JPS61238746A - 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法 - Google Patents

光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法

Info

Publication number
JPS61238746A
JPS61238746A JP60079184A JP7918485A JPS61238746A JP S61238746 A JPS61238746 A JP S61238746A JP 60079184 A JP60079184 A JP 60079184A JP 7918485 A JP7918485 A JP 7918485A JP S61238746 A JPS61238746 A JP S61238746A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methyl
hydroxy
group
iodo
optically active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60079184A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH027578B2 (ja
Inventor
Kiyoshi Sakauchi
坂内 清
Toshio Tanaka
利男 田中
Noriaki Okamura
憲明 岡村
Seiji Kurozumi
精二 黒住
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP60079184A priority Critical patent/JPS61238746A/ja
Publication of JPS61238746A publication Critical patent/JPS61238746A/ja
Publication of JPH027578B2 publication Critical patent/JPH027578B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
チル−1−オクテン類およびその製造法に関する。更に
詳1taVcは医薬品として有用であるプロスタグラン
ジン類の合成中間体として有用な、光学活性4−ヒドロ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類および
4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチン類をハイド
ロボレーシミンとそれに次ぐヨウ素化反応に付し1次い
で必要に応じて脱保護反応を行ない光学活性4−ヒドロ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類を製造
する方法に関するものである。
〈従来技術〉 天然プロスタグランジン類は、生物学的および薬理学的
に高度な活性を持つ局所ホルモンとして知られており、
それ故にそれらの誘導体に関する研究も数多く行なわれ
ている。
しかし、天然プロスタグランジンはその作用が多彩であ
ることKより1種々の副作用を引き起こす可能性があり
、主作用と副作用がある程度分離されることが好ましい
−また、天然プロスタグランジン、特K P G E、
類の最大の欠点は、゛経口投与によって速やかに代謝さ
れるため、経口投与で用いることができず通常静注によ
り用いなければならない点にある。
それを解決する一つの方法として、プロスタグランジン
骨格のω鎖の15位に存在する水酸基を16位に移し、
かつ16位にメチル基を導入するドラッグデザインがあ
り、成功を収めている〔特公昭58−55142号公報
特開昭54−115351号公報、ピー・ダブりニー・
フリンズ(P、W、Co11ina )ら、ジャーナル
・オプ・メデイシナル・ケミストリー(J。
Med、Chem、 ) +  20巻+1152頁、
1977年など〕。
このようなドラッグデザインを行なうためのω鎖の原料
としては、4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−
1−オクテン類が重要である(IP#公昭58−551
42号公報、4I開昭54−115351号公報)。
ところで、15−デオキシ−16−ヒドロキシ−16−
メチル側鎖をもつプロスタグランジンの16位の立体配
置を8体又は8体のどちらか一万に固定するとその先物
活性が8体及び8体の混合物よりも高(なることが知ら
れている〔イー・ゼット・ダシヤニ(E、Z。
Dajanl) ラ+ドラッグ・テペロップメント・リ
サーチ(Drug、Dev、Reg、)+ 3巻、33
9頁。
1983年など〕。
そこで16位が光学活性な15−デオキシ−16−ヒド
ロキシ−16−メチルブースタグランジン類を合成する
ための、光学活性なω鎖の原料が重畳になっており、光
学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリプチルチ
ン−1−オクテン類がそれとして知られている〔アール
・パツポ(R,Pappo)ら9ケミストリー・バイオ
ケミストリー・アンドーファーマコロジカル・7クテイ
ビテイー・オズ・ブ。スタノイド(Chemistry
、 Biochemistry andPharmac
ological Activity of Proa
tanolds) * /<−ガモンーブレス奉ニュー
・ヨーク(P@rgamonPresss New、Y
ork) + 17頁、1978年; ワイ・フジモト
(Y、FuJimoto)ら、テトラヘドロン・レター
ズ(Tetrahedron Letters) + 
21巻、2481頁、1980年など〕。
上記光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリブ
チルチン−1−オクテン類は2−ヒドロキシ−2−メチ
ルヘキサン酸を光学分割して得られた光学活性2−ヒド
ロキシ−2−メチルヘキサン酸を出発原料として、光学
活性1,2−ジヒドロキシ−2−メチルへキ寸・ン、光
学活性4−ヒドロキシー4−メチル−1−オクチンを経
て合成されるが、または菌によるバイオコーンバージョ
ンで得られる光学活性シトラマレートを出発原料にして
光学活性1.2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン、
光学活性4−ヒドロキシー4−メチル−1−オクチンを
経て合成されている。
〈発明の目的〉 今回、我々は有用な16位が光学活性な15−チオキシ
−16−ζドルキシ−16−メチルプロスタグランジン
類を合成するのに必要な新規なω鎖原料である光学活性
な(R)−および(S) −4−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−4−メチル−1−オクテン類の合成法を確立するこ
とを目的に鋭意研究した結果、その合成法を開発するこ
とに成功し、また目的の(R)−および(S) −4−
ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類
を得ることに成功し、本発明に到達したものである。
〈発明の構成及び作用効果〉 本発明では、下記式(I) で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4
−メチル−4−オクチン類が提供される。
式CI) において、R′は水素原子、トリ(C。
〜C,)炭化水素シリル基、水酸基の酸素原子とともに
7セタ一ル結合を形成する基、または水酸基の酸素原子
とともにエステル結合を形成する基を表わす。
)!J(C,〜C?)炭化水素シリル基として(九例え
ばトリメチルシリル、トリエチルシリル。
t−ブチルジメチルシリル基の如き)!j(C。
〜C,)7ルキルシリル;ジメチルフェニルシリル基の
如# (C1〜C4)アルキルフェニルシリル;t−ブ
チルジフェニルシリル基の如きジフェニル(C1〜C4
)フルキルシリルまたはトリフェニルシリル9トリベン
ジルシリル基等を好ましいものとして挙げることができ
る。
これらのうち、トリメチルシリル、トリエチルシリル、
t−7’チルジメチルシリル、ジメチルフェニルシリル
、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル基
が41に好ましい。
水酸基の酸素原子と共に7セタ一ル結合を形成する基と
しては、例えばメトキシメチル91−エトキシエチル、
2−メトキシ−2−プロピル、2−エトキシ−2−プロ
ピル、(2−メトキシエトキシ)メチル、ベンジルオキ
シメチル、2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒド
ロ7ラニルスは6,6−シメチルー3−オキサ−2−オ
キソビシクロ(3,1,0)へキス−4−イル基を挙げ
ることができる。これらのうち、2−テトラヒドロピラ
ニル、2−チトラヒドロフラニル、1−エトキシエチル
、2−メトキシ−2−プロピル、(2−メトキシエトキ
シ)メチル又は6,6−シメチルー3−オキサ−2−オ
キソビシクロ〔3゜1.0〕へキス−4−イル基が%に
好ましい。
水酸基の酸素原子とともにエステル結合を形成する基と
しては、例えば7セチル!プロパノイル、n−ブタノイ
ル、t−ブタノイル。
アセチル基とベンゾイル基が好ましい。
R1としては、これらのうち、トリメチルシリル9トリ
エチルシリル+t−7’チルジメチルシリル、ジメチル
フェニルシリル+ t−7’チル−ジフェニルシリル、
2−テトラヒドロピラニル基が特に好ましい。
式CI)の*は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表
わす。すなわち4位の立体配置は、RまたはSのどちら
か一方が大過剰に存在する場合が好ましい。大過剰に存
在しているということの意味は、RまたはSのどちらか
一方が他方の量の2倍以上存在することを意味し、好ま
しくは10倍以上存在することを意味する。
1位の2重結合の立体配置は、8体、2体及びそれらの
任もの混合物を表わす。好ましくは8体を表わす。
本発明により提供される上記式(I)で代表される光学
活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オ
クテン類の好ましい具体例としては下記に示した化合物
を挙げることができる。
ill  (IE14R)−1−ヨード−4−メチル−
4−トリメチルシリルオキシ−1−オクテン +21  (IB、4R)−1−ヨード−4−メチル−
4−トリエチルシリルオキシ−1−オクテン +31  (IE、4R)−4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシ−1−ヨード−4−メチル1−オクテン +41  (IK、4R)−4−ジメチルフェニル−オ
クテン f5+  (I E、 4 R) −4−t−ブチルジ
フェニルシリルオキシ−1−ヨード−4−メチル−1−
オクテン +61  (I B 、 4 R) −1−ヨード−4
−メチル−4−トリフェニルシリルオキシ−1−オクテ
ン (71(I E $ 4 R) −1−ヨード−4−メ
チル−4−テトラヒドロビラン−2−イル−1−オクテ
ン +81  (IK、4R)−4−アセトキシ−1−ヨー
ド−4−メチル−1−オクテン (9+  (I E 、4 R)  4−ベンゾイルオ
キシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテンal  
(IE 、4R)−4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−
メチル−1−オクテン 伍υ (IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−
トリメチルシリルオキシ−1−オクテン αり (I E l 4 S ”)−1−ヨード−4−
メチル−4−トリエチルシリルオキシ−1−オクテン +131  (tE、4S)−4−t−グチルジメチル
シリルオキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン a尋 (IE+48)−4−・ジメチルフェニルシリル
オキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オクテン (L場 (I E + 48 )  4  t−ブチル
ジフェニルシリルオキシ−1−ヨード−4−メルル−1
−オクテン αe  (11,4S)−1−ヨー1’−4−)fルー
 4−) !Jフェニルシリルオキシー1−オクテン 鰭  (IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−
テトラヒドロピラン−2−イルー】−オクテン α8  (IK、4S)−4−アセトキシ−1−ヨード
−4−メチル−1−オクテン αl  (IE、48)−4−ベンゾイルオキシ−1−
ヨード−4−メチル−1−オクテン(4) (I K 
r 48 )  4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
チル−1−オクテン (財) 4位の光学対掌体な少量含んだ(11〜翰の化
合物。
などを挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
上記式CI)で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1
−ヨード−4−メチル−1−オクテン類は、下記式(n
) で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−オクチン類をノーイドロポレーションとそれに灰ぐヨ
ウ素化反応に付し、次〜・で会費に応じて脱保護反応に
付することにより製造すること         カー
できる。
このハイドロポレーションとそれに次く°ヨウ素化反応
を行なうKは1例えば文献〔ニー・z 7 ・クー/L
、ゲ(A、F、Kluge)ら、 :)+→ル、オプ。
ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイー(J、Am
、Cham、Soa、)+ 94巻、7B27頁。
1972年〕などが参考とされる。
ハイドロポレーションの試薬とじてを家、ジポランまた
はメチルポラン、エチルポランシn−プロピルポラン、
n ;7Fチルポラン、を−ブチルポラン、シアミルポ
ラン(1,2−ジメチルプロピルポラン)、テキシルポ
ラン(1?112− ) ’)メチルプロピルホラン)
1.1−ジメチルヘキシルポランなどのC1〜C1゜の
モノアルキルポランまたはジメチルポラン。
ジエチルポラ/、ジプロピルポラン、ジ一式−ブチルポ
ラン、ジシアミルホラン、ジ一式−ヘキシルポラン、ジ
シクロヘキシルポラン。
ジー弐−オクチルポラン9式−フチルメチルポラン プアミルポランなどのC,〜C1。のジアルキルポラン ン(9−BBN)等の環状フルキルポランまたはカテコ
ールポラン等の酸素原子を含んだ環状ポランが挙げられ
る。このなかで好ましくはCI〜C,。のジアルキルホ
ラン,環状アルキルポランが用いられる。さらに好まし
く【マジシアミルポラン,9−BBNが用〜)られる。
これらの試薬は,原料に対し0.8〜10倍当量程度用
いられる。好ましくは1〜3倍当量用いる。反応溶媒と
してはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグラ
イム等のエーテル系溶媒が好ましく用いられ,特にテト
ラヒドロ7ランが好ましい。反応温度は一80℃〜60
℃の範囲であり,好ましくは一20℃〜20℃の範囲で
ある。反応時間は反応量。
使用する溶媒の種類,温度等により変化するが、通常1
5分間〜5時間程度である。
ハイドロポレーションに次ぐヨウ素化反応は.通常ハイ
ドロポレーション反応後、ただちに同一容器内で行なう
のが普通である。つまりハイドロボレーション′反応混
合物中に、トリエチルアミンオキシド、モルフォリンオ
キサイド等の酸化剤を加えた後,その反応混合物に水性
アルカリとヨウ素を加えることにより行なわれる。トリ
エチルアミンオキシド。
モルフォリンオキシド等の酸化剤は、原料の上記式(I
I)で表わされる4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オ
クチン類に対し通常2〜100倍当量用いられるが、好
ましくは2〜20倍当量用いられる。これらの酸化剤は
、溶剤とともに加えてもよいが,通常は酸化剤のみを直
接反応系に加える。酸化剤を加えた後−20℃〜80℃
、好ましくは10℃〜40℃で10分〜5時間反応させ
た後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ水溶液に加えすぐKHつ素が加えられる。
これらのアルカリは原料に対し大過剰使用する。またヨ
ウ素は1〜50倍当量、好ましくは1〜10倍当量用い
られる。ヨウ素は、直接反応系に加えても良いが、通常
は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライ
ムなどのエーテル系溶媒に溶解して加えられる。これら
の反応は通常室温前後(0℃〜50℃)の温度で行なわ
れ、時間は10分〜12時間の範囲で行なわれる。この
ようにして行なわれたハイド−ポレーションとそれに次
ぐヨウ素化反応の後、水を加え、有機lW媒で抽出し、
乾1#、濃細し、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の
通常の手段によって目的物が単離精製される。
かくして得られた下記式(1−1) %式% で表わされる4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル
−1−オ多テン類は、必l!に応じ脱保護反応に付し下
記式Cl−2) で表わされる4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル
−1−オクテン類に変換される〇これらの脱保護反応は
通常用いられる方法〔ティー・ダブり二−啼グリーン、
プロテクテイプ・グループス・イン・オルガニック・シ
ンセシス、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ、ニュー
ヨーク(T、W、Grten +Protec tiv
eGroups in Organic 5yntha
ais*John Wileyand 5ons*Na
w York)t 1981年参照〕Kより行なうこと
ができる。たとえば、保護基がエーテル基の場合は、公
知の方法の酢酸−水−テトラヒドロ7ラン系等を用いる
ことができ、%にシリルエーテル基の場合は上記方法以
外に1テトラ−n−プチルアンモニクムフルオライドや
フッ化水素酸、フッ化水素−ピリジンコンプレックスな
どのフッ素系試薬を用いることもできる。また保護基が
エステル基の場合は、例えば水酸化す)IJウム9水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ性加水分解を
行、なうことにより行なうことができる。
原料化合物である下記式(II) で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−オクチン類は、下記式(m)で表わされる光学活性2
−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘキサンを出発
原料として下記の経路により得ることができる。
(III)         (IV)〔■〕 R″o  cB H−C=C〈メCへ/ * 上記経路中、化合物(m)から化合物(II)に至る過
程で、*印の位置の立体配置は保持され、RまたはSの
どちらか一方が過剰に存在することを意味する。過剰に
存在するということは、RまたSのどちらか一方が、他
方の量の好ましくは2倍以上存在することを意味し、特
に好ましくは10倍以上存在することを意味する。
5teplは、光学活性エポキサイド(n[)を還元し
光学活性ジオール(IV)にする反応で、リチウムアル
ミニウム八イトライド9ジポラン等が用いられるが、好
ましくはリチウムアルミニウムハイドライド等の金属水
X@化合物が用いられ、さらに好ましくはリチウムアル
ミニウムハイドライドが用いられる。反応溶媒は、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル系溶媒が用いられる。反応温度は一20℃〜10
0℃の範囲で行なわ4る。好ましくは0℃〜60℃であ
る。これらの金属ハイドライド試薬は1通常原料の1,
8〜10倍当量用いられるが、好ましくは2〜5倍当量
である(新実験化学講座、15巻(II)  、 E1
本化学会編、丸善■参照)。
5tep2から5tep5に至る反応は、例えば文献〔
アール・ラツポ(R,Rappo )ら、ケミストリー
・アンド・バイオケミストリー・アンド・ファーマコロ
ジカル・アクティビティ−・オプ・ブースタノイド(C
hemistry andBiochemistry 
and Pharmacologieal Activ
ityof Prostanoids Lバーマゴンー
プレスII 二:L−−ヨーp (Pergamon 
Presat N@w York ) t17頁+19
78年〕などが参考とされる。
5tep2は、光学活性1+2−ジヒドロキシ−2−メ
チルヘキサン(rV)の1位の水酸基をスルホニル化す
る反応である。使用するスルホニル化剤は、p−)ルエ
ンスルホニルクロライド、メタンスルホニルクロライド
、トリフルオロメタンスルホン酸無水物などであり、ピ
リジン嘗トリエチルアミン等の塩基存在下に反応が行な
われる(参考文献、新実験化学講座、14巻(III)
 、 1793頁9日本化学会編。
丸善■)。
5tsp3は、光学活性スルホネート〔v〕と金属トリ
炭化水素シリルアセチリドをヘキサメチルホスホリック
トリアミド(HMPA )又はジメチルスルホキシド(
DMSO)等の極性溶媒存在下反応させ光学活性4−ヒ
ドロキシ−4−メチル−1−オクチン類(Vl)とする
ものである。金属トリ炭化水素シリルアセチリドのトリ
炭化水素シリルとしては、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル、ジメチルフェニ
ルシリル、トリフェニルシリルなどが用いられ、金属と
しては、リチウム、マグネシウムハライF+ナトリウム
等が用いられる。金属トリ炭化水素シリルアセチリドは
対応するトリ炭化水素シリルアセチレンとれ−プチルリ
チウム、t−7’チルリチウム、メチルリチウムtフェ
ニルリチウム等の炭化水素リチウム!メチルマグネシウ
ムクロライド、エチルマグネシウムプロことができる(
参考文献、新実験化学講座。
14巻CI)、268頁9日本化学会編、丸善■)。5
tep3の反応では、中間体として下記式〔■〕 で表わされる光学活性2−メチルー1,2−エポキシヘ
キサンを中間体としてとるが、これは単離してもよいが
、単離せず同一容器中でそのまま反応するのが一般的で
ある。
5top4は、アセチレン基に結合したトリアルキルシ
リル基な脱保護する反応であり、フフ化カリウム、フッ
化ナトリウム、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニ
ウムフルオライド等のフッ素化物により行なわれる。
5tep5は遊離水酸基をシリル基で保護する反応であ
り、通常の方法で行なうことができる〔参考文献、ティ
ー・ダブリュー・グリーン(T、W、Green ) 
wプロテクテイプ・クループス・イン・オルガニック・
シンセシス(Protective Groups i
n Organic 5ynthesis)+39頁t
頁ョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wil
