JPS59819A - 真空しや断器用接点材料 - Google Patents
真空しや断器用接点材料Info
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- JPS59819A JPS59819A JP57109276A JP10927682A JPS59819A JP S59819 A JPS59819 A JP S59819A JP 57109276 A JP57109276 A JP 57109276A JP 10927682 A JP10927682 A JP 10927682A JP S59819 A JPS59819 A JP S59819A
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/06—Alloys based on silver
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
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- Driving Mechanisms And Operating Circuits Of Arc-Extinguishing High-Tension Switches (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、真空しゃ断器用接点材料に係シ、特に加工特
性を改善し、再点弧現象の発生頻度を減少した接点材料
に関する。
性を改善し、再点弧現象の発生頻度を減少した接点材料
に関する。
真空しゃ断器は、小型、軽量、メンテナンスフリー、環
境調和など、他のしゃ断器に比べ優れた特徴を有するた
め、近年、次第にその適用範囲が拡大され、従来よシ一
般に使用されている3A KV以下の回路から、例えば
7コKV以上というような更に高圧の回路への適用が行
なわれている。このような高圧化に伴い、再点弧現象の
発生の少ない接点材料の開発が望まれている。この要求
に対しては、従来よシ高耐圧、大容量真空しゃ断器用の
接点材料として用いられているBl 、 Pb 、 T
o 、 Sb等の溶着防止成分を配合したCu基合金は
必ずしも満足すべきものとは云い難い。
境調和など、他のしゃ断器に比べ優れた特徴を有するた
め、近年、次第にその適用範囲が拡大され、従来よシ一
般に使用されている3A KV以下の回路から、例えば
7コKV以上というような更に高圧の回路への適用が行
なわれている。このような高圧化に伴い、再点弧現象の
発生の少ない接点材料の開発が望まれている。この要求
に対しては、従来よシ高耐圧、大容量真空しゃ断器用の
接点材料として用いられているBl 、 Pb 、 T
o 、 Sb等の溶着防止成分を配合したCu基合金は
必ずしも満足すべきものとは云い難い。
上記した高圧下においても再点弧現象を起しにくい接点
材料を得るためには、一般に(1)耐圧的に欠陥となシ
やすい脆弱な溶着防止成分を極力少なくすること、(2
)ガス不純物やピンホール等を極ヵ少なくすること、が
望ましい0これに対し、上記したようにBl、Pb%T
oなどの蒸気圧の高い元素を含有する接点合金では、鋳
塊に気泡が発生しやすく、特に径の小さな鋳型に鋳込む
際には、気泡が表面付近に多く発生したり、又内部に引
は巣を生じたりするなどの重大な鋳造欠陥が生ずること
も多い。このような欠陥を生じさせないために、一方向
凝固法も採用されているが、この場合も上記溶着防止成
分の添加に伴なう弊害は十分には避けられない。特に上
記した溶着防止成分を含む接点合金は、これら成分の母
相への固溶度が低いためしばしば偏析を生ずること、脆
く加工性が劣ること郷の欠点がある。
材料を得るためには、一般に(1)耐圧的に欠陥となシ
やすい脆弱な溶着防止成分を極力少なくすること、(2
)ガス不純物やピンホール等を極ヵ少なくすること、が
望ましい0これに対し、上記したようにBl、Pb%T
oなどの蒸気圧の高い元素を含有する接点合金では、鋳
塊に気泡が発生しやすく、特に径の小さな鋳型に鋳込む
際には、気泡が表面付近に多く発生したり、又内部に引
は巣を生じたりするなどの重大な鋳造欠陥が生ずること
も多い。このような欠陥を生じさせないために、一方向
凝固法も採用されているが、この場合も上記溶着防止成
分の添加に伴なう弊害は十分には避けられない。特に上
記した溶着防止成分を含む接点合金は、これら成分の母
相への固溶度が低いためしばしば偏析を生ずること、脆
く加工性が劣ること郷の欠点がある。
本発明の合金は、上述した事情に鑑み、所望の耐溶着性
を維持しつつ、溶着防止成分の添加に伴う、加工性の低
下、再点弧現象の発生等の欠点の少ない真空しゃ断器接
点材料を提供することを目的とする。
を維持しつつ、溶着防止成分の添加に伴う、加工性の低
下、再点弧現象の発生等の欠点の少ない真空しゃ断器接
点材料を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明者らの研究によれば、上述の目的は従来の真空し
ゃ断器用接点材料に少量のホウ素を含有させることによ
り達成されることが見出された。
ゃ断器用接点材料に少量のホウ素を含有させることによ
り達成されることが見出された。
すなわち、本発明の真空しゃ断器用接点材料は、高導電
性成分と溶着防止成分とからなる真空しゃ断器用接点材
料において、更に0.00! −J %のホウ素を含有
することを特徴とするものである。
性成分と溶着防止成分とからなる真空しゃ断器用接点材
料において、更に0.00! −J %のホウ素を含有
することを特徴とするものである。
本発明において、このような少量のホウ素の添加によっ
て、加工性の改善のみならず再点弧現象の起りにくい接
点材料が得られる理由は必ずしも明らかでないが、接点
材料の溶融鋳造における微細組織が改善されることが原
因となっているものと思われる。すなわち、従来の真空
しゃ断器用接点材料(合金)においては、添加されるB
i、Pb、Te 、 Sb等の溶着防止成分が、Cu、
Ag等よりなる高導電性成分マトリクスに対する固溶度
が低く、合金の結晶粒界に析出し、結晶粒界の脆弱化を
招く。その結果、接点合金の加工時に、欠け、剥離等の
加工欠陥を起し、製品歩留りの低下を招くだけでなく、
このように加工性が悪いことによシ生ずる表面荒れが再
点弧現象の発生を促進していると考えられる。また、接
点材料が合金に対してロウ材によυ接合される場合には
、ロウ材料成分が粒界腐食(ペネ)L/−シ冒ン)或い
は亀裂を起した結晶粒界を容易に拡散し、接点材料の接
合面と逆側の表面、すなわち接触面に浸出する現象(ロ
ウ材のはい上り)を起し、これまた再点弧発生の促進等
により信頼性の低下を招く。これに対し、本発明にした
がいホウ素を添加すると、高導電性成分と溶着防止成分
との相溶性が改善され、溶着防止成分の偏析が防止され
るとともに、結晶粒の微細化ならびに結晶粒界の強化な
どの微細組織の改善が行なわれる。このため、加工性の
改善のみならず、加工性の改善に伴なう表面精度の向上
およびロウ材のはい上り防止を通じ再点弧発生の防止等
の接点特性の向上が得られるものと考えられる。本発明
にしたがい得られる接点材料は、結晶粒界の強化のため
、しゃ断時に接点が受ける機械的、熱的衝撃により微細
なりラックが進展することも少なく、加工時の条件管理
によっては、圧延又は鍛造加工等の塑性加工も可能とな
り、更にはホウ素の添加により導電率が低下することも
なN以下、本発明を更に詳細に説明する。なお、本明細
書において、組成を表わす「チ」はいずれも「重量%」
を意味するものとするO 第1図は、本発明の接点材料を適用する真空しゃ断器の
一構成例を示す正断面図であり、第2図はその要部拡大
図である。図面を参照して、しゃ断案lは、セラミック
等の絶縁材料によシはぼ円筒状に形成された絶縁容器コ
と、この両端に密閉機構3,3aを介して設けた金属製
蓋体Vおよびjとで真空気密に区画されているoしかし
て、このしゃ断案l内には、一対の電極棒4,7の互い
に対向する端部にそれぞれ固定電極tおよび可動電極り
が配設されている。また上記可動電極りの電極棒71C
は、ベローズioが取付けられ、しゃ断案/内を真空気
密に保持しながら、電極りの往復動による一対の電極j
、りの開閉を可能にしている。またこのベローズ10は
フード//によシ覆われ、アーク蒸気の被着を防止して
おり、またしゃ断案l内には更に゛円筒状金属容器/2
が設けられ、絶縁容器コへのアーク蒸気の被着を防止し
ている。
て、加工性の改善のみならず再点弧現象の起りにくい接
点材料が得られる理由は必ずしも明らかでないが、接点
材料の溶融鋳造における微細組織が改善されることが原
因となっているものと思われる。すなわち、従来の真空
しゃ断器用接点材料(合金)においては、添加されるB
i、Pb、Te 、 Sb等の溶着防止成分が、Cu、
Ag等よりなる高導電性成分マトリクスに対する固溶度
が低く、合金の結晶粒界に析出し、結晶粒界の脆弱化を
招く。その結果、接点合金の加工時に、欠け、剥離等の
加工欠陥を起し、製品歩留りの低下を招くだけでなく、
このように加工性が悪いことによシ生ずる表面荒れが再
点弧現象の発生を促進していると考えられる。また、接
点材料が合金に対してロウ材によυ接合される場合には
、ロウ材料成分が粒界腐食(ペネ)L/−シ冒ン)或い
は亀裂を起した結晶粒界を容易に拡散し、接点材料の接
合面と逆側の表面、すなわち接触面に浸出する現象(ロ
ウ材のはい上り)を起し、これまた再点弧発生の促進等
により信頼性の低下を招く。これに対し、本発明にした
がいホウ素を添加すると、高導電性成分と溶着防止成分
との相溶性が改善され、溶着防止成分の偏析が防止され
るとともに、結晶粒の微細化ならびに結晶粒界の強化な
どの微細組織の改善が行なわれる。このため、加工性の
改善のみならず、加工性の改善に伴なう表面精度の向上
およびロウ材のはい上り防止を通じ再点弧発生の防止等
の接点特性の向上が得られるものと考えられる。本発明
にしたがい得られる接点材料は、結晶粒界の強化のため
、しゃ断時に接点が受ける機械的、熱的衝撃により微細
なりラックが進展することも少なく、加工時の条件管理
によっては、圧延又は鍛造加工等の塑性加工も可能とな
り、更にはホウ素の添加により導電率が低下することも
なN以下、本発明を更に詳細に説明する。なお、本明細
書において、組成を表わす「チ」はいずれも「重量%」
を意味するものとするO 第1図は、本発明の接点材料を適用する真空しゃ断器の
一構成例を示す正断面図であり、第2図はその要部拡大
図である。図面を参照して、しゃ断案lは、セラミック
等の絶縁材料によシはぼ円筒状に形成された絶縁容器コ
と、この両端に密閉機構3,3aを介して設けた金属製
蓋体Vおよびjとで真空気密に区画されているoしかし
て、このしゃ断案l内には、一対の電極棒4,7の互い
に対向する端部にそれぞれ固定電極tおよび可動電極り
が配設されている。また上記可動電極りの電極棒71C
は、ベローズioが取付けられ、しゃ断案/内を真空気
密に保持しながら、電極りの往復動による一対の電極j
、りの開閉を可能にしている。またこのベローズ10は
フード//によシ覆われ、アーク蒸気の被着を防止して
おり、またしゃ断案l内には更に゛円筒状金属容器/2
が設けられ、絶縁容器コへのアーク蒸気の被着を防止し
ている。
一方、可動電極りは、その拡大構造を第1図に示すよう
に、導電棒フにロウ材/3によって固定されるか、又は
かしめによりて圧着接続(図示せず)されており、その
上には可動接点/44がロウ材/3;によって接合され
ている。また固定電極tの詳細構造(図示せず)も向き
が逆となるのみでほぼ同様であり、これには固定接点l
弘aが設けられている0 本発明の接点材料は、上記したような接点l弘。
に、導電棒フにロウ材/3によって固定されるか、又は
かしめによりて圧着接続(図示せず)されており、その
上には可動接点/44がロウ材/3;によって接合され
ている。また固定電極tの詳細構造(図示せず)も向き
が逆となるのみでほぼ同様であり、これには固定接点l
弘aが設けられている0 本発明の接点材料は、上記したような接点l弘。
/4Caの双方またはいずれか一方を構成するのに適し
たものである。
たものである。
本発明の接点材料は、ホウ素を含有することを除き、従
来のそれと特に異るものではない。すなわち、高導電性
成分としては、Cu又は/およびAg が通常、用いら
れるが、必要に応じてこれらの一部をjチ(高導電性成
分基準)未満のF1%jチ未満のCoまたは/4未満の
Crで置換することもできる。なかでも、導電性成分と
しては、 Cuまたは、これを主成分とするものが、本
発明の目的には・適する。これら導電性成分は、後述す
る成分の残部をなす量で用いられる。
来のそれと特に異るものではない。すなわち、高導電性
成分としては、Cu又は/およびAg が通常、用いら
れるが、必要に応じてこれらの一部をjチ(高導電性成
分基準)未満のF1%jチ未満のCoまたは/4未満の
Crで置換することもできる。なかでも、導電性成分と
しては、 Cuまたは、これを主成分とするものが、本
発明の目的には・適する。これら導電性成分は、後述す
る成分の残部をなす量で用いられる。
溶着防止成分としては、たとえばBt、Pb、T@、s
bの一種以上が用いられる。これら元素は本発明の接点
材料中にo、t −l!;%の量で用いられる00.1
tIb未満では、大電流に対する耐溶着性が劣り、また
75%を超えると、製造時に偏析等を起こし、健全な接
点素材が得がtこい。
bの一種以上が用いられる。これら元素は本発明の接点
材料中にo、t −l!;%の量で用いられる00.1
tIb未満では、大電流に対する耐溶着性が劣り、また
75%を超えると、製造時に偏析等を起こし、健全な接
点素材が得がtこい。
本発明にしたがい、加工性ならびに再点弧防止特性等に
優れtこ接点材料を得るtこめに、上記した高導電性成
分および溶着防止成分に加えて、接点材料にはo、oo
s〜、2チ、好ましくは0.ll−2俤のホウ素を含有
せしめる。o、oos ly未満では、添加効果が乏し
い。一方、j%を超えて添加しても、溶着防止成分との
併用において認められる上記した効果のそれ以上の改善
は得られず、かえって溶解により本発明の接点材料を得
る場合、ホウ素が高導電性成分との間で偏析を起すよう
になシネ都合である。使用される高導電性成分材料およ
び溶着防止成分材料の品位、溶解作業温度、真空度の変
動等の影響を考慮すると、上記ホウ素の量範囲、特に下
限は、添加量でなく、接点材料中の含量として満される
べきである。
優れtこ接点材料を得るtこめに、上記した高導電性成
分および溶着防止成分に加えて、接点材料にはo、oo
s〜、2チ、好ましくは0.ll−2俤のホウ素を含有
せしめる。o、oos ly未満では、添加効果が乏し
い。一方、j%を超えて添加しても、溶着防止成分との
併用において認められる上記した効果のそれ以上の改善
は得られず、かえって溶解により本発明の接点材料を得
る場合、ホウ素が高導電性成分との間で偏析を起すよう
になシネ都合である。使用される高導電性成分材料およ
び溶着防止成分材料の品位、溶解作業温度、真空度の変
動等の影響を考慮すると、上記ホウ素の量範囲、特に下
限は、添加量でなく、接点材料中の含量として満される
べきである。
本発明の接点材料を得る場合、たとえば、真空度約lX
10 〜ノ×lO龍Hg 、 / 000− / J
00℃の榮件で高導電性成分を溶解した後、ホウ素およ
び溶着防止成分を溶解し、均一に溶解した後鋳型中で冷
却固化するが、必要によって指向性凝固を行90ホウ素
および溶着防止成分の添加順序は任意であり、蒸発、飛
散を防止するためにこれら成分の添加はArによって増
圧後に行うこともできる。またホウ素源は、ホウ素単体
のみならず、たとえばCu −Hのような母合金あるい
はFe −Bのようなホウ素化物の形態で添加してもよ
い。
10 〜ノ×lO龍Hg 、 / 000− / J
00℃の榮件で高導電性成分を溶解した後、ホウ素およ
び溶着防止成分を溶解し、均一に溶解した後鋳型中で冷
却固化するが、必要によって指向性凝固を行90ホウ素
および溶着防止成分の添加順序は任意であり、蒸発、飛
散を防止するためにこれら成分の添加はArによって増
圧後に行うこともできる。またホウ素源は、ホウ素単体
のみならず、たとえばCu −Hのような母合金あるい
はFe −Bのようなホウ素化物の形態で添加してもよ
い。
得られた接点材料について、必要に応じて、切削、研摩
等の機械加工を行い、あるいは圧延等の塑性加工を行う
ことにより所望の形状の接点が得られる。
等の機械加工を行い、あるいは圧延等の塑性加工を行う
ことにより所望の形状の接点が得られる。
以下、実施例、比較例により本発明を更に具体的に説明
する〇 実施例1〜IO1比較例/−j 真空度約IO−5mmHz、 /λθO℃でCuを溶解
し、充分に脱ガス後、Cu −B母合金(B含量コ、コ
チ)および溶着防止成分(B%、 Pb 、 Ty、s
b )の各りを適宜加えて溶解し、鋳型に注入して冷却
固化することによシ、下表−7に組成を示す75種の接
点合金素材を得た。
する〇 実施例1〜IO1比較例/−j 真空度約IO−5mmHz、 /λθO℃でCuを溶解
し、充分に脱ガス後、Cu −B母合金(B含量コ、コ
チ)および溶着防止成分(B%、 Pb 、 Ty、s
b )の各りを適宜加えて溶解し、鋳型に注入して冷却
固化することによシ、下表−7に組成を示す75種の接
点合金素材を得た。
次いで、これら接点素材から所定形状に切出した各試験
片について、以下の試験法によυ、加工による表面荒れ
、および再点弧発生確率を測定した。結果は、まとめて
下表−7に示す。
片について、以下の試験法によυ、加工による表面荒れ
、および再点弧発生確率を測定した。結果は、まとめて
下表−7に示す。
加工による表面荒れ
径7S朋の棒状接点素材を/1rOr、p、mで回転さ
せつつその端面を、WC−Co系の超硬合金バイトで表
面粗さtμ以下(j−s)を目標に仕上げ加工を施した
ときに端面上に認められた剥れ、欠は等の欠陥数を目視
測定し、試料数tにつ−いての最大、最小値の巾を記す
。
せつつその端面を、WC−Co系の超硬合金バイトで表
面粗さtμ以下(j−s)を目標に仕上げ加工を施した
ときに端面上に認められた剥れ、欠は等の欠陥数を目視
測定し、試料数tにつ−いての最大、最小値の巾を記す
。
再点弧発生確率
径30關、厚さjamの円板状接点片を、ディマクタプ
ル型真空バルブに装着し、4KVX!00にの回路を2
000回しゃ断した時の再点弧発生頻度を測定し、2台
のしゃ断器(パルプとして4本)のばらつき幅(ml大
および最小)で示した。接点の装着に際しては、ベーキ
ング加熱(4AjOC,30分)のみ行い、ロウ材の使
用ならびにこれに伴なう加熱は行なわなかった。
ル型真空バルブに装着し、4KVX!00にの回路を2
000回しゃ断した時の再点弧発生頻度を測定し、2台
のしゃ断器(パルプとして4本)のばらつき幅(ml大
および最小)で示した。接点の装着に際しては、ベーキ
ング加熱(4AjOC,30分)のみ行い、ロウ材の使
用ならびにこれに伴なう加熱は行なわなかった。
表−/
表−lから明らかなように、ホウ素が含まれない従来の
接点材料(比較例−/−j)では加工による表面荒れが
多く、これに対応して再点弧発生確率も高い。これに対
し、本発明のホウ素を添加した接点材料では、加工性な
らびに再点弧発生確率について顕著な改善が得られてい
ることが理解できよう。なお、導電率について云えば、
ホウ素を含まない比較例−lの材料が?6〜り7%1.
A、C,S。
接点材料(比較例−/−j)では加工による表面荒れが
多く、これに対応して再点弧発生確率も高い。これに対
し、本発明のホウ素を添加した接点材料では、加工性な
らびに再点弧発生確率について顕著な改善が得られてい
ることが理解できよう。なお、導電率について云えば、
ホウ素を含まない比較例−lの材料が?6〜り7%1.
A、C,S。
であるのに対し、ホウ素を添加した実施例−lおよび−
の導電率はり3−!P7% I、A、C,S、であり、
上記したような改善は、導電率の実質的低下を伴なうこ
となく達成される。また、比較例1の材料の酸素含有量
は’7 ppmであるのに対し、実施例1の酸素含有量
は%〜Hに減少しておυ、Bの脱酸剤としての作用も認
められ、これも再点弧発生防止に寄与していると考えら
れる。
の導電率はり3−!P7% I、A、C,S、であり、
上記したような改善は、導電率の実質的低下を伴なうこ
となく達成される。また、比較例1の材料の酸素含有量
は’7 ppmであるのに対し、実施例1の酸素含有量
は%〜Hに減少しておυ、Bの脱酸剤としての作用も認
められ、これも再点弧発生防止に寄与していると考えら
れる。
実施例1/〜/2、比較例t〜7
上記例と同様な方法により、下表−一の組成を有する接
点合金素材を調製し、所定形状の試験片を切り出して、
以下の試験法によシ、銀ロウの−はい上り量および再点
弧発生確率を測定した。結果(試料数乙についての範囲
値)もまとめて下表−コに示す。
点合金素材を調製し、所定形状の試験片を切り出して、
以下の試験法によシ、銀ロウの−はい上り量および再点
弧発生確率を測定した。結果(試料数乙についての範囲
値)もまとめて下表−コに示す。
接点面への銀ロウのはい上り量
純銅の電極と、径isvrm、厚さ先コ龍の円板状接点
片の間に、72 % Ag −M % Cuよりなる径
/Qu、 ’厚さ0.jamの銀ロウ板をはさみ、H2
雰囲気中、Ir20℃で30分間加熱して接合した。こ
の際に厚さび、2mの接点片を貫通して接点表面にはい
上ったAg量を、X線マイクロアナライザーにより吸収
電流j X10−’A 、 スキ97時間50秒、加速
[圧、uKvの条件でカウント数(e、P、1.)とし
て求めた。なお、表−コには、ロウ材を行わない接点片
についそのパックグラウンド値を示した。
片の間に、72 % Ag −M % Cuよりなる径
/Qu、 ’厚さ0.jamの銀ロウ板をはさみ、H2
雰囲気中、Ir20℃で30分間加熱して接合した。こ
の際に厚さび、2mの接点片を貫通して接点表面にはい
上ったAg量を、X線マイクロアナライザーにより吸収
電流j X10−’A 、 スキ97時間50秒、加速
[圧、uKvの条件でカウント数(e、P、1.)とし
て求めた。なお、表−コには、ロウ材を行わない接点片
についそのパックグラウンド値を示した。
再点弧発生確率
上記の例と同様の測定方法によるが、但し、接点は、上
記のロウ材は接点を用いた〇 表−コ 表−コを見ると、本発明のホウ素を含む接点材料は、従
来のホウ素を含まない接点材料に比べて、銀ロウのはい
上シ量が極めて少なくバックグラウンドに近い値を示す
。これは、従来の接点材料に認められた粒界腐食、クラ
ック等の欠陥がホウ素の添加によシ除かれたためと考え
られ、これに伴い再点弧の発生確率も著しく低くなりで
いる。この再点弧の発生には、接点表面に存在するA、
そのものが支配的か、〜が存在することによシ溶融点の
低下を招き、荒れを招いたことが支配的なのか判別は困
難であるが、断面の組織が不健全な状態にあることは明
らかである。
記のロウ材は接点を用いた〇 表−コ 表−コを見ると、本発明のホウ素を含む接点材料は、従
来のホウ素を含まない接点材料に比べて、銀ロウのはい
上シ量が極めて少なくバックグラウンドに近い値を示す
。これは、従来の接点材料に認められた粒界腐食、クラ
ック等の欠陥がホウ素の添加によシ除かれたためと考え
られ、これに伴い再点弧の発生確率も著しく低くなりで
いる。この再点弧の発生には、接点表面に存在するA、
そのものが支配的か、〜が存在することによシ溶融点の
低下を招き、荒れを招いたことが支配的なのか判別は困
難であるが、断面の組織が不健全な状態にあることは明
らかである。
実施例13− /3 、比較例r −i。
高導電性成分としてCu単独の代りに、Cuの一部を下
表−3の割合のFs、Co、Crで置換した高導電性成
分を用いる以外は実施例1等と同様にして接点素材を調
製し、以後、実施例1等と全く同様な方法で再点弧発生
確率を測定した。結果を下表−3に示すが、ここでもホ
ウ素の添加による再点弧発生確率の低下効果が顕著に認
められる0懺−3 高導電性成分としてAg −Cu合金(実施例/A )
およびAg (実施例/7)を用いる以外は実施例1等
と同様にして接点素材を調製し、以後実施例1等と全く
同様な方法で加工性および再点弧発生確率を測定した。
表−3の割合のFs、Co、Crで置換した高導電性成
分を用いる以外は実施例1等と同様にして接点素材を調
製し、以後、実施例1等と全く同様な方法で再点弧発生
確率を測定した。結果を下表−3に示すが、ここでもホ
ウ素の添加による再点弧発生確率の低下効果が顕著に認
められる0懺−3 高導電性成分としてAg −Cu合金(実施例/A )
およびAg (実施例/7)を用いる以外は実施例1等
と同様にして接点素材を調製し、以後実施例1等と全く
同様な方法で加工性および再点弧発生確率を測定した。
結果を下表−μに示すが、ここでもホウ素の添加効果が
確実に認められる。
確実に認められる。
表−弘
〔発明の効果〕
上述したように、本発明によれば、Cuまたは/および
〜を主成分とし必要に応じてその一部をFe、Co、C
r に置換してなる高導電性成分と、Bi、Pb、Ts
、 Sb等の溶着防止成分とよりなる接点材料に、更
に少量のホウ素を添加することにより、接点材料の導電
性等の基本的特性を損なうことなく、微細組織の改善を
通じて加工性および再点弧防止特性を改善した真空しゃ
断器用接点材料が与えられる。また、上記のような特性
改善効果は、ホウ素の持つ脱ガス効果と相乗された形で
達成でき、これによシ真空しゃ断器の信頼性の本質的な
向上が得られる。
〜を主成分とし必要に応じてその一部をFe、Co、C
r に置換してなる高導電性成分と、Bi、Pb、Ts
、 Sb等の溶着防止成分とよりなる接点材料に、更
に少量のホウ素を添加することにより、接点材料の導電
性等の基本的特性を損なうことなく、微細組織の改善を
通じて加工性および再点弧防止特性を改善した真空しゃ
断器用接点材料が与えられる。また、上記のような特性
改善効果は、ホウ素の持つ脱ガス効果と相乗された形で
達成でき、これによシ真空しゃ断器の信頼性の本質的な
向上が得られる。
第1図は本発明の接点材料を適用する真空しゃ断器の一
構成例を示す正断面図、第2図はその要部拡大図である
。 l・・・しゃ断案、λ・・・絶縁容器、4.7・・・電
極棒、g・・・固定電極、り・・・可動電極、/44.
/4m・・・接点、/3.!r・・・ロウ材。 出願人代理人 猪 股 清 第1図 第2図 92
構成例を示す正断面図、第2図はその要部拡大図である
。 l・・・しゃ断案、λ・・・絶縁容器、4.7・・・電
極棒、g・・・固定電極、り・・・可動電極、/44.
/4m・・・接点、/3.!r・・・ロウ材。 出願人代理人 猪 股 清 第1図 第2図 92
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 / 高導電性成分と溶着防止成分とからなる真空しゃ断
器用接点材料において、更に0.00! −Jチのホウ
素を含有することを特徴とする真空しゃ断器用接点材料
。 ユ高導電性成分が、CuおよびAgの一種以上、あるい
はこれらの一部を!−未満のFe、7%未満のCoまた
は/4未満のCrで置換した金属からなることを特徴と
する特許請求の範囲第7項記載の接点材料。 3、溶着防止成分がBl 、 Pb、 Ts、 Sbの
少なくとも一種の元素よりなることを特徴とする特許請
求の範囲第1項または第2項記載の接点材料〇
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57109276A JPS59819A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | 真空しや断器用接点材料 |
DE8383106046T DE3366257D1 (en) | 1982-06-25 | 1983-06-21 | Contacts for vacuum switches |
EP83106046A EP0097906B1 (en) | 1982-06-25 | 1983-06-21 | Contacts for vacuum switches |
AT83106046T ATE22365T1 (de) | 1982-06-25 | 1983-06-21 | Kontakte fuer vakuumschalter. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57109276A JPS59819A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | 真空しや断器用接点材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59819A true JPS59819A (ja) | 1984-01-06 |
JPS6359214B2 JPS6359214B2 (ja) | 1988-11-18 |
Family
ID=14506059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57109276A Granted JPS59819A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | 真空しや断器用接点材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0097906B1 (ja) |
JP (1) | JPS59819A (ja) |
AT (1) | ATE22365T1 (ja) |
DE (1) | DE3366257D1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01129311U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-09-04 | ||
CN114686720A (zh) * | 2020-12-28 | 2022-07-01 | 广西纵览线缆集团有限公司 | 稀土合金化Cu-Fe合金的制备工艺 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5530246A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Noise elimination system for picture information |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3551622A (en) * | 1963-03-22 | 1970-12-29 | Hitachi Ltd | Alloy materials for electrodes of vacuum circuit breakers |
GB1309197A (en) * | 1971-10-28 | 1973-03-07 | Int Standard Electric Corp | Vacuum interrupter contacts |
DE2310317A1 (de) * | 1973-03-01 | 1974-09-05 | Siemens Ag | Mehrbereichskontakt fuer vakuumschaltroehren |
JPS52155373A (en) * | 1976-05-28 | 1977-12-23 | Tokyo Shibaura Electric Co | Vacuum breaker |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP57109276A patent/JPS59819A/ja active Granted
-
1983
- 1983-06-21 EP EP83106046A patent/EP0097906B1/en not_active Expired
- 1983-06-21 AT AT83106046T patent/ATE22365T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-06-21 DE DE8383106046T patent/DE3366257D1/de not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5530246A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Noise elimination system for picture information |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01129311U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-09-04 | ||
CN114686720A (zh) * | 2020-12-28 | 2022-07-01 | 广西纵览线缆集团有限公司 | 稀土合金化Cu-Fe合金的制备工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0097906A1 (en) | 1984-01-11 |
ATE22365T1 (de) | 1986-10-15 |
DE3366257D1 (en) | 1986-10-23 |
EP0097906B1 (en) | 1986-09-17 |
JPS6359214B2 (ja) | 1988-11-18 |
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