JPS60157202A - 膜抵抗体のトリミング方法 - Google Patents
膜抵抗体のトリミング方法Info
- Publication number
- JPS60157202A JPS60157202A JP59012768A JP1276884A JPS60157202A JP S60157202 A JPS60157202 A JP S60157202A JP 59012768 A JP59012768 A JP 59012768A JP 1276884 A JP1276884 A JP 1276884A JP S60157202 A JPS60157202 A JP S60157202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trimming
- film resistor
- cut
- resistance value
- resistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の対象〕
本発明は、膜抵抗体のトリミング方法に関するものであ
る。
る。
膜抵抗体のトリミング方法については、特開昭５７−３
５３０４号゛膜抵抗体のトリミング方法の公報があり、
この膜抵抗体のトリミング方法にはコの字形膜抵抗体の
一方の辺で粗調整を、他方の辺で前記粗調整時より残り
膜幅を広くした後調整を行うトリミング方法について記
載しである。
５３０４号゛膜抵抗体のトリミング方法の公報があり、
この膜抵抗体のトリミング方法にはコの字形膜抵抗体の
一方の辺で粗調整を、他方の辺で前記粗調整時より残り
膜幅を広くした後調整を行うトリミング方法について記
載しである。
〔従来技術の問題点及びその技術的分析〕この従来のト
リミング方法は、コの字形バクーンの膜抵抗体の一辺で
レザー光を照射して膜除去により粗調整を行い、さらに
他方の辺で膜除去により、微調整を行うもので、ラフな
値を決める抵抗と高精度な値を決める抵抗の２つを用い
ているので、必要面積が増加するという問題点がある。
リミング方法は、コの字形バクーンの膜抵抗体の一辺で
レザー光を照射して膜除去により粗調整を行い、さらに
他方の辺で膜除去により、微調整を行うもので、ラフな
値を決める抵抗と高精度な値を決める抵抗の２つを用い
ているので、必要面積が増加するという問題点がある。
そこで本発明は１つの抵抗体のみで、トリミングするこ
とにより高精度な抵抗体を有するｌ−リミング方法を、
その技術的課題とするものである。
とにより高精度な抵抗体を有するｌ−リミング方法を、
その技術的課題とするものである。
上記技術的課題を解決するために講じた技術的手段は、
膜抵抗体の抵抗パターンを形成し、アルミナ粉末を吹付
けて行う、サンドブラスト法により、２回以上のトリミ
ングを行う場合に、第１回のトリミングの軌跡より少し
位置をずらせて、第１のトリミングに平行に行うもので
ある。
膜抵抗体の抵抗パターンを形成し、アルミナ粉末を吹付
けて行う、サンドブラスト法により、２回以上のトリミ
ングを行う場合に、第１回のトリミングの軌跡より少し
位置をずらせて、第１のトリミングに平行に行うもので
ある。
上記技術的手段は、次のように作用する。すなわち膜抵
抗体の抵抗パターンの形成において、２回目のトリミン
グを第１回目のトリミングの軌跡により少しずらせ、部
分的に第１のトリミングの軌跡中を増すことにより、抵
抗値を増加させるものである。第１回目のトリミング後
、ＸＹテーブルを使用して、５〜５０μ鰭の中で体１回
目のトリミングと同じ長さだけ、トリミングを行った場
合は、抵抗値の変化量は１％程度であり、第１回のトリ
ミングの場合は、カットの長さが同じでも抵抗値の変化
量が数十％変化するが、第２回目以降も本トリミング方
法で行えば１カツトだけに比べて１桁以上の精度が向上
するものである。
抗体の抵抗パターンの形成において、２回目のトリミン
グを第１回目のトリミングの軌跡により少しずらせ、部
分的に第１のトリミングの軌跡中を増すことにより、抵
抗値を増加させるものである。第１回目のトリミング後
、ＸＹテーブルを使用して、５〜５０μ鰭の中で体１回
目のトリミングと同じ長さだけ、トリミングを行った場
合は、抵抗値の変化量は１％程度であり、第１回のトリ
ミングの場合は、カットの長さが同じでも抵抗値の変化
量が数十％変化するが、第２回目以降も本トリミング方
法で行えば１カツトだけに比べて１桁以上の精度が向上
するものである。
〔本発明によって生じた特有の効果〕
本発明は、次の特有の効果を生じる。すなわち、１種類
のみの膜抵抗体にて高精度の抵抗値を得ることができ、
さらに抵抗調整のために２回以上トリミングを行っても
、切り口が増加しないために、経時変化が、他の方法に
