JPS61238746A - 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法 - Google Patents
光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法Info
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- JPS61238746A JPS61238746A JP60079184A JP7918485A JPS61238746A JP S61238746 A JPS61238746 A JP S61238746A JP 60079184 A JP60079184 A JP 60079184A JP 7918485 A JP7918485 A JP 7918485A JP S61238746 A JPS61238746 A JP S61238746A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
チル−1−オクテン類およびその製造法に関する。更に
詳1taVcは医薬品として有用であるプロスタグラン
ジン類の合成中間体として有用な、光学活性4−ヒドロ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類および
4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチン類をハイド
ロボレーシミンとそれに次ぐヨウ素化反応に付し1次い
で必要に応じて脱保護反応を行ない光学活性4−ヒドロ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類を製造
する方法に関するものである。
チル−1−オクテン類およびその製造法に関する。更に
詳1taVcは医薬品として有用であるプロスタグラン
ジン類の合成中間体として有用な、光学活性4−ヒドロ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類および
4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチン類をハイド
ロボレーシミンとそれに次ぐヨウ素化反応に付し1次い
で必要に応じて脱保護反応を行ない光学活性4−ヒドロ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類を製造
する方法に関するものである。
〈従来技術〉
天然プロスタグランジン類は、生物学的および薬理学的
に高度な活性を持つ局所ホルモンとして知られており、
それ故にそれらの誘導体に関する研究も数多く行なわれ
ている。
に高度な活性を持つ局所ホルモンとして知られており、
それ故にそれらの誘導体に関する研究も数多く行なわれ
ている。
しかし、天然プロスタグランジンはその作用が多彩であ
ることKより1種々の副作用を引き起こす可能性があり
、主作用と副作用がある程度分離されることが好ましい
−また、天然プロスタグランジン、特K P G E、
類の最大の欠点は、゛経口投与によって速やかに代謝さ
れるため、経口投与で用いることができず通常静注によ
り用いなければならない点にある。
ることKより1種々の副作用を引き起こす可能性があり
、主作用と副作用がある程度分離されることが好ましい
−また、天然プロスタグランジン、特K P G E、
類の最大の欠点は、゛経口投与によって速やかに代謝さ
れるため、経口投与で用いることができず通常静注によ
り用いなければならない点にある。
それを解決する一つの方法として、プロスタグランジン
骨格のω鎖の15位に存在する水酸基を16位に移し、
かつ16位にメチル基を導入するドラッグデザインがあ
り、成功を収めている〔特公昭58−55142号公報
。
骨格のω鎖の15位に存在する水酸基を16位に移し、
かつ16位にメチル基を導入するドラッグデザインがあ
り、成功を収めている〔特公昭58−55142号公報
。
特開昭54−115351号公報、ピー・ダブりニー・
フリンズ(P、W、Co11ina )ら、ジャーナル
・オプ・メデイシナル・ケミストリー(J。
フリンズ(P、W、Co11ina )ら、ジャーナル
・オプ・メデイシナル・ケミストリー(J。
Med、Chem、 ) + 20巻+1152頁、
1977年など〕。
1977年など〕。
このようなドラッグデザインを行なうためのω鎖の原料
としては、4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−
1−オクテン類が重要である(IP#公昭58−551
42号公報、4I開昭54−115351号公報)。
としては、4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−
1−オクテン類が重要である(IP#公昭58−551
42号公報、4I開昭54−115351号公報)。
ところで、15−デオキシ−16−ヒドロキシ−16−
メチル側鎖をもつプロスタグランジンの16位の立体配
置を8体又は8体のどちらか一万に固定するとその先物
活性が8体及び8体の混合物よりも高(なることが知ら
れている〔イー・ゼット・ダシヤニ(E、Z。
メチル側鎖をもつプロスタグランジンの16位の立体配
置を8体又は8体のどちらか一万に固定するとその先物
活性が8体及び8体の混合物よりも高(なることが知ら
れている〔イー・ゼット・ダシヤニ(E、Z。
Dajanl) ラ+ドラッグ・テペロップメント・リ
サーチ(Drug、Dev、Reg、)+ 3巻、33
9頁。
サーチ(Drug、Dev、Reg、)+ 3巻、33
9頁。
1983年など〕。
そこで16位が光学活性な15−デオキシ−16−ヒド
ロキシ−16−メチルブースタグランジン類を合成する
ための、光学活性なω鎖の原料が重畳になっており、光
学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリプチルチ
ン−1−オクテン類がそれとして知られている〔アール
・パツポ(R,Pappo)ら9ケミストリー・バイオ
ケミストリー・アンドーファーマコロジカル・7クテイ
ビテイー・オズ・ブ。スタノイド(Chemistry
、 Biochemistry andPharmac
ological Activity of Proa
tanolds) * /<−ガモンーブレス奉ニュー
・ヨーク(P@rgamonPresss New、Y
ork) + 17頁、1978年; ワイ・フジモト
(Y、FuJimoto)ら、テトラヘドロン・レター
ズ(Tetrahedron Letters) +
21巻、2481頁、1980年など〕。
ロキシ−16−メチルブースタグランジン類を合成する
ための、光学活性なω鎖の原料が重畳になっており、光
学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリプチルチ
ン−1−オクテン類がそれとして知られている〔アール
・パツポ(R,Pappo)ら9ケミストリー・バイオ
ケミストリー・アンドーファーマコロジカル・7クテイ
ビテイー・オズ・ブ。スタノイド(Chemistry
、 Biochemistry andPharmac
ological Activity of Proa
tanolds) * /<−ガモンーブレス奉ニュー
・ヨーク(P@rgamonPresss New、Y
ork) + 17頁、1978年; ワイ・フジモト
(Y、FuJimoto)ら、テトラヘドロン・レター
ズ(Tetrahedron Letters) +
21巻、2481頁、1980年など〕。
上記光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリブ
チルチン−1−オクテン類は2−ヒドロキシ−2−メチ
ルヘキサン酸を光学分割して得られた光学活性2−ヒド
ロキシ−2−メチルヘキサン酸を出発原料として、光学
活性1,2−ジヒドロキシ−2−メチルへキ寸・ン、光
学活性4−ヒドロキシー4−メチル−1−オクチンを経
て合成されるが、または菌によるバイオコーンバージョ
ンで得られる光学活性シトラマレートを出発原料にして
光学活性1.2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン、
光学活性4−ヒドロキシー4−メチル−1−オクチンを
経て合成されている。
チルチン−1−オクテン類は2−ヒドロキシ−2−メチ
ルヘキサン酸を光学分割して得られた光学活性2−ヒド
ロキシ−2−メチルヘキサン酸を出発原料として、光学
活性1,2−ジヒドロキシ−2−メチルへキ寸・ン、光
学活性4−ヒドロキシー4−メチル−1−オクチンを経
