JPS60120863A - トリフルオロメタンスルホンアミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
トリフルオロメタンスルホンアミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤Info
- Publication number
- JPS60120863A JPS60120863A JP22889183A JP22889183A JPS60120863A JP S60120863 A JPS60120863 A JP S60120863A JP 22889183 A JP22889183 A JP 22889183A JP 22889183 A JP22889183 A JP 22889183A JP S60120863 A JPS60120863 A JP S60120863A
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- Japan
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- trifluoromethanesulfonamide
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
〔式中、Ｒは低級アルキル基を表わし、ＸおよびＹは、
相異なり、炭素原子または窒素原子を表わす。〕 で示されるトリフルオロメタンスルホンアミド誘導体（
以［、本発明化合物と記す、、）、その製造法およびそ
れを有効成分とする除草剤に関するものである。
相異なり、炭素原子または窒素原子を表わす。〕 で示されるトリフルオロメタンスルホンアミド誘導体（
以［、本発明化合物と記す、、）、その製造法およびそ
れを有効成分とする除草剤に関するものである。
本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理におい
て、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズラ、サナ
エタデ、スベリヒエ、ハコベ、シロザ、アオビユ（アオ
ゲイトウ）、ダイコン、ノハラガラシ、ナズナ、アメリ
カッノクサネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴ
ジカ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、ヨウシュチ
ョウセンアサガオ、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、
オナモミ、ヒマワリ、イヌカミツレ等 ′の広葉雑草、
ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカ
タビラ、エンバク、カラスムギ、セイバンモロコシ等の
イネ科雑草オよびツユクサ等のツユクサ科雑草、コゴメ
ガヤツリ、ハマスゲ等のカヤツリグサ科雑草等に対して
除草効力を有し、しかもいくつかの本発明化合物は、ト
ウモロコシ、コムギ、イネ、ダイズ、ワタ、テンサイ等
の主要作物に対して問題となるような薬害を示さない。
て、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズラ、サナ
エタデ、スベリヒエ、ハコベ、シロザ、アオビユ（アオ
ゲイトウ）、ダイコン、ノハラガラシ、ナズナ、アメリ
カッノクサネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴ
ジカ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、ヨウシュチ
ョウセンアサガオ、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、
オナモミ、ヒマワリ、イヌカミツレ等 ′の広葉雑草、
ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカ
タビラ、エンバク、カラスムギ、セイバンモロコシ等の
イネ科雑草オよびツユクサ等のツユクサ科雑草、コゴメ
ガヤツリ、ハマスゲ等のカヤツリグサ科雑草等に対して
除草効力を有し、しかもいくつかの本発明化合物は、ト
ウモロコシ、コムギ、イネ、ダイズ、ワタ、テンサイ等
の主要作物に対して問題となるような薬害を示さない。
また、本発明化合物は、水田の湛水処理において、問題
となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草
、アゼナ、キカシグサ、ミソハコベ等の広葉雑草、タマ
ガヤツリ、ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤ
ツリグサ科雑草、コナギ等に対して除草効力を有し、し
かもイネに対しては問題となるような薬害を示さない。
となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草
、アゼナ、キカシグサ、ミソハコベ等の広葉雑草、タマ
ガヤツリ、ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤ
ツリグサ科雑草、コナギ等に対して除草効力を有し、し
かもイネに対しては問題となるような薬害を示さない。
本発明化合物は、一般式
〔式中、Ｒ，ＸおよびＹは前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるアミノピリジンカルボン酸アミド誘導体とト
リフルオロメタンスルポン酸無水物またはトリフルオロ
メタンスルホン酸ハライドとを溶媒中、脱ハロゲン化水
素剤の存在下、２゜°ｃ−ｉｏｏ°Ｃ１０，５時間〜２
４時間反応させることによって製造することができる。
リフルオロメタンスルポン酸無水物またはトリフルオロ
メタンスルホン酸ハライドとを溶媒中、脱ハロゲン化水
素剤の存在下、２゜°ｃ−ｉｏｏ°Ｃ１０，５時間〜２
４時間反応させることによって製造することができる。
反応に供される試剤の量は、アミノピリジンカルボン酸
アミド誘導体〔■〕１当量に対して、トリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物またはトある。
アミド誘導体〔■〕１当量に対して、トリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物またはトある。
溶媒としては、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロ
ベ゛ノゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化物、ピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン
、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級
アミン類等あるいは それらの混合物があげられる。
ベ゛ノゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化物、ピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン
、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級
アミン類等あるいは それらの混合物があげられる。
脱ハロゲン化水素剤としては、ピリジン、トリエチルア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基 があげ
られる。
ミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基 があげ
られる。
反応終了後の反応液は、濃縮後水を加えて、生じた結晶
または沈殿を派別する等、通常の後処理を行い、必要な
らば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精
製する。
または沈殿を派別する等、通常の後処理を行い、必要な
らば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精
製する。
次に本発明化合物の製造例を示す。
製造例１ （本発明化合物１の製造）
３−アミノ−２−ピリジンカルボン酸Ｎ−メチルアミド
ＩＬ；Ｉとトリエチルアミン０．７４１をクロロホルム
５０ ｍｌ に加え、室温で、トリフルオロメタンスル
ホン酸無水物２．６５ｆを滴下した。その後２時間加熱
還流した。
ＩＬ；Ｉとトリエチルアミン０．７４１をクロロホルム
５０ ｍｌ に加え、室温で、トリフルオロメタンスル
ホン酸無水物２．６５ｆを滴下した。その後２時間加熱
還流した。
反応終了後、濃縮して水を加え、結晶を炉別し、０．８
７８ｆめＮ−ｒ８−（２−Ｎ−メチルカルバモイルピリ
ジル）〕トリフルオロメタンスルホンアミドを得た。
７８ｆめＮ−ｒ８−（２−Ｎ−メチルカルバモイルピリ
ジル）〕トリフルオロメタンスルホンアミドを得た。
融点１４４〜１４５°に
のような製造法によって製造できる本発明化合物のいく
つかを、第１表に示す。
つかを、第１表に示す。
第 １ 表
一般式
本発明化合物を製造する場合、原料化合物であるアミノ
ピリジンカルボン酸アミド誘導体［ＪＯは５ｙｎｔｈｅ
１４ｉｓ 、 ｐ、 ９７２ （１９８２）等に記載さ
れている方法に準じて製法することができる。
ピリジンカルボン酸アミド誘導体［ＪＯは５ｙｎｔｈｅ
１４ｉｓ 、 ｐ、 ９７２ （１９８２）等に記載さ
れている方法に準じて製法することができる。
次にこのアミノピリジンカルボン酸アミド誘導体ＣＩＩ
）の製造例を参考例として示す。
）の製造例を参考例として示す。
参考例
２．３−ピリジンジカルボン酸無水物２５ｇをクロロホ
ルム１２５ ｍｌ に加え、トリメチルシリルアジド１
９．８Ｉｌを加えた。約５０゛Ｃで、激しいガスの発生
が見られた。
ルム１２５ ｍｌ に加え、トリメチルシリルアジド１
９．８Ｉｌを加えた。約５０゛Ｃで、激しいガスの発生
が見られた。
ガスの発生が終ってから還流し、１時間後に冷却しエタ
ノール７、７１１を加えて１５分間攪拌を続けた。
ノール７、７１１を加えて１５分間攪拌を続けた。
沈殿物を集めて乾燥し、アセトニトリル３００ｍＡ 中
に入れ、攪拌後、不溶部を炉別し、母液を１５分間還流
した。冷却後、析出した結晶を集め、９．４６９のアザ
イサト酸無水物を得た。
に入れ、攪拌後、不溶部を炉別し、母液を１５分間還流
した。冷却後、析出した結晶を集め、９．４６９のアザ
イサト酸無水物を得た。
得られたアザイサト酸無水物５ｇをジオキサン５０ ｍ
ｌ に加え、エチルアミンを吹き込んだ。反応後加熱し
て不溶部を戸別し、母液を濃縮し、シリカゲルのカラム
クロマトグラフィー（溶出液二ｎ−ヘキサン／アセトン
）で分離精製して、１．８ｇの３−アミノ−２−ピリジ
ンカルボン酸Ｎ−エチルアミド（融点８５〜８６℃）と
２，３ｇの２−アミノ−ニコチン酸Ｎ−エチルアミド２
．８１（融４１２７〜１２８°Ｃ）を得た。
ｌ に加え、エチルアミンを吹き込んだ。反応後加熱し
て不溶部を戸別し、母液を濃縮し、シリカゲルのカラム
クロマトグラフィー（溶出液二ｎ−ヘキサン／アセトン
）で分離精製して、１．８ｇの３−アミノ−２−ピリジ
ンカルボン酸Ｎ−エチルアミド（融点８５〜８６℃）と
２，３ｇの２−アミノ−ニコチン酸Ｎ−エチルアミド２
．８１（融４１２７〜１２８°Ｃ）を得た。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
する。
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
する。
これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で０．１−９０％、好ましくは１〜８０％含有する。
比で０．１−９０％、好ましくは１〜８０％含有する。
固体担体には、カオリンクレー、アッタパルジャイトク
レー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タ
ルク、珪藻土、方解石、クルε粉、尿素、硫酸アンモニ
ウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があ
り、液体担体には、キシレン、メチルナフタレン等のノ
９香族炭化水素類、イソプロパツール、エチレングリコ
ール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロ
ヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油
等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
水等がある。
レー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タ
ルク、珪藻土、方解石、クルε粉、尿素、硫酸アンモニ
ウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があ
り、液体担体には、キシレン、メチルナフタレン等のノ
９香族炭化水素類、イソプロパツール、エチレングリコ
ール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロ
ヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油
等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
水等がある。
乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤には
、アルキル硫酸エステル塩、ア」レキル（アリール）ス
ルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキｌレアリールエーテルリン酸エステル塩
等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック
コポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸ギン酸塩、ポリビニルアルコー
ル、アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロー
ス）、ＰＡＰ （酸性リン酸イソプロピル）等がある。
、アルキル硫酸エステル塩、ア」レキル（アリール）ス
ルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキｌレアリールエーテルリン酸エステル塩
等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック
コポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸ギン酸塩、ポリビニルアルコー
ル、アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロー
ス）、ＰＡＰ （酸性リン酸イソプロピル）等がある。
次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第１表の化合
物番号で示す。部は重量部を示す。
物番号で示す。部は重量部を示す。
製剤例１
本発明化合物２．５０部、リグニンスフレホン酸カルシ
ウム８部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水
酸化珪素４５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
ウム８部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水
酸化珪素４５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例２
本発明化合物１．１０部、ポリオキシエチレンスチリル
フェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム６部およびシクロへキサノン７０部をよく混
合して乳剤を得る。
フェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム６部およびシクロへキサノン７０部をよく混
合して乳剤を得る。
製剤例３
本発明化合物８．２部、合成含水酸化珪素１部、リグニ
ンスルホン酸カルシウム２部、ベントサイト３０部およ
びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
ンスルホン酸カルシウム２部、ベントサイト３０部およ
びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
製剤例４
本発明化合物１．２５部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート３部、ＣＭＣ８部、水６９部を混合し
、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤
を得る。
ンモノオレエート３部、ＣＭＣ８部、水６９部を混合し
、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤
を得る。
このようにして製剤された本発明化合物は、雑草の出芽
前または出芽後に土壌処理、草葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等が
ある。
前または出芽後に土壌処理、草葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等が
ある。
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。
なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して用いることができる。
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して用いることができる。
本発明化合物を除草剤の有効成分とし、て用いる場合、
その施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、方法、
場所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常
１アールあたり１ｇ〜２００ｇ、好ましくは４ｇ〜１０
０ｇであり、乳剤、水和剤、ｉ濁剤等は、通常その所定
量をで希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈する
ことなくそのま＼処理する。
その施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、方法、
場所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常
１アールあたり１ｇ〜２００ｇ、好ましくは４ｇ〜１０
０ｇであり、乳剤、水和剤、ｉ濁剤等は、通常その所定
量をで希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈する
ことなくそのま＼処理する。
展着剤には、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシエチ
レン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビ
エチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフ
ィ゛ノ等がある。
レン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビ
エチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフ
ィ゛ノ等がある。
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第１表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第２表
の化合物記号で示す。
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第１表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第２表
の化合物記号で示す。
試験例２ 畑地茎葉処理試験
直径１０ｍ、深さ１Ｏｃｒｎの円筒型プラスチックホッ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、ダイコン、イチ
ビを播種し、温室内で１０日間育成した。その後、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を、１
アールあたり１０リツトル相当の展着剤を含む水で希釈
し、小型噴霧器で植物体の上方から草葉処理した。処理
後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を第４表に示す。
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、ダイコン、イチ
ビを播種し、温室内で１０日間育成した。その後、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を、１
アールあたり１０リツトル相当の展着剤を含む水で希釈
し、小型噴霧器で植物体の上方から草葉処理した。処理
後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を第４表に示す。
第 ４ 表
試験例３ 水田湛水処理試験
直径８ｃｒｎ、深さＬ２ｃｒ＋＋の円筒型プラスチ・ツ
クホットに水田土壌を詰め、タイヌビエ１．広葉雑草（
アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ）、ホタルイの種子を
１〜２ｃｒｎの深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態に
した後、２葉期のイネを移植し、温室内で育成したう６
日後（各雑草の発生初期）に製剤例２に準じて供試化合
物を乳剤にし、５ミリリツトルの水で希釈し、水面に処
理した。処理後２０日間温室内で育成し、除草効力を調
査した。その結果を第５表に示す。
クホットに水田土壌を詰め、タイヌビエ１．広葉雑草（
アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ）、ホタルイの種子を
１〜２ｃｒｎの深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態に
した後、２葉期のイネを移植し、温室内で育成したう６
日後（各雑草の発生初期）に製剤例２に準じて供試化合
物を乳剤にし、５ミリリツトルの水で希釈し、水面に処
理した。処理後２０日間温室内で育成し、除草効力を調
査した。その結果を第５表に示す。
第 ５ 表
試験例４ 畑地茎葉処理試験
面積８３ｘ２８ｉ、深さｌｌｔＭのバットに畑地土壌を
詰め、ダイズ、ワタ、トウモロコシ、コムギ、マルバア
サガオ、オナモミ、イヌホオズキ、イヌ−ビニを播種し
、ハマスゲの塊茎を移植し、１８日間育成した。その後
、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量
を、展着剤を含む１アールあたり５リツトル相当の水で
希釈し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均
一に処理した。
詰め、ダイズ、ワタ、トウモロコシ、コムギ、マルバア
サガオ、オナモミ、イヌホオズキ、イヌ−ビニを播種し
、ハマスゲの塊茎を移植し、１８日間育成した。その後
、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量
を、展着剤を含む１アールあたり５リツトル相当の水で
希釈し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均
一に処理した。
このとき雑草および作物の生育状況は草種により異なる
が、１〜４葉期で、草丈は２〜１２ｃｆ＋＋であった。
が、１〜４葉期で、草丈は２〜１２ｃｆ＋＋であった。
処理２０日後に除草効力を調査した。その結果を第６表
に示す。なお、本試験は、全期間を通して温室内で行っ
た。
に示す。なお、本試験は、全期間を通して温室内で行っ
た。
第６表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 一般式 〔式中、Ｒは低級アルキル基を表わし、ＸおよびＹは、
相異なり、炭素原子または窒素原子を表わす、〕 で示されるトリフルオロメタンスルホンアミド誘導体。 （２） 一般式 〔式中、Ｒは低級アルキル基を表わし、ＸおよびＹは相
異なり、炭素原子または窒素原子を表わす。 〕 で示されるア芝ノビリジンカルボン酸アミド誘導体と、
トリフルオロメタンスルホン酸無水物またはトリフルオ
ロメタンスルホン酸ハライドとを反応させることを特徴
とする一般式 〔式中、Ｒ，ＸおよびＹは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるトリフルオロメタンスルホンアミド誘導体の
製造法。 （８） 一般式 〔式中、Ｒは低級アルキル基を表わし、ＸおよびＹは、
相異なり、炭素原子または窒素原子を表わす。〕 で示されるトリフルオロメタンスルホンアミド誘導体を
有効成分とすることを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22889183A JPS60120863A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | トリフルオロメタンスルホンアミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22889183A JPS60120863A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | トリフルオロメタンスルホンアミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60120863A true JPS60120863A (ja) | 1985-06-28 |
Family
ID=16883468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22889183A Pending JPS60120863A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | トリフルオロメタンスルホンアミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60120863A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0345065U (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-25 | ||
| JPH0345066U (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-25 | ||
| JP2008050342A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-03-06 | Central Glass Co Ltd | Ｎ−（ビシクロ［２，２，１］ヘプト−５−エン−２−イルメチル）−１，１，１−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法 |
| JP2009029707A (ja) * | 2006-07-26 | 2009-02-12 | Central Glass Co Ltd | フルオロアルカンスルホンアミド誘導体の製造方法 |
| JP5549592B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2014-07-16 | 日産化学工業株式会社 | オルト置換ハロアルキルスルホンアニリド誘導体及び除草剤 |
-
1983
- 1983-12-02 JP JP22889183A patent/JPS60120863A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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