JPS60155154A

JPS60155154A - プロスタグランデインｄ２類の製法

Info

Publication number: JPS60155154A
Application number: JP58187133A
Authority: JP
Inventors: Ryoji Noyori; 良治野依; Masaaki Suzuki; 正昭鈴木; Akira Yanagisawa; 柳沢　章; Seiji Kurozumi; 精二黒住
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1983-10-07
Filing date: 1983-10-07
Publication date: 1985-08-15
Also published as: US4886903A; EP0157883A1; EP0157883A4; JPH025748B2; WO1985001728A1; EP0157883B1; DE3476064D1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明はプロスタグランディンＤＸ　（以下ＰＧＤ。

と略記）の新規な製法忙関する。さらに詳しくは７−ヒ
ドｐキシＰＧＦ、Ｇ類より７位水酸基の脱酸素及び水酸
基の官能基変換によりＰ　Ｇ　Ｄ、類を誘導する新規な
製法に関する。

Ｐ　Ｇ　Ｄ、＠はｐｒｉｍａｒｙ　Ｐ　Ｇ類の中でＰ　
Ｇ　Ｅｔ　＋　Ｐ　ＧＦｔａと共に強い生物活性を示す
化合物である。例えばＰ　Ｇ　Ｄ、類はＰ　Ｇ　Ｅ、　
、　Ｐ　ＣＩ、類と同様に強い血小板凝集抑制活性（Ｇ
　、　Ｌ　、　Ｂｕｎｄｙ　１７Ｉ、　Ｊ、Ｍｅｄ。

Ｃｈｅｍ−＋２６ｔ７９０（１９８３）参照）を示す他
、近年制ガン作用（特開昭５８−１２４７１８号参照）
、睡眠誘発作用（Ｒ，Ｕｅｎｏら、　Ｐｏｏｅ、Ｎａｔ
ｌ。

Ａｃａｄ、５ｃｉ−＋ＵＳＡ＋８０１１７３５　（１９
８３”）参照）等の有用な活性が見出され、新しいタイ
プの制ガン剤、中枢神経系用薬として期待されている。

従来ＰＧＤ、類の製ＪＩＩＩＫあたっては次の諸法が知
られている。

ｉｌ＋　７ラキ１ン酸より生合成によって産出されるプ
ルスタブランティンエンドベルオキシドの分解によって
得る方法（Ｍ、Ｈａｍｂｅｒｇら。

Ｐｏｏｅ　Ｎａｔ、Ａｃａｄ、Ｓｃｉ、Ｕ、Ｓ、Ａ、７
０　＋　８９９　（１９７３）参照）。

１２１１５位の保護されたプロスタグランジンＦ、αよ
り１１位の酸化によって得る方法（Ｍ。

Ｉ（ａｙａｓｈｉ　ｒ：）＋　Ｊ、Ｏｒｇ　、Ｃｈｅｍ
−＋　３８　Ｈ２１１５（１９７３ＬＥ、Ｅ、Ｎｉ　ｓ
ｈｆｚａｗａらｔ　Ｐｒｏｓｔｇｌａｎｄｉｎｓ、＋９
，１０９（１９７５）参照）。

（３）９位と１５位が保護されたプロスタグランジンＦ
、αより１１位の酸化によって得る方法（Ｄ、Ｐ、Ｒｅ
ｙｎｏｌａｉｓら＋　Ｃｈｅｍ、Ｃｏｍｍｕｎ　、　ｒ
−１１５０（１９７９）　Ｒ，Ｆ、Ｎｅｗｔｏｎら＋　
Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ＋Ｐｅｒｋｉｎｓ＋　１．２０５
５　（１９８１）　Ｅ、Ｆ、Ｊｅｎｎｙら。

Ｔｅｔｒｒｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、　＋　２６
　＋　２２３５　（１９７４）Ｎ、Ｈ，Ａｎｄａｒａｅ
ｎら＋　Ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ　１４　、６１
（１９７７）参照）。

＋４１１１−７セタ一ル体を脱保護することによって得
る方法（Ｅ、Ｗ、Ｃｏ１口ｎｇｔｏｎら。

Ｔｅｔｒｒｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　３０　、３
１２５　（１９８３）参照）。

しかるに、これらの方法において、ｆｉ＋の生合成を用
いて得る方法では原料であるＰＧエンドペルオキシドは
不安定で摩り扱いが非常に困難であるばかりでなく、こ
の分解反応にはＰＧＥ。

が多く副生し、Ｐ　Ｇ　Ｄ、を裂取する方法としては非
常に効率が悪い方法である。（２１の方法は原料として
それ自体医薬品であるＰ　Ｇ　Ｆ、αより誘導する方法
であり、酸化は９位と１１位とにおいて非選択的に起り
、多量の副生成物を供なう方法であり、高価な原料のｐ
　Ｇ　Ｆｔａより全収率＆ま高々２０−でしか得られな
い。（３）の方法はＰ　Ｇ　Ｆｔａの製造中間体より複
雑な官能基変換によって原料去ある９、１５位が保護さ
れｆｃＰ　Ｇ　Ｆｔａを誘導するものであり、製取に用
する工程数も長く全収率も低いという難点がある。（４
）の方法は、１１位がアセタール化され＋　Ｐ　Ｇ　Ｄ
ｔ休において１５位の水酸基の立体異性体が混合物とし
て得られ、その一方の異性体しか利用出来ないと〜・う
難点がある。

本発明者らはかかる点に着目し、ＰＧＤｔ＃Ａの有利な
製造法を見出すべく研究しｆｃ結果、４−ヒトルキシシ
クロベンテノンから２工程で得られる７−ヒドロキシＰ
　Ｇ　Ｆ、α類を用いて、７位の水酸基の脱酸素反応を
特異的に行ない、水酸基の官能性変換を行なうことＫよ
り帥述の方法（３１で用いられている９、１５位が保騙
されてＰ　Ｇ　Ｆ、α類を簡便に得、これよりＰ　Ｇ　
Ｄ、、類を得るととに成功し、本発明に到達したもので
ある。

すなわち本発明方法は、下記式（１）で表わされる７−ヒトロキシブｐスタグランデインＦ、
σ類をチオカルボニルイミダゾールで処理し、下記式（牙で表わされるチオカーボネイト体を得、これをトリーｎ
−ブチル錫−イドライドで処理し、ついで塩基で処理し
、下１１シ式（３１で表わされるプロスタグランディンＦｔα類を穐９位の
水酸基を水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成
する基で保護し、下記式（４）で表わされる保護されたプロスタグランディンＦ、α類
を得、これを選択的脱保膿、酸化、脱保繰及び又は加水
分解反応に付すことを特像とする下記式（５１で表わされるプ１スタグランデインＤ、類の製法である
。

本発明方法において用いられる上記式（１１で表わされ
る原料である７−ヒドロキシＰ　Ｇ　Ｆ、α類は既に提
案されている方法（特願昭５７−２５２８０９号参照）
ＶＣ，より４−ヒＦｃＩキシシクロベンゾノン体から２
工程で容易にかつ、高収率で調製することが出来る。