て合成されるが、または菌によるバイオコーンバージョ
ンで得られる光学活性シトラマレートを出発原料にして
光学活性1.2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン、
光学活性4−ヒドロキシー4−メチル−1−オクチンを
経て合成されている。
〈発明の目的〉
今回、我々は有用な16位が光学活性な15−チオキシ
−16−ζドルキシ−16−メチルプロスタグランジン
類を合成するのに必要な新規なω鎖原料である光学活性
な(R)−および(S) −4−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−4−メチル−1−オクテン類の合成法を確立するこ
とを目的に鋭意研究した結果、その合成法を開発するこ
とに成功し、また目的の(R)−および(S) −4−
ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類
を得ることに成功し、本発明に到達したものである。
−16−ζドルキシ−16−メチルプロスタグランジン
類を合成するのに必要な新規なω鎖原料である光学活性
な(R)−および(S) −4−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−4−メチル−1−オクテン類の合成法を確立するこ
とを目的に鋭意研究した結果、その合成法を開発するこ
とに成功し、また目的の(R)−および(S) −4−
ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類
を得ることに成功し、本発明に到達したものである。
〈発明の構成及び作用効果〉
本発明では、下記式(I)
で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4
−メチル−4−オクチン類が提供される。
−メチル−4−オクチン類が提供される。
式CI) において、R′は水素原子、トリ(C。
〜C,)炭化水素シリル基、水酸基の酸素原子とともに
7セタ一ル結合を形成する基、または水酸基の酸素原子
とともにエステル結合を形成する基を表わす。
7セタ一ル結合を形成する基、または水酸基の酸素原子
とともにエステル結合を形成する基を表わす。
)!J(C,〜C?)炭化水素シリル基として(九例え
ばトリメチルシリル、トリエチルシリル。
ばトリメチルシリル、トリエチルシリル。
t−ブチルジメチルシリル基の如き)!j(C。
〜C,)7ルキルシリル;ジメチルフェニルシリル基の
如# (C1〜C4)アルキルフェニルシリル;t−ブ
チルジフェニルシリル基の如きジフェニル(C1〜C4
)フルキルシリルまたはトリフェニルシリル9トリベン
ジルシリル基等を好ましいものとして挙げることができ
る。
如# (C1〜C4)アルキルフェニルシリル;t−ブ
チルジフェニルシリル基の如きジフェニル(C1〜C4
)フルキルシリルまたはトリフェニルシリル9トリベン
ジルシリル基等を好ましいものとして挙げることができ
る。
これらのうち、トリメチルシリル、トリエチルシリル、
t−7’チルジメチルシリル、ジメチルフェニルシリル
、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル基
が41に好ましい。
t−7’チルジメチルシリル、ジメチルフェニルシリル
、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル基
が41に好ましい。
水酸基の酸素原子と共に7セタ一ル結合を形成する基と
しては、例えばメトキシメチル91−エトキシエチル、
2−メトキシ−2−プロピル、2−エトキシ−2−プロ
ピル、(2−メトキシエトキシ)メチル、ベンジルオキ
シメチル、2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒド
ロ7ラニルスは6,6−シメチルー3−オキサ−2−オ
キソビシクロ(3,1,0)へキス−4−イル基を挙げ
ることができる。これらのうち、2−テトラヒドロピラ
ニル、2−チトラヒドロフラニル、1−エトキシエチル
、2−メトキシ−2−プロピル、(2−メトキシエトキ
シ)メチル又は6,6−シメチルー3−オキサ−2−オ
キソビシクロ〔3゜1.0〕へキス−4−イル基が%に
好ましい。
しては、例えばメトキシメチル91−エトキシエチル、
2−メトキシ−2−プロピル、2−エトキシ−2−プロ
ピル、(2−メトキシエトキシ)メチル、ベンジルオキ
シメチル、2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒド
ロ7ラニルスは6,6−シメチルー3−オキサ−2−オ
キソビシクロ(3,1,0)へキス−4−イル基を挙げ
ることができる。これらのうち、2−テトラヒドロピラ
ニル、2−チトラヒドロフラニル、1−エトキシエチル
、2−メトキシ−2−プロピル、(2−メトキシエトキ
シ)メチル又は6,6−シメチルー3−オキサ−2−オ
キソビシクロ〔3゜1.0〕へキス−4−イル基が%に
好ましい。
水酸基の酸素原子とともにエステル結合を形成する基と
しては、例えば7セチル!プロパノイル、n−ブタノイ
ル、t−ブタノイル。
しては、例えば7セチル!プロパノイル、n−ブタノイ
ル、t−ブタノイル。
アセチル基とベンゾイル基が好ましい。
R1としては、これらのうち、トリメチルシリル9トリ
エチルシリル+t−7’チルジメチルシリル、ジメチル
フェニルシリル+ t−7’チル−ジフェニルシリル、
2−テトラヒドロピラニル基が特に好ましい。
エチルシリル+t−7’チルジメチルシリル、ジメチル
フェニルシリル+ t−7’チル−ジフェニルシリル、
2−テトラヒドロピラニル基が特に好ましい。
式CI)の*は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表
わす。すなわち4位の立体配置は、RまたはSのどちら
か一方が大過剰に存在する場合が好ましい。大過剰に存
在しているということの意味は、RまたはSのどちらか
一方が他方の量の2倍以上存在することを意味し、好ま
しくは10倍以上存在することを意味する。
わす。すなわち4位の立体配置は、RまたはSのどちら
か一方が大過剰に存在する場合が好ましい。大過剰に存
在しているということの意味は、RまたはSのどちらか
一方が他方の量の2倍以上存在することを意味し、好ま
しくは10倍以上存在することを意味する。
1位の2重結合の立体配置は、8体、2体及びそれらの
任もの混合物を表わす。好ましくは8体を表わす。
任もの混合物を表わす。好ましくは8体を表わす。
本発明により提供される上記式(I)で代表される光学
活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オ
クテン類の好ましい具体例としては下記に示した化合物
を挙げることができる。
活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オ
クテン類の好ましい具体例としては下記に示した化合物
を挙げることができる。
ill (IE14R)−1−ヨード−4−メチル−
4−トリメチルシリルオキシ−1−オクテン +21 (IB、4R)−1−ヨード−4−メチル−
4−トリエチルシリルオキシ−1−オクテン +31 (IE、4R)−4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシ−1−ヨード−4−メチル1−オクテン +41 (IK、4R)−4−ジメチルフェニル−オ
クテン f5+ (I E、 4 R) −4−t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ−1−ヨード−4−メチル−1−
オクテン +61 (I B 、 4 R) −1−ヨード−4
−メチル−4−トリフェニルシリルオキシ−1−オクテ
ン (71(I E $ 4 R) −1−ヨード−4−メ
チル−4−テトラヒドロビラン−2−イル−1−オクテ
ン +81 (IK、4R)−4−アセトキシ−1−ヨー
ド−4−メチル−1−オクテン (9+ (I E 、4 R) 4−ベンゾイルオ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテンal
(IE 、4R)−4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−
メチル−1−オクテン 伍υ (IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−
トリメチルシリルオキシ−1−オクテン αり (I E l 4 S ”)−1−ヨード−4−