比較して極めて少ないものである。
のみの膜抵抗体にて高精度の抵抗値を得ることができ、
さらに抵抗調整のために２回以上トリミングを行っても
、切り口が増加しないために、経時変化が、他の方法に
比較して極めて少ないものである。
以下、上記技術的手段の位置具体例を示す実施例につい
て説明する。
て説明する。
１は膜抵抗体パターンでペースト印刷膜体よりなり、Ｒ
ｕ系厚膜抵抗ペーストの印刷焼成により形成されており
、２及び３は電極である。
ｕ系厚膜抵抗ペーストの印刷焼成により形成されており
、２及び３は電極である。
膜体１の抵抗調整について斜線４に示す第１回目のトリ
ミングを行う、トリミングの方法は数μのアルミナの粉
末を内径約０．４熊φのノズルよりエヤーにて吹付けて
削り取るものである。前記膜体の一部をカットした端部
を４ａ及び４ｂとし、４ｂと電極３の距離をαとし、ト
リミング部分の長手寸法をｌとすれば、第２回目のトリ
ミングについては、僅かずつ、例えば２０μ（α１５０
）程度ずらしてトリミングして、抵抗の微調整を行うの
である。
ミングを行う、トリミングの方法は数μのアルミナの粉
末を内径約０．４熊φのノズルよりエヤーにて吹付けて
削り取るものである。前記膜体の一部をカットした端部
を４ａ及び４ｂとし、４ｂと電極３の距離をαとし、ト
リミング部分の長手寸法をｌとすれば、第２回目のトリ
ミングについては、僅かずつ、例えば２０μ（α１５０
）程度ずらしてトリミングして、抵抗の微調整を行うの
である。
第２図内は他のパターン構成で、５はブリッジ回路のア
ンバランス補正に使用する膜体の構成で、６及び７は膜
体であり、８．９’、１０は電極を示す、１１及び１２
は第１回目のトリミングを示し１１．８は第２回目のト
リミングを示し第１回に平行に５０ａ程度ずらして直線
的にカットした。
ンバランス補正に使用する膜体の構成で、６及び７は膜
体であり、８．９’、１０は電極を示す、１１及び１２
は第１回目のトリミングを示し１１．８は第２回目のト
リミングを示し第１回に平行に５０ａ程度ずらして直線
的にカットした。
このようにして高精度の抵抗比のブリッジを構成してい
る。
る。
このブリッジ構成において、同じ種類のペースト抵抗を
用いた場合、ＴＣＲ経時変化が似かよっているために、
２つの抵抗値の比を考えた場合に、同じ量だけが変化し
、打消し合い、その結果抵抗値の比の変化は非密に小さ
くなる、第２図（ロ）は実際にブリッジに組み込んだ回
路図を示す。
用いた場合、ＴＣＲ経時変化が似かよっているために、
２つの抵抗値の比を考えた場合に、同じ量だけが変化し
、打消し合い、その結果抵抗値の比の変化は非密に小さ
くなる、第２図（ロ）は実際にブリッジに組み込んだ回
路図を示す。
１３はハツトタイプパターンの膜体で、１４゜１５は電
極であり、抵抗値の変化は直線的な距離に比例するため
、１３ａの如くトリミングが可能で微調整には最適であ
る。
極であり、抵抗値の変化は直線的な距離に比例するため
、１３ａの如くトリミングが可能で微調整には最適であ
る。
次に、ハツトタイプパターンＡ、Ｂ、Ｃにおいてａ ＞
ａ ＞ａ で他の寸法は同一な膜体を本トリミング方法
でカットした例を第１表に示す。
ａ ＞ａ で他の寸法は同一な膜体を本トリミング方法
でカットした例を第１表に示す。
１６は第１回目のトリミングであり、その後Ｓ＝第 １
表 ト −− ト １−貢 ［− − １」 芽 （− １； １００μｍの間隔にてトリミングした抵抗値を示す。
表 ト −− ト １−貢 ［− − １」 芽 （− １； １００μｍの間隔にてトリミングした抵抗値を示す。
上記において初期とは膜抵抗体の初期の抵抗を示し、第
１カツト後とは第１回目の１６に示すようトリミングを
実施した後の抵抗値を示し、第２カツト後とは５＝１０
０μｍの間隔で同し長さｅだけ第２回目のトリミングを
行った結果の抵抗値を示すものである。第１表より陽１
〜１１ｈ５の資料において、本トリミング方法は極めて
高精度に微調整ができていることが分る。
１カツト後とは第１回目の１６に示すようトリミングを
実施した後の抵抗値を示し、第２カツト後とは５＝１０
０μｍの間隔で同し長さｅだけ第２回目のトリミングを
行った結果の抵抗値を示すものである。第１表より陽１
〜１１ｈ５の資料において、本トリミング方法は極めて
高精度に微調整ができていることが分る。
第１図は本実施差の説明図で（イ）は実施例（ｒ：Ｉ）
は実施後の平面図である。 第２図は変形実施例で（イ）は平面図、（ロ）は回路図
であり、第３図〜第４図は他の変形実施例の平面図であ
る。 １．６，７．１３・・・膜抵抗体パターン・特許出願人 ・Ｐイレン梢楢株式会社 代表者中井令夫
は実施後の平面図である。 第２図は変形実施例で（イ）は平面図、（ロ）は回路図
であり、第３図〜第４図は他の変形実施例の平面図であ
る。 １．６，７．１３・・・膜抵抗体パターン・特許出願人 ・Ｐイレン梢楢株式会社 代表者中井令夫
Claims (1)
- 膜抵抗体パターンに、サンドブラスト法にて２回以上ト
リミングを施して抵抗値を調整するトリミング方法にお
いて、第２回以降のトリミングは、第１回目のカットに
平行で、第１カツトの削り中以下だけ、ずらして第１カ
ツトに重なるように直線的にトリミングすることにより
、膜抵抗体パターンの抵抗値を調整する、膜抵抗体のト
リミング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59012768A JPS60157202A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59012768A JPS60157202A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60157202A true JPS60157202A (ja) | 1985-08-17 |
Family
ID=11814576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59012768A Pending JPS60157202A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60157202A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149503U (ja) * | 1987-03-20 | 1988-10-03 |
-
1984
- 1984-01-25 JP JP59012768A patent/JPS60157202A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149503U (ja) * | 1987-03-20 | 1988-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3637124B2 (ja) | チップ型抵抗器の構造及びその製造方法 | |
| JPH05234725A (ja) | チップ型複合電子部品の製造方法 | |
| DE10245313A1 (de) | Dünnfilm-Thermistor und Verfahren zum Einstellen des Widerstands desselben | |
| JPH08306503A (ja) | チップ状電子部品 | |
| JP2001044001A (ja) | 薄膜型抵抗器の構造及び抵抗値調整方法 | |
| GB2206741A (en) | Electrical resistors of laminar form and methods of making them | |
| JPS60157202A (ja) | 膜抵抗体のトリミング方法 | |
| JPH1032110A (ja) | 厚膜抵抗体のレーザトリミング方法 | |
| DE10110179B4 (de) | Verfahren zum Herstellen von Dünnschicht-Chipwiderständen | |
| JPH04209501A (ja) | 半導体装置用基板 | |
| JPH01302701A (ja) | 印刷抵抗体 | |
| JPS62174902A (ja) | 厚膜抵抗体のトリミング方法 | |
| JPS5975607A (ja) | チツプ抵抗器の製造方法 | |
| JPH03268478A (ja) | 電子回路及びその製法 | |
| JPH10189308A (ja) | 厚膜サーミスタの抵抗値調整方法及び厚膜サーミスタ | |
| JPS6290907A (ja) | 薄膜抵抗体の抵抗値調整方法 | |
| JPH0316194A (ja) | 厚膜印刷基板 | |
| SU900321A1 (ru) | Способ подгонки тонкопленочных резисторов | |
| JP2775718B2 (ja) | チップ抵抗器とその製造方法 | |
| JPH06112006A (ja) | チップ抵抗器およびその製造方法 | |
| JPH03190103A (ja) | 厚膜抵抗 | |
| JPH08213202A (ja) | 抵抗器 | |
| JPH04239101A (ja) | チップ型抵抗器およびその製造方法 | |
| JPH04133302A (ja) | 抵抗体及びそのトリミング方法 | |
| JPS58105503A (ja) | 厚膜低抗体のトリミング方法 |