JPH0339296B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/56—Nitrogen atoms
- C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
- G03C7/3924—Heterocyclic
- G03C7/39244—Heterocyclic the nucleus containing only nitrogen as hetero atoms
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Description
本発明は、少なくとも一の感光性ハロゲン化銀
乳剤層及び/又は少なくとも一の通常の補助層中
に、安定剤として、特定のポリアルキルピペリジ
ン化合物を含有するカラー写真記録材料に関す
る。 ポリアルキルピペリジンは、一般に、有機材
料、特にポリマー用の光安定剤として用いられる
立体障害を受けたアミンとして知られている。カ
ラー写真の耐漂白剤としてかかるポリアルキルピ
ペリジンを用いることは、既に、西独国特許公開
(DE−OS)第21 26 954号に記載されている。さ
らに、少なくとも一のフエノール基を有する特定
のポリアルキルピペリジン誘導体をカラー写真用
の光安定剤として用いることは、ヨーロツパ特許
出願(EP−A)第11051号に記載されている。そ
れらの誘導体は、ヒドロキシベンジルマロン酸の
ポリアルキルピペリジンエステルに関する。 これらの研究をさらに進めた結果、フエノール
アルカンカルボン酸及び4−アミノポリアルキル
ピペリジンから導かれるアミドも、カラー写真に
対し顕著な光安定化作用を有し、さらには、暗所
においても、記録材料の保存中の変質に対して色
素を安定化させる。 従つて、本発明の目的は、少なくとも一の感光
性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、画像受容層及
び/又は保護層中に、安定剤として少なくとも一
の式で示されるポリアルキルピペリジン化合物
を含有するカラー写真記録材料を提供することで
ある。 上記式中において、 R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はヒド
ロキシル基、C1〜C12のアルキル基、C3〜C6のア
ルケニル基、C3〜C4のアルキニル基、C7〜C12の
アラルキル基、グリシジル基、又はハロゲン原
子、シアノ基、−COOR7もしくは−CON(R8)
(R9)で置換されたC1〜C4のアルキル基、基−
CO−R10、基−CO−OR7、基−CO−N(R8)
(R9)、基−CH2−CH(R11)−OR12基−SO−R13、
基−SO2−R13、基−OR7又は基−OOC−R10を表
し、R3は水素原子又はメチル基を表し、R4はC1
〜C8のアルキル基、C5〜C8のシクロアルキル基、
C7〜C9のフエニルアルキル基、フエニル基又は
C7〜C10のアルキルフエニル基を表し、R5は水素
原子、C1〜C8のアルキル基、C5〜C8のシクロア
ルキル基、C7〜C9のフエニルアルキル基、フエ
ニル基又は、C7〜C10のアルキルフエニル基を表
し、R6は水素原子、C1〜C18のアルキル基、C3〜
C6のアルケニル基、C3〜C12のシクロアルキル
基、C7〜C12のアラルキル基、C7〜C10のアルキル
フエニル基、又は−OR8、−N(R9)2もしくは次式
の基: で置換されたC2〜C4のアルキル基、又は次式の
基: を表し、 R7はC1〜C12のアルキル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基又はベンジル基を表し、R8はC1〜C12
のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基又はフエニル基を表し、R9は水素原子、
C1〜C12のアルキル基、アリル基、シクロヘキシ
ル基又はベンジル基を表し、R8及びR9は、それ
らが結合しているN−原子と共に5もしくは6員
ヘテロ環基を形成し、 R10は水素原子、C1〜C12のアルキル基、C2〜
C6のアルケニル基、クロロメチル基、C5〜C8の
シクロアルキル基、C7〜C12のアラルキル基、フ
エニル基、C7〜C10のアルキルフエニル基、又は
一もしくは二のC1〜C4のアルキル基及び一のヒ
ドロキシル基で置換されたフエニル基、フエニル
メチル基もしくはフエニルエチルを表し、R11は
水素原子、C1〜C4のアルキル基、C2〜C13のアル
コキシメチル基、フエニル基又はフエノキシメチ
ル基を表し、R12は水素原子、C1〜C12のアルキ
ル基、基−CO−R10又は基−CO−N(R8)(R9)
を表し、R13はC1〜C12のアルキル基、フエニル
基又はC7〜C18のアルキルアリール基を表し、A
は水素原子、C1〜C18のアルキル基、又は−
OR14、−SR15、−CN、−CO−X−R16、−O−CO