メチル−4−トリエチルシリルオキシ−1−オクテン +131 (tE、4S)−4−t−グチルジメチル
シリルオキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン a尋 (IE+48)−4−・ジメチルフェニルシリル
オキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン (L場 (I E + 48 ) 4 t−ブチル
ジフェニルシリルオキシ−1−ヨード−4−メルル−1
−オクテン αe (11,4S)−1−ヨー1’−4−)fルー
4−) !Jフェニルシリルオキシー1−オクテン 鰭 (IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−
テトラヒドロピラン−2−イルー】−オクテン α8 (IK、4S)−4−アセトキシ−1−ヨード
−4−メチル−1−オクテン αl (IE、48)−4−ベンゾイルオキシ−1−
ヨード−4−メチル−1−オクテン(4) (I K
r 48 ) 4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
チル−1−オクテン (財) 4位の光学対掌体な少量含んだ(11〜翰の化
合物。
4−トリメチルシリルオキシ−1−オクテン +21 (IB、4R)−1−ヨード−4−メチル−
4−トリエチルシリルオキシ−1−オクテン +31 (IE、4R)−4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシ−1−ヨード−4−メチル1−オクテン +41 (IK、4R)−4−ジメチルフェニル−オ
クテン f5+ (I E、 4 R) −4−t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ−1−ヨード−4−メチル−1−
オクテン +61 (I B 、 4 R) −1−ヨード−4
−メチル−4−トリフェニルシリルオキシ−1−オクテ
ン (71(I E $ 4 R) −1−ヨード−4−メ
チル−4−テトラヒドロビラン−2−イル−1−オクテ
ン +81 (IK、4R)−4−アセトキシ−1−ヨー
ド−4−メチル−1−オクテン (9+ (I E 、4 R) 4−ベンゾイルオ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテンal
(IE 、4R)−4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−
メチル−1−オクテン 伍υ (IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−
トリメチルシリルオキシ−1−オクテン αり (I E l 4 S ”)−1−ヨード−4−
メチル−4−トリエチルシリルオキシ−1−オクテン +131 (tE、4S)−4−t−グチルジメチル
シリルオキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン a尋 (IE+48)−4−・ジメチルフェニルシリル
オキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン (L場 (I E + 48 ) 4 t−ブチル
ジフェニルシリルオキシ−1−ヨード−4−メルル−1
−オクテン αe (11,4S)−1−ヨー1’−4−)fルー
4−) !Jフェニルシリルオキシー1−オクテン 鰭 (IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−
テトラヒドロピラン−2−イルー】−オクテン α8 (IK、4S)−4−アセトキシ−1−ヨード
−4−メチル−1−オクテン αl (IE、48)−4−ベンゾイルオキシ−1−
ヨード−4−メチル−1−オクテン(4) (I K
r 48 ) 4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
チル−1−オクテン (財) 4位の光学対掌体な少量含んだ(11〜翰の化
合物。
などを挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
ではない。
上記式CI)で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1
−ヨード−4−メチル−1−オクテン類は、下記式(n
) で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−オクチン類をノーイドロポレーションとそれに灰ぐヨ
ウ素化反応に付し、次〜・で会費に応じて脱保護反応に
付することにより製造すること カー
できる。
−ヨード−4−メチル−1−オクテン類は、下記式(n
) で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−オクチン類をノーイドロポレーションとそれに灰ぐヨ
ウ素化反応に付し、次〜・で会費に応じて脱保護反応に
付することにより製造すること カー
できる。
このハイドロポレーションとそれに次く°ヨウ素化反応
を行なうKは1例えば文献〔ニー・z 7 ・クー/L
、ゲ(A、F、Kluge)ら、 :)+→ル、オプ。
を行なうKは1例えば文献〔ニー・z 7 ・クー/L
、ゲ(A、F、Kluge)ら、 :)+→ル、オプ。
ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイー(J、Am
、Cham、Soa、)+ 94巻、7B27頁。
、Cham、Soa、)+ 94巻、7B27頁。
1972年〕などが参考とされる。
ハイドロポレーションの試薬とじてを家、ジポランまた
はメチルポラン、エチルポランシn−プロピルポラン、
n ;7Fチルポラン、を−ブチルポラン、シアミルポ
ラン(1,2−ジメチルプロピルポラン)、テキシルポ
ラン(1?112− ) ’)メチルプロピルホラン)
。
はメチルポラン、エチルポランシn−プロピルポラン、
n ;7Fチルポラン、を−ブチルポラン、シアミルポ
ラン(1,2−ジメチルプロピルポラン)、テキシルポ
ラン(1?112− ) ’)メチルプロピルホラン)
。
1.1−ジメチルヘキシルポランなどのC1〜C1゜の
モノアルキルポランまたはジメチルポラン。
モノアルキルポランまたはジメチルポラン。
ジエチルポラ/、ジプロピルポラン、ジ一式−ブチルポ
ラン、ジシアミルホラン、ジ一式−ヘキシルポラン、ジ
シクロヘキシルポラン。
ラン、ジシアミルホラン、ジ一式−ヘキシルポラン、ジ
シクロヘキシルポラン。
ジー弐−オクチルポラン9式−フチルメチルポラン
プアミルポランなどのC,〜C1。のジアルキルポラン
ン(9−BBN)等の環状フルキルポランまたはカテコ
ールポラン等の酸素原子を含んだ環状ポランが挙げられ
る。このなかで好ましくはCI〜C,。のジアルキルホ
ラン,環状アルキルポランが用いられる。さらに好まし
く【マジシアミルポラン,9−BBNが用〜)られる。
ールポラン等の酸素原子を含んだ環状ポランが挙げられ
る。このなかで好ましくはCI〜C,。のジアルキルホ
ラン,環状アルキルポランが用いられる。さらに好まし
く【マジシアミルポラン,9−BBNが用〜)られる。
これらの試薬は,原料に対し0.8〜10倍当量程度用
いられる。好ましくは1〜3倍当量用いる。反応溶媒と
してはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグラ
イム等のエーテル系溶媒が好ましく用いられ,特にテト
ラヒドロ7ランが好ましい。反応温度は一80℃〜60
℃の範囲であり,好ましくは一20℃〜20℃の範囲で
ある。反応時間は反応量。
いられる。好ましくは1〜3倍当量用いる。反応溶媒と
してはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグラ
イム等のエーテル系溶媒が好ましく用いられ,特にテト
ラヒドロ7ランが好ましい。反応温度は一80℃〜60
℃の範囲であり,好ましくは一20℃〜20℃の範囲で
ある。反応時間は反応量。
使用する溶媒の種類,温度等により変化するが、通常1
5分間〜5時間程度である。
5分間〜5時間程度である。
ハイドロポレーションに次ぐヨウ素化反応は.通常ハイ
ドロポレーション反応後、ただちに同一容器内で行なう
のが普通である。つまりハイドロボレーション′反応混
合物中に、トリエチルアミンオキシド、モルフォリンオ
キサイド等の酸化剤を加えた後,その反応混合物に水性
アルカリとヨウ素を加えることにより行なわれる。トリ
エチルアミンオキシド。
ドロポレーション反応後、ただちに同一容器内で行なう
のが普通である。つまりハイドロボレーション′反応混