上記式ｔｌｌ　Ｋ　オイｉ、Ｉｔｌ　１は、ＣＩ−Ｃ１
００フルキル基又は）　１．１　（Ｃ，〜Ｃ４）炭化水
素−シリル基を表わす。ｃ、　４　ＣＩＯのアルキル基
としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、　１
ｓｏ−プロピル。

ｎ−ブチル、就−プグール＋　ｔｅｒｔ−ブチル＋ｎ−
ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル＋ｎ−オクチル
、ｎ−／ニル、ｎ−デシル等の直鎖状又は分岐状のもの
を挙げるこＥができる。なかでもメチル基、エチル基が
好ましい。）　ｖ　（Ｃ。

〜Ｃア）炭化水素−シリル基としては、例えばトリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル基の如きトリ（Ｃ０〜Ｃ４）フルキルシリル基；ｔ−
７’チルジフエニルシリル基の如？？　ジフェニル（Ｃ
＋〜Ｃ４）フルキルシリル基又ハトリベンジルシリル基
等を挙げることができる。

Ｒ１、ＲＭは同一もしくは異なり、水素原子または置換
もしくは非置換のＣ，−Ｃ，。のアルキル基又は置換も
しくは非置換の５〜６員のジクロフルキル基を表わす。

非置換のＣ８〜Ｃ８゜のアルキル基としては例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル。

１ｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル。

ｎ−ヘキシル、２−メチル−１−ヘキシル。

２−メチル−２−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチ
ル等の直鎖状又は分岐状のものが挙げられる。非置換の
５〜６員のシクロアルキル基としては、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基などが挙げられる。かかる非置換
のＣ２〜Ｃ□のアルキル基、非置換の５〜６員のシフロ
ア・Ｌキル基の置換基としては例えば、メチル、エチル
、フェノキシ、トリフルオルメチル、トリー／Ｉ＝オシ
メチ／ｌ−フェノキシ基などが好ましく挙げられる。％
ＫＲ’としては、メチル、フェノキシ基もしくはトリフ
ルオロメチルフェノキシ基で置換されていてもよいメチ
ル、ｎ−ペンチル。

ｎ−ヘキシル、２−メチル−１−ヘキシル、シクロペン
チル基又はシクロヘキシル基が好マシく、なかでもｎ−
ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−メチノトー】−ヘキシル
、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい。Ｒ３と
しては水嵩原子又はメチル基が好ましく、慣に水素原子
が好ましい、Ｒ１１は上記Ｒ■で詳述したと同様のトリ
（Ｃ，〜Ｃ，）炭化水素−シリル基を表わし、なかでも
ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基が好
ましい。Ｒ”は水酸基の酸素原子と共に７セタ一ル結合
を形成する基を表わし、例えばＲ４１はメトキシメチル
＋　１−　工）キシエチル。

２−メトキシ−２−プロピル、２−エトキシ−２−プロ
ピル、（２−メトキシエトキシ）メチルナベンジルオキ
シメチル、２−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒド
ロ７ラニル１６１６−シメチルー３−オキサ−２−オキ
ソ−ビシクロ（３＋ｔ　ｔｏ）へキス−４−イル基など
が挙げられる。

Ｒ”はなかでも、２−テトラヒドロピラニル基。

１−エトキシエチル基、２−メトキシ−２−プロピル基
が好ましい。

本発明方法におげろ前記式ｆｉｌ〜（５１で表わされる
ＰＧ類はその７位、８位、９位、１１位。

１２位、１５位に不斉炭素原子を有するため、各種の立
体異性体が存在するが、本発明方法におけるＰＧ類はこ
れらの鏡像体、光学異性体及びそれらの混合物を包含す
る。

本発明方法は上記式ｆｉｌの７−ヒドロキシＰＧＦｔα
類の７位と９位の水酸基の保護から開始される。

保護剤として用いるチオカルボニルイミダゾールの量は
原料の７−ヒドロキシＰ　Ｇ　Ｆ、α類ｆｉｌ　Ｋ対し
て１〜５当量、好ましくは１〜１．５当量であり、反応
助剤として塩基が用℃・られ、４−ジメチルアダピリジ
ンが原料Ｋ対して１〜ｌＯ当量、好ましくは１．５〜４
嶋量が最も好ましく用いられる。反応をスムーズに進行
させるために媒体を用いるが、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、メチレンクロリド、クロル
ホルム、シクロ−エタン等のハｐグン化炭化水素類、ま
たはこれらの混合媒体が用いられ、７セトニ）ｌ）ルが
飛も好ましい収率を与える。反応温度は０℃〜６０℃、
好ましくは１０〜３０℃で行なわれ、反応の終点は薄層
り（ゴマトクラフイー等で原料の消失を観測して確認さ
れる。

反応後反応液は通常の方法により後処理し、生成物とし
て上記式（２１で表わされる７位、９位が保騙された新
規なチオカーボネイト体が得られる。この化合物はそれ
自体新規であるばかりでなく、Ｒ８Ｉ　＋、　１ｊ４１
の保護基を増ることＫより新規なＰＧ類としてその薬効
が期待される。

次に得られたチオカーボネイト体（２）はトリーｎ−ブ
チル錫ハイドライドで処理することにより７位の炭素−
酸素結右を還元的に切断する反応に供される。用いられ
るトリーｎ−ブチル錫ハイドライドは原料の（２：に対
して１〜２００！！１１量、好ましくは５〜５０当量で
用いられる。反応助剤にビス−ｔ−ブチルパーオキシド
を触媒量（原料に対して１〜１０重ｉ％）用いる。反応
は通常は１０℃〜１００℃で、好ましくは２０〜６０℃
で進行する。反応液は次に室温付近（１５℃〜２５℃）
Ｋ冷却し、塩基で処理される。用いられる塩基はアルコ
キシドーアルコール系が好ましく、％に用いる原料がメ
チルエステルである時はナトリウムメチラー）−メタノ
ール系が好ましく用いられろ。その量は原料Ｋ対して１
〜５０当景、好ましくは２〜５当量であり、反応媒体と
して無水のエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
のエーテル類を用いても良い。この反応は通常は室温付
近（１５℃〜３０℃）で原料が薄層クロマトグラフィー
等で消失するのを確認して終了する。通常は１１〜３０
時間で終了する。かくして得られた反応液は通常の方法
で後処理することＫより上記式（３１で表わされる１１
位、１５位の保護されたＰ　Ｇ　Ｆ、α類を得ることが
出来る。この生成物は次に９位の水酸基の保護反応に付
される。

得られた生成物（３１は水酸基の酸素原子と共にアセタ
ール結合を形成する基で保護される。保設剤としては、
２−３−ジヒドロビラン、エチルビニルエーテル等が用
いられる。これら保護剤は原料のプロスタグランディン
Ｆ、α類に対して１〜２０当量、好ましくは１〜５当量
用いられる、反応助剤としてピリジン−バラトルエンス
ルボン酸塩（ＰＰＴＳ　）ｌカンファースルホン酸等を
原料フロスタグランデインＦ、α類に対して０．１〜１
００重量％、好ましくは１〜３０重量％用いるのが良い
。反応は無水のエーテル類例えばエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン。

