JPS5978344A - カラ−写真記録材料 - Google Patents
カラ−写真記録材料Info
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- JPS5978344A JPS5978344A JP58173284A JP17328483A JPS5978344A JP S5978344 A JPS5978344 A JP S5978344A JP 58173284 A JP58173284 A JP 58173284A JP 17328483 A JP17328483 A JP 17328483A JP S5978344 A JPS5978344 A JP S5978344A
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- alkyl
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- alkyl group
- phenyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/56—Nitrogen atoms
- C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
- G03C7/3924—Heterocyclic
- G03C7/39244—Heterocyclic the nucleus containing only nitrogen as hetero atoms
- G03C7/39248—Heterocyclic the nucleus containing only nitrogen as hetero atoms one nitrogen atom
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、少なくとも−の感光性ハロゲン化銀乳剤層及
び/又は少なくとも−の通常の補助層中に、安定剤とし
て、特定のポリアルキルピペリジン化合物を含有するカ
ラー写真記録側斜に関する。
び/又は少なくとも−の通常の補助層中に、安定剤とし
て、特定のポリアルキルピペリジン化合物を含有するカ
ラー写真記録側斜に関する。
ポリアルキルピペリジンは、一般に、有機側斜、特にポ
リマー用の光安定剤として用いられる立体障害を受けた
アミンとして知られている。
リマー用の光安定剤として用いられる立体障害を受けた
アミンとして知られている。
カラー写真の耐漂白剤としてかかるポリアルキルピペリ
ジンを用いることは、既に、西独国特許公開(DE−O
8)’−第2126954号に記載されている。さらに
、少なくとも−のフェノール基を有する特定のポリアル
キルピペリジン誘導体をカラー写真用の光安定剤として
用いることは、ヨーロッパ特許出願(EI) −A、
)第11,051号に記載されている。それらの誘導体
は、ヒドロキシベンジルマロン酸のポリアルキルピペリ
ジンエステルに関する。
ジンを用いることは、既に、西独国特許公開(DE−O
8)’−第2126954号に記載されている。さらに
、少なくとも−のフェノール基を有する特定のポリアル
キルピペリジン誘導体をカラー写真用の光安定剤として
用いることは、ヨーロッパ特許出願(EI) −A、
)第11,051号に記載されている。それらの誘導体
は、ヒドロキシベンジルマロン酸のポリアルキルピペリ
ジンエステルに関する。
これらの研究をさらに進めた結果、フェノールアルカン
カルボン酸及び4−アミノポリ アルキルピペリジンか
ら導かれるアミドも、カラー写真に対し顕著な光安定化
作用を有し、さらには、暗所においても、記録材料の保
存中の変質に対して色素を安定化させる。
カルボン酸及び4−アミノポリ アルキルピペリジンか
ら導かれるアミドも、カラー写真に対し顕著な光安定化
作用を有し、さらには、暗所においても、記録材料の保
存中の変質に対して色素を安定化させる。
従って、本発明の目的は、少なくとも−の感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層、中間層、画像受容層及び/又は保護層中
に、安定剤として少なくとも一〇式■で示されるポリア
ルキルピペリジン化合物を含有するカラー写真記鐸材料
を提供することである。
ン化銀乳剤層、中間層、画像受容層及び/又は保護層中
に、安定剤として少なくとも一〇式■で示されるポリア
ルキルピペリジン化合物を含有するカラー写真記鐸材料
を提供することである。
4
上記式中において、
R・1は水素原子又はメチル基を表し、R12はヒドロ
キシル基、C1〜Coのアルキル基、C3〜C6のアル
ケニル基、C3〜C4のアルキニルjg、c。
キシル基、C1〜Coのアルキル基、C3〜C6のアル
ケニル基、C3〜C4のアルキニルjg、c。
〜C12のアラルキル基、グリシジル基、又はハロゲン
原子、シアノ基、−COO几7もしくは−CON(几8
)(■もつで置換されたC5〜C4のアルキル基、基−
CO−R1’ 、基−CO−0几)、基−CO−N(几
り(J(、”)、基−CH2−CH(R,■)−0I?
、”基−8O−RI3、基−802−41”、基−01
(,7又d基−〇〇C−几10全10、[(,3は水素
原子又Q」メチル基な表し、IL’ ld、 C+〜C
8のアルキル基、c、〜C8のシクロアルキル基、07
〜C9ノフエニルアルキル基、フェニル、昏又rh c
、r〜C8゜のアルキルフェニル基を表し、It、’i
、水素原子、C0〜C8のアルキル基、C3〜C6のシ
クロアルキル;’J C,〜C0のフェニルアルキル基
、フェニル基又ハ、C7〜CIOのアルキルフェニル基
を表し、IC6f−J:水素原子、(21〜CI8し1 −01も8、−N(Jもg)、もしくは次式の基:で置
換されたC3〜C4のアルギル基、又は次式の基;を表
し、 1(7はc、 ” C12のアルキル基、アリル基、シ
クロヘキシル基又はベンジル基を表し、H,sはC1〜
CI2のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基又はフェニル基を表し、1も9tま水素原子、
C2〜CI2のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル
基又はベンジル基を表し、■(,8及び■(,9け、そ
tlらか結合しているN−原子と共に5もしくは6員ヘ
テロ環基を形成し、 ■も10は水素原子、C1〜C2,のアルキル基、C2
〜C6のアルケニル基、クロロメチル基、C,〜C8の
シクロアルキル基、C7〜C11のアラルキル基、フェ
ニル基、C7〜C1oのアルキルフェニル基、又は−も
しくは二のC3〜C4のアルキル基及び−のヒドロキシ
ル基で置換されたフェニル基、フェニルメチル基モしく
ハフェニルエチルを表し、R11は水素原子、01〜0
4 のアルギル基、02〜C13のアルコキシメチル基
、フェニル基又はフェノキシメチル基を表し、R,12
は水素原子、cl”C12のアルキル基、基−Co−R
,10又は基−CO−NIR8) (R,9)を表し、
Jl、13はC1〜C12のアルキル基、フェニル基又
は07〜Cl11のアルキルアリール基を表し、Aは水
素原子、C1〜C1gのアルキル基、又は−O11・1
4、=SBxs、−CN、−CO−X−R,16、−0
−CO−几17もしくは−P(0)(0t里8)2のう
ちの少なくとも−でIF7搾jされたC1〜CtOのア
ルキル基、又は−〇−1−S−、−5O−もしくは−8
02−が介在した02〜Ctoのアルキル基、03〜C
1gのアルケニル基、C3〜Csのアルキニル基、C3
〜C12ノシクロアルキル基、又は C6〜C1・のアルキルシクロアルキル基、C6〜C1
oのシクロアルキルアルキル基、C2〜Ct、zのアラ
ルキル基、08〜C16アルキルアラルキル基、フェニ
ル基、基−CN、基−C(’) −I?+20 。
原子、シアノ基、−COO几7もしくは−CON(几8
)(■もつで置換されたC5〜C4のアルキル基、基−
CO−R1’ 、基−CO−0几)、基−CO−N(几
り(J(、”)、基−CH2−CH(R,■)−0I?
、”基−8O−RI3、基−802−41”、基−01
(,7又d基−〇〇C−几10全10、[(,3は水素
原子又Q」メチル基な表し、IL’ ld、 C+〜C
8のアルキル基、c、〜C8のシクロアルキル基、07
〜C9ノフエニルアルキル基、フェニル、昏又rh c
、r〜C8゜のアルキルフェニル基を表し、It、’i
、水素原子、C0〜C8のアルキル基、C3〜C6のシ
クロアルキル;’J C,〜C0のフェニルアルキル基
、フェニル基又ハ、C7〜CIOのアルキルフェニル基
を表し、IC6f−J:水素原子、(21〜CI8し1 −01も8、−N(Jもg)、もしくは次式の基:で置
換されたC3〜C4のアルギル基、又は次式の基;を表
し、 1(7はc、 ” C12のアルキル基、アリル基、シ
クロヘキシル基又はベンジル基を表し、H,sはC1〜
CI2のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基又はフェニル基を表し、1も9tま水素原子、
C2〜CI2のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル
基又はベンジル基を表し、■(,8及び■(,9け、そ
tlらか結合しているN−原子と共に5もしくは6員ヘ
テロ環基を形成し、 ■も10は水素原子、C1〜C2,のアルキル基、C2
〜C6のアルケニル基、クロロメチル基、C,〜C8の
シクロアルキル基、C7〜C11のアラルキル基、フェ
ニル基、C7〜C1oのアルキルフェニル基、又は−も
しくは二のC3〜C4のアルキル基及び−のヒドロキシ
ル基で置換されたフェニル基、フェニルメチル基モしく
ハフェニルエチルを表し、R11は水素原子、01〜0
4 のアルギル基、02〜C13のアルコキシメチル基
、フェニル基又はフェノキシメチル基を表し、R,12
は水素原子、cl”C12のアルキル基、基−Co−R
,10又は基−CO−NIR8) (R,9)を表し、
Jl、13はC1〜C12のアルキル基、フェニル基又
は07〜Cl11のアルキルアリール基を表し、Aは水
素原子、C1〜C1gのアルキル基、又は−O11・1
4、=SBxs、−CN、−CO−X−R,16、−0
−CO−几17もしくは−P(0)(0t里8)2のう
ちの少なくとも−でIF7搾jされたC1〜CtOのア
ルキル基、又は−〇−1−S−、−5O−もしくは−8
02−が介在した02〜Ctoのアルキル基、03〜C
1gのアルケニル基、C3〜Csのアルキニル基、C3
〜C12ノシクロアルキル基、又は C6〜C1・のアルキルシクロアルキル基、C6〜C1
oのシクロアルキルアルキル基、C2〜Ct、zのアラ
ルキル基、08〜C16アルキルアラルキル基、フェニ
ル基、基−CN、基−C(’) −I?+20 。
基−80,421、基−P(0) (01?、18 )
又は次式: のいずれか−を表し、 更に、上記式中、Xは一〇−又は−N (R1” )−
す表し、R14はフェニル基、ベンジル基又はシクロヘ
キシル基を表し、■も15はフェニル基又ハC7〜C9
のフェニルアルキル基を表し、R16はC1〜CtSの
アルキル基又はC%〜C8のシクロアルキル基を表し、
)Ill?は01〜C11lのアニル基、C7〜C9の
フェニルアルキル基又kl吹氏の基: ■(パ、 5 り表し、 B、tsはC1〜C8のアルキル基、アリル基又はフェ
ニル基を表し、R・19は水素原子、CI”C11lの
アルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベンジル基
、フェニル基を表すか、あるいは11.16及びN−原
子と共に5もしくは6員へテロ環基を形成し、R20は
水素原子、01〜C1sのアルギル基、C,〜C6のア
ルケニル部;、Cs〜C8ノシクロアルキル基、フェニ
ル基、07〜Cto のアルキルフェニル基又は07〜
C9のフェニルアルキル基を表し、几21はC1〜C1
8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフ
チル基、07〜C11lのアルキルアリール基、Cγ〜
C9の)、/\10H −(CH,)n−ト 11 シ。′°\R5 B、s を表し、 mは0,1又は2であり、nは0,1,2又は3である
。式Iにおいて、置換基1(,4、l(,5及び1(,
1gはC1〜C8のアルキル基であってもよく、また、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、tert−ブチル基、イソアミル基、n−ヘキ
シル基、2−エチルブチル基、n−オクチル基又は1,
1,8,8−テトラメチルブチル基等の直鎖もしくは分
岐鎖アルキル基であってもよい。C1〜012のアルキ
ル基としてのR,2、Re7 、几8 、 R9、R1
凰◎、R12及びR1,3は、更に例えば、ノニル基、
デシル基又はドデシル基であってもよい。01〜CIS
のアルキル基としてのRe 、几16 、 R117、
几111 、 ]l、20 、 l(,21及びAは、
更に例えば、テトラデシル基、ヘキサデシル基又はオク
タデシル基であってもよい。
又は次式: のいずれか−を表し、 更に、上記式中、Xは一〇−又は−N (R1” )−
す表し、R14はフェニル基、ベンジル基又はシクロヘ
キシル基を表し、■も15はフェニル基又ハC7〜C9
のフェニルアルキル基を表し、R16はC1〜CtSの
アルキル基又はC%〜C8のシクロアルキル基を表し、
)Ill?は01〜C11lのアニル基、C7〜C9の
フェニルアルキル基又kl吹氏の基: ■(パ、 5 り表し、 B、tsはC1〜C8のアルキル基、アリル基又はフェ
ニル基を表し、R・19は水素原子、CI”C11lの
アルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベンジル基
、フェニル基を表すか、あるいは11.16及びN−原
子と共に5もしくは6員へテロ環基を形成し、R20は
水素原子、01〜C1sのアルギル基、C,〜C6のア
ルケニル部;、Cs〜C8ノシクロアルキル基、フェニ
ル基、07〜Cto のアルキルフェニル基又は07〜
C9のフェニルアルキル基を表し、几21はC1〜C1
8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフ
チル基、07〜C11lのアルキルアリール基、Cγ〜
C9の)、/\10H −(CH,)n−ト 11 シ。′°\R5 B、s を表し、 mは0,1又は2であり、nは0,1,2又は3である
。式Iにおいて、置換基1(,4、l(,5及び1(,
1gはC1〜C8のアルキル基であってもよく、また、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、tert−ブチル基、イソアミル基、n−ヘキ
シル基、2−エチルブチル基、n−オクチル基又は1,
1,8,8−テトラメチルブチル基等の直鎖もしくは分
岐鎖アルキル基であってもよい。C1〜012のアルキ
ル基としてのR,2、Re7 、几8 、 R9、R1
凰◎、R12及びR1,3は、更に例えば、ノニル基、
デシル基又はドデシル基であってもよい。01〜CIS
のアルキル基としてのRe 、几16 、 R117、
几111 、 ]l、20 、 l(,21及びAは、
更に例えば、テトラデシル基、ヘキサデシル基又はオク
タデシル基であってもよい。
C3〜C6のアルケニル基としての■(,2及び几6は
、例えば、アリル基、メタリル基(2−メチルアリル基
)、3.3−ジメチルアリル基又は2−ブテニル基であ
ってもよい。C2〜C6のアルケニル基としてのBto
及びR20は、ビニル基又はイソプロペニル基であって
もよい。C3〜C1gのアルケニル基としてのAはR2
と同^であってもよいし、更に例えば、2−オクテニル
基、11−ウンデセニル基又はオレイル基(オレオイル
基)であってもよい。
、例えば、アリル基、メタリル基(2−メチルアリル基
)、3.3−ジメチルアリル基又は2−ブテニル基であ
ってもよい。C2〜C6のアルケニル基としてのBto
及びR20は、ビニル基又はイソプロペニル基であって
もよい。C3〜C1gのアルケニル基としてのAはR2
と同^であってもよいし、更に例えば、2−オクテニル
基、11−ウンデセニル基又はオレイル基(オレオイル
基)であってもよい。
03〜C4のアルキニル基としてのl(,2は、例えば
2−プ四ビニル基又は2−ブチニル基テアってもよい。
2−プ四ビニル基又は2−ブチニル基テアってもよい。
C3〜C8のアルキニル基としてのAは、更に例えば2
−へキシニル基又は2−オクテニル基であってもよい。
−へキシニル基又は2−オクテニル基であってもよい。
C藻〜C@ のシクロアルキル基としてのR14゜RI
II、 RIO、R1” 、 R117及びRe20は
、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はシ
クロオクチル基であってもよい。03〜C1lのシクロ
アルキル基としてのR6及びAは、更にシクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロデシル基又はシクロドデシ
ル基であってもよい。
II、 RIO、R1” 、 R117及びRe20は
、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はシ
クロオクチル基であってもよい。03〜C1lのシクロ
アルキル基としてのR6及びAは、更にシクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロデシル基又はシクロドデシ
ル基であってもよい。
C6〜C!。のアルキルシクロアルキル基としてのAは
、例えば、メチルシクロペンチル基、モノ−もしくはジ
メチルシクロヘキシル基又はモノ−もしくはジメチルシ
クロオクチル基であってもよい。C6〜cteのシクロ
アルキルアルキル基としてのAは、例えば、シクロペン
チルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシ
ルエチル基又はシクロオクチルメチル基であってもよい
。
、例えば、メチルシクロペンチル基、モノ−もしくはジ
メチルシクロヘキシル基又はモノ−もしくはジメチルシ
クロオクチル基であってもよい。C6〜cteのシクロ
アルキルアルキル基としてのAは、例えば、シクロペン
チルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシ
ルエチル基又はシクロオクチルメチル基であってもよい
。
C7〜C9のフェニルアルキル基としてのR4。
I?、5 、 R” 、 Re1” 、 R120及び
l(,21は、例えば、ベンジル基、2−フェニルエチ
ル基、3−フェニルプロピル基又はα、α−ジメチルペ
ンシル基であってもよい。C7〜CXtのアラルキル基
としてのRe2 、 Re 、 RIG及びAは、更に
例えば、フェニルブチル基又はナフチルメチル基であっ
てもよい。アルギルアラルキル基としてのAは、例えば
、4−メチルベンジル基、3− tert−ブチルベン
ジル基、4−メチルナフチル−1−メチルプロピル基又
は2−(4−イソプロピルフェニル)プロピル基であっ
てもよい。
l(,21は、例えば、ベンジル基、2−フェニルエチ
ル基、3−フェニルプロピル基又はα、α−ジメチルペ
ンシル基であってもよい。C7〜CXtのアラルキル基
としてのRe2 、 Re 、 RIG及びAは、更に
例えば、フェニルブチル基又はナフチルメチル基であっ
てもよい。アルギルアラルキル基としてのAは、例えば
、4−メチルベンジル基、3− tert−ブチルベン
ジル基、4−メチルナフチル−1−メチルプロピル基又
は2−(4−イソプロピルフェニル)プロピル基であっ
てもよい。
C7〜C1oのアルキルフェニル基としてのn、4 。
11+5 、 R6、几10及びR120は、例えば、
4−メチルフェニル基、4− tert−ブチルフェニ
ル基、3−イソプロピルフェニル基又は3.5−ジメチ
ルフェニル基であってもよい。07〜01gのアルキル
アリール基としてのI(,13及びn121は、更に例
えば、4−オクチルフェニル基、4−ドデシルフェニル
基又は4−メチル−1,−す7チル基であってもよい。
4−メチルフェニル基、4− tert−ブチルフェニ
ル基、3−イソプロピルフェニル基又は3.5−ジメチ
ルフェニル基であってもよい。07〜01gのアルキル
アリール基としてのI(,13及びn121は、更に例
えば、4−オクチルフェニル基、4−ドデシルフェニル
基又は4−メチル−1,−す7チル基であってもよい。
T(、” 及ヒits並ヒに:1119及び几16ハ、
それぞれ、それらが結合しているN−原子と共に、例え
ばピロリジン、ピペリジン又はモルホリン環等のへテロ
環を形成していてもよい。
それぞれ、それらが結合しているN−原子と共に、例え
ばピロリジン、ピペリジン又はモルホリン環等のへテロ
環を形成していてもよい。
置換基Aは、例えば、2−シアノエチル基、2−エトキ
シカルボニルエチル基、N−ブチル−2−カルバモイル
・エチル基、2−メトキシエチル基、2−フェノキシプ
ロピル基、3−7エニルチオプロビル基、2−ドデシル
チオエチル基、2−ブチルスルホニルエチル基、2−イ
ンプロポキシプロビル基、2−アセトキシブチル基、2
−ベンゾイルオキシエチル基又は2−(ジエチルホスホ
ノ)エチル等の置換もしくは遮断されたアルキル基であ
ってもよい。
シカルボニルエチル基、N−ブチル−2−カルバモイル
・エチル基、2−メトキシエチル基、2−フェノキシプ
ロピル基、3−7エニルチオプロビル基、2−ドデシル
チオエチル基、2−ブチルスルホニルエチル基、2−イ
ンプロポキシプロビル基、2−アセトキシブチル基、2
−ベンゾイルオキシエチル基又は2−(ジエチルホスホ
ノ)エチル等の置換もしくは遮断されたアルキル基であ
ってもよい。
C2〜CtSのアルコキシメチル基としての1%11は
、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、イソ
プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、2−エチルブ
トキシメチル基、オクチルオキシメチル基又はドデシル
オキシメチル基であってもよい。
、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、イソ
プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、2−エチルブ
トキシメチル基、オクチルオキシメチル基又はドデシル
オキシメチル基であってもよい。
式Iのフェノール基において、ヒドロキシル基はCH,
基のメタ又はパラ位に存在していてもよいが、好ましく
はパラ位である。CI−J、基がヒドロキシル基のパラ
位にある場合は、n、3はメタ位に存在する。CH,基
がメタ位にある場合は、I(,3はヒドロキシル基のパ
ラ位に存在する。
基のメタ又はパラ位に存在していてもよいが、好ましく
はパラ位である。CI−J、基がヒドロキシル基のパラ
位にある場合は、n、3はメタ位に存在する。CH,基
がメタ位にある場合は、I(,3はヒドロキシル基のパ
ラ位に存在する。
好ましい安定剤は、次式■:
で示される化合物である。
上記式中、
几2はヒドロキシル基、c、 ”C4のアルキル基、C
3〜C4のアルケニル基、プロパルキル基、ベンジル基
、グリシジル基、又はハロゲン原子、シアノ基、−CO
OR7もしくは一〇〇N (R? ) (R?)で置換
されたC1−C4のアルギル基、基−Co−11・1°
、基−CO−C1?、基−CO−N (It、8 )
(Tも9)、基−CII2−CH(R11)−OR,1
2、基−80−1(,13、基−SO,−几!3、基−
0R7又は基−00C−11,10を表し、几4はC1
〜C4のアルキル基を表し、Itsは水素原子又は01
〜C4のアルキル基を表し、■(6は水素原子、C1〜
CtZのアルキル基、03〜C7のアルフキジアルキル
基、シクロヘキシル基又は次式の基: a13C)−13 を表し、 ■(,7はC,−C8のアルキル基、ベンジル基又はシ
クロヘキシル基を表し、YL8はC1〜C8のアルキル
基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表し、11.9
は水素原子又はC!〜C8のアルキル基を表わずか、又
は、旧、8及びR,9はN−原子と共にピペリジン又は
モルホリン環を形成し、11,10はC1〜C4のアル
キル基、C2〜C3のアルケニル基、クロロメチル基、
7エこル基、ベンジル基又は次式の基ニ ー−、R4 一−−\ R,5 を表し、 )(,11は水素原子、メチル基又はフェニル基を表し
]l、12は水素原子、C1〜Csのアルキル基、基
−C0410又は基−Co−N l”) (R,9)を
表し、i(,13はC1〜C4のアルキル基、フェニル
基又はp −) IJル基を表し、Aは、水素原子、C
1〜C6のアルキル基、シアノ基、アリル基又はベンジ
ル基を表す。
3〜C4のアルケニル基、プロパルキル基、ベンジル基
、グリシジル基、又はハロゲン原子、シアノ基、−CO
OR7もしくは一〇〇N (R? ) (R?)で置換
されたC1−C4のアルギル基、基−Co−11・1°
、基−CO−C1?、基−CO−N (It、8 )
(Tも9)、基−CII2−CH(R11)−OR,1
2、基−80−1(,13、基−SO,−几!3、基−
0R7又は基−00C−11,10を表し、几4はC1
〜C4のアルキル基を表し、Itsは水素原子又は01
〜C4のアルキル基を表し、■(6は水素原子、C1〜
CtZのアルキル基、03〜C7のアルフキジアルキル
基、シクロヘキシル基又は次式の基: a13C)−13 を表し、 ■(,7はC,−C8のアルキル基、ベンジル基又はシ
クロヘキシル基を表し、YL8はC1〜C8のアルキル
基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表し、11.9
は水素原子又はC!〜C8のアルキル基を表わずか、又
は、旧、8及びR,9はN−原子と共にピペリジン又は
モルホリン環を形成し、11,10はC1〜C4のアル
キル基、C2〜C3のアルケニル基、クロロメチル基、
7エこル基、ベンジル基又は次式の基ニ ー−、R4 一−−\ R,5 を表し、 )(,11は水素原子、メチル基又はフェニル基を表し
]l、12は水素原子、C1〜Csのアルキル基、基
−C0410又は基−Co−N l”) (R,9)を
表し、i(,13はC1〜C4のアルキル基、フェニル
基又はp −) IJル基を表し、Aは、水素原子、C
1〜C6のアルキル基、シアノ基、アリル基又はベンジ
ル基を表す。
特に好ましい安定剤は;R12がヒドロキシル基、メチ
ル基、アリル基、ベンジル基、2−ヒドロキシエチル基
、アセチル基、アクリルオキシ基、メトキシ基、アセト
キシ基又は基−CO−N(R”)([,9)を表し、■
も、がtert−ブチル基を表し、R5がメチル基又は
tert−ブチル基を表し、R,sが水素原子又は01
〜C8のアルキル基を表し )16が01〜C8のアル
キル基、フェニル基又はシクロヘキシル基を表し、R5
9が水素原子又はC1,C8のアルキル基を表し、Aが
水素原子、C1〜C8のアルキル基又はベンジル基を表
す;式■の化合物である。
ル基、アリル基、ベンジル基、2−ヒドロキシエチル基
、アセチル基、アクリルオキシ基、メトキシ基、アセト
キシ基又は基−CO−N(R”)([,9)を表し、■
も、がtert−ブチル基を表し、R5がメチル基又は
tert−ブチル基を表し、R,sが水素原子又は01
〜C8のアルキル基を表し )16が01〜C8のアル
キル基、フェニル基又はシクロヘキシル基を表し、R5
9が水素原子又はC1,C8のアルキル基を表し、Aが
水素原子、C1〜C8のアルキル基又はベンジル基を表
す;式■の化合物である。
本明細書に記載した式Iの化合物の一部は、西独国特許
公開第2(347452号から公知となっており、この
公報ではこれらの化合物がプラスチック用の光安定剤と
して記載されている。また、そこには、そのような化合
物を製造するための各種の方法が記載されている。これ
らの化合物が新規である限り、これらをここに記載され
た化合物と同様にして製造することができる。
公開第2(347452号から公知となっており、この
公報ではこれらの化合物がプラスチック用の光安定剤と
して記載されている。また、そこには、そのような化合
物を製造するための各種の方法が記載されている。これ
らの化合物が新規である限り、これらをここに記載され
た化合物と同様にして製造することができる。
本化合物の合成は、好ましくは式IIIのN、 N’−
ビス(ポリアルキル4−ピペリジル)マロン酸ジアミド
を1−モルのアルカリ性試薬及び1モルのハロゲン化物
A−Ha7と反応せしめることから開始され、式■の化
合物が得られる。
ビス(ポリアルキル4−ピペリジル)マロン酸ジアミド
を1−モルのアルカリ性試薬及び1モルのハロゲン化物
A−Ha7と反応せしめることから開始され、式■の化
合物が得られる。
■■
フェノール基は、相当するヒドロキシベンジルブオカー
バメート、ヒドロキシベンジルアミン又はヒドロキシベ
ンジルアルコキシド■と反応せしめることにより、アミ
ド■に導入してもよい。
バメート、ヒドロキシベンジルアミン又はヒドロキシベ
ンジルアルコキシド■と反応せしめることにより、アミ
ド■に導入してもよい。
n、5CJ(2T
T = −8−CB−NT1. 、−NR,又は−01
1゜R=C1〜C4のアルキル基 あるいは、式I■の化合物を1モルのVと反応させても
よく、この場合には、基Aは二工程目に導入することが
できる。
1゜R=C1〜C4のアルキル基 あるいは、式I■の化合物を1モルのVと反応させても
よく、この場合には、基Aは二工程目に導入することが
できる。
反応工程の順序は、任意に変更し得る。例えば、マロン
酸ジアルキルエステルヲA−−)(a/−、!:反応さ
せて中間体A −CI((C00It、 ) 2を得、
次いで、最初に式■の化合物と反応させ、しかる後2に
、次式■: oi3 CH,R,1 の4−アミノピペリジン化合物と反応させるか、あるい
は、その逆の順序で反応させることができる。
酸ジアルキルエステルヲA−−)(a/−、!:反応さ
せて中間体A −CI((C00It、 ) 2を得、
次いで、最初に式■の化合物と反応させ、しかる後2に
、次式■: oi3 CH,R,1 の4−アミノピペリジン化合物と反応させるか、あるい
は、その逆の順序で反応させることができる。
式■の4−アミノピペリジンは西独国特許公開第204
0975号及び第2349962号で公開されており、
4−オキソピペリジンの還元的アミノ化により製造され
る。
0975号及び第2349962号で公開されており、
4−オキソピペリジンの還元的アミノ化により製造され
る。
基I?、2は、■の合成がなされでがらできるがぎり早
い段階で、あるいはいずれが一つの置換基合成工程の後
に導入してもよい。
い段階で、あるいはいずれが一つの置換基合成工程の後
に導入してもよい。
R2は、例えば、相当するハロゲノ化合物J−Tat−
R12と反応させる等のN−置換第二アミン類の慣J!
4法によって導入することができる。
R12と反応させる等のN−置換第二アミン類の慣J!
4法によって導入することができる。
■?、2が基−CH2−CH(Illリ−0’E1.1
”Qアル場合10% ニハ、オキシラン、rt’1−CIT −CH2ト反応
させ、望むならば、続いてヒドロキシル基を°!ルキル
化又はアシル化することにより該基を導入することがで
きる。ヒドロキシル基であるB、2は、相当するN−オ
キシル類を還元することにより導入してもよい。N−ヒ
ドロキシル化合物をエーテル化又はエステル化すると、
R2が一0几7基又は−0OC−11,10基である化
合物が得られる。
”Qアル場合10% ニハ、オキシラン、rt’1−CIT −CH2ト反応
させ、望むならば、続いてヒドロキシル基を°!ルキル
化又はアシル化することにより該基を導入することがで
きる。ヒドロキシル基であるB、2は、相当するN−オ
キシル類を還元することにより導入してもよい。N−ヒ
ドロキシル化合物をエーテル化又はエステル化すると、
R2が一0几7基又は−0OC−11,10基である化
合物が得られる。
本発明において、カラー写真記録利rl用の光安定剤と
して使用される式Iの型の個々の化合物の具体例として
は、以下の化合物が挙げら才する。
して使用される式Iの型の個々の化合物の具体例として
は、以下の化合物が挙げら才する。
((
式Iの化合物は、水Fill溶性であるため、好ましく
は分散液又は乳化液の形で写真層に加えられる。安定剤
は、一般に、着色カプラーと一緒に写真材料中に添加さ
れる。このため、式■σ)化合物を、着色カプラー及び
場合により別の光安定剤と一緒に、酢酸メチル、酢酸エ
チル、四塩化炭素、クロロホルム、メタノール、エタノ
ール、n−ブタノール、ジオキ・すン、アセトン又はベ
ンゼン等の低沸点有機溶媒;トリクレジルホスフェ−)
、N、N−ジエチルラウラミド、ジ−n−ブチルフタレ
ート又はエチ# = N −ジフェニルカーバメート等
の高沸点有機溶媒;又は前記低沸点及び高沸点有機溶媒
の混合溶媒に溶解させ、イqられた溶液を保護コロイド
溶液;特にゼラチン水溶液等に加え、その溶液をコロイ
ドミル、米モジナイザー又は超音波を用いて分散させる
。
は分散液又は乳化液の形で写真層に加えられる。安定剤
は、一般に、着色カプラーと一緒に写真材料中に添加さ
れる。このため、式■σ)化合物を、着色カプラー及び
場合により別の光安定剤と一緒に、酢酸メチル、酢酸エ
チル、四塩化炭素、クロロホルム、メタノール、エタノ
ール、n−ブタノール、ジオキ・すン、アセトン又はベ
ンゼン等の低沸点有機溶媒;トリクレジルホスフェ−)
、N、N−ジエチルラウラミド、ジ−n−ブチルフタレ
ート又はエチ# = N −ジフェニルカーバメート等
の高沸点有機溶媒;又は前記低沸点及び高沸点有機溶媒
の混合溶媒に溶解させ、イqられた溶液を保護コロイド
溶液;特にゼラチン水溶液等に加え、その溶液をコロイ
ドミル、米モジナイザー又は超音波を用いて分散させる
。
このようにして得られた分散液を、カラー写真記録材料
における層を製造するために使用する。これらの層は、
例えば中間層又は保護層、特に感光性(青−1緑−及び
赤感光↑1:)ハロゲン化銀乳剤層であってもよく、該
層におい(露:3’r、された記M # f+を現像し
た場合には、相当する着色カプラーから青緑色(シアン
色)、紫色(マゼンタ色)及び黄色色素が形成されろ。
における層を製造するために使用する。これらの層は、
例えば中間層又は保護層、特に感光性(青−1緑−及び
赤感光↑1:)ハロゲン化銀乳剤層であってもよく、該
層におい(露:3’r、された記M # f+を現像し
た場合には、相当する着色カプラーから青緑色(シアン
色)、紫色(マゼンタ色)及び黄色色素が形成されろ。
場合により、光安定剤を、発色現像後に使用される定着
浴及び/又は洗浄浴等の処(71j浴に加えることもで
きるが、その際、式■の化合物はアルコール(メタノー
ル/エタノール)、アルカリ水溶液及び/又は水にある
程度溶解することが必要である。拡散転写法を過用する
場合には、安定剤は該物質の受容層中に添加されてもよ
い。
浴及び/又は洗浄浴等の処(71j浴に加えることもで
きるが、その際、式■の化合物はアルコール(メタノー
ル/エタノール)、アルカリ水溶液及び/又は水にある
程度溶解することが必要である。拡散転写法を過用する
場合には、安定剤は該物質の受容層中に添加されてもよ
い。
ハロゲン化銀層は、前記の色素を形成してカラー画像を
形成するために使用するイ■意の糸色カプラー、特に青
緑色、紫色及び黄色カプラーを含むことができる。
形成するために使用するイ■意の糸色カプラー、特に青
緑色、紫色及び黄色カプラーを含むことができる。
本発明の写真記録材料において、式■の安定剤を着色カ
プラーと、更には、紫外線吸IIy剤又は、他の光安定
剤と共に同じ層中に混合してもよい。
プラーと、更には、紫外線吸IIy剤又は、他の光安定
剤と共に同じ層中に混合してもよい。
ハロゲン化銀乳剤は、好ましくは、結合剤としてゼラチ
ンを、場合により他の高分子の天然又は合成1化合物と
の混合物として含む。
ンを、場合により他の高分子の天然又は合成1化合物と
の混合物として含む。
ハロゲン化銀乳剤は、例えば、臭化銀、塩化銀もしくは
ヨウ化銀乳剤、又はヨウ臭化銀もしくは塩臭化化銀乳剤
等のハロゲン化銀混1合物を含む乳剤であってもよい。
ヨウ化銀乳剤、又はヨウ臭化銀もしくは塩臭化化銀乳剤
等のハロゲン化銀混1合物を含む乳剤であってもよい。
乳剤は化学的に増感されていてもよく、更に需用の有機
安定剤、かぶり防止剤及びグリセ1J−ル等の常用の可
塑剤を含んでいてもよい。また、乳剤をゼラチンに常用
される硬化剤によって硬化させてもよい。更に、乳剤は
常用の注型助剤を含んでいてもよい。乳剤は、写真記録
材料に常用される支持体上に適用してもよい。
安定剤、かぶり防止剤及びグリセ1J−ル等の常用の可
塑剤を含んでいてもよい。また、乳剤をゼラチンに常用
される硬化剤によって硬化させてもよい。更に、乳剤は
常用の注型助剤を含んでいてもよい。乳剤は、写真記録
材料に常用される支持体上に適用してもよい。
常用される現像浴を使用して、カラー写真記録材料を現
像することができる。一般に、これらの浴は、p−フェ
ニレンジアミン型の現像剤物質;臭化カリウム等の現像
遅延剤;亜硫酸ナトリウム又はヒドロキシルアミン等の
酸化防止剤;アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭
酸塩等の塩基を含む。また、現像浴は、常用されるかぶ
り防止剤及び錯化剤を含んでいてもよい。
像することができる。一般に、これらの浴は、p−フェ
ニレンジアミン型の現像剤物質;臭化カリウム等の現像
遅延剤;亜硫酸ナトリウム又はヒドロキシルアミン等の
酸化防止剤;アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭
酸塩等の塩基を含む。また、現像浴は、常用されるかぶ
り防止剤及び錯化剤を含んでいてもよい。
本発明で使用される光安定剤は、ある場合においては、
色素が直接乳剤中に添加されて画像が選択的漂白によっ
て作られるカラー写真層を保護するためにも好適である
。
色素が直接乳剤中に添加されて画像が選択的漂白によっ
て作られるカラー写真層を保護するためにも好適である
。
光安定剤の量は広い範囲で変動可能であり、光安定剤が
添加される層In?当り、おおよそ1−2.000 T
rq、好ましくは100〜800mg、特に200〜5
00■の範囲である。
添加される層In?当り、おおよそ1−2.000 T
rq、好ましくは100〜800mg、特に200〜5
00■の範囲である。
写真材料が紫外線吸収剤を含む場合、この紫外線吸収剤
は光安定剤と共に、一つの層に存在するか、あるいは隣
接する欝に存在していてもよい。紫外線吸収剤と式Iの
光安定剤との重量比は、約(2〜10): 1であり、
モル比は約(6〜2o):iである。紫外線吸収剤とし
ては、ベンゾフェノン、アクリロニトリル、チアゾリド
ン、ベンゾトリアゾール、オキッゾール、チアゾール及
びイミダゾールが例示される。7本発明の記St、(料
を露光・現像して得られるカラー画像は、可視光線及び
紫外線に対して極めて良好な安定性を示す。式■の化合
物はほとんど無色であって、画像を変色させることはな
い。更に、個々の層中に存在する常用の写真添加剤と良
好に共存できる。これらの化合物の優れた効果により、
その使用量を減少させることが可能であり、このため、
写真層の製造に使用される水性の結合剤乳剤中に有機溶
液の形で混入させた場合には、沈殿及び結晶析出を回j
li’することかできる。写真記録材料を露光した後、
カラー画像を作るために必要とされる個々の処理工程は
、光安定剤によって悪影響を受りない。
は光安定剤と共に、一つの層に存在するか、あるいは隣
接する欝に存在していてもよい。紫外線吸収剤と式Iの
光安定剤との重量比は、約(2〜10): 1であり、
モル比は約(6〜2o):iである。紫外線吸収剤とし
ては、ベンゾフェノン、アクリロニトリル、チアゾリド
ン、ベンゾトリアゾール、オキッゾール、チアゾール及
びイミダゾールが例示される。7本発明の記St、(料
を露光・現像して得られるカラー画像は、可視光線及び
紫外線に対して極めて良好な安定性を示す。式■の化合
物はほとんど無色であって、画像を変色させることはな
い。更に、個々の層中に存在する常用の写真添加剤と良
好に共存できる。これらの化合物の優れた効果により、
その使用量を減少させることが可能であり、このため、
写真層の製造に使用される水性の結合剤乳剤中に有機溶
液の形で混入させた場合には、沈殿及び結晶析出を回j
li’することかできる。写真記録材料を露光した後、
カラー画像を作るために必要とされる個々の処理工程は
、光安定剤によって悪影響を受りない。
更に、青感光性乳剤の場合にしばしば起る抑圧かぶり現
象を著しく抑制することができる。抑圧かぶりは、例え
ば、写真材料(天然又は合成の物質からなる支持体上に
存在するハロゲン化銀乳剤層)に、ねじり、曲げ又は摩
擦等の機械的応力を、それらの製造の間又は現像前の処
理の間に加えた場合に起こる〔チー・エッチ・ジェーム
ス、ザ・セオリイ・オプ・フォトグラフィック・プロセ
ス、第4版、マクミラン、ニューヨーク、エヌ・ワイ、
1977年、23頁以下166頁以下(’l” −H−
James、 ’1.’he T、”heo・ry o
f Photographic Process、 4
thEd i t ion、 Macmi I fan
、 NeuYork、 N、 Y、 。
象を著しく抑制することができる。抑圧かぶりは、例え
ば、写真材料(天然又は合成の物質からなる支持体上に
存在するハロゲン化銀乳剤層)に、ねじり、曲げ又は摩
擦等の機械的応力を、それらの製造の間又は現像前の処
理の間に加えた場合に起こる〔チー・エッチ・ジェーム
ス、ザ・セオリイ・オプ・フォトグラフィック・プロセ
ス、第4版、マクミラン、ニューヨーク、エヌ・ワイ、
1977年、23頁以下166頁以下(’l” −H−
James、 ’1.’he T、”heo・ry o
f Photographic Process、 4
thEd i t ion、 Macmi I fan
、 NeuYork、 N、 Y、 。
1977))。
本発明を以下の実施例に基づき詳細に説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない実施例 次式: ( の黄色カプラー0.087f及び下記の表に記載した光
安定剤0.02f’l’を、トリクレジルホスフェート
/酢酸エチル混合物(100m/中1.5 f )2.
0mlに溶解した。この溶液に6%ゼラチン溶液7of
flf、次式: 。 の湿潤剤の8%イソプロパツール/J(3:4)
溶液0.5 ml及び水α5罰を加え、100Wの電力
で超音波を用い6分間乳化した。
明はこれに限定されるものではない実施例 次式: ( の黄色カプラー0.087f及び下記の表に記載した光
安定剤0.02f’l’を、トリクレジルホスフェート
/酢酸エチル混合物(100m/中1.5 f )2.
0mlに溶解した。この溶液に6%ゼラチン溶液7of
flf、次式: 。 の湿潤剤の8%イソプロパツール/J(3:4)
溶液0.5 ml及び水α5罰を加え、100Wの電力
で超音波を用い6分間乳化した。
得られた乳剤2.5 rnlに、銀含有量が6. OV
/lの臭化銀乳剤20罰、次式: の硬化剤の1%水溶液0.7 me及び水a 8 ml
を加え、混合物をpH6,5に調整し、これを、ガラス
板上に貼付され、下引き(下塗り)され、プラスチック
で被覆された白色紙上に注いだ。
/lの臭化銀乳剤20罰、次式: の硬化剤の1%水溶液0.7 me及び水a 8 ml
を加え、混合物をpH6,5に調整し、これを、ガラス
板上に貼付され、下引き(下塗り)され、プラスチック
で被覆された白色紙上に注いだ。
注型材料が固化した後、乾燥棚中で室温下通風して乾燥
した。
した。
7日後、85X180mmに切断した試料を階段光学く
さび下に3000ルツクスで露光し、引続き、コダック
社のエクタプリント2−プロセス(商標名、Ektap
rint 2−Process )で処理した。
さび下に3000ルツクスで露光し、引続き、コダック
社のエクタプリント2−プロセス(商標名、Ektap
rint 2−Process )で処理した。
得られた黄色くさびを、アトラスウエザオメーターで2
500W−キセノンランプを用いて合計42 KJ o
u l e/32で照射した(対照試料は)v。
500W−キセノンランプを用いて合計42 KJ o
u l e/32で照射した(対照試料は)v。
安定剤を含まない)。
初期濃度1.0の色濃度減少率を表に示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)少なくとも−の感光性ハロゲン化銀乳剤層、中間
層、画像受容層及び/又は保護層中に、安定剤として少
なくとも−の次式I: 〔式中、 R1は水素原子又はメチル基を表し、 R2はヒドロキシル基、Cl−C12のアルキル基、C
3〜C6のアルケニル基、C3〜C4のアルキニル基、
C7〜C12のアラルキル基、グリシジル基、又は)・
ロゲン原子、シアノ基、−COOR’もしくは−CON
(R’)(R’)で置換されたC1〜C4のアルキル基
、基−CO−R10,基−CO−OR’、基−CO−N
(R”)σ乞9)、基−CHz CH(R’リ−oR
12、基−80−R1g、基−80,−413、基−0
、R,?又は基−00C−RIGを表し、 R8は水素原子又はメチル基を表し、 几4はCI〜C8のアルキル基、C3〜C8のシクロア
ルキル基、c?〜C9ノフェニルアルキル基、フェニル
基又はC7〜CIOのアルキルフェニル基をfl、几1
は水素原子、CI”””CT1のアルキル基、C,%C
@のシクロアルキル基、C1〜C0のフェニルアルキル
基、フェニル基又FiCy〜C8゜のアルキルフェニル
基を表し、 R6は水素原子、C1〜C11lのアルキル基、C3〜
C0のアルケニル基、C3〜C12のシクロアルキル基
、C丁〜C0゜のアルキルフェニル基、又は−OR’、
−N(,1(、”)。 もしくは次式の基、 曳費1.CH,几1 −o−−”h −R2 \−−l で置換されたC1〜C4のアルキル基、又は次式の基:
を表し、 1尤7はCl−CI2のアルキル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基又はベンジル基を表し、 R8はCl=C5zのアルキル基、アリル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基又はフェニル基を表し、 R9は水素原子、01〜C12のアルキル基、アリル基
、シクロヘキシル基又はベンジル基を表し、 R8及びR9は、それらが結合しているN−原子と共に
5もしくは6員へテロ環基を形成し、R10は水素原子
、C1〜C12のアルキル基、C2〜C6のアルケニル
基、クロロメチル基、Cs−C8のシクロアルキル基、
07〜CI2のアラルキル基、フェニル基、07〜C+
oのアルキルフェニル基、又は−もしくは二のC!〜C
4のアルキル基及び−のヒドロキシル基で置換されたフ
ェニル基、フェニルメチル基モしくはフェニルエチルヲ
表し、 R11は水素原子、C+=C*のアルキル基、C2〜C
+1のアルコキシメチル基、フェニル基又はフェノキシ
メチル基を表し、 RI2は水素原子、01〜CI2のアルキル基、基−C
O−R”又は基−CO−N (1t8) (R9)を表
し、1413はCl−C12のアルキル基、フェニル基
又はC7〜C+sのアルキルアリール基を表し、Aは水
素原子、01〜C+sのアルキル基、又は−0R14、
−8R15、−CN、 −CO−X=RI6、−0−C
o−R17もしくは−P(0) (OR14)2のうち
の少なくとも−で置換されたC1〜CIOのアルキル基
、又は−〇−1−S−1−8O−もしくは一8O2−が
介在した02〜C20のアルキル基、C3〜Cssのア
ルケニルM、Ca−C8のアルキニル基、C3〜C12
のシクロアルキル基、C6〜CIOのアルキル7クロア
ルギル基、C6〜CIOのシクロアルキルアルキル基、
C7〜C12のアラルキル基S (−S〜016のアル
キルアラルキル基、フェニル基、基−CN。 基−CO−R”、基−802Tζ2!、基−P(0)(
01も18)又は次式の基: のいずれか−を表し、 更に、上記式中、 Xは−〇−又は−N(R”)−を表し、)L” Idフ
ェニル基、ベンジル基又ハシクロヘキシル基を表し、 R”i、i:フェニル基又はC7〜C9のフェニルアル
キル基を表し、 R”はCl−Cl3のアルキル基又はC5〜C8のシク
ロアルキル基を表し、 R17はCl−Cssのアルキル基、05〜C8のシク
ロアルキル基、フェニル基、Cy〜C、ノフェニルアル
キル基又は次式の基: を表し、 R” u Cl −Csのアルキル基、アリル基又はフ
ェニル基を表し、 R19は水素原子、Cl−Cl3のアルキル基、アリル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基を表す
か、あるいは、R”及びN−原子と共に5もしくは6員
へテロ環基を形成し、R2°は水素原子、C1〜CI$
1のアルキル基、C2〜C6のアルケニル基、Cs−C
8のシクロアルキル基、フエ、ニル基、C1〜C12の
アルキルフェニル基又はC7〜C9のフェニルアルキル
基を表し、R” f’i Ci−C+sのアルキル基、
シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、C7〜C
!名のアルキルアリール基、C7〜C9のフェニルアル
キル基又は次式の基: R4 /°\、10H −(CH2)n−+++ を表し、 mはo、i又は2であり、 nは0,1 、2又は3である。〕 で示さlしるポリアルキルピペリジン化合物を含有する
ことを特徴とするカラー写真記録拐料。 (2)安定剤が、次式■: 〔式中、 l12はヒドロキシル基s C1〜C4のアルキル基、
C3〜C4のアルケニル基、プロパルギル基、ベンジル
基、グリシジル基、又はハロゲン原子、シアン基、−C
OOR?もしくは−CON(R”)(Iζ9)で置換さ
れたCl−Caのアルキル基、基−co−iえ10゜基
−Co−OR’、基−CO−N(lぴ)0え9)、基−
CH2−CH(R11) −OR12、基−3O−R1
3、基−8O2−1z+3、基−0R7又は基−00C
−ft1Oを表し、R4はC+〜C4のアルキル基を表
し、R5は水素原子又はCl−C4のアルキル基を表し
、R6は水素原子、01〜C12のアルキル基、C3〜
C7のアルコキシアルキル基、シクロヘキシル基゛ 又
は次式の基: CH3Cl■3 \/ CH3CL−h を表1 R’ ハCI−Csのアルキル基、ベンジル基又はシク
ロヘキシル基を表し、 R8はC1〜Csのアルキル基、シクロヘキシル基又は
フェニル基を表し、 R9は水素原子又はCl−C8のアルキル基を表すか、
又は、R8及びR9はN−原子と共にピペリジン又はモ
ルホリン環を形成し、 R”はC1〜C4のアルキル基s C2〜C3のアルケ
ニル基、クロロメチル基、フェニル基、ベンジル基又は
次式の基: を表し、 141+は水素原子、メチル基又はフェニル基を表し、
■也12は水素原子、Ct−Csのアルキル基、基−C
ORIO又は基−CO−N (R’)(R9)を表し、
R13fi Cl=C4のアルキル基、フェニル基又は
r−トリル基を表し、 Aは水素原子、Cl−C8のアルキル基、シアン基、ア
リル基又はベンジル基を表す。〕で示される化合物であ
る特許請求の範囲第1項記載のカラー写真記録材料。 (3)安定剤が; R”がヒドロキシル基、メチル基、アリル基、ベンジル
基、2−ヒドロキシエチル基、アセチル基、アクリルオ
キシ基、メトキシ基、アセトキシ基又は基−CO−N(
Iえ8) (R’)を表し、R4がtert−ブチル基
を表し、 R5がメチル基又はtert−ブチル基を表し、R6が
水素原子又はCt−Csのアルキル基を表し、R’がC
1〜C8のアルキル基、フェニル基又はシクロヘキシル
基を表し、 R9が水素原子又はC1〜C8のアルキル基全表し、A
が水素原子、Cl−Cmのアルキル基又はベンジル基ケ
表す; 式11の化合物である特許請求の範囲第2項記載のカラ
ー写真記録側)Io 4) 式Iで示される安定剤と共に、紫外線吸収剤に属
する光安定剤を含有する%π[請求の範囲第1項記載の
カラー写真記録制料。 (5) 1 m2当り、1〜2,000m9、好まし
くは100〜800 m9の式Iの化合物を含有する特
許請求の範囲第1項記載のカラー写真記録側斜。 (6) カラー写真記録側斜の安定剤としての%許請
求の範囲第1項記載の式lの化合物の使用方法。
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- 1983-09-21 JP JP58173284A patent/JPS5978344A/ja active Granted
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