合物中に、トリエチルアミンオキシド、モルフォリンオ
キサイド等の酸化剤を加えた後,その反応混合物に水性
アルカリとヨウ素を加えることにより行なわれる。トリ
エチルアミンオキシド。
モルフォリンオキシド等の酸化剤は、原料の上記式(I
I)で表わされる4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オ
クチン類に対し通常2〜100倍当量用いられるが、好
ましくは2〜20倍当量用いられる。これらの酸化剤は
、溶剤とともに加えてもよいが,通常は酸化剤のみを直
接反応系に加える。酸化剤を加えた後−20℃〜80℃
、好ましくは10℃〜40℃で10分〜5時間反応させ
た後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ水溶液に加えすぐKHつ素が加えられる。
I)で表わされる4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オ
クチン類に対し通常2〜100倍当量用いられるが、好
ましくは2〜20倍当量用いられる。これらの酸化剤は
、溶剤とともに加えてもよいが,通常は酸化剤のみを直
接反応系に加える。酸化剤を加えた後−20℃〜80℃
、好ましくは10℃〜40℃で10分〜5時間反応させ
た後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ水溶液に加えすぐKHつ素が加えられる。
これらのアルカリは原料に対し大過剰使用する。またヨ
ウ素は1〜50倍当量、好ましくは1〜10倍当量用い
られる。ヨウ素は、直接反応系に加えても良いが、通常
は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライ
ムなどのエーテル系溶媒に溶解して加えられる。これら
の反応は通常室温前後(0℃〜50℃)の温度で行なわ
れ、時間は10分〜12時間の範囲で行なわれる。この
ようにして行なわれたハイド−ポレーションとそれに次
ぐヨウ素化反応の後、水を加え、有機lW媒で抽出し、
乾1#、濃細し、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の
通常の手段によって目的物が単離精製される。
ウ素は1〜50倍当量、好ましくは1〜10倍当量用い
られる。ヨウ素は、直接反応系に加えても良いが、通常
は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライ
ムなどのエーテル系溶媒に溶解して加えられる。これら
の反応は通常室温前後(0℃〜50℃)の温度で行なわ
れ、時間は10分〜12時間の範囲で行なわれる。この
ようにして行なわれたハイド−ポレーションとそれに次
ぐヨウ素化反応の後、水を加え、有機lW媒で抽出し、
乾1#、濃細し、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の
通常の手段によって目的物が単離精製される。
かくして得られた下記式(1−1)
%式%
で表わされる4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル
−1−オ多テン類は、必l!に応じ脱保護反応に付し下
記式Cl−2) で表わされる4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル
−1−オクテン類に変換される〇これらの脱保護反応は
通常用いられる方法〔ティー・ダブり二−啼グリーン、
プロテクテイプ・グループス・イン・オルガニック・シ
ンセシス、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ、ニュー
ヨーク(T、W、Grten +Protec tiv
eGroups in Organic 5yntha
ais*John Wileyand 5ons*Na
w York)t 1981年参照〕Kより行なうこと
ができる。たとえば、保護基がエーテル基の場合は、公
知の方法の酢酸−水−テトラヒドロ7ラン系等を用いる
ことができ、%にシリルエーテル基の場合は上記方法以
外に1テトラ−n−プチルアンモニクムフルオライドや
フッ化水素酸、フッ化水素−ピリジンコンプレックスな
どのフッ素系試薬を用いることもできる。また保護基が
エステル基の場合は、例えば水酸化す)IJウム9水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ性加水分解を
行、なうことにより行なうことができる。
−1−オ多テン類は、必l!に応じ脱保護反応に付し下
記式Cl−2) で表わされる4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル
−1−オクテン類に変換される〇これらの脱保護反応は
通常用いられる方法〔ティー・ダブり二−啼グリーン、
プロテクテイプ・グループス・イン・オルガニック・シ
ンセシス、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ、ニュー
ヨーク(T、W、Grten +Protec tiv
eGroups in Organic 5yntha
ais*John Wileyand 5ons*Na
w York)t 1981年参照〕Kより行なうこと
ができる。たとえば、保護基がエーテル基の場合は、公
知の方法の酢酸−水−テトラヒドロ7ラン系等を用いる
ことができ、%にシリルエーテル基の場合は上記方法以
外に1テトラ−n−プチルアンモニクムフルオライドや
フッ化水素酸、フッ化水素−ピリジンコンプレックスな
どのフッ素系試薬を用いることもできる。また保護基が
エステル基の場合は、例えば水酸化す)IJウム9水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ性加水分解を
行、なうことにより行なうことができる。
原料化合物である下記式(II)
で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−オクチン類は、下記式(m)で表わされる光学活性2
−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘキサンを出発
原料として下記の経路により得ることができる。
−オクチン類は、下記式(m)で表わされる光学活性2
−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘキサンを出発
原料として下記の経路により得ることができる。
(III) (IV)〔■〕
R″o cB
H−C=C〈メCへ/
*
上記経路中、化合物(m)から化合物(II)に至る過
程で、*印の位置の立体配置は保持され、RまたはSの
どちらか一方が過剰に存在することを意味する。過剰に
存在するということは、RまたSのどちらか一方が、他
方の量の好ましくは2倍以上存在することを意味し、特
に好ましくは10倍以上存在することを意味する。
程で、*印の位置の立体配置は保持され、RまたはSの
どちらか一方が過剰に存在することを意味する。過剰に
存在するということは、RまたSのどちらか一方が、他
方の量の好ましくは2倍以上存在することを意味し、特
に好ましくは10倍以上存在することを意味する。
5teplは、光学活性エポキサイド(n[)を還元し
光学活性ジオール(IV)にする反応で、リチウムアル
ミニウム八イトライド9ジポラン等が用いられるが、好
ましくはリチウムアルミニウムハイドライド等の金属水
X@化合物が用いられ、さらに好ましくはリチウムアル
ミニウムハイドライドが用いられる。反応溶媒は、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル系溶媒が用いられる。反応温度は一20℃〜10
0℃の範囲で行なわ4る。好ましくは0℃〜60℃であ
る。これらの金属ハイドライド試薬は1通常原料の1,
8〜10倍当量用いられるが、好ましくは2〜5倍当量
である(新実験化学講座、15巻(II) 、 E1
本化学会編、丸善■参照)。
光学活性ジオール(IV)にする反応で、リチウムアル
ミニウム八イトライド9ジポラン等が用いられるが、好
ましくはリチウムアルミニウムハイドライド等の金属水
X@化合物が用いられ、さらに好ましくはリチウムアル
ミニウムハイドライドが用いられる。反応溶媒は、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル系溶媒が用いられる。反応温度は一20℃〜10
0℃の範囲で行なわ4る。好ましくは0℃〜60℃であ
る。これらの金属ハイドライド試薬は1通常原料の1,
8〜10倍当量用いられるが、好ましくは2〜5倍当量