ジオキサン等または無水ハロゲン化炭化水素、例えばメ
チレンクロリド、クロロホルム、ジクＩ：ｌＩ：Ｉエタ
ン等中で行なうことも出来る。反応温度は一１０℃〜６
０℃、好ましくはＯ’Ｃ〜３０℃で進行し、反応の終点
は薄層クロブトクラフィー勢で原料の消失を観測し℃確
認する。かくして反応液は通常の方法により後処理し、
生成物として上記式（４１で表わされる１１位ガシリル
基で保護され、９位、１５位が水酸基の酸素原子と共忙
７セタール結合を形成する基で保護されたＰ　Ｇ　Ｆ、
ａ類が得られる。

次にこの化合物の１１位のシリル保護基を選択的に脱保
護する。これはテトラ−ｎ−ズチルアンモニウムフルオ
リド、フッ化水素−ピリジン、％に好ましくはテトラ−
ｎ−プチルアンモニウムフルオリドを用いることにより
通常の方法により達成される。かくして下記式（６）％
式％で表わされる９位、１５位が保護されｆＣＰ　Ｇ　Ｆｔ
ａ類を容易に得ることが出来る。この生成物はそれ自体
公知の方法（Ｅ、Ｅ、ＮｉａｈｉｚａｗａらＰｒｏｓｔ
ａｇｌａｒｒ−ｄｉｎｓ　９　、１０９　（１９７５）
参照）Ｋより、例えばｇｏｎｅ　ｓ　ＩＫ　集、クジル
クｐム酸ピリジニウム等のりｐム酸系酸化剤により、１
１位の水酸基を酸化し、必１’ｌｃ応じてＲ”Ｊ　Ｒ”
が保護され死水酸基であるとき、この保護基を除去して
も良い。除去にあたっては例えば酢酸−水一テトロヒト
フラン混合物（３：１：１〜３：２：２）中で生成物を
室温で処理することＫよって達成される（　Ｅ、Ｊ、Ｃ
ｏｒｅｙら＋　Ｊ、Ａｍｅｒ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、　
２４　。

６１９０（１９７２）を参照）。

また必１’ｌｃ応じて、１位のエステル基（Ｒ”）を加
水分解してもよい。かかる加水分解はリパーゼ、エステ
ラーゼ等の加水分解ＷＲ素を用いて行なうことができる
。

また上記式（１１〜（Ｇｌにおいて人が３重結合である
場合は必ＷＫ応じてこれをシス２重結合へ変換しても良
い。３重結合の選択的還元剤としては公知のパラジウム
系触媒を用いる水素添加の方法が用いられる。パラジウ
ム系触媒としてリンドラ−触媒が最も好ましく用いられ
る。

かくして目的とする上記式（５）で表わされるＰＧＤ、
類を容Ｊｉｍ、高収率で得ることが出来る。

本発明方法の特徴は、従来法に比較して工程数がはるか
に短かく重要な中間体である上記式（６）を導ひくこと
が出来る点忙ある。この事は必然的に保護されたＰ　Ｇ
　Ｆ、α誘導体である上記式（３Ｉ。

（４１、（６１を提供することが出来るとも言える。ま
た本発明方法によって上記式（２１から脱係１ｉＫよっ
て提供される下記式（７）（式中Ｒ’　、　Ｒ”　、　Ｒ”　ｒ　Ａは上に同じ〕
で表わされるチオカーボネイト体は新規なＰＧ類として
その薬効が期待される。すなわち不発明は従来法よりは
るかに優れたｐ　ｃ　ＤＩ　Ｄの製法を提供するばかり
でなく、新規Ｐ　Ｇ　Ｆｔ　ａ類の及びその製法をも提
供出来るという特徴を有していると言える。

以下本発明方法を実施例により更に詳細に説明する。

実施例１アルゴン気流下１０ｍの試験管［１−１５７，６〜、チ
オカルボニルジイミダゾール２６．５１９゜４−ジメチ
ルアミノピリジン３６．４ｊｌｌｐを入れ乾燥アセトニ
トリル３１１ｉで溶かし室温で１２時間攪拌した。塩化
メチレン７１で希釈後、飽和塩化アンモニウム水溶液で
よく振とうした。有機層と水層に分離後、水層を塩化メ
チレンで抽出した（１０ｍＸ２）。有機層を合わせ、飽
和食１：５：１）。生成物としてチオカルポネイト体２
−１を５６．７を（９２１Ｇ）得た。

ＴＬＣＥ、（＝０．４９　（ＥｔＯＡｃ−ｈｅｘａｎｅ
　１　：　２　）【α刊＝７．６６°（ｃ　ｏ、ａ　１
ｓ　ｓ　、　ＣＨｓＯＨ）ＩＲ（ＣＨＣ／、）　１７３
０α−１ＨＮＭＲＣＣＤＣｌ、　、　９０　ＭＨｚ　、ｐｐＩ）
δ０．０４（ｓｔｂ　＋５ｉＣＨ，ｘｚ）　＋０．７１
．１（ｍ、１２゜５ｉＣ（ＣＨ，）ｓ　！　ＣＨｓ）　
＋　１．１−２．８　（ｍ　ｌ　２４１ｃＨ，ｃ＝Ｏ＋
ＣＨ，ＸＩＯ＋ＣＨＸ２）　＋３．３−４．２　（ｍ　
＋　７　＋ｏｃｎｓ　ｌ　ＣＨＯＸ’２１ＣＨ１Ｏ）　
＋　４．６３　（ｍ　＋　１１０ＣＨＯ）　１４．９−
ｓ、ｔ　（ｍ　＋　２１ｃＨＯＸ２）　、　５．４−５
．６　（ｍｙ　２　Ｈ＋ビニル）実施例２アルゴン気流下１０１Ｒ１の試験管Ｋ１−２４４．７〜
．チオカルボニルジイミダゾール２０．６Ｍ９゜４−ジ
メチル７ミノピリジン２８．２１１％Ｉを入れ、乾燥ア
セトニトリル２．５−で溶かし室温で１４時間攪拌しに
０塩化メチレン１０１／で希釈後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液でよく振とうしに０ｆｆ機層と水層に分離後、
水層な塩化メチレンで抽出した（１ｏＩＬ／Ｘ２）。有
機層を合わせ、飽和食塩水ｔＯＷεで洗浄し次。無水硫
酸す）　ＩＪウムで乾燥後減圧濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィに供しｆｃ　、　（Ｍｏｒｃｋ　４
１　、酢エチーヘキサンーインゼン＝１：５：１）。生
成物としてチオカルボネイト体２−２を４０．５〜（８
４％収率）得た。