−R17もしくは−P(O)(OR18)2のうちの少なく
とも一で置換されたC1〜C10のアルキル基、又は
−O−、−S−、−SO−もしくは−SO2−が介在
した C2〜C20のアルキル基、C3〜C18のアルケニル
基、C3〜C6のアルキニル基、C3〜C12のシクロア
ルキル基、又は C6〜C10のアルキルシクロアルキル基、C6〜C10
のシクロアルキルアルキル基、C7〜C12のアラル
キル基、C8〜C16アルキルアラルキル基、フエニ
ル基、基−CN、基−CO−R20、基−SO2−R21、
基−P(O)(OR18)2又は次式の基:
乳剤層及び/又は少なくとも一の通常の補助層中
に、安定剤として、特定のポリアルキルピペリジ
ン化合物を含有するカラー写真記録材料に関す
る。 ポリアルキルピペリジンは、一般に、有機材
料、特にポリマー用の光安定剤として用いられる
立体障害を受けたアミンとして知られている。カ
ラー写真の耐漂白剤としてかかるポリアルキルピ
ペリジンを用いることは、既に、西独国特許公開
(DE−OS)第21 26 954号に記載されている。さ
らに、少なくとも一のフエノール基を有する特定
のポリアルキルピペリジン誘導体をカラー写真用
の光安定剤として用いることは、ヨーロツパ特許
出願(EP−A)第11051号に記載されている。そ
れらの誘導体は、ヒドロキシベンジルマロン酸の
ポリアルキルピペリジンエステルに関する。 これらの研究をさらに進めた結果、フエノール
アルカンカルボン酸及び4−アミノポリアルキル
ピペリジンから導かれるアミドも、カラー写真に
対し顕著な光安定化作用を有し、さらには、暗所
においても、記録材料の保存中の変質に対して色
素を安定化させる。 従つて、本発明の目的は、少なくとも一の感光
性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、画像受容層及
び/又は保護層中に、安定剤として少なくとも一
の式で示されるポリアルキルピペリジン化合物
を含有するカラー写真記録材料を提供することで
ある。 上記式中において、 R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はヒド
ロキシル基、C1〜C12のアルキル基、C3〜C6のア
ルケニル基、C3〜C4のアルキニル基、C7〜C12の
アラルキル基、グリシジル基、又はハロゲン原
子、シアノ基、−COOR7もしくは−CON(R8)
(R9)で置換されたC1〜C4のアルキル基、基−
CO−R10、基−CO−OR7、基−CO−N(R8)
(R9)、基−CH2−CH(R11)−OR12基−SO−R13、
基−SO2−R13、基−OR7又は基−OOC−R10を表
し、R3は水素原子又はメチル基を表し、R4はC1
〜C8のアルキル基、C5〜C8のシクロアルキル基、
C7〜C9のフエニルアルキル基、フエニル基又は
C7〜C10のアルキルフエニル基を表し、R5は水素
原子、C1〜C8のアルキル基、C5〜C8のシクロア
ルキル基、C7〜C9のフエニルアルキル基、フエ
ニル基又は、C7〜C10のアルキルフエニル基を表
し、R6は水素原子、C1〜C18のアルキル基、C3〜
C6のアルケニル基、C3〜C12のシクロアルキル
基、C7〜C12のアラルキル基、C7〜C10のアルキル
フエニル基、又は−OR8、−N(R9)2もしくは次式
の基: で置換されたC2〜C4のアルキル基、又は次式の
基: を表し、 R7はC1〜C12のアルキル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基又はベンジル基を表し、R8はC1〜C12
のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基又はフエニル基を表し、R9は水素原子、
C1〜C12のアルキル基、アリル基、シクロヘキシ
ル基又はベンジル基を表し、R8及びR9は、それ
らが結合しているN−原子と共に5もしくは6員
ヘテロ環基を形成し、 R10は水素原子、C1〜C12のアルキル基、C2〜
C6のアルケニル基、クロロメチル基、C5〜C8の
シクロアルキル基、C7〜C12のアラルキル基、フ
エニル基、C7〜C10のアルキルフエニル基、又は
一もしくは二のC1〜C4のアルキル基及び一のヒ
ドロキシル基で置換されたフエニル基、フエニル
メチル基もしくはフエニルエチルを表し、R11は
水素原子、C1〜C4のアルキル基、C2〜C13のアル
コキシメチル基、フエニル基又はフエノキシメチ
ル基を表し、R12は水素原子、C1〜C12のアルキ
ル基、基−CO−R10又は基−CO−N(R8)(R9)
を表し、R13はC1〜C12のアルキル基、フエニル
基又はC7〜C18のアルキルアリール基を表し、A
は水素原子、C1〜C18のアルキル基、又は−
OR14、−SR15、−CN、−CO−X−R16、−O−CO
−R17もしくは−P(O)(OR18)2のうちの少なく
とも一で置換されたC1〜C10のアルキル基、又は
−O−、−S−、−SO−もしくは−SO2−が介在
した C2〜C20のアルキル基、C3〜C18のアルケニル
基、C3〜C6のアルキニル基、C3〜C12のシクロア
ルキル基、又は C6〜C10のアルキルシクロアルキル基、C6〜C10
のシクロアルキルアルキル基、C7〜C12のアラル
キル基、C8〜C16アルキルアラルキル基、フエニ
ル基、基−CN、基−CO−R20、基−SO2−R21、
基−P(O)(OR18)2又は次式の基:
【式】
【式】
のいずれか一を表し、
更に、上記式中、Xは−O−又は−N(R19)−
を表し、R14はフエニル基、ベンジル基又はシク
ロヘキシル基を表し、R15はフエニル基又はC7〜
C9のフエニルアルキル基を表し、R16はC1〜C18
のアルキル基又はC5〜C8のシクロアルキル基を
表し、R17はC1〜C18のアルキル基、C5〜C8のシ
クロアルキル基、フエニル基、C7〜C9のフエニ
ルアルキル基又は次式の基: を表し、 R18はC1〜C8のアルキル基、アリル基又はフエ
ニル基を表し、R19は水素原子、C1〜C18のアル
キル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、フエニル基を表すか、あるいはR16及びN−
原子と共に5もしくは6員ヘテロ環基を形成し、
R20は水素原子、C1〜C18のアルキル基、C2〜C6
のアルケニル基、C5〜C8のシクロアルキル基、
フエニル基、C7〜C10のアルキルフエニル基又は
C7〜C9のフエニルアルキル基を表し、R21はC1〜
C18のアルキル基、シクロヘキシル基、フエニル
基、ナフチル基、C7〜C18のアルキルアリール基、
C7〜C9のフエニルアルキル基又は次式の基: を表し、 mは0、1又は2であり、nは0、1、2又は
3である。式において、置換基R4、R5及びR18
はC1〜C8のアルキル基であつてもよく、また、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、tert−ブチル基、イソアミル、n
−ヘキシル基、2−エチルブチル基、n−オクチ
ル基又は1,1,3,3−テトラメチルブチル基
等の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基であつてもよ
い。C1〜C12のアルキル基としてのR2、R7、R8、
R9、R10、R12及びR13は、更に例えば、ノニル
基、デシル基又はドデシル基であつてもよい。
C1〜C18のアルキル基としてのR6、R16、R17、
R19、R20、R21及びAは、更に例えば、テトラデ
シル基、ヘキサデシル基又はオクタデシル基であ
つてもよい。 C3〜C6のアルケニル基としてのR2及びR6は、
例えば、アリル基、メタリル基(2−メチルアリ
ル基)、3,3−ジメチルアリル基又は2−ブテ
ニル基であつてもよい。C2〜C6のアルケニル基
としてのR10及びR20は、ビニル基又はイソプロ
ペニル基であつてもよい。C3〜C18のアルケニル
基としてのAはR2と同義であつてもよいし、更
に例えば、2−オクテニル基、11−ウンデセニル
基又はオレイル基(オレオイル基)であつてもよ
い。 C3〜C4のアルキニル基としてのR2は、例えば
2−プロピニル基又は2−ブチニル基であつても
よい。C3〜C8のアルキニル基としてのAは、更
に例えば2−ヘキシニル基又は2−オクチニル基
であつてもよい。 C5〜C8のシクロアルキル基としてのR4、R5、
R10、R16、R17及びR20は、例えば、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基又はシクロオクチル基
であつてもよい。C3〜C12のシクロアルキル基と
してのR6及びAは、更にシクロプロピル基、シ
クロプロピル基、シクロデシル基又はシクロドデ
シル基であつてもよい。 C6〜C10のアルキルシクロアルキル基としての
Aは、例えば、メチルシクロペンチル基、モノ−
もしくはジメチルシクロヘキシル基又はモノ−も
しくはジメチルシクロオクチル基であつてもよ
い。C6〜C10のシクロアルキルアルキル基として
のAは、例えば、シクロペンチルメチル基、シク
ロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基又
はシクロオクチルメチル基であつてもよい。 C7〜C9のフエニルアルキル基としてのR4、R5、
R15、R17、R20及びR21は、例えば、ベンジル基、
2−フエニルエチル基、3−フエニルプロピル基
又はα,α−ジメチルベンジル基であつてもよ
い。C7〜C12のアラルキル基としてのR2、R6、
R10及びAは、更に例えば、フエニルブチル基又
はナフチルメチル基であつてもよい。アルキルア
ラルキル基としてのAは、例えば、4−メチルベ
ンジ基、3−tert−ブチルベンジル基、4−メチ
ルナフチル−1−メチルプロピル基又は2−(4
−イソプロピルフエニル)プロピル基であつても
よい。 C7〜C10のアルキルフエニル基としてのR4、
R5、R6、R10及びR20は、例えば、4−メチルフ
エニル基、4−tert−ブチルフエニル基、3−イ
ソプロピルフエニル基又な3,5−ジメチルフエ
ニル基であつてもよい。C7〜C18のアルキルアリ
ール基としてのR13及びR21は、更に例えば、4
−オクチルフエニル基、4−ドデシルフエニル基
又は4−メチル−1−ナフチル基であつてもよ
い。 R3及びR9並びにR19及びR16は、それぞれ、そ
れらが結合しているN−原子と共に、例えばピロ
リジン、ピペリジン又はモルホリン環等のヘテロ
環を形成していてもよい。 置換基Aは、例えば、2−シアノエチル基、2
−エトキシカルボニルエチル基、N−ブチル−2
−カルバモイルエチル基、2−メトキシエチル
基、2−フエノキシプロピル基、3−フエニルチ
オプロピル基、2−ドデシルチオエチル基、2−
ブチルスルホニルエチル基、2−イソプロポキシ
プロピル基、2−アセトキシブチル基、2−ベン
ゾイルオキシエチル基又は2−(ジエチルホスホ
ノ)エチル等の置換もしくは遮断されたアルキル
基であつてもよい。 C2〜C13のアルコキシメチル基としてのR11は、
例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、2
−エチルブトキシメチル基、オクチルオキシメチ
ル基又はドデシルオキシメチル基であつてもよ
い。 式のフエノール基において、ヒドロキシル基
はCH2基のメタ又はパラ位に存在していてもよい
が、好ましくはパラ位である。CH2基がヒドロキ
シル基のパラ位にある場合は、R3はメタ位に存
在する。CH2基がメタ位にある場合は、R3はヒ
ドロキシル基のパラ位に存在する。 好ましい安定剤は、次式: で示される化合物である。 上記式中、 R2はヒドロキシル基、C1〜C4のアルキル基、
C3〜C4のアルケニル基、プロパルギル基、ベン
ジル基、グリシジル基、又はハロゲン原子、シア
ノ基、−COOR7もしくは−CON(R8)(R9)で置
換されたC1〜C4のアルキル基、基−CO−R10、
基−CO−OR7、基−CO−N(R8)(R9)、基−
CH2−CH(R11)−OR12、基−SO−R13、基−SO2
−R13、基−OR7又は基−OOC−R10を表し、R4
はC1〜C4のアルキル基を表し、R5は水素原子又
はC1〜C4のアルキル基を表し、R6は水素原子、
C1〜C12のアルキル基、C3〜C7のアルコキシアル
キル基、シクロヘキシル基又は次式の基: を表し、 R7はC1〜C8のアルキル基、ベンジル基又はシ
クロヘキシル基を表し、R8はC1〜C8のアルキル
基、シクロヘキシル基又はフエニル基を表し、
R9は水素原子又はC1〜C8のアルキル基を表わす
か、又は、R8及びR9はN−原子と共にピペリジ
ン又はモルホリン環を形成し、R10はC1〜C4のア
ルキル基、C2〜C3のアルケニル基、クロロメチ
ル基、フエニル基、ベンジル基又は次式の基: を表し、 R11は水素原子、メチル基又はフエニル基を表
し、R12は水素原子、C1〜C8のアルキル基、基−
CO−R10又は基−CO−N(R8)(R9)を表し、
R13はC1〜C4のアルキル基、フエニル基又はp−
トリル基を表し、Aは、水素原子、C1〜C8のア
ルキル基、シアノ基、アリル基又はベンジル基を
表す。 特に好ましい安定剤は;R2がヒドロキシル基、
メチル基、アリル基、ベンジル基、2−ヒドロキ
シエチル基、アセチル基、アクリルオキシ基、メ
トキシ基、アセトキシ基又は基−CO−N(R8)
(R9)を表し、R4がtert−ブチル基を表し、R5が
メチル基又はtert−ブチル基を表し、R6が水素原
子又はC1〜C8のアルキル基を表し、R8がC1〜C8
のアルキル基、フエニル基又はシクロヘキシル基
を表し、R9が水素原子又はC1〜C8のアルキル基
を表し、Aが水素原子、C1〜C8のアルキル基又
はベンジル基を表す;式の化合物である。 本明細書に記載した式の化合物の一部は、西
独国特許公開第26 47 452号から公知となつてお
り、この公報ではこれらの化合物がプラスチツク
用の光安定剤として記載されている。また、そこ
には、そのように化合物を製造するための各種の
方法が記載されている。これらの化合物が新規で
ある限り、これらをここに記載された化合物と同
様にして製造することができる。 本化合物の合成は、好ましくは式のN,
N′−ビス(ポリアルキル4−ピペリジル)マロ
ン酸ジアミドを1モルのアルカリ性試薬及び1モ
ルのハロゲン化物A−Halと反応せしめることか
ら開始され、式の化合物が得られる。 フエノール基は、相当するヒドロキシベンジル
チオカーバメート、ヒドロキシベンジルアミン又
はヒドロキシベンジルアルコキシドと反応せし
めることにより、アミドに導入してもよい。 T=−S−CS−NR2、−NR2又は−OR R=C1〜C4のアルキル基 あるいは、式の化合物を1モルのと反応さ
せてもよく、この場合には、基Aは二工程目に導
入することができる。 反応工程の順序は、任意に変更し得る。例え
ば、マロン酸ジアルキルエステルをA−Halと反
応させて中間体A−CH(COOR)2を得、次いで、
最初に式の化合物と反応させ、しかる後に、次
式, の4−アミノピペリジン化合物と反応させるか、
あるいは、その逆の順序で反応させることができ
る。 式の4−アミノピペリジンは西独国特許公開
第20 40 975号及び第23 49 962号で公開されてお
り、4−オキソピペリジンの還元的アミノ化によ
り製造される。 基R2は、の合成がなされてからできるかぎ
り早い段階で、あるいはいずれか一つの置換基合
成工程の後に導入してもよい。 R2は、例えば、相当するハロゲノ化合物Hal−
R2と反応させる等のN−置換第二アミン類の慣
用法によつて導入することができる。 R2が基−CH2−CH(R11)−OR12である場合に
は、オキシラン、
を表し、R14はフエニル基、ベンジル基又はシク
ロヘキシル基を表し、R15はフエニル基又はC7〜
C9のフエニルアルキル基を表し、R16はC1〜C18
のアルキル基又はC5〜C8のシクロアルキル基を
表し、R17はC1〜C18のアルキル基、C5〜C8のシ
クロアルキル基、フエニル基、C7〜C9のフエニ
ルアルキル基又は次式の基: を表し、 R18はC1〜C8のアルキル基、アリル基又はフエ
ニル基を表し、R19は水素原子、C1〜C18のアル
キル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、フエニル基を表すか、あるいはR16及びN−
原子と共に5もしくは6員ヘテロ環基を形成し、
R20は水素原子、C1〜C18のアルキル基、C2〜C6
のアルケニル基、C5〜C8のシクロアルキル基、
フエニル基、C7〜C10のアルキルフエニル基又は
C7〜C9のフエニルアルキル基を表し、R21はC1〜
C18のアルキル基、シクロヘキシル基、フエニル
基、ナフチル基、C7〜C18のアルキルアリール基、
C7〜C9のフエニルアルキル基又は次式の基: を表し、 mは0、1又は2であり、nは0、1、2又は
3である。式において、置換基R4、R5及びR18
はC1〜C8のアルキル基であつてもよく、また、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、tert−ブチル基、イソアミル、n
−ヘキシル基、2−エチルブチル基、n−オクチ
ル基又は1,1,3,3−テトラメチルブチル基
等の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基であつてもよ
い。C1〜C12のアルキル基としてのR2、R7、R8、
R9、R10、R12及びR13は、更に例えば、ノニル
基、デシル基又はドデシル基であつてもよい。
C1〜C18のアルキル基としてのR6、R16、R17、
R19、R20、R21及びAは、更に例えば、テトラデ
シル基、ヘキサデシル基又はオクタデシル基であ
つてもよい。 C3〜C6のアルケニル基としてのR2及びR6は、
例えば、アリル基、メタリル基(2−メチルアリ
ル基)、3,3−ジメチルアリル基又は2−ブテ
ニル基であつてもよい。C2〜C6のアルケニル基
としてのR10及びR20は、ビニル基又はイソプロ
ペニル基であつてもよい。C3〜C18のアルケニル
基としてのAはR2と同義であつてもよいし、更
に例えば、2−オクテニル基、11−ウンデセニル
基又はオレイル基(オレオイル基)であつてもよ
い。 C3〜C4のアルキニル基としてのR2は、例えば
2−プロピニル基又は2−ブチニル基であつても
よい。C3〜C8のアルキニル基としてのAは、更
に例えば2−ヘキシニル基又は2−オクチニル基
であつてもよい。 C5〜C8のシクロアルキル基としてのR4、R5、
R10、R16、R17及びR20は、例えば、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基又はシクロオクチル基
であつてもよい。C3〜C12のシクロアルキル基と
してのR6及びAは、更にシクロプロピル基、シ
クロプロピル基、シクロデシル基又はシクロドデ
シル基であつてもよい。 C6〜C10のアルキルシクロアルキル基としての
Aは、例えば、メチルシクロペンチル基、モノ−
もしくはジメチルシクロヘキシル基又はモノ−も
しくはジメチルシクロオクチル基であつてもよ
い。C6〜C10のシクロアルキルアルキル基として
のAは、例えば、シクロペンチルメチル基、シク
ロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基又
はシクロオクチルメチル基であつてもよい。 C7〜C9のフエニルアルキル基としてのR4、R5、
R15、R17、R20及びR21は、例えば、ベンジル基、
2−フエニルエチル基、3−フエニルプロピル基
又はα,α−ジメチルベンジル基であつてもよ
い。C7〜C12のアラルキル基としてのR2、R6、
R10及びAは、更に例えば、フエニルブチル基又
はナフチルメチル基であつてもよい。アルキルア
ラルキル基としてのAは、例えば、4−メチルベ
ンジ基、3−tert−ブチルベンジル基、4−メチ
ルナフチル−1−メチルプロピル基又は2−(4
−イソプロピルフエニル)プロピル基であつても
よい。 C7〜C10のアルキルフエニル基としてのR4、
R5、R6、R10及びR20は、例えば、4−メチルフ
エニル基、4−tert−ブチルフエニル基、3−イ
ソプロピルフエニル基又な3,5−ジメチルフエ
ニル基であつてもよい。C7〜C18のアルキルアリ
ール基としてのR13及びR21は、更に例えば、4
−オクチルフエニル基、4−ドデシルフエニル基
又は4−メチル−1−ナフチル基であつてもよ
い。 R3及びR9並びにR19及びR16は、それぞれ、そ
れらが結合しているN−原子と共に、例えばピロ
リジン、ピペリジン又はモルホリン環等のヘテロ
環を形成していてもよい。 置換基Aは、例えば、2−シアノエチル基、2
−エトキシカルボニルエチル基、N−ブチル−2
−カルバモイルエチル基、2−メトキシエチル
基、2−フエノキシプロピル基、3−フエニルチ
オプロピル基、2−ドデシルチオエチル基、2−
ブチルスルホニルエチル基、2−イソプロポキシ
プロピル基、2−アセトキシブチル基、2−ベン
ゾイルオキシエチル基又は2−(ジエチルホスホ
ノ)エチル等の置換もしくは遮断されたアルキル
基であつてもよい。 C2〜C13のアルコキシメチル基としてのR11は、
例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、2
−エチルブトキシメチル基、オクチルオキシメチ
ル基又はドデシルオキシメチル基であつてもよ
い。 式のフエノール基において、ヒドロキシル基
はCH2基のメタ又はパラ位に存在していてもよい
が、好ましくはパラ位である。CH2基がヒドロキ
シル基のパラ位にある場合は、R3はメタ位に存
在する。CH2基がメタ位にある場合は、R3はヒ
ドロキシル基のパラ位に存在する。 好ましい安定剤は、次式: で示される化合物である。 上記式中、 R2はヒドロキシル基、C1〜C4のアルキル基、
C3〜C4のアルケニル基、プロパルギル基、ベン
ジル基、グリシジル基、又はハロゲン原子、シア
ノ基、−COOR7もしくは−CON(R8)(R9)で置
換されたC1〜C4のアルキル基、基−CO−R10、
基−CO−OR7、基−CO−N(R8)(R9)、基−
CH2−CH(R11)−OR12、基−SO−R13、基−SO2
−R13、基−OR7又は基−OOC−R10を表し、R4
はC1〜C4のアルキル基を表し、R5は水素原子又
はC1〜C4のアルキル基を表し、R6は水素原子、
C1〜C12のアルキル基、C3〜C7のアルコキシアル
キル基、シクロヘキシル基又は次式の基: を表し、 R7はC1〜C8のアルキル基、ベンジル基又はシ
クロヘキシル基を表し、R8はC1〜C8のアルキル
基、シクロヘキシル基又はフエニル基を表し、
R9は水素原子又はC1〜C8のアルキル基を表わす
か、又は、R8及びR9はN−原子と共にピペリジ
ン又はモルホリン環を形成し、R10はC1〜C4のア
ルキル基、C2〜C3のアルケニル基、クロロメチ
ル基、フエニル基、ベンジル基又は次式の基: を表し、 R11は水素原子、メチル基又はフエニル基を表
し、R12は水素原子、C1〜C8のアルキル基、基−
CO−R10又は基−CO−N(R8)(R9)を表し、
R13はC1〜C4のアルキル基、フエニル基又はp−
トリル基を表し、Aは、水素原子、C1〜C8のア
ルキル基、シアノ基、アリル基又はベンジル基を
表す。 特に好ましい安定剤は;R2がヒドロキシル基、
メチル基、アリル基、ベンジル基、2−ヒドロキ
シエチル基、アセチル基、アクリルオキシ基、メ
トキシ基、アセトキシ基又は基−CO−N(R8)
(R9)を表し、R4がtert−ブチル基を表し、R5が
メチル基又はtert−ブチル基を表し、R6が水素原
子又はC1〜C8のアルキル基を表し、R8がC1〜C8
のアルキル基、フエニル基又はシクロヘキシル基
を表し、R9が水素原子又はC1〜C8のアルキル基
を表し、Aが水素原子、C1〜C8のアルキル基又
はベンジル基を表す;式の化合物である。 本明細書に記載した式の化合物の一部は、西
独国特許公開第26 47 452号から公知となつてお
り、この公報ではこれらの化合物がプラスチツク
用の光安定剤として記載されている。また、そこ
には、そのように化合物を製造するための各種の
方法が記載されている。これらの化合物が新規で
ある限り、これらをここに記載された化合物と同
様にして製造することができる。 本化合物の合成は、好ましくは式のN,
N′−ビス(ポリアルキル4−ピペリジル)マロ
ン酸ジアミドを1モルのアルカリ性試薬及び1モ
ルのハロゲン化物A−Halと反応せしめることか
ら開始され、式の化合物が得られる。 フエノール基は、相当するヒドロキシベンジル
チオカーバメート、ヒドロキシベンジルアミン又
はヒドロキシベンジルアルコキシドと反応せし
めることにより、アミドに導入してもよい。 T=−S−CS−NR2、−NR2又は−OR R=C1〜C4のアルキル基 あるいは、式の化合物を1モルのと反応さ
せてもよく、この場合には、基Aは二工程目に導
入することができる。 反応工程の順序は、任意に変更し得る。例え
ば、マロン酸ジアルキルエステルをA−Halと反
応させて中間体A−CH(COOR)2を得、次いで、
最初に式の化合物と反応させ、しかる後に、次
式, の4−アミノピペリジン化合物と反応させるか、
あるいは、その逆の順序で反応させることができ
る。 式の4−アミノピペリジンは西独国特許公開
第20 40 975号及び第23 49 962号で公開されてお
り、4−オキソピペリジンの還元的アミノ化によ
り製造される。 基R2は、の合成がなされてからできるかぎ
り早い段階で、あるいはいずれか一つの置換基合
成工程の後に導入してもよい。 R2は、例えば、相当するハロゲノ化合物Hal−
R2と反応させる等のN−置換第二アミン類の慣
用法によつて導入することができる。 R2が基−CH2−CH(R11)−OR12である場合に
は、オキシラン、
【式】と反応さ
せ、望むならば、続いてヒドロキシル基をアルキ
ル化又はアシル化することにより該基を導入する
ことができる。ヒドロキシル基であるR2は、相
当するN−オキシル類を還元することにより導入
してもよい。N−ヒドロキシル化合物をエーテル
化又はエステル化すると、R2が−OR7基又は−
OOC−R10基である化合物が得られる。 本発明において、カラー写真記録材料用の光安
定剤として使用される式の型の個々の化合物の
具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
ル化又はアシル化することにより該基を導入する
ことができる。ヒドロキシル基であるR2は、相
当するN−オキシル類を還元することにより導入
してもよい。N−ヒドロキシル化合物をエーテル
化又はエステル化すると、R2が−OR7基又は−
OOC−R10基である化合物が得られる。 本発明において、カラー写真記録材料用の光安
定剤として使用される式の型の個々の化合物の
具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式の化合物は、水難溶性であるため、好まし
くは分散液又は乳化液の形で写真層に加えられ
る。安定剤は、一般に、着色カプラーと一緒に写
真材料中に添加される。このため、式の化合物
を、着色カプラー及び場合により別の光安定剤と
一緒に、酢酸メチル、酢酸エチル、四塩化炭素、
クロロホルム、メタノール、エタノール、n−ブ
タノール、ジオキサン、アセトン又はベンゼン等
と低沸点有機溶媒;トリクレシルホスフエート、
N,N−ジエチルラウラミド、ジ−n−ブチルフ
タレート又はエチル=N−ジフエニルカーバメー
ト等の高沸点有機溶媒;又は前記低沸点及び高沸
点有機溶媒の混合溶媒に溶解させ、得られた溶液
を保護コロイド溶液:特にゼラチン水溶液等に加
え、その溶液をコロイドミル、米モジナイザー又
は超音波を用いて分散させる。 このようにして得られた分散液を、カラー写真
記録材料における層を製造するために使用する。
これらの層は、例えば中間層又は保護層、特に感
光性(青−、緑−及び赤感光性)ハロゲン化銀乳
剤層であつてもよく、該層において露光された記
録材料を現像した場合には、相当する着色カプラ
ーから青緑色(シアン色)、紫色(マゼンタ色)
及び黄色色素が形成される。 場合により、光安定剤を、発色現像後に使用さ
れる定着浴及び/又は洗浄浴等の処理浴に加える
こともできるが、その際、式の化合物はアルコ
ール(メタノール/エタノール)、アルカリ水溶
液及び/又は水にある程度溶解することが必要で
ある。拡散転写法を適用する場合には、安定剤は
該物質の受容層中に添加されてもよい。 ハロゲン化銀層は、前記の色素を形成してカラ
ー画像を形成するために使用する任意の着色カプ
ラー、特に青緑色、紫色及び黄色カプラーを含む
ことができる。 本発明の写真記録材料において、式の安定剤
を着色カプラーと、更には、紫外線吸収剤又は、
他の光安定剤と共に同じ層中に混合してもよい。 ハロゲン化銀乳剤は、好ましくは、結合剤とし
てゼラチンを、場合により他の高分子の天然又は
合成化合物との混合物として含む。 ハロゲン化銀乳剤は、例えは、臭化銀、塩化銀
もしくはヨウ化銀乳剤、又はヨウ臭化銀もしくは
塩臭化化銀乳剤等のハロゲン化銀混合物を含む乳
剤であつてもよい。 乳剤は化学的に増感されていてもよく、更に常
用の有機安定剤、かぶり防止剤及びグリセロール
等の常用の可塑剤を含んでいてもよい。また、乳
剤をゼラチンに常用される硬化剤によつて硬化さ
せてもよい。更に、乳剤は常用の注型助剤を含ん
でいてもよい。乳剤は、写真記録材料に常用され
る支持体上に適用してもよい。 常用される現像浴を使用して、カラー写真記録
材料を現像することができる。一般に、これらの
浴は、p−フエニレンジアミン型の現像剤物質;
臭化カリウム等の現像遅延剤;亜硫酸ナトリウム
又はヒドロキシルアミン等の酸化防止剤;アルカ
リ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩等の塩基