である(新実験化学講座、15巻(II) 、 E1
本化学会編、丸善■参照)。
5tep2から5tep5に至る反応は、例えば文献〔
アール・ラツポ(R,Rappo )ら、ケミストリー
・アンド・バイオケミストリー・アンド・ファーマコロ
ジカル・アクティビティ−・オプ・ブースタノイド(C
hemistry andBiochemistry
and Pharmacologieal Activ
ityof Prostanoids Lバーマゴンー
プレスII 二:L−−ヨーp (Pergamon
Presat N@w York ) t17頁+19
78年〕などが参考とされる。
アール・ラツポ(R,Rappo )ら、ケミストリー
・アンド・バイオケミストリー・アンド・ファーマコロ
ジカル・アクティビティ−・オプ・ブースタノイド(C
hemistry andBiochemistry
and Pharmacologieal Activ
ityof Prostanoids Lバーマゴンー
プレスII 二:L−−ヨーp (Pergamon
Presat N@w York ) t17頁+19
78年〕などが参考とされる。
5tep2は、光学活性1+2−ジヒドロキシ−2−メ
チルヘキサン(rV)の1位の水酸基をスルホニル化す
る反応である。使用するスルホニル化剤は、p−)ルエ
ンスルホニルクロライド、メタンスルホニルクロライド
、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などであり、ピ
リジン嘗トリエチルアミン等の塩基存在下に反応が行な
われる(参考文献、新実験化学講座、14巻(III)
、 1793頁9日本化学会編。
チルヘキサン(rV)の1位の水酸基をスルホニル化す
る反応である。使用するスルホニル化剤は、p−)ルエ
ンスルホニルクロライド、メタンスルホニルクロライド
、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などであり、ピ
リジン嘗トリエチルアミン等の塩基存在下に反応が行な
われる(参考文献、新実験化学講座、14巻(III)
、 1793頁9日本化学会編。
丸善■)。
5tsp3は、光学活性スルホネート〔v〕と金属トリ
炭化水素シリルアセチリドをヘキサメチルホスホリック
トリアミド(HMPA )又はジメチルスルホキシド(
DMSO)等の極性溶媒存在下反応させ光学活性4−ヒ
ドロキシ−4−メチル−1−オクチン類(Vl)とする
ものである。金属トリ炭化水素シリルアセチリドのトリ
炭化水素シリルとしては、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル、ジメチルフェニ
ルシリル、トリフェニルシリルなどが用いられ、金属と
しては、リチウム、マグネシウムハライF+ナトリウム
等が用いられる。金属トリ炭化水素シリルアセチリドは
対応するトリ炭化水素シリルアセチレンとれ−プチルリ
チウム、t−7’チルリチウム、メチルリチウムtフェ
ニルリチウム等の炭化水素リチウム!メチルマグネシウ
ムクロライド、エチルマグネシウムプロことができる(
参考文献、新実験化学講座。
炭化水素シリルアセチリドをヘキサメチルホスホリック
トリアミド(HMPA )又はジメチルスルホキシド(
DMSO)等の極性溶媒存在下反応させ光学活性4−ヒ
ドロキシ−4−メチル−1−オクチン類(Vl)とする
ものである。金属トリ炭化水素シリルアセチリドのトリ
炭化水素シリルとしては、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル、ジメチルフェニ
ルシリル、トリフェニルシリルなどが用いられ、金属と
しては、リチウム、マグネシウムハライF+ナトリウム
等が用いられる。金属トリ炭化水素シリルアセチリドは
対応するトリ炭化水素シリルアセチレンとれ−プチルリ
チウム、t−7’チルリチウム、メチルリチウムtフェ
ニルリチウム等の炭化水素リチウム!メチルマグネシウ
ムクロライド、エチルマグネシウムプロことができる(
参考文献、新実験化学講座。
14巻CI)、268頁9日本化学会編、丸善■)。5
tep3の反応では、中間体として下記式〔■〕 で表わされる光学活性2−メチルー1,2−エポキシヘ
キサンを中間体としてとるが、これは単離してもよいが
、単離せず同一容器中でそのまま反応するのが一般的で
ある。
tep3の反応では、中間体として下記式〔■〕 で表わされる光学活性2−メチルー1,2−エポキシヘ
キサンを中間体としてとるが、これは単離してもよいが
、単離せず同一容器中でそのまま反応するのが一般的で
ある。
5top4は、アセチレン基に結合したトリアルキルシ
リル基な脱保護する反応であり、フフ化カリウム、フッ
化ナトリウム、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニ
ウムフルオライド等のフッ素化物により行なわれる。
リル基な脱保護する反応であり、フフ化カリウム、フッ
化ナトリウム、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニ
ウムフルオライド等のフッ素化物により行なわれる。
5tep5は遊離水酸基をシリル基で保護する反応であ
り、通常の方法で行なうことができる〔参考文献、ティ
ー・ダブリュー・グリーン(T、W、Green )
wプロテクテイプ・クループス・イン・オルガニック・
シンセシス(Protective Groups i
n Organic 5ynthesis)+39頁t
頁ョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wil
ey and 5ons ) −ニューヨーク(New
York ) + 1981年〕。
り、通常の方法で行なうことができる〔参考文献、ティ
ー・ダブリュー・グリーン(T、W、Green )
wプロテクテイプ・クループス・イン・オルガニック・
シンセシス(Protective Groups i
n Organic 5ynthesis)+39頁t
頁ョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wil
ey and 5ons ) −ニューヨーク(New
York ) + 1981年〕。
なお、化合物[、V]にモノ金属アセチリドを反応させ
直接化合物〔■〕へ導くこともできる(参考文献、新実
験化学講座、14巻(■)。
直接化合物〔■〕へ導くこともできる(参考文献、新実
験化学講座、14巻(■)。
268頁9日本化学会編、丸善■)。
出発原料である光学活性エポキシド(m)は、2−メチ
レン−1−ヘキサノール(HOJし)をシャープV :
X (5harpless )らの方法Cジャーナル・
オプ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ−(J
、Am、Chem、Soc、 ) 、 102巻、59
74頁、1980年)に従い不斉エポキシ化反応するこ
とにより得られる。このとき使用する不斉源である光学
活性酒石酸ジアルキルとしてL−(イ)体を使用すれば
、得られる光学活性エポキシド(m)の2位の立体配置
はSが過剰となる。また反対に、D−(→体を使用すれ
ばRが加剰となる。このとき得られる光学活性エポキシ
ド(III)の光学純度は悪くても90兄以上であり、
一般的に9jX以上である。
レン−1−ヘキサノール(HOJし)をシャープV :
X (5harpless )らの方法Cジャーナル・
オプ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ−(J
、Am、Chem、Soc、 ) 、 102巻、59
74頁、1980年)に従い不斉エポキシ化反応するこ
とにより得られる。このとき使用する不斉源である光学
活性酒石酸ジアルキルとしてL−(イ)体を使用すれば
、得られる光学活性エポキシド(m)の2位の立体配置
はSが過剰となる。また反対に、D−(→体を使用すれ
ばRが加剰となる。このとき得られる光学活性エポキシ
ド(III)の光学純度は悪くても90兄以上であり、
一般的に9jX以上である。
本経路に従う反応では、立体配置がSの光学活性エポキ
シド(III)からは、当然のことながら立体配置がS
の(ty) 、 〔V’) T (Vll 、 (■1
+(n’)。
シド(III)からは、当然のことながら立体配置がS
の(ty) 、 〔V’) T (Vll 、 (■1
+(n’)。
CI)が得られ1反対KRの光学活性エポキシド[II
[)からは立体配置がRf) 〔lv) + (V)
+ (Vl) +〔■L(n)、CI)が得られる。
[)からは立体配置がRf) 〔lv) + (V)
+ (Vl) +〔■L(n)、CI)が得られる。
2−メチレン−1−ヘキサノールは、例えばノルマン(
Norman )らの方法Cジャーナル・オブ・ザ°オ
ルカッメタル・ケミストリー(J、Organomet
al、Chem、 )+ 57巻、099頁。
Norman )らの方法Cジャーナル・オブ・ザ°オ
ルカッメタル・ケミストリー(J、Organomet
al、Chem、 )+ 57巻、099頁。
φ
1973年)従い、プロパルギルアルコールとn−ブチ
ルカッパーとから合成することができる。
ルカッパーとから合成することができる。
以上の方法によりシ遺される前記式CI)で代表され、
る光字活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−
1−オクテン類は、十二指腸潰瘍、胃潰瘍などの消化器
疾患、肝炎う劇症肝炎、脂肪肝、肝性昏睡、肝臓肥大、
肝硬変などの肝臓疾患、膵炎などの膵臓疾患、糖尿病腎
症、急性腎不全、膀胱炎、尿道炎などの泌尿器疾患、肺
炎、気管炎などの呼吸器疾患、内分泌疾患、免疫疾患お
よびアルコール中毒、四塩化炭素中毒などの中毒症状な
らびに血圧降下などの各種疾患の予防および/または治
療に用いることができるプロスタグラン類を合成する重
要中間体として用いることができる。つまり、上記式C
I)で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード
−4−メチル−1−オクテン類のハロゲン−リチウム変
換を行ない、光学活性4−ヒドロキシ−1−リチオ−4
−メチル−1−オクテン類とした後、有機銅化合物に変
換し、これをシクロベンテノン誘導体に共役付加反応さ
せることを中心にした変換を行なうことにより種々のプ
ロスタグランジン誘導体を得ることができる。
る光字活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−
1−オクテン類は、十二指腸潰瘍、胃潰瘍などの消化器
疾患、肝炎う劇症肝炎、脂肪肝、肝性昏睡、肝臓肥大、
肝硬変などの肝臓疾患、膵炎などの膵臓疾患、糖尿病腎
症、急性腎不全、膀胱炎、尿道炎などの泌尿器疾患、肺
炎、気管炎などの呼吸器疾患、内分泌疾患、免疫疾患お
よびアルコール中毒、四塩化炭素中毒などの中毒症状な
らびに血圧降下などの各種疾患の予防および/または治
療に用いることができるプロスタグラン類を合成する重
要中間体として用いることができる。つまり、上記式C
I)で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード
−4−メチル−1−オクテン類のハロゲン−リチウム変
換を行ない、光学活性4−ヒドロキシ−1−リチオ−4
−メチル−1−オクテン類とした後、有機銅化合物に変
換し、これをシクロベンテノン誘導体に共役付加反応さ
せることを中心にした変換を行なうことにより種々のプ
ロスタグランジン誘導体を得ることができる。
このようにして得られる16位が光学活性な15−デオ
キシ−16−ヒドロキシ−16−メチルプロスタグラン
ジン類は、16位が光学不活性なものよりも高活性を有
し、かつ作用選択性を持つことが期待され有用である。
キシ−16−ヒドロキシ−16−メチルプロスタグラン
ジン類は、16位が光学不活性なものよりも高活性を有
し、かつ作用選択性を持つことが期待され有用である。
以下2本発明を実施例により更に詳細に説明するが1本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
(参考例1)
メチレンクルライド35Rtを一23℃に冷却後、チタ
ニウムテトライソプロポキシド1.15威、次いでL−
(ト)−酒石酸ジエチル0.69iuを加え、−23℃
で7分間攪拌した。2−メチレン−1−ヘキサノール4
00〜のメチレンクロライド溶液(1,51117)を
加え1次いでt−ブチルハイドロペロキシドのトルエン
溶液(3mo//1.2.6 mo/ )を加え一23
℃で8時間攪拌した。ジメチルスルフィド1Nを加え一
23℃で10分間攪拌後、10%酒石散水溶液50gを
加え、分液ロートで振とう後、水層をメチレンクロライ
ド(503117)で再抽出し、合わせた有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液1食塩水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し6溶媒を留去した。得られた組成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製すると
、20〜30%酢酸エチル−〇−ヘキサン溶出部に28
0■(収率63%]の(2S)−2−ヒドロキシメチル
−1,2−エポキシヘキサン NMR(CD(J、 、δ解) 0.88(3H+t+J=5Hz)、 2.57(I
H+d、J=5Hz)。
ニウムテトライソプロポキシド1.15威、次いでL−
(ト)−酒石酸ジエチル0.69iuを加え、−23℃
で7分間攪拌した。2−メチレン−1−ヘキサノール4
00〜のメチレンクロライド溶液(1,51117)を
加え1次いでt−ブチルハイドロペロキシドのトルエン
溶液(3mo//1.2.6 mo/ )を加え一23
℃で8時間攪拌した。ジメチルスルフィド1Nを加え一
23℃で10分間攪拌後、10%酒石散水溶液50gを
加え、分液ロートで振とう後、水層をメチレンクロライ
ド(503117)で再抽出し、合わせた有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液1食塩水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し6溶媒を留去した。得られた組成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製すると
、20〜30%酢酸エチル−〇−ヘキサン溶出部に28
0■(収率63%]の(2S)−2−ヒドロキシメチル
−1,2−エポキシヘキサン NMR(CD(J、 、δ解) 0.88(3H+t+J=5Hz)、 2.57(I
H+d、J=5Hz)。
2.78(IH,d、J=5Hz)、3.10(IH,
br;OH)。
br;OH)。
3 、48 (IHld 、J=12Jlz) 、3
、67(IH−d vJ=12Hz>(参考例2) 参考例1と同様にして、D−←)−酒石酸ジエチルをL
−(イ)一体の替わりに使用することにより、(2R)
−2−ヒドロキシメチル−1,2−NMRは(2S)一
体(瓢考例1)と同じであった。
、67(IH−d vJ=12Hz>(参考例2) 参考例1と同様にして、D−←)−酒石酸ジエチルをL
−(イ)一体の替わりに使用することにより、(2R)
−2−ヒドロキシメチル−1,2−NMRは(2S)一
体(瓢考例1)と同じであった。
(k考例3)
参考例1で得られた(28)−2−ヒトルキシメチル−
1,2−エポキシヘキサン13岬を塩化メチレン0.4
紅に溶屏し、ピリジン15 tJ + 次いで(至)−
メトキシトリフルオロメチルフェニル酢酸クジリド(ト
)−MTPACI40IIiJを力りえ、室温で5時間
攪拌した。n−ヘキサン101Ltを加え、セライトロ
過後、O液を硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水浴液、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去すると、(2S)−2−ヒドロキ
シメチル−1,2−エポキシヘキサンの(至)−メトキ
シトリフルオロメチルフェニル酢酸エステル((イ)−
MTPAエステル)が得られた。
1,2−エポキシヘキサン13岬を塩化メチレン0.4
紅に溶屏し、ピリジン15 tJ + 次いで(至)−
メトキシトリフルオロメチルフェニル酢酸クジリド(ト
)−MTPACI40IIiJを力りえ、室温で5時間
攪拌した。n−ヘキサン101Ltを加え、セライトロ
過後、O液を硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水浴液、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去すると、(2S)−2−ヒドロキ
シメチル−1,2−エポキシヘキサンの(至)−メトキ
シトリフルオロメチルフェニル酢酸エステル((イ)−
MTPAエステル)が得られた。
NMR(CDC/3 、δpGil)
0.88(3H,t+J=7tlz)、 1.2−1.
4(4H,mLl、4−1.55(IH+m)、 1.
65−1.75(IH+m)+2.66(IH,d、J
=4.4Hz)、 2.70(IH,d、J=4.6H
z)。
4(4H,mLl、4−1.55(IH+m)、 1.