％　＝　０．４９　（ＥｔＯＡｅ−Ｈｅｘａｎｅ　＝　
１　：　２　）【Ｃ１”　＝＋　１３．２°（Ｃ１，５
２，ＣＢρＢ）　− Ｉ　Ｉｔ　（ＣＨＣｊｌ’３　）　１７３３ｃｍ−”Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５　ｌ　９０ＭＩＩＺ　、ｐｐ、）δ
０．０６（Ｓ、ｅ　＋５ｉＣＨ，Ｘｚ）　、０．７−１
．ｏ（ｍ＋ｔ２＋ＳＩＣ（Ｃ）ｉｍ）１　ａｎｄ　ＣＨ
Ｉ）　？　１．１−３．１　（ｍ　＋　２４１ＣＨｔＣ
＝ｏ　＊　ＣＨｔ　ｘ　１ｏ　＋　ＣＨＸ　２　）　＋
　ａ　、３　４　、ｚ　（ｍ　＋７＋ＯＣＨ，ｔ　ＣＨ
ＯＸ２　＋　ＣＨ，Ｏ）　１４．６　ｓ　（ｍ　＋　１
１０ＣＨＯ）＋４．８７（ｍ１１．ｃＨｏ）、ｓ、１７
（ｍ、ｌ＋ＣＨＯ）　＋５．４　５．６　（ｒｎ　＋　
２　＋ビニル）実施例３アルゴン気流下１０１１／の試験管に１５１．４’９＋
チオカルボニルジイミダゾール２３．７　Ｑ　＋４−ジ
メチルアミノピリジン３２．５１１ｐを入れ乾燥７セニ
トリル３ｄで溶かし室温で１５時間攪拌した。塩化メチ
レン７１で希釈後、飽和塩化アンモニウム水溶液でよく
振とうした。有機層と水層に分離後、水層を塩化メチレ
ンで抽出した（２ｘｘｏｍ）。有機層を合わせ、飽和食
塩水ｌＯ−で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供
した。（Ｍｅｒｃｋ　２．５１ｉ　、酢エチ：ヘキサン
：ベンゼン＝１　：　ｓ　：　１　）生成物として実施
例１と同様なスペクトルテータを与えるチオカルボネイ
ト体２′を４１．５■（７５ヂ収率）与えた。

実施例４１０１Ｌｔの試験管Ｖｃ２−１５０．５ｑをとり（ｎ−
Ｂｕ）３　ＳｎＨ０，５ｍおよびビスーｔ−プ＋　ルヘ
／ｌ−ｆキシド４１ｖを入れ、アルゴン気流下５０℃で
５０分間攪拌した。室温（２６℃）にしたのちＩＮ　Ｃ
Ｈ，０Ｎａ−ＣＨ，ＯＨｌｌＩ／およびｄｒ）’ＴＨＦ
　１　ｍｌを加え室温（２６℃）で１３時間攪拌した。

Ｔ　ＨＦ　５　ｓｔ５罰を加え、よ（振とうし、酢酸エ
チル５−を加え再びよく振とうし、有機層、水層を分離
した。水層を酢酸エチルで抽出しく１０ｍＸ２）、有機
層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供じた。（
Ｍｅｒｃｋ　２．５　ｇ　、酢エチ：ヘギサン＝１＝６
）。

生成物として、ｙ−ｐｃＦ、αの体３を２６．８１９（
５９チ収率）得た。

ＴＬＣ：ＲｆＯ，５３（ＥｔＯＡｃ−Ｈｅｘａｎｅ＝１
　：　２　）（α）’、；　＝−ｚ　ｓ、ｓ　（Ｃ１，
３０＋　ＣＨ，０Ｈ）ＩＲ（Ｃ）Ｉ（Ｊｌ）３７２０−３３００．１７３０α−１ＨＮＭＲ（ＣＤＣＪｓ、９０ＭＨｚ＋ｐｌ”）δ０．０
３（ｓｔ６，５ｘＣＨｓＸ２）＋０．６　１．１（ｍ＋
１２１ｓｔｃ（ＣＨ，）ｓ　ｌ　ＣＨ，）　＋　１．１
−２．７　（ｍ　ｌ　２７１ＣＨｔＣ＝ｏ　＋ＣＨｔｘ
ｔ　１　、ＣＨＸ２　＋ＯＨ）、　３．３−４．４（ｍ
、ｓｔ０ＣＨｚＣＨＯｘ３＋ＣＨ＊０）＋４．６６（ｍ
＋１　＋０ＣＨＯ）　１５．２−ｓ、ｅ　（ｍ＋　ｚ　
＋ビニル）実施例５２−２　見１ＯＩＩＩｔの試験管に２−２　２１．１ｊ１９をとり
（ｎ　−Ｂｕ　）１　ＳｎＨＯ、ｓ　ａｔおよびビスー
ｔ−プチルヘルオキシド４■を入れ、アルゴン気流下５
０℃で７０分間攪拌した。室温（２７，５℃）にしたの
ち、ＩＮ　ＣＨ，ＯＮａ　−ＣＨｓＯＨ１ａｔおよびｄ
ｒｙ　ＴＨＦ　１威を加え室温（２７，５℃）で２時間
攪拌した。

ＴＨＦ’　５ｍ＋／で希釈したのち、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液５１を加え、よく振とうし、酢酸エチル５−
を加え再びよく振とうし、治機層、水層を分離した。水
層な酢酸エチルで抽出しく１ｔ）Ｉｌｌ／ｘ２）、有機
層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供した９、
（Ｍｅｒｃｋ　２　ｇ　＋酢エチ：ヘキサンｌ：６）。

生成物として実施例４と同じム’−ＰＧＦ、体３を１４
，６〜（７６％収寓）得た。

施例６：Ｓ５威の試験管にえ７４ｓ、５〜をとり（旦−Ｂｕ）。

ＳｎＨＯ，４ｍｌおよびｂｉｓ　−ｔ　−ｂｕｔｙｌｐ
ｅｒｏｘｌｄｅ　４１＃９を入れ、アルゴン気流下５０
℃で１．５時間攪拌した。

室温（２０℃）にしたのち、ＩＮ　ＣＨ，ＯＮａ　−Ｃ
Ｈ，ＯＨ１ｓｔおよびｄｒｙＴＨＦ　１ａｒｔを加え室
温（２０℃）で１４．５時間攪拌した。Ｓａｔ　ＮＨａ
Ｃｌａｑ　１０　ｙｄを加え、よく振とうした後、酢酸
エチル１０ｍｊを加え再びよく振とうし、有機層、水層
を分離し念。水層を酢酸エチルで２度（２Ｘ１０１ｊ）
抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た５、減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに供じｆｔ　ｔ” （Ｍｅｒｃｋ　ｚ、ｓ　ｇ、　、酢エチ：ヘキサン−に
６）生成物としてＩＩ−ＰＧＦ、α体ごを１９．５〜（
５２％収率）で得た。スベクトルテータは実施例４とＩ
Ｉ１１様のものを与える。

実施例７造　４３２１．２〜を１０屑ｌのナスフラスコにとりシクロへ
キサン１ＩＩＩＩＩベンゼン１　ｍｌとシフ１ヘキセ７
　Ｆｌ、０２　ｍｌ　Ｋ溶解する。そこへり、ａ　ｎｄ
　ｌ　ａ　ｒ触媒２４、ｌＩｎ９を加え、容器内を水素
で置換したσ１ち水素風船で水素圧をかけて２６℃で１
３時間攪拌し女。セライトカラムに反応液を通し％ｐｄ
を除いたのち、酢酸エチルでよく洗浄した７Ｆ液を減圧
濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供した
。（Ｍｅｒｃｋ　２．４１酢エチーヘキサン−１：１２
）。生成物としてＰ　Ｇ　Ｆ、α体４を２０．３〜得７
’ｃ（収率９６チ）ＴＬＣ：Ｒ，０，４６（Ｆｌ：ｔＯＡｃ　Ｈｅｘａｎｅ
＝１　＋４　）〔α〕＊ｔ　＝　２　Ｑ、６゜１）ＩＲ（ＣＨＣｌｔ、）３７４０−３３００．１７３０ｃｍ　’ＨＮ　Ｍ　Ｒ（
ＣＤ　Ｃｉ　＊　、９０　Ｍ　Ｈｚ　＋　卿）δ０．０
４　（Ｒ＋　６　＋５ＩＣＨ３×２　）　＋　０．７　
１．０　（ｍ　＋１２＋５ｉＣ（ＣＨｓ）ｓ　＋　ＣＨ
，）　＋　１．０−２．７　（ｍ　＋　２７　＋　ＣＨ
ｅ０＝Ｏ＋Ｃ為ｘ　ｔｔ　、　ＣＨＸ　２１０Ｈ）　、
　３．３−４．２（ｍ＋ｓ＋ｏｃ３＋　ＣＨＯｘ３．Ｃ
ＨｔＯ）　＋４．６７（ｍ＋ｉ　＋　ｏｃｕｏ　）　＋
　５−ｓ　ｓ、６（ｍ　ｌ　４１ビニル）実施例８３重結合体３Ｎ０．８Ｉｉ９をＩｏｍｔ、のナスフラス
コにとりシクＩＪヘキセン０．７　＋１ｔ、ベンゼン０
．７ｓｅｔ容器内を水素で置換し、たのち、水素風船で
水素圧をかげて２２℃で１４時間攪拌した。セライトカ
ラムに反応液を通しｐｄを除いたのち、酢酸エチルでよ
く洗浄しｆ（。Ｐ液を減圧静縮し、シリカゲルカラムク
ロフトグラフィーに供した。

（Ｍｅｒｅｋ　１９　＋酢’−チ：　ヘキ”ｊン：　ベ
ンセン＝１＝８＝１）。

生成物としてＰ　Ｇ　Ｆ、α体４′を１０．３＃ｙ（９
５％収率）で得た。スペクト／ｌ−データは実施例７の
乏と同様であっに０実施例９乏　之乏を５１の試験管にとり、０．２鱈のｄｒｙ　ＣルＣ４
を加えた。水浴で冷却し、６．０Ｍ９の２，３−ジヒド
ロピランを加え、つづいてｐ−）ルエンスルボン酸−ビ
リジン塩（ＰＰＴＳ）４．５ダを加え、０℃で１０分間
２６℃で３時間攪拌した。ＣＨ，Ｃｌ。

５　ａｎｔで希釈後、飽和食塩水５　ｔｅｌを加えよく
振りまぜて、ＰＰＴＳを除℃・た。水層をＣＨ，Ｃ／！
、で２回抽出しく５ｉｄＸ２）、有機層を合わせ、無水
硫酸す）ＩＪウムで乾燥した。綿栓濾過し、除煤後シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに供じた。

（Ｍｅｒｃｋ　２７７　、酢エチ：ヘキサン＝１：１５
）。

生成物として保護されｆＦ−ＰＧＦ、α体５を２３．２
■（９９，５チ収率）得た。

ＴＬＣ：　Ｒ４＝０．５８　（ＥｔＯＡＣ−Ｈｅｘａｎ
ｅ　１　：　４　）〔α）Ｚ＝　５．３°（且＋　Ｏ＋
　７２　５Ｈｓｏａ　）Ｉ　Ｒ（ＣＨＣｌ５　、９０Ｍ
Ｈｚ　、ＰＩ”　）δ０．００７（ｓ　＋６　＋５ｔＣ
Ｈ，Ｘ２）　、　０．７−１．０（ｍ＋１２　＋　Ｓ＋
Ｃ（ＣＨｓ）ｍ　ａｎｄ　ＣＨｓ　）　＋　１．０−２
．６　（ｍ　＋　３２゜ＣＨＩＣ＝０　＋ＣＨ，ｘ１４
．ＣＨＸ２　）　＋　３．３−４．２　（ｍ　。

１０　＋ＯＣＨ＋ＣＨＯｘ３＋ＣＨ，Ｏｘｚ　）　、　
４．５−ｓ、。

（ｍ　＋　２１０ｃＨＯ）　１５．２　ｓ、６（ｍ　＋
　４１ビニル）実施例１Ｏｉ：　ビ４′を５成の試験管にとり、ｇ、１＊ｚのｄｒｙ　ＣＨ
ｔＣｌｔを加えた。水浴で冷却し、２，３−ジヒドロビ
ラン３．１１ｖを加え、つづいてＰＰＴＳ　Ｏ，４ｍｇ
を加え０℃で１０分間２４℃で４時間借拌しｆｃｏＣ）
ｌ、Ｃ／！ｔ　５　ｍｌで希釈後、飽和食塩水５　ｍｔ
を加えよく振りまぜて、ＰＰＴＳを水層へ移す。水層を
ＣＨ，Ｃ／、で２回抽出しく５！ＩｊＸ２）、有機層を
合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。綿栓濾過し、
除隊後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供じた
。（Ｍｅｒｃｋ　１　ｇ　＋酢エチ：ヘキサン＝１：１
５）。生成物として保護されたＰ　ＣＦ、　ａ体５′を
１０．３Ｉｖ（８７％収率）得た。

このもののスペクトルデータは実施例９のえと同様であ
った。

実施例１１５ｒｘｔｆ）試験管に５′を１８．４Ｍ９とりＴＨＦ　
Ｏ，４縦で溶解したのち、ｎ　−Ｂｕ　ＮＦ（ＩＭ／Ｔ
Ｈ，Ｆ　）０．４２献を加え、室温（２６℃）で３時間
攪拌した。

ＴＨＦ　５ｄで希釈後、飽和食塩水５ｍｌを加えてよく
振りまぜに０さらに酢酸エチル５１を加え抽出した。有
機層と水層に分は水層な酢酸エチルで抽出した（２Ｘ１
０ｍ＃）。潰縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
に供じた。（Ｍｅｒｃｋｌ、８ｇ＋酢エチ：へキサン＝
１：３）。

生成物として１１位がフリーのＰＧＦｔ（１体乏を１４
．４〜（９５％収率）で得た。

Ｒ４＝０．１４　（ＦＪｔｃＡｃ−Ｈｅｘａｎｅ　１　
：　２　）〔α嶺＝−６．７６°（Ｃｏ、ｒ　２１　Ｃ
Ｈ，ＯＨ）ＩＲ（ＣＨＣ／＊　）３７００　３３００＋
１７３０α−１１１ＮＭＲ（ＣＤＣ／、、９０ＭＨｚ、
１％）δ０．８８　（ｔ　ｌ　３　、　Ｊ＝６．０Ｈｚ
Ｉ　ＣＨｓ　）１　１．０−２．６（ｍ＋３３　＋ＣＨ
ｔｘｉ　４　＋　ＣＨＸ２　ａｎｄＯＨ）＋　３．３　
４．３（ｍ　＋　１０　＋ＯＣＨ，＋　ＣＨＯｘ３１ｃ
Ｈ，ＯＸ２　）＋４．６−４．８　（ｍ　、２　＋０Ｃ
ＨＯ）　＋　５．１　５．６　（ｍ　＋　’　＋ビニル
）実施例１２５’（６５１，０２）　６’（５３６，７４）ｓ　ｍｔ
　（１）　Ｅ　ｓ管Ｋ　ｓｌを１０．３１１９とりＴＨ
Ｆ　Ｏ，２５蛇で溶解したのち、ｎ　Ｂｕ、　ＮＦ　（
Ｉ　Ｍ／　Ｔ　ＨＦ　）０．２４１１１７を加え、室温
（２４℃＋　ＰＭｌ：ｏｏ）で２時間攪拌した。Ｔ　Ｈ
Ｆ　５　ｔｕｔで希釈後、飽和食塩水５ｄを加えよく振
りまぜた。さらに酢酸エチル５１を加え抽出ＬｆＣｏ有
＆層と水層な分け、水層な酢酸エチルで抽出した（２Ｘ
１０ｊｌｔ）ＩＩＩＪｌｉｌ後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに供じた。（Ｍｅｒｃｋ　１１　＋酢エ
チ：ヘキシン＝１＝３）。生成物として実施例１１の見
と同様のスペクトルを与える６′を７．１１１１＆　（
８４％収率）で得た。

実施例１３５１１ｔの試験管１ｃ６を１４．４〜とり７セトンＱ、
ｇＪで溶解した。アルゴン気流下−３０℃でジョーンズ
反応剤（２，４Ｍ　）の１２．３μｉをシリンジで滴下
した。−３０℃で３０分撹拌後、酢酸エチル１耐で希釈
し、飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液１ｄを加え、激
しく攪拌した。水層が緑色に変化したのち、さらに酢酸
エチル１０ｍ１．飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍ
１ｔを加え、激しく攪拌した。有機層、水層な酢酸エチ
ルで抽出し＊　（２Ｘ　Ｉ　ＯＭｔ　）。有機層を合わ
せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに供しｆｒｏ（Ｍｅｒ
ｃｋ　１．４１　＋酢エチーヘキサン＝１：３）。

生成物として保護されたＰ　Ｇ　Ｄ、休りを１３．１■
（９１％収率）得た。

Ｒ（＝　０．４２　（ＥｔＯＡＣ−Ｈｅｘａｎｅ　＝１
　：　２　）〔α）２？　＝−７，２３°（ＣＯ，５７
６、ＣＨ＊Ｏ１ｌ　）Ｄ　〜］、Ｒ（ＣＨＣ４）　１７４０ＣＭ’ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／！、　、　９０ＭＨ７＋四）０．８
８（ｔ＋３＋Ｊ＝４．８１１Ｚ＋ｃＨ１）＋１．１　３
．０（ｍ＋３２、　ＣＨｔＣ＝　ｏ×２．　ＣＨＣ＝ｏ
　、　ＣルＸＩ　３１　ＣＨＸｔ　）　＋３．３−４．
８　（ｍ、１１＋０ＣＪＬ＋　ＣＨＯＸ２＋　Ｃ３０Ｘ
２＋０ＣＨＯ×２）　＋　５．３　５．６　（ｎｌ　、
　４　＋ビニル）実施例１４５紛の試験管に６′を７．１〜とりアセトン０．４罰で
溶解した。アルゴン気流下、−３０℃でジョーンズ反応
剤（２，４Ｍ　）　６．１μ！シリンジで滴下した。−
３０℃で７０分攪拌後、酢酸エチル１履ｔで希釈し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液１　ａｔを加え、激しく攪
拌した。水層が緑色に変化したのち、さらに酢酸エチル
１０ｊｌｔ、飽和炭酸水素ナトリウム１０１を加え、激
しく攪拌した。有機層、水層な分離後、水層を酢酸エチ
ルで抽出し、た。（２Ｘｌｏｍｘ）有機層を合わせ、無
水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。減圧濃縮後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに供した。

（Ｍｅｒｅｋ　１　ｇ　＋酢エチ：ヘキサン＝ｌ：３）
。

生成物として７′を６．６ｑ（９４％　）で得た。

このものは実施例１３の７と同様のスペクトルを与えた
。

実施例＋５〜を２ＫｔのＡｅＯＨ−ＨｔＯＴＨＦ　（３：　１　：
　１　）　Ｋ溶かし２６℃で１４時間、３５℃で５時間
攪拌した。

真空ポンプで除媒し、トルエンで共沸（３回）した。＃
縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供じた。

（Ｍｅｒｅｋ　１１　＋酢エチーヘキツン２：３）。

生成物としてＰＧＤ、メチルエステル見を７．０〜（８
８チ収率）得た。

ＴＬｆｏ、１７　（ＥｔｏＡｃ　−Ｈｅｘａｎｅ　＝　
１　：　１　）（α）”、、　ｍ＋２１．７’　（εｏ
、ａ　ｓ　＋　ＣＨｓＯＨ）（文献値＋２６．０°）ＩＲ（ＣＨ（Ｊｊ　）３７２０−３２３０．１７４０１
１７３０ｔｘｉ　’ ＨＮＭＲ（ＣＤ（１，１９０ＭＢＺ＋酵）０．８９　（
ｔ　＋　３　ｒ　Ｊ””６．０）１ｚ＋ＣＨ３）　＋１
．１−２．２　（ｍ、１７＋ｃＨ＊Ｘ７　＋ＣＨＸ１　
＋ａｎｄＯＨＸ２）＋２．３４　（ｔ　、　２１　Ｊ＝
６．４Ｈｙ　ｌ　ＣＭ、Ｃ００Ｃ）　１２．４３　（ｄ
　＋　２　＋　Ｊ＝２．９　、ＣＨ１Ｃ＝ｏ）　１２．
８６　（ｄｄ　＋　１　＋　Ｊ＝１１．６　＋　７．０
Ｒ７，ｌ　Ｃ１（Ｃ＝ＯＬ３．６８（８１３１０ＣＨ！
ｌ　）＋４．０９（ｍ＋１　＋ＣＨＯ）＋４．４９　（
ｍｌｌ　ＩｃＨＯ）１５．２−５．８　（ｍ＋４１ビニ
ル）実施例１６７・　８′ ７’　６．４１９（１，２Ｘ１０’Ｎ）ヲ１１１１ｊノ
Ａｃ０Ｈ−Ｈ，０−ＴＨＦ（３：　１　：　ｔ　）に溶
かし、４０℃で７．８時間攪拌した。真空ポンプで除媒
し、トルエンで共沸（３回）１１液をシリカゲルカラム
ク１ｊｆｆトゲラフイーに供じ逢。（Ｍｅｒｅｋ　１１
　＋酢エチ：ヘキサン＝　ｌ　：　２−）２　：　ｊ−
＊　ｌ　：　Ｑ　）。

生成物として見を３．３■（７５％）で得た。

ＴＬＣ−＋ＲｆＯ，６９、ｏ、ｓ　ｓ　（ＥｔＯＡｃ　
−Ｃｙｌｏｈｅｘａｎｅ−ＴＨＦにみられる如くこのも
のはＰ　Ｇ　Ｄ、メチルエステルと１５−二ヒマーの混
合物であった。

参考例１Ｌ　几（へ）−１−ヨード−３−テトラヒドロビラニロキシー
１−オクテン（ａｌ　：　６６４〜ｔ−ノチルリチウム
（１，３７Ｍ　）（ｂ）：　２．８７ａｔヨウ化第−銅
　（ｃ）　：３７４〜トリノチルホスフイン（ｄ）　：　１．２　ｖｍｔ４−
ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−２−シクロペンテ／ン
＜ｅ）　＋３７９即６−カルボメトキシヘキシナール（ｆ）　：３０９〜（ａ）を１０ｘｒｌの乾燥エーテルにとかし、−９５℃
でゆっくりとｔ−プチルリヂウムを加え、−７８℃に昇
温して１．５時間攪拌した。

１５０ｍの反応管にヨウ化第−銅（ｃ）をとり、管内を
減圧下乾燥ののち、アルゴンで置換した。

これに乾燥エーテル４０１とトリブチルホスフィン（ｄ
）を加え、室温（２５，５℃）で攪拌して、均一溶液と
した。これを−７８℃に冷却し、さきに調整したビニル
リチウムの溶液をステンレスチューブで一気に加え、さ
らに１０１のエーテルでチューブを洗い流した。１０分
間攪拌ののち、二ノン（ａ）のエーテル溶液２０１をス
テンレスチューブを用いて４０分間かけて滴下した（壁
につたわらせて冷やしながら）。１０分攪拌ののち再び
反応管を一９５℃に冷却して、アルデヒド（ｆ）のエー
テル溶１１５１ｕをステンレスチューブでゆっくりと滴
下し、さら１ｃｓ１１１のエーテルでチューブを洗い流
した。１０分！Ｓ＃ｌ攪拌ののち、４０１の飽和酢酸ア
ンモニウム水溶液を加え、激しく振と５し六〇有様層と
水層に分け、水層なエーテルで抽出し７’Ｃ（２０Ｒ／
〆２）。

有機層を合わせＤＭＳｏ　２ａｄ　、ベンゼン１Ｑｄｌ
。

水４０１１ｒｌの混合溶液でよく洗浄し、銅化合物を除
いた。無水硫酸ナトリウム乾燥後、減圧濃縮し、低温（
０℃）カラムクロマトグラフィーに供した。（Ｍｅｒｃ
ｋ　６チ含水１００，９＋７０リジル１０．９，１：６
：１酢エチーヘキサンーベンゼン→１：３酢二グー−ヘ
キサン）。

生成物として７−α、β−ヒドロキシーｎ−Ｐ　Ｇ　Ｅ
、メチルエステル１ｌ−ｔ−−ｊチルシリル、１５−テ
トラヒドロピラニルエーテル体！　６７０．２〜（６５
％）を得た。

・ＴＬＣ：　Ｒ，＝０．４５　＋　０．４１　（ＥｔＯ
Ａｃ　−ｈｅｘａｎｅ　＝１：２）（ＣＯ，１８５＋Ｍｅｎｕ）７σ−ＯＨ体ＩＲ（ＣＨＣ／、）　３７２０−３０００＋１７３５ｃ
ｍ”ＨＮＭＲ（ＣＤＣ７，！　９０ＭＨｚ＋Ｉ４”）δ
０．０　０．１　（ｍ　＋　６　＋　５ｊＣＨｓ　Ｘ２
　）　＋０．７−１．１　（ｍ１１２１ｓｔｃ（ＣＨ，
）ｓ　ｌ　ＣＨ，）１１．１−３．２　（ｍ＋２５１０
Ｈ，Ｃ＝０×２　＋ＣＨ，ｘｓ　１ｃＨＸ２　。

ａｎｄＯＨ）　１　３．３−４．８　（ｍ＋　９１０ｃ
Ｈ，ｌ　ＣＨＯＸ３　。

ＣＨｔＯｌ０ＣＨＯ）！　５．５１　（ｍ　＋　２１ビ
ニル）７β−ＯＨ体ＩＲ（ＣＨＣＡ’、）　３７００−３０００．１７３滴
−１ＨＮＭＲ（ＣＤＣＡ！、、９０ＭＩＩｚ＋四）δ０
．０　０．１　（ｍ　＋　６　＋　５ＩＣＨｓ　Ｘ２　
）　＋ｏ、ｙ−１，１（ｍ　＋　１２　＋　５ｉＣ（Ｃ
Ｈ，）、　ａｎｄ　ＣＨ，）　＋１．１　３．１　（ｍ
　＋　２５　＋　ＣＨ，Ｃ−ｏ　Ｘ２　＋　ＣＨｔ　Ｘ
　９　。

ＣＨＸ２１　０Ｈ）＋　３．４−４．２（ｍ　、８　１
ｏｃ）Ｉｎ　１ｃＨＯＸ３゜ＣＨｔＯ）＋　４．６８　
（ｍ＋　１　１０ｃＨＯ）１５．５７　（ｔｒｚ　２　
。

ビニル）参考例２ケトン体ｇ’（ｚ９３．２ａｐ、ｓ、ｏｙｘ＋ｓｍｏ／
）をＣＨ２０Ｈ（ｉ　ｓ　ｍＡ　）　Ｋ溶解し、０℃Ｉ
ｃ−’Ｃ攪拌下ＮａＢＨ４１９１，ａｎｙを加えた。０
℃で１５分撹拌後反応液を飽和ＮＨ４Ｃ／水溶液１５ｍ
ｔへ０℃悄拌下（／ｒ、て加えた。気泡の発生が止んだ
のち、酢酸エチルで３回（１０１ｔ）抽出した。合わせ
てＮ〜Ｓ０４上で乾燥後、減圧濃縮し六。残渣をシリカ
ゲルカラムクＩＪマドグラフィー（Ｍｅｒｃｋ　３０ｇ
サクエ千二ヘキサン＝１：３）に供した。生成物として
９α−０１１体を１２６〜（ｈ’）　（５４％収率）得
た。

ＴＬＣ：Ｒｆ　Ｏ，６０（ＥｔＯＡｃ　−Ｈｅｘｎｎｅ
　＝　Ｊ　：　１　）（σ）”＝−２０，７°（Ｃｏ、
６ａ　３．　ＣＨ，ＯＨ）Ｄ　〜ＩＲ（ＣＨＣ４）　３７４０−３２００．１７３０ｃｍ
”ＨＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１ｌ＠　＋　７０ＭＪＩｚ　＋四
）δｏ、ｏ−ｏ、ｔ　（ｍ　、６　＋　５ｉＣＢ、　Ｘ
２　）　＋０．７　１．０　（ｍ＋　１２　＋ＣＣＨｘ
Ｘ４）＋１．０−３．３　（ｍ　＋　２６　Ｔ　ＣＨＩ
Ｃ−０＋　ＣＨｌ　Ｘ　１０　＋　ＣＨ×２　＋０ＨＸ
２　）　、　３．３　４．８　（ｍ　＋　１０　＋　０
ＣＲｓ　３ｖＣＨＯＸ４　＋ＣＨｔＯ＋０ＣＨＯ）　、
ｓ、ｓ　１　（ｍ　＋　２　＋ビニル）参考例３ケトン体ｇ”（１２１，７ダ、　２．１０Ｘ　１ｏ　’
　ｍｏ／）をＣＨｓＯＨ（ｓ　ｔｎｌ　）　Ｋ溶解し、
０℃に−Ｃ攪拌下ＮａＢＨ，７９，５１１１＆を一気に
加えた。０℃で１０分間攪拌後反応液を飽和ＮＩ（、Ｃ
／水溶液８ｄへ０℃攪拌下にて加えた。気泡の発生が止
んだのち、酢酸エチルで３回抽出した（１ＯＮＸ３）。

有機層を合わせてＮＲ２ＳＯａ上で乾燥後、減圧濃縮し
た。残香をシリカゲルカラムクロマトクラフィー　（Ｍ
ａｒｃｋ　＋　２１　＋ザクニス：ヘキサン＝１：３）
に供した。生成物々して９α−ＯＨ体（ｈ２）を６２．
２智（収率５１チ）得た。

ＴＬＣ：Ｅ４０．６２　（ＥｔＯＡｃ　−ｂｅｘａｎｅ
　＋　：　１　）〔α〕２″−−３８，４”　（ＣＯ，
４９ｓ　＋　ＣＨｓＯＨ）Ｄ　− ＩＲ（ＣＨ，Ｃ４）　３７２０−３３００．１７３０ｃ
ｍ’ＴＩＮＩＩ／ＩＲ（ＣＩ）Ｃ／、　、　９０ＭｌＩ
２，１１１１％）（１，０−０，１（ｍ　＋　６　＋　
５ＩＣＨ８×２　）＋０．７　１．１　（ｍ　ｌ　ｊ　
２　＋ＣＣＴｌ５×４）＋１．１　３．０　（ｒｎ　＋
　２　Ｆｒ　ＣＩ（３Ｃ−０＋　ＣＨ，ｔ　Ｘ　１０　
＋ＣｌｌＸ２　、ａｎｄ　０ＲＸ２）　、３．３−４．
２　（ｍ　＋　７　＋　０ＣＨｓ　＋Ｃｌ１ＯＸ２　、
ａｒｄｃＨ，Ｏ）　＋　４．３−４．７　（ｍ　＋　３
１　Ｃ１１０Ｘ２ａｎｄ　０ＣＨＯ）　！　５．３−５
．６　（ｍ　＋　２　＋　ｖｉｎｙｌ）手続補正書（方
式ン昭和ｂｏ年２　月２ｇ　日特許庁長官殿１、事件の表示特願昭　５８−１８７＋３３　号２　発明の名称プロスタクランティンＤ、朔の製法３　補正をする者事件との関係　特許出願人大阪市東区南本町１丁目１１番地（３００）帝人株式会社代表者岡本佐四部７．６７′　補圧の対象

Claims

【特許請求の範囲】１、　下記式（］）で表わされる７−ヒトロキシブロスタグランテインＦ、
α類をチオプコルポニルイミタゾールテ処理し、下記式（２）で表わされるチオカーボネイト体を得、これをトリーｎ
−ブチル錫ハイドライドで処理しついで塩基で処理し、下記式（３）で表わされる７μスタグランデインＦ、Ｇ類を得、９位
の水酸基を水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形
成する基で保護し、下記式（４１で表わされる保護されたフロスタグランティンＦ、α類
を得、これを選択的脱保護、酸化、脱保護及び又は加水
分解反応に付すことを特徴とする下記式（５１で表わされるプロスタグランディンＤ、類の製法。２　選択的脱保護反応をテトラ−ｎ−プチルアンモニウ
ムフルオリドを用いて行なう特許請求の範囲第１項記載
のプロスタグランディンＤ、類の製法。３、　酸化反応をクロム酸系酸化剤を用いて行なう喘許
請求の範囲第１項又は第２項のいずれか１項記載のプロ
スタグランディンＤｔ類σ）製法。表　上記式＋１１において、Ｒ”がメチル基又はエチル
基である特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項
記載のプロスタグランディンＤ。類の製法。５、　上記式（１１において、Ｗが水素原子である特許
請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項記載のプａ　
７．タダランテインＤ、類の製法。６　上記ｆ、　ｆｆ）　においてＷがｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基、２−メチル−！−ヘキシル基。シクロヘキシル基、又はシクロペンチル基である特許請
求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項記載Ｏ）プロス
タグランディンＤ、類の製法。７、　上記式！１１　においてＲ”がトリエチルシリル
基又はｔ−ブチルジメチルシリル基である特許請求の範
囲第１項〜６項のいずれか１項記載のプロスタグランデ
ィンＤ！類の製法。＆　上記式（１１において、Ｒ４１，Ｒ１１が同一もし
くは異なり２−テトラヒト−ピラニル基、１−エトキシ
エチル基、２−メトキシ−２−プロピル基ヌは（２−メ
トキシエトキシ）メチル基である特許請求の範囲第１項
〜第７項のいずれか１項記載のプロスタグランディンＤ
！類の製法。９、　上記式（３）においてＡが３重結合であり、これ
をシスー２重結合へ選択的に還元することを含む特許請
求の範囲第１項〜８ＴＪ４０）〜・ずれか１項記載のプ
ロスタグランディンＤ、類の製法。１０　選択的還元をパラジウム系触媒を用いて水素添加
する特許請求の範囲第９項記載のプロスタグランディン
Ｄ、類の製法。１１、チオカルボニルイミダゾール処理において４−ジ
メチルアミノピリジンの存在下に行なう特許請求の範囲
第１〜９項のいずれか１項記載のプロスタグランディン
病類の製法。１２　上記式（２１で表わされるチオカーボネイト体。