JPH0363547B2 - - Google Patents

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JPH0363547B2
JPH0363547B2 JP57192842A JP19284282A JPH0363547B2 JP H0363547 B2 JPH0363547 B2 JP H0363547B2 JP 57192842 A JP57192842 A JP 57192842A JP 19284282 A JP19284282 A JP 19284282A JP H0363547 B2 JPH0363547 B2 JP H0363547B2
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JP
Japan
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japanese
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soil
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atom
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JP57192842A
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JPS5982372A (ja
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Hideyoshi Nagano
Shunichi Hashimoto
Akira Yoshida
Keiji Matsumoto
Katsuzo Kamoshita
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式 〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を、Yは
酸素原子またはイオウ原子を、R1は低級アルキ
ル基、低級アルケニル基または低級アルキニル基
を、R2は低級アルキル基を表わす。〕 で示されるヘキサヒドロピリダジンカルボン酸誘
導体(以下、本発明化合物と記す。)、その製造法
およびそれを有効成分とする除草剤に関するもの
である。 ある種のヘキサヒドロピリダジンカルボン酸誘
導体、例えば、エチル2−(4−クロロ−2−フ
ルオロフエニルアミノチオキソメチル)ヘキサヒ
ドロピリダジン−1−カルボキシレートが除草剤
の有効成分として用いうることは特開昭53−
40785号公報に記載されている。しかしながら、
これらの化合物は除草剤の有効成分として必ずし
も常に充分なものであるとはいえない。 本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理
において、問題となる種々の雑草、例えば、ソバ
カズラ、サナエタデ、スベリヒユ、シロザ、アオ
ビユ(アオゲイトウ)、ダイコン、ノハラガラシ、
ナズナ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、イ
チゴ、アメリカキンゴジカ、フイールドパンジ
ー、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、セイヨ
ウヒルガオ、ヒメオドリコソウ、ホトケノザ、ヨ
ウシユチヨウセンアサガオ、イヌホオズキ、オオ
イヌノフグリ、フラサバソウ、オナモミ、ヒマワ
リ、イヌカミツレ、コーンマリーゴールド等の広
葉雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシ
バ、スズメノカタビラ、ブラツクグラス、エンバ
ク、カラスムギ、セイバンモロコシ等のイネ科雑
草およびコゴメガヤツリ、ハマスゲ等のカヤツリ
グサ科雑草等に対して除草効力を有し、しかもい
くつかの本発明化合物はトウモロコシ、コムギ、
ダイズ、ワタ、イネ等の主要作物に対して問題と
なるような薬害を示さない。 また、本発明化合物は水田において問題となる
種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑
草、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑
草、タマガヤツリ、ホタルイ、マツバイ等のカヤ
ツリグサ科雑草、コナギ、ウリカワ等の水田雑草
に対して除草効力を有し、しかもイネに対して問
題となるような薬害を示さない。 本発明化合物は水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地の除草剤の有効成
分として用いることができる。 本発明化合物は一般式 〔式中、X、YおよびR1は前記と同じ意味を
表わす。〕 で示されるフエニルイソ(チオ)シアネート誘導
体と1.0〜1.1当量の一般式 〔式中、R2は低級アルキル基を表わす。〕 で示されるヘキサヒドロピリダジン−1−カルボ
キシレートとを溶媒中、触媒量の有機塩基の存在
下、0℃〜100℃、1時間〜48時間反応させるこ
とによつて製造することができる。 溶媒には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロホルム、四塩化炭素類、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭
化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等
のケトン類、水等あるいは、それらの混合物があ
る。 有機塩基には、ピリジン、トリエチルアミン、
N,N−ジエチルアニリン等がある。 反応終了後は通常の後処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフイー、蒸留、再結晶等によつ
て精製する。 次に本発明化合物の製造例を示す。 製造例1 (本発明化合物4の製造) 4−クロロ−2−フルオロ−5−(1−メチル
エトキシ)フエニルイソチオシアネート2.8g、
エチル ヘキサヒドロピリダジン−1−カルボキ
シレート1.8g、トルエン5mlの混液にトリエチ
ルアミン数滴を加え、25℃で一夜撹拌した。水を
加えたトルエン層を分離し、水洗、乾燥、濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムを用いて精製し2g
のエチル2−〔4−クロロ−2−フルオロ−5−
(1−メチルエトキシ)フエニルアミノチオキソ
メチル〕ヘキサヒドロピリダジン−1−カルボキ
シレートを得た。n27.5 D1.5534 このような製造法によつて製造できる本発明化
合物のいくつかを、第1表に示す。
【表】 本発明化合物を製造する場合、原料である一般
式〔〕のフエニルイソ(チオ)シアネート誘導
体は一般式 〔式中、XおよびR1は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるアニリン誘導体と1.0〜100当量のホス
ゲンまたはチオホスゲンとを溶媒中、室温から溶
媒の沸点まで1時間〜48時間反応させることによ
つて製造することができる。 溶媒にはベンゼン、トルエン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、1,4−ジオキサン等があ
る。 反応終了後は通常の後処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフイー、蒸留、再結晶等によつ
て精製する。 次にこの一般式〔〕のフエニルイソ(チオ)
シアネート誘導体の製造例を示す。 製造例 2 4−クロロ−2−フルオロ−5−(1−メチル
エトキシ)−アニリン30gをトルエン100mlに溶か
し、ホスゲンの1Mトルエン溶液に加え、反応系
が均一になるまで還流した。減圧で濃縮した後、
残渣を蒸留し、26gの4−クロロ−2−フルオロ
−5−(1−メチルエトキシ)−フエニルイソシア
ネートを得た。bp90〜91℃/3mmHg、mp36〜37
℃ 本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる
場合は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤そ
の他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、
懸濁剤、粒剤等に製剤する。 これらの製剤には有効成分として本発明化合物
を重量比で0.1〜95%、好ましくは0.2〜80%含有
する。 固体担体には、カオリンクレー、アタパルジヤ
イトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフ
イライト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、
尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素等の
微粉末あるいは粒状物があり、液体担体には、キ
シレン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素
類、イソプロパノール、エチレングリコール、セ
ロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘ
キサノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿
実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル、水等がある。 乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活
性剤には、アルキル硫酸エステル塩、アルキル
(アリール)スルホン酸塩、ジアルキルスルホこ
はく酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテルりん酸エステル塩等の陰イオン界面活性
剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンブロツクコ
ポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活
性剤等がある。製剤用補助剤には、リグニンスル
ホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコー
ル、アラビアガム、CMC(カルボキシメチルセル
ロース)、PAP(酸性りん酸イソプロピル)等が
ある。 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第1
表の化合物番号で示す。部は重量部を示す。 製剤例 1 本発明化合物1、50部、リグニンスルホン酸カ
ルシウム3部、ラウリル硫酸ソーダ2部および合
成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合して水和剤を
得る。 製剤例 2 本発明化合物6、10部、ポリオキシエチレンス
チリルフエニルエーテル14部、ドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム6部、キシレン30部および
シクロヘキサノン40部をよく混合して乳剤を得
る。 製剤例 3 本発明化合物8、2部、合成含水酸化珪素1
部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベント
ナイト30部およびカオリンクレー65部をよく粉砕
混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥
して粒剤を得る。 製剤例 4 本発明化合物10、25部、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノオレエート3部、CMC3部、水69部
を混合し、有効成分の粒度が5ミクロン以下にな
るまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。 これらの製剤はそのままであるいは水等で希釈
し、茎葉処理あるいは土壌処理する。土壌処理の
場合は製剤を土壌表面に散布する(必要に応じ、
散布後土壌と混和する。)かまたは土壌に潅注す
る。 また、他の除草剤と混合して用いることによ
り、除草効力の増強を期待できる。さらに、殺虫
剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節
剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用いることも
できる。 本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる
場合、その施用量は通常1アールあたり0.01g〜
100g、好ましくは、0.04g〜40gであり、乳剤、
水和剤、懸濁剤等は1アールあたり1リツトル〜
10リツトルの(必要ならば、展着剤等の散布補助
剤を添加した)水で希釈して施用し、粒剤等はな
んら希釈することなくそのまま施用する。 展着剤には前記の界面活性剤のほか、ポリオキ
シエチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルス
ン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジス
ルホン酸塩、パラフイン等がある。 次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として
有用であることを試験例で示す。なお、本発明化
合物は第1表の化合物番号で示し、比較対照に用
いた化合物は第2表の化合物記号で示す。
【表】 また、雑草および作物に対する除草効力は調査
時の供試植物の発芽および生育阻害の程度を肉眼
観察し、化合物を供試していない場合と全くない
しほとんど違いがないものを「0」とし、供試植
物が枯死ないし生育が完全に阻害されているもの
を「5」として、0〜5の6段階に評価し、0、
1、2、3、4、5で示す。 試験例1 畑地土壌混和処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチツクポツ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、マルバア
サガオ、イチビを播種し、覆土した。製剤例2に
準じて乳剤にした供試化合物を1アールあたり10
リツトル相当の水で希釈し、その所定量を小型噴
霧器で土壌表面に散布した後、深さ4cmまでの土
壌表層部分をよく混和した。散布後20日間温室内
で育成し、除草効力を調査した。その結果を第3
表に示す。
【表】
【表】 試験例2 畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチツクポツ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、ダイコ
ン、イチビを播種し、温室内で10日間育成した。
その後、製剤例2に準じて乳剤にした供試化合物
を1アールあたり10リツトル相当の展着剤を含む
水で希釈し、その所定量を小型噴霧器で植物体の
上方から茎葉散布した。散布後20日間温室内で育
成し、除草効力を調査した。その結果を第4表に
示す。
【表】 試験例3 水田土壌処理試験 直径8cm、深さ12cmの円筒型プラスチツクポツ
トに水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2
cmの深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態とした
後、ウリカワの塊茎を1〜2cmの深さに埋め込
み、更に2葉期のイネを移植し、温室内で育成し
た。6日後(各雑草の発生初期)に製剤例2に準
じて乳剤にした供試化合物を1ポツトあたり5ミ
リリツトルの水で希釈し、その所定量を水面に滴
下した。滴下後20日間温室内で育成し、除草効力
を調査した。その結果を第5表に示す。
【表】 試験例4 畑地土壌混和処理試験 面積33×23cm2、深さ11cmのバツトに畑地土壌を
詰め、セイバンモロコシ、カラスムギ、アメリカ
ツノクサネム、オナモミ、イチビ、マルバアサガ
オおよびソバカズラを播種し、1〜2cmの厚さに
覆土した。製剤例2に準じて乳剤にした供試化合
物を1アールあたり10リツトル相当の水で希釈
し、その所定量を小型噴霧器で土壌表面に散布し
た後、深さ4cmまでの土壌表層部分をよく混和し
た。さらに、トウモロコシ、コムギ、ワタ、ダイ
ズの種子を2cmの深さに埋め込んだ。散布後20日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を第6表に示す。
【表】 試験例5 畑地茎葉処理試験 面積33×23cm2、深さ11cmのバツトに畑地土壌を
詰め、トウモロコシ、コムギ、アメリカツノクサ
ネム、オナモミ、イチビ、マルバアサガオ、アオ
ビユ、イヌホウズキを播種し、18日間育成した。
その後、製剤例2に準じて乳剤にした供試化合物
を展着剤を含む1アールあたり5リツトル相当の
水で希釈し、その所定量を小型噴霧器で植物体の
上方から茎葉部全面に均一に散布した。このとき
各植物の生育は草種により異なるが、1〜4葉期
で、草丈は2〜12cmであつた。散布20日後に除草
効力を調査した。その結果を第7表に示す。な
お、本試験は全期間を通して温室内で行つた。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を、Yは
    酸素原子またはイオウ原子を、R1は低級アルキ
    ル基、低級アルケニル基または低級アルキニル基
    を、R2は低級アルキル基を表わす。〕 で示されるヘキサヒドロピリダジンカルボン酸誘
    導体。 2 一般式 〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を、Yは
    酸素原子またはイオウ原子を、R1は、低級アル
    キル基、低級アルケニル基または低級アルキニル
    基を、R2は低級アルキル基を表わす。〕 で示されるヘキサヒドロピリダジンカルボン酸誘
    導体を有効成分とすることを特徴とする除草剤。
JP19284282A 1982-11-02 1982-11-02 ヘキサヒドロピリダジンカルボン酸誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 Granted JPS5982372A (ja)

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JPH08253455A (ja) * 1995-03-17 1996-10-01 Agro Kanesho Co Ltd ヘキサハイドロピリダジン誘導体及びそれを有効成分とする除草剤
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JPS5340785A (en) * 1976-09-27 1978-04-13 Mitsubishi Chem Ind Ltd N-substituted hydrazine derivatives and herbicides

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