65−1.75(IH+m)+2.66(IH,d、J
=4.4Hz)、 2.70(IH,d、J=4.6H
z)。
3.56(3H9bs)、4.18(IH+d、J=1
2Hz) +4.54(IH,d+J”12flz)、
7.42(3H,m)。
2Hz) +4.54(IH,d+J”12flz)、
7.42(3H,m)。
7.53(2J(、m)
(参考例4)
参考例2で得られた(2R)−2−ヒドロキシメチル−
1,2−エポキシヘキサンを参考例3と同様にして(至
)−MTPAエステルとした。
1,2−エポキシヘキサンを参考例3と同様にして(至
)−MTPAエステルとした。
NMR(CD(J、、δ酵)
0.88(3H+t+J=7k)+ 1.2−1.4(
4H,m)。
4H,m)。
1.45−1.6(IH,m)、 1.65−1.75
(IH,m)12.66 (IHld 、J==4 、
6Hz) 、2 、74(LH+d−J”4.6H2)
。
(IH,m)12.66 (IHld 、J==4 、
6Hz) 、2 、74(LH+d−J”4.6H2)
。
3.53(3H,bg)、 4.27(IH,d、J=
12&L4 、49 + IH9d + J=12Hz
) 、7 、42 (3H,rn) +7.52(2H
,m) (実施例1) (2S)−2−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘ
キサン(参考例1 )132■のエーテル(5v)溶液
を、リチウムアルミニウムハイドライド38■のエーテ
ル懸濁液(317)Ic滴下し、30分攪拌後、室温で
1時間攪拌した。
12&L4 、49 + IH9d + J=12Hz
) 、7 、42 (3H,rn) +7.52(2H
,m) (実施例1) (2S)−2−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘ
キサン(参考例1 )132■のエーテル(5v)溶液
を、リチウムアルミニウムハイドライド38■のエーテ
ル懸濁液(317)Ic滴下し、30分攪拌後、室温で
1時間攪拌した。
飽和i1酸ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルを
加えセライトロ過後1口液を分液ロートで振とうした。
加えセライトロ過後1口液を分液ロートで振とうした。
水層を再度酢酸エチルで抽出後、合わせた有機層を飽和
食塩水で洗浄し、8!酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留
出すると、(2S)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチ
ルヘキサン11911g(収率89S)が得られた。
食塩水で洗浄し、8!酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留
出すると、(2S)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチ
ルヘキサン11911g(収率89S)が得られた。
NMR(CDα3.δp)
0.88(3I(、t、J=5Hz)、 1.10(3
H,s)。
H,s)。
3.34(2H1a)、3.1−4.2(2H+br、
0R)(実施例2) (2R)−2−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘ
キサン(参考例2)841〜より、実施例1と同様にし
て、(2R)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキ
サン58819 (収率63%)を得た。
0R)(実施例2) (2R)−2−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘ
キサン(参考例2)841〜より、実施例1と同様にし
て、(2R)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキ
サン58819 (収率63%)を得た。
NMRは−OHのピークを除き(2S)一体(実施例1
)と同じであった。
)と同じであった。
(実施例3)
(28)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン
(実施例1)115ダをピリジン1.0114 KII
[i p−)ルエンスルホニルクロリド217M9を加
え、室温で一夜放置した。氷−水を加え、エーテルで2
回抽出後、希塩酸、飽和炭散水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去すると、(28)−2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−p −)ルエンスルホニルオキシヘキサン215
19(収率86%)が得られた。
(実施例1)115ダをピリジン1.0114 KII
[i p−)ルエンスルホニルクロリド217M9を加
え、室温で一夜放置した。氷−水を加え、エーテルで2
回抽出後、希塩酸、飽和炭散水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去すると、(28)−2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−p −)ルエンスルホニルオキシヘキサン215
19(収率86%)が得られた。
NMR(CD(J、、 an);
0.87(3H,tsJ=5h)t 1.14(3H
+s)+2.41(3H9s)、2.50(IHts、
0H)t 3.79(2HtaL7.24(2H,d
+J=8flz)、7.69(2H,d、J=8Hz)
(実施例4) (2R)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン
(実施例2)538■より、実施例3と同様にして、(
2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1=p−)ルエ
ンスルホニルオキシヘキサ71.07g(収!s91%
)を得た。
+s)+2.41(3H9s)、2.50(IHts、
0H)t 3.79(2HtaL7.24(2H,d
+J=8flz)、7.69(2H,d、J=8Hz)
(実施例4) (2R)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン
(実施例2)538■より、実施例3と同様にして、(
2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1=p−)ルエ
ンスルホニルオキシヘキサ71.07g(収!s91%
)を得た。
NMRは一〇Hのピークを除き(2S)一体(実施例3
)と同じであった。
)と同じであった。
(実施例5)
トリエチルシリルアセチレン3゜7119のテトラにド
ロフラン(30117)溶液にヘキサメチルホスホリッ
クトリ7ミド(HMPA)6mを加え、−40〜−50
℃に冷却した。そこにn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液(1,58malll )15.1−を滴下し、−4
0℃で40分攪拌した。
ロフラン(30117)溶液にヘキサメチルホスホリッ
クトリ7ミド(HMPA)6mを加え、−40〜−50
℃に冷却した。そこにn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液(1,58malll )15.1−を滴下し、−4
0℃で40分攪拌した。
(28)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−p−)ル
エンスルホニルオキシヘキサン(実施例3 )1.5
gのテトラヒドロフラン(611j)−ヘキサメチルホ
スホリックトリ7ミド(8v)混合溶液をO’CK冷却
し、そこに上記p+iしたリチウムトリエチルシリルア
セチリドWj液を加え、室温で一夜攪拌後、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液100Nを加え、エーテルで2平抽出
した。有機層を希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム。
エンスルホニルオキシヘキサン(実施例3 )1.5
gのテトラヒドロフラン(611j)−ヘキサメチルホ
スホリックトリ7ミド(8v)混合溶液をO’CK冷却
し、そこに上記p+iしたリチウムトリエチルシリルア
セチリドWj液を加え、室温で一夜攪拌後、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液100Nを加え、エーテルで2平抽出
した。有機層を希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム。
飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留出すると、粗生成物として4.42 J’の(48)
−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリエチルシリル
−1−オクチンが得られた(不純物を含有している。)
。
留出すると、粗生成物として4.42 J’の(48)
−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリエチルシリル
−1−オクチンが得られた(不純物を含有している。)
。
このうち40■をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(2,5%酢酸エチル−n−へキサン)で精製した。
(2,5%酢酸エチル−n−へキサン)で精製した。
NMR(CDC4、arva )
1.20(3H+sL 2.35(2H9a)(実施例
6) (2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−p −)
/レニンスルホニルオキシヘキサン(実施例4 )
1.5 Nより実施例5と同様にして(4R)−4−ヒ
ドロキシ−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オ
クチンの粗生成物4.19を得た。このもののNMRス
ペクトルは(4S)体(実施例5)と同じであった。
6) (2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−p −)
/レニンスルホニルオキシヘキサン(実施例4 )
1.5 Nより実施例5と同様にして(4R)−4−ヒ
ドロキシ−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オ
クチンの粗生成物4.19を得た。このもののNMRス
ペクトルは(4S)体(実施例5)と同じであった。
(実施例7)
実施例5で得られた未精製の(4S)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オクチン4
.38 Fをジメチルホルム7ミド12jlljK溶解
し、フッ化カリウム2.67 Nを加え、70℃で3時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液30νを加え
、酢酸エチルで2回抽出後、有機層を飽和食塩水で2回
洗浄した。次いで硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去すると、3.23 Fの(48)−4−ヒドロキシ−
4−メチル−1−オクチンの粗生成物が得られた(不純
物を含む)。
−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オクチン4
.38 Fをジメチルホルム7ミド12jlljK溶解
し、フッ化カリウム2.67 Nを加え、70℃で3時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液30νを加え
、酢酸エチルで2回抽出後、有機層を飽和食塩水で2回
洗浄した。次いで硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去すると、3.23 Fの(48)−4−ヒドロキシ−
4−メチル−1−オクチンの粗生成物が得られた(不純
物を含む)。
このうち、40ダをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(5%酢酸エチル−n−ヘキサン)で精製した。
ー(5%酢酸エチル−n−ヘキサン)で精製した。
NMR(CDCj、 、 avpm) :0.59(3
H+ttJ=5Hz)+ 1.0−1.7(7H,m)
。
H+ttJ=5Hz)+ 1.0−1.7(7H,m)
。
1.24(3Hts)+ 2.02(IH,t+J=2
.5Hz)+2−31 (2H、d * J”2.5H
z)(実施例8) 実施例6で得られた未精製の(4R)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オクチン4
.05 JFより、実施例7と同様にして3.20 g
の(4R)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチ
ンの粗生成物を得た(不純物を含む)。
.5Hz)+2−31 (2H、d * J”2.5H
z)(実施例8) 実施例6で得られた未精製の(4R)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オクチン4
.05 JFより、実施例7と同様にして3.20 g
の(4R)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチ
ンの粗生成物を得た(不純物を含む)。
N M Rスペクトルは(4S)体(実施例7)と同じ
であった。
であった。
(実施例9)
実施例7で得られた未精製の(4S)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−オクチン3.191を、ジメチルホ
ルムアミド(151j)に溶解し、イミダゾール1.2
I及びトリメチルクロロシラン1.21を加え、室温で
1時間攪拌した。
−4−メチル−1−オクチン3.191を、ジメチルホ
ルムアミド(151j)に溶解し、イミダゾール1.2
I及びトリメチルクロロシラン1.21を加え、室温で
1時間攪拌した。
水を加え、n−ヘキサンで2回抽出後、有機層を飽和食
塩水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去することKより得られた粗生成物(5,211)
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、
n−へキサン溶出部に609■の(48)−4−メチル
−4−ドリメチルシリルオキシ−1−オクチンを得た。
塩水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去することKより得られた粗生成物(5,211)
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、
n−へキサン溶出部に609■の(48)−4−メチル
−4−ドリメチルシリルオキシ−1−オクチンを得た。
N M R(CDCl5 、δ)
0.1(9H+s)+ 0.89(3H,t、J=5H
z)。
z)。
1.0−1.8(6H,m)+ 1.30(3H+a)
+1.91(IH+t+J=2.511z)、 2.2
9(2H,d、J=2.511z)(α)%=+0.4
°(C0,88,CRCIs )(実施例10) 実施例8で得られた未精製の(4R)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−オクチンの粗生成物3.16 Nよ
り、実施例9と同様にして(4R)−4−メチル−4−
トリメチルシリルオキシ−1−オクチン59211jl
を得た。NMRスペクトル及びIRスペクトルは(4S
)一体(実施例9)と同じであった。
+1.91(IH+t+J=2.511z)、 2.2
9(2H,d、J=2.511z)(α)%=+0.4
°(C0,88,CRCIs )(実施例10) 実施例8で得られた未精製の(4R)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−オクチンの粗生成物3.16 Nよ
り、実施例9と同様にして(4R)−4−メチル−4−
トリメチルシリルオキシ−1−オクチン59211jl
を得た。NMRスペクトル及びIRスペクトルは(4S
)一体(実施例9)と同じであった。
(実施例11)
2−メチル−2−ブテン2.40 Nのテトラヒドロフ
ラン(103117)溶液に水冷下、ボラン−テトラヒ
ドロフランフンプレックス(1moAt/A’)11.
35116滴下し、水冷下10分9間攪拌し、ジシアミ
ルボラン溶液を調製した。そこに、(48)−4−メチ
ル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクチン(実施
例9)600#のテトラヒドロ7ラン(5創)溶液を滴
下し、室温で2時間攪拌後、再度氷冷し、トリエチル7
ミンオキシト2.55 Fを数回に分けて加えた。室温
で30分攪拌後、反応混合物を3.6M、建水酸化ナト
リウム水浴液50JIjに加えた。次にヨウ素2.88
Iのデトラヒドロフラン(2011/)溶液をすばやく
加え、室温で45分攪拌後飽和塩化アンモニウム水溶液
50117を加え、エーテルで2回抽出した。有機層を
飽和食塩水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶
媒を留去することにより得られた粗生成物(4,38g
)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると
、n−へキサン溶出部に7261151(収率7696
)の(IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−ト
リメチルシリルオキシ−1−オクテンが得られた。
ラン(103117)溶液に水冷下、ボラン−テトラヒ
ドロフランフンプレックス(1moAt/A’)11.
35116滴下し、水冷下10分9間攪拌し、ジシアミ
ルボラン溶液を調製した。そこに、(48)−4−メチ
ル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクチン(実施
例9)600#のテトラヒドロ7ラン(5創)溶液を滴
下し、室温で2時間攪拌後、再度氷冷し、トリエチル7
ミンオキシト2.55 Fを数回に分けて加えた。室温
で30分攪拌後、反応混合物を3.6M、建水酸化ナト
リウム水浴液50JIjに加えた。次にヨウ素2.88
Iのデトラヒドロフラン(2011/)溶液をすばやく
加え、室温で45分攪拌後飽和塩化アンモニウム水溶液
50117を加え、エーテルで2回抽出した。有機層を
飽和食塩水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶
媒を留去することにより得られた粗生成物(4,38g
)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると
、n−へキサン溶出部に7261151(収率7696
)の(IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−ト
リメチルシリルオキシ−1−オクテンが得られた。
NMR(CD(J3. avrm ) ;0−1(9H
+s)+ 0゜57(3H+ t+J=5k) 。
+s)+ 0゜57(3H+ t+J=5k) 。
1.13(3H+s)+ 1.0−1.6(6H+br
)+2610(2H*d +J=7H2) + 5 、
90 (IH+ d +J=1.5H2) +6 、4
8 (IH+ dt t J=15Hzs 7Hz)(
a)”=+1.6°(C0,62,cncls )(実
施例12) (4R)−4−メチル−4−トリメチルシリルオキシ−
1−オクチン1.0 g(実施例10)より、実施例1
1と同様にして(IE14R)−1−ヨード−4−メチ
ル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクテンを得た
。このもののNMR及び工Rスペクトルは(4s)一体
(実施例11)と同じであった。
)+2610(2H*d +J=7H2) + 5 、
90 (IH+ d +J=1.5H2) +6 、4
8 (IH+ dt t J=15Hzs 7Hz)(
a)”=+1.6°(C0,62,cncls )(実
施例12) (4R)−4−メチル−4−トリメチルシリルオキシ−
1−オクチン1.0 g(実施例10)より、実施例1
1と同様にして(IE14R)−1−ヨード−4−メチ
ル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクテンを得た
。このもののNMR及び工Rスペクトルは(4s)一体
(実施例11)と同じであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・〔 I 〕〔式中、R^1は水素原子、トリ
(C_1〜C_7)炭化水素シリル基、水酸基の酸素原
子とともにアセタール結合を形成する基、または水酸基
の酸素原子とともにエステル結合を形成する基を表わし
、*は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4
−メチル−1−オクテン類。 2、R^1がトリ(C_1〜C_7)炭化水素シリル基
である特許請求の範囲第1項記載の4−ヒドロキシ−1
−ヨード−4−メチル−1−オクテン類。 3、下記式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・〔II〕〔式中、R^1^1はトリ(C_1
〜C_7)炭化水素シリル基、水酸基の酸素原子ととも
にアセタール結合を形成する基、または水酸基の酸素原
子とともにエステル結合を形成する基を表わし、*は光
学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−オクテン類をハイドロボレーシヨンとそれに次ぐヨウ
素化反応に付し、次いで必要に応じて脱保護反応に付す
ることを特徴とする下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・〔 I 〕 〔式中、R^1は水素原子、トリ(C_1〜C_7)炭
化水素シリル基、水酸基の酸素原子とともにアセタール
結合を形成する基、または水酸基の酸素原子とともにエ
ステル結合を形成する基を表わし、*は光学活性が誘起
された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1ヨード−4−
メチル−1−オクテン類の製法。4、4位の立体配置が
Sである特許請求の範囲第3項記載の4−ヒドロキシ−
1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類の製造法。 5、4位の立体配置がRである特許請求の範囲第3項記
載の4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オ
クテン類の製造法。 6、R^1及びR^1^1がトリ(C_1〜C_7)炭
化水素シリル基である特許請求の範囲第3項〜第5項の
いずれか1項記載の4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−
メチル−1−オクテン類の製造法。 7、ハイドロボレーシヨン反応の試薬としてジアルキル
ボランを使用する、特許請求の範囲第3項〜第6項のい
ずれか1項記載の4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
チル−1−オクテン類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60079184A JPS61238746A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60079184A JPS61238746A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61238746A true JPS61238746A (ja) | 1986-10-24 |
JPH027578B2 JPH027578B2 (ja) | 1990-02-19 |
Family
ID=13682888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60079184A Granted JPS61238746A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61238746A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0277572A2 (de) * | 1987-02-03 | 1988-08-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 2-Hydroxyethyl-azol-Derivate |
-
1985
- 1985-04-16 JP JP60079184A patent/JPS61238746A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0277572A2 (de) * | 1987-02-03 | 1988-08-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 2-Hydroxyethyl-azol-Derivate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH027578B2 (ja) | 1990-02-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |