラック内から隔てられた
側方からリターンパスされるので、磁性体が記録媒体に
接しても疑似ギャップができず、従って、出力波形に歪
みが生ずることを抑制することが可能となる。また、リ
ターンパスコア３６を構成する各層、主磁極３２、主磁
極ヨーク３４を構成する各層及びコイル４６、４６は、
磁性材料を蒸着法等により堆積すると共に、微細加工が
可能なフォトリソグラフィ技術により形状を作製して形
成することができるので、従って、高精度な磁気ヘッド
の作製が可能となるのみならず、主磁極３２とリターン
パスコア３６との間隔Ｄも極力小さくできるので、再生
効率及びトラック密度も向上させることが可能となる。
作用について説明する。まず、本実施例においては、両
リターンパスコア３６、３６は図中において主磁極３２
の左右、すなわち主磁極３２に対してトラック幅方向に
配置されるので、磁束は記録トラック内から隔てられた
側方からリターンパスされるので、磁性体が記録媒体に
接しても疑似ギャップができず、従って、出力波形に歪
みが生ずることを抑制することが可能となる。また、リ
ターンパスコア３６を構成する各層、主磁極３２、主磁
極ヨーク３４を構成する各層及びコイル４６、４６は、
磁性材料を蒸着法等により堆積すると共に、微細加工が
可能なフォトリソグラフィ技術により形状を作製して形
成することができるので、従って、高精度な磁気ヘッド
の作製が可能となるのみならず、主磁極３２とリターン
パスコア３６との間隔Ｄも極力小さくできるので、再生
効率及びトラック密度も向上させることが可能となる。
【００１５】更に、上述した微細加工可能なフォトリソ
グラフィ技術により形成するので、全体の磁気回路を極
めて短くして磁気抵抗を極めて小さくでき、しかも基本
的には主磁極３２とリターンパスコア３６とを同一面上
に同一材料で形成すると共に、磁気飽和を避けるために
主磁極以外の磁気回路を３層構造としているために、効
率及び周波数特性も向上させることが可能となる。ま
た、技術的に確立した堆積法及びフォトリソグラフィ技
術を用いて主磁極３２やリターンパスコア３６の一部を
一度に形成することができるので、量産性も大幅に向上
させることが可能となる。尚、上記実施例にあっては、
メッキ法或いは蒸着法を用いて形成した場合について説
明したが、これに限定されず、また、図３に示す工程に
ついてもこれに限定されるものではない。
グラフィ技術により形成するので、全体の磁気回路を極
めて短くして磁気抵抗を極めて小さくでき、しかも基本
的には主磁極３２とリターンパスコア３６とを同一面上
に同一材料で形成すると共に、磁気飽和を避けるために
主磁極以外の磁気回路を３層構造としているために、効
率及び周波数特性も向上させることが可能となる。ま
た、技術的に確立した堆積法及びフォトリソグラフィ技
術を用いて主磁極３２やリターンパスコア３６の一部を
一度に形成することができるので、量産性も大幅に向上
させることが可能となる。尚、上記実施例にあっては、
メッキ法或いは蒸着法を用いて形成した場合について説
明したが、これに限定されず、また、図３に示す工程に
ついてもこれに限定されるものではない。
【００１６】また、本実施例にあっては、主磁極３２の
両側にリターンパスコア３６を設けた場合について説明
したが、これに限定されず、例えば図４に示すように主
磁極３２の片側のトラック幅方向にリターンパスコア３
６を設けるようにしてもよいし、また、リターンパスコ
ア３６の形状も図４に示すようにリング状に形成するよ
うにしてもよく、その形状は問わない。
両側にリターンパスコア３６を設けた場合について説明
したが、これに限定されず、例えば図４に示すように主
磁極３２の片側のトラック幅方向にリターンパスコア３
６を設けるようにしてもよいし、また、リターンパスコ
ア３６の形状も図４に示すようにリング状に形成するよ
うにしてもよく、その形状は問わない。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような優れた作用効果を発揮することができる。リタ
ーンパスコアを主磁極に対してトラック幅方向に設置す
ると共に、各構成部材を堆積法及びフォトリソグラフィ
技術を用いて形成するようにしたので、疑似信号の発生
を抑制することができるのみならず、精度及び信頼性も
大幅に向上させることができる。また、磁気回路も小さ
くすることができるので、効率及び周波数特性も向上さ
せることができる。更に、磁性材等を堆積させて各構成
部材を一度に形成することができるので、量産性も大幅
に向上させることができる。
のような優れた作用効果を発揮することができる。リタ
ーンパスコアを主磁極に対してトラック幅方向に設置す
ると共に、各構成部材を堆積法及びフォトリソグラフィ
技術を用いて形成するようにしたので、疑似信号の発生
を抑制することができるのみならず、精度及び信頼性も
大幅に向上させることができる。また、磁気回路も小さ
くすることができるので、効率及び周波数特性も向上さ
せることができる。更に、磁性材等を堆積させて各構成
部材を一度に形成することができるので、量産性も大幅
に向上させることができる。
【図１】本発明に係る垂直磁気ヘッドを示す平面図であ
る。
る。
【図２】図１に示す垂直磁気ヘッドの側面図である。
【図３】本発明に係る垂直磁気ヘッドの製造工程を説明
するための説明図である。
するための説明図である。
【図４】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図５】従来の垂直磁気ヘッドを示す平面図である。
【図６】疑似信号の発生を説明するための出力信号を示
すグラフである。
すグラフである。
【図７】従来の他の垂直磁気ヘッドを示す平面図であ
る。
る。
【図８】従来の更に他の垂直磁気ヘッドを示す平面図で
ある。
ある。
２…基板、４…第１磁性層、６…第２磁性層、８…記録
媒体、１０，２９…垂直磁気ヘッド、１２，２０，２
６，３２…主磁極、１４，３６…リターンパスコア、３
０…非磁性基板、３４…主磁極ヨーク、４４…絶縁層、
４６…コイル。
媒体、１０，２９…垂直磁気ヘッド、１２，２０，２
６，３２…主磁極、１４，３６…リターンパスコア、３
０…非磁性基板、３４…主磁極ヨーク、４４…絶縁層、
４６…コイル。
Claims (1)
- 【請求項１】 主磁極、リターンパスコア、コイル及び
絶縁層よりなり、２層膜構造の記録媒体を垂直磁化させ
る垂直磁気ヘッドにおいて、非磁性基板上に前記主磁
極、リターンパスコア、コイル及び絶縁層を堆積させて
形成すると共に、堆積時に前記リターンパスコアを前記
主磁極に対して前記記録媒体のトラック幅方向に配置す
るように構成したことを特徴とする垂直磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27859491A JPH0594603A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 垂直磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27859491A JPH0594603A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 垂直磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0594603A true JPH0594603A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=17599444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27859491A Pending JPH0594603A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 垂直磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0594603A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100704046B1 (ko) * | 1998-12-07 | 2007-04-05 | 좁스트 율리히 겔러트 | 리브가 형성된 캡을 구비한 사출 성형 냉각 코어 |
| JP2010146667A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
| US7768744B2 (en) | 2007-05-02 | 2010-08-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording write head with coplanar main pole and return poles and magnetic recording system |
| JP2011028843A (ja) * | 2010-10-06 | 2011-02-10 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
| JP2011034668A (ja) * | 2010-10-06 | 2011-02-17 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP27859491A patent/JPH0594603A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100704046B1 (ko) * | 1998-12-07 | 2007-04-05 | 좁스트 율리히 겔러트 | 리브가 형성된 캡을 구비한 사출 성형 냉각 코어 |
| US7768744B2 (en) | 2007-05-02 | 2010-08-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording write head with coplanar main pole and return poles and magnetic recording system |
| JP2010146667A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
| US8228627B2 (en) | 2008-12-19 | 2012-07-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic disk drive |
| JP2011028843A (ja) * | 2010-10-06 | 2011-02-10 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
| JP2011034668A (ja) * | 2010-10-06 | 2011-02-17 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド |
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