ey and 5ons ) −ニューヨーク(New
York ) + 1981年〕。
なお、化合物[、V]にモノ金属アセチリドを反応させ
直接化合物〔■〕へ導くこともできる(参考文献、新実
験化学講座、14巻(■)。
268頁9日本化学会編、丸善■)。
出発原料である光学活性エポキシド(m)は、2−メチ
レン−1−ヘキサノール(HOJし)をシャープV :
X (5harpless )らの方法Cジャーナル・
オプ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ−(J
、Am、Chem、Soc、 ) 、 102巻、59
74頁、1980年)に従い不斉エポキシ化反応するこ
とにより得られる。このとき使用する不斉源である光学
活性酒石酸ジアルキルとしてL−(イ)体を使用すれば
、得られる光学活性エポキシド(m)の2位の立体配置
はSが過剰となる。また反対に、D−(→体を使用すれ
ばRが加剰となる。このとき得られる光学活性エポキシ
ド(III)の光学純度は悪くても90兄以上であり、
一般的に9jX以上である。
本経路に従う反応では、立体配置がSの光学活性エポキ
シド(III)からは、当然のことながら立体配置がS
の(ty) 、 〔V’) T (Vll 、 (■1
+(n’)。
CI)が得られ1反対KRの光学活性エポキシド[II
[)からは立体配置がRf) 〔lv) + (V) 
+ (Vl) +〔■L(n)、CI)が得られる。
2−メチレン−1−ヘキサノールは、例えばノルマン(
Norman )らの方法Cジャーナル・オブ・ザ°オ
ルカッメタル・ケミストリー(J、Organomet
al、Chem、 )+ 57巻、099頁。
φ 1973年)従い、プロパルギルアルコールとn−ブチ
ルカッパーとから合成することができる。
以上の方法によりシ遺される前記式CI)で代表され、
る光字活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−
1−オクテン類は、十二指腸潰瘍、胃潰瘍などの消化器
疾患、肝炎う劇症肝炎、脂肪肝、肝性昏睡、肝臓肥大、
肝硬変などの肝臓疾患、膵炎などの膵臓疾患、糖尿病腎
症、急性腎不全、膀胱炎、尿道炎などの泌尿器疾患、肺
炎、気管炎などの呼吸器疾患、内分泌疾患、免疫疾患お
よびアルコール中毒、四塩化炭素中毒などの中毒症状な
らびに血圧降下などの各種疾患の予防および/または治
療に用いることができるプロスタグラン類を合成する重
要中間体として用いることができる。つまり、上記式C
I)で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード
−4−メチル−1−オクテン類のハロゲン−リチウム変
換を行ない、光学活性4−ヒドロキシ−1−リチオ−4
−メチル−1−オクテン類とした後、有機銅化合物に変
換し、これをシクロベンテノン誘導体に共役付加反応さ
せることを中心にした変換を行なうことにより種々のプ
ロスタグランジン誘導体を得ることができる。
このようにして得られる16位が光学活性な15−デオ
キシ−16−ヒドロキシ−16−メチルプロスタグラン
ジン類は、16位が光学不活性なものよりも高活性を有
し、かつ作用選択性を持つことが期待され有用である。
以下2本発明を実施例により更に詳細に説明するが1本
発明はこれに限定されるものではない。
(参考例1) メチレンクルライド35Rtを一23℃に冷却後、チタ
ニウムテトライソプロポキシド1.15威、次いでL−
(ト)−酒石酸ジエチル0.69iuを加え、−23℃
で7分間攪拌した。2−メチレン−1−ヘキサノール4
00〜のメチレンクロライド溶液(1,51117)を
加え1次いでt−ブチルハイドロペロキシドのトルエン
溶液(3mo//1.2.6 mo/ )を加え一23
℃で8時間攪拌した。ジメチルスルフィド1Nを加え一
23℃で10分間攪拌後、10%酒石散水溶液50gを
加え、分液ロートで振とう後、水層をメチレンクロライ
ド(503117)で再抽出し、合わせた有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液1食塩水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し6溶媒を留去した。得られた組成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製すると
、20〜30%酢酸エチル−〇−ヘキサン溶出部に28
0■(収率63%]の(2S)−2−ヒドロキシメチル
−1,2−エポキシヘキサン NMR(CD(J、 、δ解) 0.88(3H+t+J=5Hz)、  2.57(I
H+d、J=5Hz)。
2.78(IH,d、J=5Hz)、3.10(IH,
br;OH)。
3 、48 (IHld 、J=12Jlz) 、3 
、67(IH−d vJ=12Hz>(参考例2) 参考例1と同様にして、D−←)−酒石酸ジエチルをL
−(イ)一体の替わりに使用することにより、(2R)
−2−ヒドロキシメチル−1,2−NMRは(2S)一
体(瓢考例1)と同じであった。
(k考例3) 参考例1で得られた(28)−2−ヒトルキシメチル−
1,2−エポキシヘキサン13岬を塩化メチレン0.4
紅に溶屏し、ピリジン15 tJ + 次いで(至)−
メトキシトリフルオロメチルフェニル酢酸クジリド(ト
)−MTPACI40IIiJを力りえ、室温で5時間
攪拌した。n−ヘキサン101Ltを加え、セライトロ
過後、O液を硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水浴液、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去すると、(2S)−2−ヒドロキ
シメチル−1,2−エポキシヘキサンの(至)−メトキ
シトリフルオロメチルフェニル酢酸エステル((イ)−
MTPAエステル)が得られた。
NMR(CDC/3 、δpGil) 0.88(3H,t+J=7tlz)、 1.2−1.
4(4H,mLl、4−1.55(IH+m)、 1.
65−1.75(IH+m)+2.66(IH,d、J
=4.4Hz)、 2.70(IH,d、J=4.6H
z)。
3.56(3H9bs)、4.18(IH+d、J=1
2Hz) +4.54(IH,d+J”12flz)、
 7.42(3H,m)。
7.53(2J(、m) (参考例4) 参考例2で得られた(2R)−2−ヒドロキシメチル−
1,2−エポキシヘキサンを参考例3と同様にして(至
)−MTPAエステルとした。
NMR(CD(J、、δ酵) 0.88(3H+t+J=7k)+ 1.2−1.4(
4H,m)。
1.45−1.6(IH,m)、 1.65−1.75
(IH,m)12.66 (IHld 、J==4 、
6Hz) 、2 、74(LH+d−J”4.6H2)
3.53(3H,bg)、 4.27(IH,d、J=
12&L4 、49 + IH9d + J=12Hz
) 、7 、42 (3H,rn) +7.52(2H
,m) (実施例1) (2S)−2−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘ
キサン(参考例1 )132■のエーテル(5v)溶液
を、リチウムアルミニウムハイドライド38■のエーテ
ル懸濁液(317)Ic滴下し、30分攪拌後、室温で
1時間攪拌した。
飽和i1酸ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルを
加えセライトロ過後1口液を分液ロートで振とうした。
水層を再度酢酸エチルで抽出後、合わせた有機層を飽和
食塩水で洗浄し、8!酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留
出すると、(2S)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチ
ルヘキサン11911g(収率89S)が得られた。
NMR(CDα3.δp) 0.88(3I(、t、J=5Hz)、 1.10(3
H,s)。
3.34(2H1a)、3.1−4.2(2H+br、
0R)(実施例2) (2R)−2−ヒドロキシメチル−1,2−エポキシヘ
キサン(参考例2)841〜より、実施例1と同様にし
て、(2R)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキ
サン58819 (収率63%)を得た。
NMRは−OHのピークを除き(2S)一体(実施例1
)と同じであった。
(実施例3) (28)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン
(実施例1)115ダをピリジン1.0114 KII
[i p−)ルエンスルホニルクロリド217M9を加
え、室温で一夜放置した。氷−水を加え、エーテルで2
回抽出後、希塩酸、飽和炭散水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去すると、(28)−2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−p −)ルエンスルホニルオキシヘキサン215
19(収率86%)が得られた。
NMR(CD(J、、  an); 0.87(3H,tsJ=5h)t  1.14(3H
+s)+2.41(3H9s)、2.50(IHts、
0H)t  3.79(2HtaL7.24(2H,d
+J=8flz)、7.69(2H,d、J=8Hz)
(実施例4) (2R)−1,2−ジヒドロキシ−2−メチルヘキサン
(実施例2)538■より、実施例3と同様にして、(
2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1=p−)ルエ
ンスルホニルオキシヘキサ71.07g(収!s91%
)を得た。
NMRは一〇Hのピークを除き(2S)一体(実施例3
)と同じであった。
(実施例5) トリエチルシリルアセチレン3゜7119のテトラにド
ロフラン(30117)溶液にヘキサメチルホスホリッ
クトリ7ミド(HMPA)6mを加え、−40〜−50
℃に冷却した。そこにn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液(1,58malll )15.1−を滴下し、−4
0℃で40分攪拌した。
(28)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−p−)ル
エンスルホニルオキシヘキサン(実施例3 )1.5 
gのテトラヒドロフラン(611j)−ヘキサメチルホ
スホリックトリ7ミド(8v)混合溶液をO’CK冷却
し、そこに上記p+iしたリチウムトリエチルシリルア
セチリドWj液を加え、室温で一夜攪拌後、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液100Nを加え、エーテルで2平抽出
した。有機層を希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム。
飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留出すると、粗生成物として4.42 J’の(48)
−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−トリエチルシリル
−1−オクチンが得られた(不純物を含有している。)
このうち40■をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(2,5%酢酸エチル−n−へキサン)で精製した。
NMR(CDC4、arva ) 1.20(3H+sL 2.35(2H9a)(実施例
6) (2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−p −)
 /レニンスルホニルオキシヘキサン(実施例4 ) 
1.5 Nより実施例5と同様にして(4R)−4−ヒ
ドロキシ−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オ
クチンの粗生成物4.19を得た。このもののNMRス
ペクトルは(4S)体(実施例5)と同じであった。
(実施例7) 実施例5で得られた未精製の(4S)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オクチン4
.38 Fをジメチルホルム7ミド12jlljK溶解
し、フッ化カリウム2.67 Nを加え、70℃で3時
間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液30νを加え
、酢酸エチルで2回抽出後、有機層を飽和食塩水で2回
洗浄した。次いで硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去すると、3.23 Fの(48)−4−ヒドロキシ−
4−メチル−1−オクチンの粗生成物が得られた(不純
物を含む)。
このうち、40ダをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(5%酢酸エチル−n−ヘキサン)で精製した。
NMR(CDCj、 、 avpm) :0.59(3
H+ttJ=5Hz)+ 1.0−1.7(7H,m)
 。
1.24(3Hts)+ 2.02(IH,t+J=2
.5Hz)+2−31 (2H、d * J”2.5H
z)(実施例8) 実施例6で得られた未精製の(4R)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−トリエチルシリル−1−オクチン4
.05 JFより、実施例7と同様にして3.20 g
の(4R)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチ
ンの粗生成物を得た(不純物を含む)。
N M Rスペクトルは(4S)体(実施例7)と同じ
であった。
(実施例9) 実施例7で得られた未精製の(4S)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−オクチン3.191を、ジメチルホ
ルムアミド(151j)に溶解し、イミダゾール1.2
I及びトリメチルクロロシラン1.21を加え、室温で
1時間攪拌した。
水を加え、n−ヘキサンで2回抽出後、有機層を飽和食
塩水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去することKより得られた粗生成物(5,211)
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、
n−へキサン溶出部に609■の(48)−4−メチル
−4−ドリメチルシリルオキシ−1−オクチンを得た。
N M R(CDCl5 、δ) 0.1(9H+s)+ 0.89(3H,t、J=5H
z)。
1.0−1.8(6H,m)+ 1.30(3H+a)
+1.91(IH+t+J=2.511z)、 2.2
9(2H,d、J=2.511z)(α)%=+0.4
°(C0,88,CRCIs )(実施例10) 実施例8で得られた未精製の(4R)−4−ヒドロキシ
−4−メチル−1−オクチンの粗生成物3.16 Nよ
り、実施例9と同様にして(4R)−4−メチル−4−
トリメチルシリルオキシ−1−オクチン59211jl
を得た。NMRスペクトル及びIRスペクトルは(4S
)一体(実施例9)と同じであった。
(実施例11) 2−メチル−2−ブテン2.40 Nのテトラヒドロフ
ラン(103117)溶液に水冷下、ボラン−テトラヒ
ドロフランフンプレックス(1moAt/A’)11.
35116滴下し、水冷下10分9間攪拌し、ジシアミ
ルボラン溶液を調製した。そこに、(48)−4−メチ
ル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクチン(実施
例9)600#のテトラヒドロ7ラン(5創)溶液を滴
下し、室温で2時間攪拌後、再度氷冷し、トリエチル7
ミンオキシト2.55 Fを数回に分けて加えた。室温
で30分攪拌後、反応混合物を3.6M、建水酸化ナト
リウム水浴液50JIjに加えた。次にヨウ素2.88
Iのデトラヒドロフラン(2011/)溶液をすばやく
加え、室温で45分攪拌後飽和塩化アンモニウム水溶液
50117を加え、エーテルで2回抽出した。有機層を
飽和食塩水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶
媒を留去することにより得られた粗生成物(4,38g
)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると
、n−へキサン溶出部に7261151(収率7696
)の(IE、4S)−1−ヨード−4−メチル−4−ト
リメチルシリルオキシ−1−オクテンが得られた。
NMR(CD(J3. avrm ) ;0−1(9H
+s)+ 0゜57(3H+ t+J=5k) 。
1.13(3H+s)+ 1.0−1.6(6H+br
)+2610(2H*d +J=7H2) + 5 、
90 (IH+ d +J=1.5H2) +6 、4
8 (IH+ dt t J=15Hzs 7Hz)(
a)”=+1.6°(C0,62,cncls )(実
施例12) (4R)−4−メチル−4−トリメチルシリルオキシ−
1−オクチン1.0 g(実施例10)より、実施例1
1と同様にして(IE14R)−1−ヨード−4−メチ
ル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクテンを得た
。このもののNMR及び工Rスペクトルは(4s)一体
(実施例11)と同じであった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    ・・・・・・〔 I 〕〔式中、R^1は水素原子、トリ
    (C_1〜C_7)炭化水素シリル基、水酸基の酸素原
    子とともにアセタール結合を形成する基、または水酸基
    の酸素原子とともにエステル結合を形成する基を表わし
    、*は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨード−4
    −メチル−1−オクテン類。 2、R^1がトリ(C_1〜C_7)炭化水素シリル基
    である特許請求の範囲第1項記載の4−ヒドロキシ−1
    −ヨード−4−メチル−1−オクテン類。 3、下記式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    ・・・・・・〔II〕〔式中、R^1^1はトリ(C_1
    〜C_7)炭化水素シリル基、水酸基の酸素原子ととも
    にアセタール結合を形成する基、または水酸基の酸素原
    子とともにエステル結合を形成する基を表わし、*は光
    学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−4−メチル−1
    −オクテン類をハイドロボレーシヨンとそれに次ぐヨウ
    素化反応に付し、次いで必要に応じて脱保護反応に付す
    ることを特徴とする下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    ・・・・・・〔 I 〕 〔式中、R^1は水素原子、トリ(C_1〜C_7)炭
    化水素シリル基、水酸基の酸素原子とともにアセタール
    結合を形成する基、または水酸基の酸素原子とともにエ
    ステル結合を形成する基を表わし、*は光学活性が誘起
    された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1ヨード−4−
    メチル−1−オクテン類の製法。4、4位の立体配置が
    Sである特許請求の範囲第3項記載の4−ヒドロキシ−
    1−ヨード−4−メチル−1−オクテン類の製造法。 5、4位の立体配置がRである特許請求の範囲第3項記
    載の4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メチル−1−オ
    クテン類の製造法。 6、R^1及びR^1^1がトリ(C_1〜C_7)炭
    化水素シリル基である特許請求の範囲第3項〜第5項の
    いずれか1項記載の4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−
    メチル−1−オクテン類の製造法。 7、ハイドロボレーシヨン反応の試薬としてジアルキル
    ボランを使用する、特許請求の範囲第3項〜第6項のい
    ずれか1項記載の4−ヒドロキシ−1−ヨード−4−メ
    チル−1−オクテン類の製造法。
JP60079184A 1985-04-16 1985-04-16 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法 Granted JPS61238746A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60079184A JPS61238746A (ja) 1985-04-16 1985-04-16 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60079184A JPS61238746A (ja) 1985-04-16 1985-04-16 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61238746A true JPS61238746A (ja) 1986-10-24
JPH027578B2 JPH027578B2 (ja) 1990-02-19

Family

ID=13682888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60079184A Granted JPS61238746A (ja) 1985-04-16 1985-04-16 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61238746A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0277572A2 (de) * 1987-02-03 1988-08-10 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 2-Hydroxyethyl-azol-Derivate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0277572A2 (de) * 1987-02-03 1988-08-10 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 2-Hydroxyethyl-azol-Derivate

Also Published As

Publication number Publication date
JPH027578B2 (ja) 1990-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07504664A (ja) ハリコンドリン類およびその関連化合物
GB2099814A (en) 15-deoxy-16-hydroxy prostaglandins
JPS6147459A (ja) 11−置換−16−フエノキシプロスタトリエン酸誘導体
Nakatani et al. Synthetic studies on the compounds related to neocarzinostatin chromophore. 1. Synthesis of the acyclic (E)-and (Z)-dienediyne systems
JPS6363674A (ja) 光学活性α−トコトリエノ−ルの製造方法
JPS61238746A (ja) 光学活性4−ヒドロキシ−1−オクテン類及びその製造法
EP0180399B1 (en) Anti-tumor 4-hydroxy-2-cyclopentenones
JPH01228935A (ja) 4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類およびそれを含有する薬剤組成物
JPH10502061A (ja) シクロヘキサノン誘導体、その製法及びその方法の中間生成物
JPS6296438A (ja) 4―ヒドロキシ―2―シクロペンテノン類及び薬剤組成物
JPS62175490A (ja) 4−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクチン類の製造法
JPS6097926A (ja) 新規な4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類およびその製造方法
JPS632972A (ja) 新規プロスタグランジンe↓1誘導体及びその製法
AU644211B2 (en) Novel prostaglandin I2 derivatives
JP2002505321A (ja) 新規製造法
US3922289A (en) Trans-prostaglandin-like compounds and methods
EP0580476B1 (fr) Procédé de fabrication de 6E-leucotriène B4 et produits intermédiaires dudit procédé de fabrication
JPS63145276A (ja) 新規なプロスタサイクリン類
JPS62175434A (ja) 4−メチル−4−ヒドロキシ−1−オクチン類の製造法
JPS6236012B2 (ja)
JPS61100542A (ja) 新規な4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノン類およびその製造法
JPS62207252A (ja) イソカルバサイクリン類
JPH02275849A (ja) 2―置換―2―シクロペンテノン類およびそれを含有する骨形成促進剤又は制ガン剤
JPS6212737A (ja) 新規な10員環化合物及びその製造方法
JPS6130570A (ja) 7―チアプロスタグランジンe↓1類

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees