JP2701796B2 - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- G11B5/3146—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録装置に用いら
れる薄膜磁気ヘッドに関し、詳しくは、主再生波形の両
側に発生するアンダーシュート波形を低減することによ
り、信頼性の向上を図った薄膜磁気ヘッドに関する。
れる薄膜磁気ヘッドに関し、詳しくは、主再生波形の両
側に発生するアンダーシュート波形を低減することによ
り、信頼性の向上を図った薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録装置においては、情報を記録す
るには主としてハード磁性薄膜からなる磁気記録媒体
と、この磁気記録媒体にデータを書込み、さらに磁気記
録媒体からデータを再生する磁気ヘッドが必須要素とし
てあげられる。近年における磁気記録の高密度化の進展
においては、記録密度の向上のみならず、記録周波数の
向上も目ざましい。このような高密度記録を実現する磁
気ヘッドとしては、インダクタンスを小さくでき、かつ
再生効率の高い薄膜磁気ヘッドが一般的に用いられてい
る。薄膜磁気ヘッドは、ギャップを挟む両側の磁気ポー
ルが数μｍの厚さの薄膜で構成されているものである。
るには主としてハード磁性薄膜からなる磁気記録媒体
と、この磁気記録媒体にデータを書込み、さらに磁気記
録媒体からデータを再生する磁気ヘッドが必須要素とし
てあげられる。近年における磁気記録の高密度化の進展
においては、記録密度の向上のみならず、記録周波数の
向上も目ざましい。このような高密度記録を実現する磁
気ヘッドとしては、インダクタンスを小さくでき、かつ
再生効率の高い薄膜磁気ヘッドが一般的に用いられてい
る。薄膜磁気ヘッドは、ギャップを挟む両側の磁気ポー
ルが数μｍの厚さの薄膜で構成されているものである。
【０００３】図９は、第一従来例の薄膜磁気ヘッドを示
し、図９（ａ）は概略断面図であり、図９（ｂ）は再生
出力の波形図である。以下、これらの図面に基づき説明
する。
し、図９（ａ）は概略断面図であり、図９（ｂ）は再生
出力の波形図である。以下、これらの図面に基づき説明
する。
【０００４】第一従来例の薄膜磁気ヘッドは、薄膜軟磁
性体からなるとともに互いの基端部で１００ｄ，１０２
ｄで接続された第一の磁極層１００及び第二の磁極層１
０２と、第一の磁極層１００及び第二の磁極層１０２の
少なくともいずれかに巻回された薄膜コイル１０３と、
第一の磁極層１００の先端部１００ａと第二の磁極層１
０２の先端部１０２ａとの間に設けられた磁気ギャップ
層１０４とを備えたものである。
性体からなるとともに互いの基端部で１００ｄ，１０２
ｄで接続された第一の磁極層１００及び第二の磁極層１
０２と、第一の磁極層１００及び第二の磁極層１０２の
少なくともいずれかに巻回された薄膜コイル１０３と、
第一の磁極層１００の先端部１００ａと第二の磁極層１
０２の先端部１０２ａとの間に設けられた磁気ギャップ
層１０４とを備えたものである。
【０００５】記録媒体１０６では、互いに異なる磁化方
向１０８，１１０の境界に、孤立磁化遷移部１１２が形
成されている。記録媒体１０６が矢印１１３の方向へ移
動した場合、薄膜磁気ヘッドの再生出力には、第１の磁
極層１００の側端部１００ｂ及び第２の磁極層１０２の
側端部１０２ｂに対応して孤立再生波形主ピーク１１４
の両側に二つのアンダーシュート出力１１６が存在す
る。
向１０８，１１０の境界に、孤立磁化遷移部１１２が形
成されている。記録媒体１０６が矢印１１３の方向へ移
動した場合、薄膜磁気ヘッドの再生出力には、第１の磁
極層１００の側端部１００ｂ及び第２の磁極層１０２の
側端部１０２ｂに対応して孤立再生波形主ピーク１１４
の両側に二つのアンダーシュート出力１１６が存在す
る。
【０００６】孤立再生波形主ピーク１１４の両側に生じ
た逆極性のアンダーシュート出力１１６は、記録線密度
が増加し、隣接する孤立磁化遷移部１１２との距離が短
縮するにつれて、アンダーシュート出力１１６と孤立再
生波形主ピーク１１４とが干渉し合って、孤立再生波形
主ピーク１１４のピーク値を変動させる。そればかり
か、孤立再生波形主ピーク１１４のピーク位置も変化さ
せてしまう。
た逆極性のアンダーシュート出力１１６は、記録線密度
が増加し、隣接する孤立磁化遷移部１１２との距離が短
縮するにつれて、アンダーシュート出力１１６と孤立再
生波形主ピーク１１４とが干渉し合って、孤立再生波形
主ピーク１１４のピーク値を変動させる。そればかり
か、孤立再生波形主ピーク１１４のピーク位置も変化さ
せてしまう。
【０００７】アンダーシュート出力１１６は、記録媒体
１０６の孤立磁化遷移部１１２が、側端部１００ｂを通
過して第１の磁極層１００に入るとき及び第２の磁極層
１０２から側端部１０２ｂを通過して出るときに、孤立
磁化遷移部５０から発生している磁束の第１の磁極層１
００及び第２の磁極層１０２に流入する量が急変するこ
とにより生じている。
１０６の孤立磁化遷移部１１２が、側端部１００ｂを通
過して第１の磁極層１００に入るとき及び第２の磁極層
１０２から側端部１０２ｂを通過して出るときに、孤立
磁化遷移部５０から発生している磁束の第１の磁極層１
００及び第２の磁極層１０２に流入する量が急変するこ
とにより生じている。
【０００８】この逆極性のアンダーシュート出力１１６
を低減しようとする薄膜磁気ヘッドとして、次の第二従
来例が文献ＩＥＥＥ Ｔｒａｎ．ｏｎ Ｍａｇｎ.,ｖｏ
ｌ．２９，Ｎｏ．６，ｐｐ．３８３７−３８３９，（Ｎ
ｏｖ.,１９９３）に開示されている。図１０は第二従来
例の薄膜磁気ヘッドを示し、図１０（ａ）は一部を拡大
した概略断面図であり、図１０（ｂ）は再生出力の波形
図である。以下、これらの図面に基づき説明する。ただ
し、図９と同一部分は同一符号を付すことにより重複説
明を省略する。
を低減しようとする薄膜磁気ヘッドとして、次の第二従
来例が文献ＩＥＥＥ Ｔｒａｎ．ｏｎ Ｍａｇｎ.,ｖｏ
ｌ．２９，Ｎｏ．６，ｐｐ．３８３７−３８３９，（Ｎ
ｏｖ.,１９９３）に開示されている。図１０は第二従来
例の薄膜磁気ヘッドを示し、図１０（ａ）は一部を拡大
した概略断面図であり、図１０（ｂ）は再生出力の波形
図である。以下、これらの図面に基づき説明する。ただ
し、図９と同一部分は同一符号を付すことにより重複説
明を省略する。
【０００９】第二従来例の薄膜磁気ヘッドは、第１の磁
極層の先端部１００ａと第２の磁極層の先端部１０２ａ
とに、それぞれ凹部１００ｃ，１０２ｃが形成されてい
る。凹部１００ｃ，１０２ｃは、イオンエッチング，イ
オンミリング等の手法により先端部１００ａ，１０２ａ
の一部を除去したものである。これにより、第一従来例
に比べてアンダーシュート出力１１８の振幅が幾分小さ
くなっている。
極層の先端部１００ａと第２の磁極層の先端部１０２ａ
とに、それぞれ凹部１００ｃ，１０２ｃが形成されてい
る。凹部１００ｃ，１０２ｃは、イオンエッチング，イ
オンミリング等の手法により先端部１００ａ，１０２ａ
の一部を除去したものである。これにより、第一従来例
に比べてアンダーシュート出力１１８の振幅が幾分小さ
くなっている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、第二従
来例の薄膜磁気ヘッドでは、次のような問題があった。
来例の薄膜磁気ヘッドでは、次のような問題があった。
【００１１】．アンダーシュート出力１１８は、波形
がなだらかにはなっているが、依然として存在してい
る。このアンダーシュート波形の存在は、データパタン
による主ピークの位置ずれを引き起こし、磁気記録装置
の再生時に用いられるピーク検出方式での検出エラー率
を上昇させてしまう。
がなだらかにはなっているが、依然として存在してい
る。このアンダーシュート波形の存在は、データパタン
による主ピークの位置ずれを引き起こし、磁気記録装置
の再生時に用いられるピーク検出方式での検出エラー率
を上昇させてしまう。
【００１２】．先端部１００ａ，１０２ａの一部を削
除すると、磁気ギャップ１０４を挟む両側の先端部１０
０ａ，１０２ａが薄くなる。すると、記録電流による先
端部１００ａ，１０２ａの磁気的飽和が生じて、記録媒
体１０６の磁化遷移の幅が広くなることにより、高密度
記録での出力低下が生じる。
除すると、磁気ギャップ１０４を挟む両側の先端部１０
０ａ，１０２ａが薄くなる。すると、記録電流による先
端部１００ａ，１０２ａの磁気的飽和が生じて、記録媒
体１０６の磁化遷移の幅が広くなることにより、高密度
記録での出力低下が生じる。
【００１３】．凹部１００ｃ，１０２ｃは、その形状
から必然的にゴミや汚染物質が溜まりやすい。したがっ
て、このような薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気記録装置
の信頼性が低下する。
から必然的にゴミや汚染物質が溜まりやすい。したがっ
て、このような薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気記録装置
の信頼性が低下する。
【００１４】．先端部１００ａ，１０２ａの一部を削
除するには、薄膜磁気ヘッドの磁気浮上面側から加工す
る必要がある。すなわち、薄膜磁気ヘッドのウェーハか
らスライダ加工用のローを切り出した後に、このローの
一本づつに対して露光，イオンミリング等を行うことに
より、凹部１００ｃ，１０２ｃを形成しなければならな
い。したがって、一度に大量に処理するウェーハプロセ
スを利用できないため、量産性が極めて悪い。
除するには、薄膜磁気ヘッドの磁気浮上面側から加工す
る必要がある。すなわち、薄膜磁気ヘッドのウェーハか
らスライダ加工用のローを切り出した後に、このローの
一本づつに対して露光，イオンミリング等を行うことに
より、凹部１００ｃ，１０２ｃを形成しなければならな
い。したがって、一度に大量に処理するウェーハプロセ
スを利用できないため、量産性が極めて悪い。
【００１５】
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、孤立再生波形
の主ピーク両側に存在するアンダーシュートの低減，磁
極層の先端部における磁気的飽和の回避，ゴミ等が付着
しにくい構造，量産性の向上等を達成できる、薄膜磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
の主ピーク両側に存在するアンダーシュートの低減，磁
極層の先端部における磁気的飽和の回避，ゴミ等が付着
しにくい構造，量産性の向上等を達成できる、薄膜磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る薄膜磁気ヘ
ッドは、薄膜軟磁性体からなるとともに互いの基端部が
接続された第一の磁極層及び第二の磁極層と、これらの
第一の磁極層及び第二の磁極層の少なくともいずれかに
巻回された薄膜コイルと、前記第一の磁極層の先端部と
前記第二の磁極層の先端部との間に設けられた磁気ギャ
ップ層とを備えた薄膜磁気ヘッドを改良したものであ
る。すなわち、請求項１記載の薄膜磁気ヘッドは、前記
第一の磁極層及び第二の磁極層の少なくともいずれか一
方の先端部に、記録媒体に対向する面に沿って、薄膜軟
磁性体からなる付加磁極層が磁気的絶縁層を介して設け
られ、なおかつ、前記付加磁極層が前記磁気的絶縁層と
交互に複数積層されていることを特徴とするものであ
る。
ッドは、薄膜軟磁性体からなるとともに互いの基端部が
接続された第一の磁極層及び第二の磁極層と、これらの
第一の磁極層及び第二の磁極層の少なくともいずれかに
巻回された薄膜コイルと、前記第一の磁極層の先端部と
前記第二の磁極層の先端部との間に設けられた磁気ギャ
ップ層とを備えた薄膜磁気ヘッドを改良したものであ
る。すなわち、請求項１記載の薄膜磁気ヘッドは、前記
第一の磁極層及び第二の磁極層の少なくともいずれか一
方の先端部に、記録媒体に対向する面に沿って、薄膜軟
磁性体からなる付加磁極層が磁気的絶縁層を介して設け
られ、なおかつ、前記付加磁極層が前記磁気的絶縁層と
交互に複数積層されていることを特徴とするものであ
る。
【００１７】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、非磁性基板に薄膜軟磁性体からなる第一の磁極層を
形成する第一の工程と、この第一の磁極層の上に磁気ギ
ャップ層及び薄膜コイルを形成する第二の工程と、この
磁気ギャップ層及び薄膜コイルの上に薄膜軟磁性体から
なる第二の磁極層を形成する第三の工程とを備えたこと
により、第一の磁極層及び第二の磁極層の基端部を接続
し、前記薄膜コイルを前記第一の磁極層及び第二の磁極
層の少なくともいずれかに巻回し、前記第一の磁極層の
先端部と前記第二の磁極層の先端部との間に前記磁気ギ
ャップ層を設ける薄膜磁気ヘッドの製造方法を改良した
ものである。すなわち、請求項２記載の薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、前記第一の工程と前記第二の工程の間
に、前記第一の磁極層の先端部の上に磁気的絶縁層を介
して薄膜軟磁性体からなる付加磁極層を設けることを特
徴とするものである。請求項３記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法は、前記第二の工程と前記第三の工程の間に、
前記第二の磁極層の先端部の下に磁気的絶縁層を介して
薄膜軟磁性体からなる付加磁極層を設けることを特徴と
するものである。請求項４記載の薄膜磁気ヘッドの製造
方法は、前記第一の工程の前に、前記第一の磁極層の先
端部の下に磁気的絶縁層を介して薄膜軟磁性体からなる
付加磁極層を設け、このとき、非磁性基板に凹部を形成
し、この凹部に前記付加磁極層又は前記付加磁極層及び
前記磁気的絶縁層を設けることを特徴とするものであ
る。
は、非磁性基板に薄膜軟磁性体からなる第一の磁極層を
形成する第一の工程と、この第一の磁極層の上に磁気ギ
ャップ層及び薄膜コイルを形成する第二の工程と、この
磁気ギャップ層及び薄膜コイルの上に薄膜軟磁性体から
なる第二の磁極層を形成する第三の工程とを備えたこと
により、第一の磁極層及び第二の磁極層の基端部を接続
し、前記薄膜コイルを前記第一の磁極層及び第二の磁極
層の少なくともいずれかに巻回し、前記第一の磁極層の
先端部と前記第二の磁極層の先端部との間に前記磁気ギ
ャップ層を設ける薄膜磁気ヘッドの製造方法を改良した
ものである。すなわち、請求項２記載の薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、前記第一の工程と前記第二の工程の間
に、前記第一の磁極層の先端部の上に磁気的絶縁層を介
して薄膜軟磁性体からなる付加磁極層を設けることを特
徴とするものである。請求項３記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法は、前記第二の工程と前記第三の工程の間に、
前記第二の磁極層の先端部の下に磁気的絶縁層を介して
薄膜軟磁性体からなる付加磁極層を設けることを特徴と
するものである。請求項４記載の薄膜磁気ヘッドの製造
方法は、前記第一の工程の前に、前記第一の磁極層の先
端部の下に磁気的絶縁層を介して薄膜軟磁性体からなる
付加磁極層を設け、このとき、非磁性基板に凹部を形成
し、この凹部に前記付加磁極層又は前記付加磁極層及び
前記磁気的絶縁層を設けることを特徴とするものであ
る。
【００１８】
【作用】請求項１記載の薄膜磁気ヘッドは、第一の磁極
層及び第二の磁極層の少なくともいずれか一方の先端部
に、記録媒体に対向する面に沿って、薄膜軟磁性体から
なる付加磁極層が磁気的絶縁層を介して設けられ、なお
かつ、付加磁極層が磁気的絶縁層と交互に複数積層され
ている。すなわち、磁極層の先端部の先端が増加する結
果、孤立磁化遷移からの再生波形においてアンダーシュ
ート出力が時間的に広く分散することにより、アンダー
シュート出力の振幅が小さくなる。また、磁極層の先端
部が比較的薄くならないので磁気的飽和が生じにくい。
さらに、磁極層の先端部の先端は、磁気的絶縁層を有す
ることにより平坦となっているので、ゴミ等が付着しに
くい。
層及び第二の磁極層の少なくともいずれか一方の先端部
に、記録媒体に対向する面に沿って、薄膜軟磁性体から
なる付加磁極層が磁気的絶縁層を介して設けられ、なお
かつ、付加磁極層が磁気的絶縁層と交互に複数積層され
ている。すなわち、磁極層の先端部の先端が増加する結
果、孤立磁化遷移からの再生波形においてアンダーシュ
ート出力が時間的に広く分散することにより、アンダー
シュート出力の振幅が小さくなる。また、磁極層の先端
部が比較的薄くならないので磁気的飽和が生じにくい。
さらに、磁極層の先端部の先端は、磁気的絶縁層を有す
ることにより平坦となっているので、ゴミ等が付着しに
くい。
【００１９】請求項２記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、従来の第一の工程と前記第二の工程の間に、前記第
一の磁極層の先端部の上に磁気的絶縁層を介して薄膜軟
磁性体からなる付加磁極層を設ける工程を有している。
磁気的絶縁層及び付加磁極層は、どちらもウェーハプロ
セスで形成可能である。したがって、ウェーハプロセス
を用いて一度に大量に処理される。請求項３及び４記載
の薄膜磁気ヘッドの製造方法の基本的な作用もほぼ同様
である。
は、従来の第一の工程と前記第二の工程の間に、前記第
一の磁極層の先端部の上に磁気的絶縁層を介して薄膜軟
磁性体からなる付加磁極層を設ける工程を有している。
磁気的絶縁層及び付加磁極層は、どちらもウェーハプロ
セスで形成可能である。したがって、ウェーハプロセス
を用いて一度に大量に処理される。請求項３及び４記載
の薄膜磁気ヘッドの製造方法の基本的な作用もほぼ同様
である。
【００２０】
【実施例】図１及び図２は本発明の前提となる薄膜磁気
ヘッドの第一参考例を示し、図１は概略断面図であり、
図２（ａ）は一部を拡大した概略断面図であり、図２
（ｂ）は再生出力の波形図である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図９と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。
ヘッドの第一参考例を示し、図１は概略断面図であり、
図２（ａ）は一部を拡大した概略断面図であり、図２
（ｂ）は再生出力の波形図である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図９と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。
【００２１】本参考例の薄膜磁気ヘッドは、ニッケル鉄
合金からなるとともに互いの基端部１００ｄ，１０２ｄ
が接続された第一の磁極層１００及び第二の磁極層１０
２と、第二の磁極層１０２に巻回された薄膜コイル１０
３と、第一の磁極層１００の先端部１０ａと第二の磁極
層１０２の先端部１２ａとの間に設けられた酸化アルミ
ニウムからなる磁気ギャップ層１０４とを備えている。
そして、先端部１０ａ，１２ａが、記録媒体に対向する
面１２（図２）に沿って、それぞれ酸化アルミニウムか
らなる磁気的絶縁層１０ｃ，１２ｃを介して二つに分か
れている。これにより、先端部１０ａには小先端１０
ｅ，１０ｆ（図２）、先端部１２ａには小先端１２ｅ，
１２ｆ（図２）がそれぞれ形成されている。磁気的絶縁
層１０ｃ，１２ｃは、例えばスパッタリング，フォトリ
ソグラフィ，ドライエッチング等の薄膜形成技術によっ
て得られる。この場合は、第一の磁極層１００及び第二
の磁極層１０２は多層構造となる。
合金からなるとともに互いの基端部１００ｄ，１０２ｄ
が接続された第一の磁極層１００及び第二の磁極層１０
２と、第二の磁極層１０２に巻回された薄膜コイル１０
３と、第一の磁極層１００の先端部１０ａと第二の磁極
層１０２の先端部１２ａとの間に設けられた酸化アルミ
ニウムからなる磁気ギャップ層１０４とを備えている。
そして、先端部１０ａ，１２ａが、記録媒体に対向する
面１２（図２）に沿って、それぞれ酸化アルミニウムか
らなる磁気的絶縁層１０ｃ，１２ｃを介して二つに分か
れている。これにより、先端部１０ａには小先端１０
ｅ，１０ｆ（図２）、先端部１２ａには小先端１２ｅ，
１２ｆ（図２）がそれぞれ形成されている。磁気的絶縁
層１０ｃ，１２ｃは、例えばスパッタリング，フォトリ
ソグラフィ，ドライエッチング等の薄膜形成技術によっ
て得られる。この場合は、第一の磁極層１００及び第二
の磁極層１０２は多層構造となる。
【００２２】本参考例の薄膜磁気ヘッドでは、先端部１
０ａ，１２ａの先端が小先端１０ｅ，１０ｆ，１２ｅ，
１２ｆ（図２）となって増加している。その結果、孤立
磁化遷移からの再生波形は、図２（ｂ）に示すように、
アンダーシュート出力１４が広く分散することにより、
アンダーシュート出力１４の振幅が無視できる程度に小
さくなっている。しかも、第二従来例に比べて、先端部
１０ａ，１２ａが薄くならないので磁気的飽和が生じに
くく、かつ、先端部１０ａ，１２ａの先端が平坦である
のでゴミ等が付着しにくい。
０ａ，１２ａの先端が小先端１０ｅ，１０ｆ，１２ｅ，
１２ｆ（図２）となって増加している。その結果、孤立
磁化遷移からの再生波形は、図２（ｂ）に示すように、
アンダーシュート出力１４が広く分散することにより、
アンダーシュート出力１４の振幅が無視できる程度に小
さくなっている。しかも、第二従来例に比べて、先端部
１０ａ，１２ａが薄くならないので磁気的飽和が生じに
くく、かつ、先端部１０ａ，１２ａの先端が平坦である
のでゴミ等が付着しにくい。
【００２３】図３は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第一
実施例を示す工程図であり、図３（ａ）〜（ｄ）の順に
製造される。以下、この図面に基づき説明する。
実施例を示す工程図であり、図３（ａ）〜（ｄ）の順に
製造される。以下、この図面に基づき説明する。
【００２４】まず、非磁性基板（図示せず）上に、ニッ
ケル鉄合金からなる第１の磁極層２０をフレームめっき
法によって形成する。続いて、絶縁層を介して銅からな
る薄膜コイル２２をめっき法により形成し、フォトレジ
ストのような有機絶縁膜２４で段差を解消する〔図３
（ａ）〕。続いて、酸化アルミニウムからなる磁気ギャ
ップ層２６を形成し、磁気ギャップ層２６の上にニッケ
ル鉄合金からなる付加磁極層２８をめっき法により形成
する〔図３（ｂ）〕。再び、絶縁層を介して銅からなる
薄膜コイル３０をめっき法により形成し、フォトレジス
トのような有機絶縁膜３２で段差を解消する〔図３
（ｃ）〕。最後に、酸化アルミニウムからなる磁気的絶
縁層３４を付加磁極層２８上に形成し、第２の磁極層３
６をニッケル鉄フレームめっき法により形成し、所定の
形状に切断及びラッピングを行う〔図３（ｄ）〕。
ケル鉄合金からなる第１の磁極層２０をフレームめっき
法によって形成する。続いて、絶縁層を介して銅からな
る薄膜コイル２２をめっき法により形成し、フォトレジ
ストのような有機絶縁膜２４で段差を解消する〔図３
（ａ）〕。続いて、酸化アルミニウムからなる磁気ギャ
ップ層２６を形成し、磁気ギャップ層２６の上にニッケ
ル鉄合金からなる付加磁極層２８をめっき法により形成
する〔図３（ｂ）〕。再び、絶縁層を介して銅からなる
薄膜コイル３０をめっき法により形成し、フォトレジス
トのような有機絶縁膜３２で段差を解消する〔図３
（ｃ）〕。最後に、酸化アルミニウムからなる磁気的絶
縁層３４を付加磁極層２８上に形成し、第２の磁極層３
６をニッケル鉄フレームめっき法により形成し、所定の
形状に切断及びラッピングを行う〔図３（ｄ）〕。
【００２５】本実施例の薄膜磁気ヘッドでは、付加磁極
層２８が第２の磁極層３６の近傍にのみ設けられてい
る。この場合においても、孤立再生波形の一方のアンダ
ーシュート波形を低減できる。また、本実施例で示した
薄膜磁気ヘッドの製造方法は、全てウェーハプロセスで
可能であるので、大量生産に適している。
層２８が第２の磁極層３６の近傍にのみ設けられてい
る。この場合においても、孤立再生波形の一方のアンダ
ーシュート波形を低減できる。また、本実施例で示した
薄膜磁気ヘッドの製造方法は、全てウェーハプロセスで
可能であるので、大量生産に適している。
【００２６】図４は本発明の前提となる薄膜磁気ヘッド
の第二参考例を示す工程図であり、図４（ａ）〜（ｃ）
の順に製造される。以下、この図面に基づき説明する。
ただし、図９と同一部分は同一符号を付すことにより重
複説明を省略する。
の第二参考例を示す工程図であり、図４（ａ）〜（ｃ）
の順に製造される。以下、この図面に基づき説明する。
ただし、図９と同一部分は同一符号を付すことにより重
複説明を省略する。
【００２７】まず、図４（ａ）に示すように、従来の方
法により薄膜磁気ヘッドを形成する。続いて、第２の磁
極層１０２の上に、酸化アルミニウムからなる磁気的絶
縁層４０をスパッタ成膜，フォトレジスト露光，イオン
ミリング等の工程で形成する。さらに、磁気的絶縁層４
０の上に、付加磁極層４２をニッケル鉄めっき法により
形成する〔図４（ｂ）〕。最後に、所定の形状に切断及
びラッピングを行う〔図４（ｃ）〕。本参考例の薄膜磁
気ヘッド及びその製造方法も、第一実施例と同様の作用
・効果を奏する。
法により薄膜磁気ヘッドを形成する。続いて、第２の磁
極層１０２の上に、酸化アルミニウムからなる磁気的絶
縁層４０をスパッタ成膜，フォトレジスト露光，イオン
ミリング等の工程で形成する。さらに、磁気的絶縁層４
０の上に、付加磁極層４２をニッケル鉄めっき法により
形成する〔図４（ｂ）〕。最後に、所定の形状に切断及
びラッピングを行う〔図４（ｃ）〕。本参考例の薄膜磁
気ヘッド及びその製造方法も、第一実施例と同様の作用
・効果を奏する。
【００２８】図５は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第二
実施例を示す工程図であり、図５（ａ）〜（ｇ）の順に
製造される。以下、この図面に基づき説明する。
実施例を示す工程図であり、図５（ａ）〜（ｇ）の順に
製造される。以下、この図面に基づき説明する。
【００２９】まず、非磁性基板４４を用意する〔図５
（ａ）〕。続いて、非磁性基板４４の付加磁極層を形成
すべき位置に、予めフォトレジストの露光現像及びイオ
ンミリング等により凹部パタン４６を設ける〔図５
（ｂ）〕。続いて、付加磁極層となるニッケル鉄合金層
４８ａをめっき法により形成する〔図５（ｃ）〕。続い
て、平面ラップ法又はエッチバック法によりニッケル鉄
合金層４８ａの不要部分を除去し、付加磁極層４８を形
成する〔図５（ｄ）〕。続いて、非磁性基板４４の上に
酸化アルミニウムからなる磁気的絶縁層５０を付加磁極
層４８の一部を除いて形成する〔図５（ｅ）〕。続い
て、めっき法又はスパッタリング法等により、第１の磁
極層５２を形成する〔図５（ｆ）〕。続いて、特に図示
しないが、前述の実施例と同様に、薄膜コイル，磁気ギ
ャップ層，第２の磁極層等を形成し、最後に所定の形状
に切断及びラッピングを行う〔図５（ｇ）〕。本実施例
の薄膜磁気ヘッド及びその製造方法も、第一実施例と同
様の作用・効果を奏する。特に、本実施例は、第１の磁
極層５２の下に付加磁極層４８を設ける場合に、第１の
磁極層５２以上の各薄膜が平坦化することにより、薄膜
が段差で薄くなる現象を回避できる。
（ａ）〕。続いて、非磁性基板４４の付加磁極層を形成
すべき位置に、予めフォトレジストの露光現像及びイオ
ンミリング等により凹部パタン４６を設ける〔図５
（ｂ）〕。続いて、付加磁極層となるニッケル鉄合金層
４８ａをめっき法により形成する〔図５（ｃ）〕。続い
て、平面ラップ法又はエッチバック法によりニッケル鉄
合金層４８ａの不要部分を除去し、付加磁極層４８を形
成する〔図５（ｄ）〕。続いて、非磁性基板４４の上に
酸化アルミニウムからなる磁気的絶縁層５０を付加磁極
層４８の一部を除いて形成する〔図５（ｅ）〕。続い
て、めっき法又はスパッタリング法等により、第１の磁
極層５２を形成する〔図５（ｆ）〕。続いて、特に図示
しないが、前述の実施例と同様に、薄膜コイル，磁気ギ
ャップ層，第２の磁極層等を形成し、最後に所定の形状
に切断及びラッピングを行う〔図５（ｇ）〕。本実施例
の薄膜磁気ヘッド及びその製造方法も、第一実施例と同
様の作用・効果を奏する。特に、本実施例は、第１の磁
極層５２の下に付加磁極層４８を設ける場合に、第１の
磁極層５２以上の各薄膜が平坦化することにより、薄膜
が段差で薄くなる現象を回避できる。
【００３０】図６は、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第
三実施例を示す概略断面図である。以下、この図面に基
づき説明する。
三実施例を示す概略断面図である。以下、この図面に基
づき説明する。
【００３１】本実施例の薄膜磁気ヘッドは、ニッケル鉄
合金からなるとともに互いの基端部５４ａ，５６ａが接
続された第一の磁極層５４及び第二の磁極層５６と、第
二の磁極層５６に巻回された薄膜コイル５８と、第一の
磁極層５４の先端部５４ｂと第二の磁極層５６の先端部
５６ｂとの間に設けられた磁気ギャップ層５８とを備え
ている。そして、先端部５４ｂに記録媒体に対向する面
６０に沿って、ニッケル鉄合金からなる第一の付加磁極
層５４ｃが酸化アルミニウムからなる第一の磁気的絶縁
層５４ｄを介して設けられている。同様に、先端部５６
ｂに記録媒体に対向する面６０に沿って、ニッケル鉄合
金からなる第二の付加磁極層５６ｃが酸化アルミニウム
からなる第二の磁気的絶縁層５６ｄを介して設けられて
いる。
合金からなるとともに互いの基端部５４ａ，５６ａが接
続された第一の磁極層５４及び第二の磁極層５６と、第
二の磁極層５６に巻回された薄膜コイル５８と、第一の
磁極層５４の先端部５４ｂと第二の磁極層５６の先端部
５６ｂとの間に設けられた磁気ギャップ層５８とを備え
ている。そして、先端部５４ｂに記録媒体に対向する面
６０に沿って、ニッケル鉄合金からなる第一の付加磁極
層５４ｃが酸化アルミニウムからなる第一の磁気的絶縁
層５４ｄを介して設けられている。同様に、先端部５６
ｂに記録媒体に対向する面６０に沿って、ニッケル鉄合
金からなる第二の付加磁極層５６ｃが酸化アルミニウム
からなる第二の磁気的絶縁層５６ｄを介して設けられて
いる。
【００３２】第一の付加磁極層５４ｃ及び第一の磁気的
絶縁層５４ｄは、第二実施例に示す方法により形成され
ている。第二の付加磁極層５６ｃ及び第二の磁気的絶縁
層５６ｄは、第二参考例に示す方法により形成されてい
る。本実施例の薄膜磁気ヘッドは、第一の磁極層５４に
第一の付加磁極層５４ｃが設けられ、かつ、第二の磁極
層５６に第二の付加磁極層５６ｃが設けられているの
で、第一参考例と同様の作用・効果を奏する。
絶縁層５４ｄは、第二実施例に示す方法により形成され
ている。第二の付加磁極層５６ｃ及び第二の磁気的絶縁
層５６ｄは、第二参考例に示す方法により形成されてい
る。本実施例の薄膜磁気ヘッドは、第一の磁極層５４に
第一の付加磁極層５４ｃが設けられ、かつ、第二の磁極
層５６に第二の付加磁極層５６ｃが設けられているの
で、第一参考例と同様の作用・効果を奏する。
【００３３】図７は、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第
三参考例を示す概略断面図である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図６と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。
三参考例を示す概略断面図である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図６と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。
【００３４】本参考例の薄膜磁気ヘッドでは、第一の付
加磁極層６２ｃが第一の磁気的絶縁層６２ｄを介して第
一の磁極層５４の先端部５４ｂに設けられ、第二の付加
磁極層６４ｃが第二の磁気的絶縁層６４ｄを介して第二
の磁極層５６の先端部５６ｂに設けられている。ところ
が、第一の付加磁極層６２ｃは第一の磁極層５４に接し
ていないし、第二の付加磁極層６４ｃも第二の磁極層５
６に接していない。このような構造でも、孤立再生波形
のアンダーシュート出力を低減できる。
加磁極層６２ｃが第一の磁気的絶縁層６２ｄを介して第
一の磁極層５４の先端部５４ｂに設けられ、第二の付加
磁極層６４ｃが第二の磁気的絶縁層６４ｄを介して第二
の磁極層５６の先端部５６ｂに設けられている。ところ
が、第一の付加磁極層６２ｃは第一の磁極層５４に接し
ていないし、第二の付加磁極層６４ｃも第二の磁極層５
６に接していない。このような構造でも、孤立再生波形
のアンダーシュート出力を低減できる。
【００３５】図８は、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第
四実施例を示す概略断面図である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図７と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。
四実施例を示す概略断面図である。以下、この図面に基
づき説明する。ただし、図７と同一部分は同一符号を付
すことにより重複説明を省略する。
【００３６】本実施例の薄膜磁気ヘッドでは、第三の付
加磁極層６２ｅが第三の磁気的絶縁層６２ｆを介して第
一の付加磁極層６２ｃに設けられ、第四の付加磁極層６
２ｇが第四の磁気的絶縁層６２ｈを介して第三の付加磁
極層６２ｅに設けられ、第五の付加磁極層６４ｅが第五
の磁気的絶縁層６４ｆを介して第二の付加磁極層６４ｃ
に設けられ、第六の付加磁極層６２ｇが第六の磁気的絶
縁層６２ｈを介して第五の付加磁極層６２ｅに設けられ
ている。この場合は、孤立再生波形のアンダーシュート
出力が時間的にさらに広く分散することにより、アンダ
ーシュート出力のピーク高さが大きく減少する。
加磁極層６２ｅが第三の磁気的絶縁層６２ｆを介して第
一の付加磁極層６２ｃに設けられ、第四の付加磁極層６
２ｇが第四の磁気的絶縁層６２ｈを介して第三の付加磁
極層６２ｅに設けられ、第五の付加磁極層６４ｅが第五
の磁気的絶縁層６４ｆを介して第二の付加磁極層６４ｃ
に設けられ、第六の付加磁極層６２ｇが第六の磁気的絶
縁層６２ｈを介して第五の付加磁極層６２ｅに設けられ
ている。この場合は、孤立再生波形のアンダーシュート
出力が時間的にさらに広く分散することにより、アンダ
ーシュート出力のピーク高さが大きく減少する。
【００３７】
【発明の効果】請求項１記載の薄膜磁気ヘッドによれ
ば、磁極層の先端部の先端を増加させているので、孤立
磁化遷移からの再生波形においてアンダーシュート出力
を時間的に広く分散でき、これによりアンダーシュート
出力の振幅を小さくできる。また、磁極層の先端部を薄
くしなくてもよいので、磁極層の先端部の磁気的飽和を
回避できる。さらに、磁極層の先端部の先端は、磁気的
絶縁層を有することにより平坦となっているので、ゴミ
等を付着しにくくでき、信頼性を向上できる。
ば、磁極層の先端部の先端を増加させているので、孤立
磁化遷移からの再生波形においてアンダーシュート出力
を時間的に広く分散でき、これによりアンダーシュート
出力の振幅を小さくできる。また、磁極層の先端部を薄
くしなくてもよいので、磁極層の先端部の磁気的飽和を
回避できる。さらに、磁極層の先端部の先端は、磁気的
絶縁層を有することにより平坦となっているので、ゴミ
等を付着しにくくでき、信頼性を向上できる。
【００３８】請求項２乃至４記載の薄膜磁気ヘッドの製
造方法によれば、磁気的絶縁層及び付加磁極層をウェー
ハプロセスを用いて形成できるので、一度に大量に処理
できることから、量産性を向上できる。
造方法によれば、磁気的絶縁層及び付加磁極層をウェー
ハプロセスを用いて形成できるので、一度に大量に処理
できることから、量産性を向上できる。
【図１】本発明の前提となる薄膜磁気ヘッドの第一参考
例を示す概略断面図である。
例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の前提となる薄膜磁気ヘッドの第一参考
例を示し、図２は（ａ）は一部を拡大した概略断面図で
あり、図２（ｂ）は再生出力の波形図である。
例を示し、図２は（ａ）は一部を拡大した概略断面図で
あり、図２（ｂ）は再生出力の波形図である。
【図３】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第一実施例を示
す工程図であり、図３（ａ）〜（ｄ）の順に製造され
る。
す工程図であり、図３（ａ）〜（ｄ）の順に製造され
る。
【図４】本発明の前提となる薄膜磁気ヘッドの第二参考
例を示す工程図であり、図４（ａ）〜（ｃ）の順に製造
される。
例を示す工程図であり、図４（ａ）〜（ｃ）の順に製造
される。
【図５】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第二実施例を示
す工程図であり、図５（ａ）〜（ｇ）の順に製造され
る。
す工程図であり、図５（ａ）〜（ｇ）の順に製造され
る。
【図６】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第三実施例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図７】本発明の前提となる薄膜磁気ヘッドの第三参考
例を示す概略断面図である。
例を示す概略断面図である。
【図８】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの第四実施例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図９】第一従来例の薄膜磁気ヘッドを示し、図９
（ａ）は概略断面図であり、図９（ｂ）は再生出力の波
形図である。
（ａ）は概略断面図であり、図９（ｂ）は再生出力の波
形図である。
【図１０】第二従来例の薄膜磁気ヘッドを示し、図１０
（ａ）は一部を拡大した概略断面図であり、図１０
（ｂ）は再生出力の波形図である。
（ａ）は一部を拡大した概略断面図であり、図１０
（ｂ）は再生出力の波形図である。
１０ａ 第一の磁極層の先端部 １２ａ 第二の磁極層の先端部 １０ｃ，１２ｃ 磁気的絶縁層 １００ 第一の磁極層 １００ｄ 第一の磁極層の基端部 １０２ 第二の磁極層 １０２ｄ 第二の磁極層の基端部 １０３ 薄膜コイル １０４ 磁気ギャップ層
Claims (4)
- 【請求項１】 薄膜軟磁性体からなるとともに互いの基
端部が接続された第一の磁極層及び第二の磁極層と、こ
れらの第一の磁極層及び第二の磁極層の少なくともいず
れかに巻回された薄膜コイルと、前記第一の磁極層の先
端部と前記第二の磁極層の先端部との間に設けられた磁
気ギャップ層とを備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記第一の磁極層及び第二の磁極層の少なくともいずれ
か一方の先端部が、記録媒体に対向する面に沿って、薄
膜軟磁性体からなる付加磁極層が磁気的絶縁層を介して
設けられ、 なおかつ、当該付加磁極層が当該磁気的絶縁層と交互に
複数積層されている ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 非磁性基板に薄膜軟磁性体からなる第一
の磁極層を形成する第一の工程と、この第一の磁極層の
上に磁気ギャップ層及び薄膜コイルを形成する第二の工
程と、この磁気ギャップ層及び薄膜コイルの上に薄膜軟
磁性体からなる第二の磁極層を形成する第三の工程とを
備えたことにより、第一の磁極層及び第二の磁極層の基
端部を接続し、前記薄膜コイルを前記第一の磁極層及び
第二の磁極層の少なくともいずれかに巻回し、前記第一
の磁極層の先端部と前記第二の磁極層の先端部との間に
前記磁気ギャップ層を設ける薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、 前記第一の工程と前記第二の工程の間に、前記第一の磁
極層の先端部の上に磁気的絶縁層を介して薄膜軟磁性体
からなる付加磁極層を設けることを特徴とする薄膜磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 非磁性基板に薄膜軟磁性体からなる第一
の磁極層を形成する第一の工程と、この第一の磁極層の
上に磁気ギャップ層及び薄膜コイルを形成する第二の工
程と、この磁気ギャップ層及び薄膜コイルの上に薄膜軟
磁性体からなる第二の磁極層を形成する第三の工程とを
備えたことにより、第一の磁極層及び第二の磁極層の基
端部を接続し、前記薄膜コイルを前記第一の磁極層及び
第二の磁極層の少なくともいずれかに巻回し、前記第一
の磁極層の先端部と前記第二の磁極層の先端部との間に
前記磁気ギャップ層を設ける薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、 前記第二の工程と前記第三の工程の間に、前記第二の磁
極層の先端部の下に磁気的絶縁層を介して薄膜軟磁性体
からなる付加磁極層を設けることを特徴とする薄膜磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 非磁性基板に薄膜軟磁性体からなる第一
の磁極層を形成する第一の工程と、この第一の磁極層の
上に磁気ギャップ層及び薄膜コイルを形成する第二の工
程と、この磁気ギャップ層及び薄膜コイルの上に薄膜軟
磁性体からなる第二の磁極層を形成する第三の工程とを
備えたことにより、第一の磁極層及び第二の磁極層の基
端部を接続し、前記薄膜コイルを前記第一の磁極層及び
第二の磁極層の少なくともいずれかに巻回し、前記第一
の磁極層の先端部と前記第二の磁極層の先端部との間に
前記磁気ギャップ層を設ける薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、前記第一の工程の前に、前記第一の磁極層の先端部の下
に磁気的絶縁層を介して薄膜軟磁性体からなる付加磁極
層を設け、 このとき、前記非磁性基板に凹部を形成し、この凹部に
前記付加磁極層又は前記付加磁極層及び前記磁気的絶縁
層を設ける ことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
法。
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