を含む。また、現像浴は、常用されるかぶり防止
剤及び錯化剤を含んでいてもよい。 本発明で使用される光安定剤は、ある場合にお
いては、色素が直接乳剤中に添加されて画像が選
択的漂白によつて作られるカラー写真層を保護す
るためにも好適である。 光安定剤の量は広い範囲で変動可能であり、光
安定剤が添加される層1m2当り、おおよそ1〜
2000mg、好ましくは100〜800mg、特に200〜500mg
の範囲である。 写真材料が紫外線吸収剤を含む場合、この紫外
線吸収剤は光安定剤と共に、一つの層に存在する
か、あるいは隣接する層に存在していてもよい。
紫外線吸収剤と式の光安定剤との重量比は、約
(2〜10):1であり、モル比は約(5〜20):1
である。紫外線吸収剤としては、ベンゾフエノ
ン、アクリロニトリル、チアゾリドン、ベンゾト
リアゾール、オキサゾール、チアゾール及びイミ
ダゾールが例示される。 本発明の記録材料を露光・現像して得られるカ
ラー画像は、可視光線及び紫外線に対して極めて
良好な安定性を示す。式の化合物はほとんど無
色であつて、画像を変色させることはない。更
に、個々の層中に存在する常用の写真添加剤の良
好に共存できる。これらの化合物の優れた効果に
より、その使用量を減少させることが可能であ
り、このため、写真層の製造に使用される水性の
結合剤乳剤中に有機溶液の形で混入させた場合に
は、沈殿及び結晶析出を回避することができる。
写真記録材料を露光した後、カラー画像を作るた
めに必要とされる個々の処理工程は、光安定剤に
よつて悪影響を受けない。更に、青感光性乳剤の
場合にしばしば起る押圧かぶり現象を著しく抑制
することができる。押圧かぶりは、例えば、写真
材料(天然又は合成の物質からなる支持体上に存
在するハロゲン化銀乳剤層)に、ねじり、曲げ又
は摩擦等の機械的応力を、それらの製造の間又は
現像前の処理の間に加えた場合に起こる〔テー・
エツチ・ジエームス、ザ・セオリイ・オブ・フオ
トグラフイツク・プロセス、第4版、マクミラ
ン、ニユーヨーク、エヌ・ワイ、1977年、23頁以
下166頁以下(T・H・James、The Theory of
Photographic Process、4th Editioh、
Macmillan、NeuYork、N.Y.、1977)〕。 本発明を以下の実施例に基づき詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例 次式: の黄色カプラー0.087g及び下記の表に記載した
光安定剤0.026gを、トリクレシルホスフエー
ト/酢酸エチル混合物(100ml中1.5g)2.0mlに
溶解した。この溶液に6%ゼラチン溶液7.0ml、
次式: の湿潤剤の8%イソプロパノール/水(3:4)
溶液0.5ml及び水0.5mlを加え、100Wの電力で超
音波を用い5分間乳化した。 得られた乳剤2.5mlに、銀含有量が6.0g/の
臭化銀乳剤2.0ml、次式: の硬化剤の1%水溶液0.7ml及び水3.8mlを加え、
混合物をPH6.5に調整し、これを、ガラス板上に
貼付され、下引き(下塗り)され、プラスチツク
で被覆された白色紙上に注いだ。 注型材料が固化した後、乾燥棚中で室温下通風
して乾燥した。 7日後、35×180mmに切断した試料を階段光学
くさび下に3000ルツクスで露光し、引続き、コダ
ツク社のエクタプリント2−プロセス(商標名、
Ektaprint 2−Process)で処理した。 得られた黄色くさびを、アノラスウエザオメー
ターで2500W−キセノンランプを用いて合計
42KJoule/cm2で照射した(対照試料は光安定剤
を含まない)。 初期濃度1.0の色濃度減少率を表に示した。
くは分散液又は乳化液の形で写真層に加えられ
る。安定剤は、一般に、着色カプラーと一緒に写
真材料中に添加される。このため、式の化合物
を、着色カプラー及び場合により別の光安定剤と
一緒に、酢酸メチル、酢酸エチル、四塩化炭素、
クロロホルム、メタノール、エタノール、n−ブ
タノール、ジオキサン、アセトン又はベンゼン等
と低沸点有機溶媒;トリクレシルホスフエート、
N,N−ジエチルラウラミド、ジ−n−ブチルフ
タレート又はエチル=N−ジフエニルカーバメー
ト等の高沸点有機溶媒;又は前記低沸点及び高沸
点有機溶媒の混合溶媒に溶解させ、得られた溶液
を保護コロイド溶液:特にゼラチン水溶液等に加
え、その溶液をコロイドミル、米モジナイザー又
は超音波を用いて分散させる。 このようにして得られた分散液を、カラー写真
記録材料における層を製造するために使用する。
これらの層は、例えば中間層又は保護層、特に感
光性(青−、緑−及び赤感光性)ハロゲン化銀乳
剤層であつてもよく、該層において露光された記
録材料を現像した場合には、相当する着色カプラ
ーから青緑色(シアン色)、紫色(マゼンタ色)
及び黄色色素が形成される。 場合により、光安定剤を、発色現像後に使用さ
れる定着浴及び/又は洗浄浴等の処理浴に加える
こともできるが、その際、式の化合物はアルコ
ール(メタノール/エタノール)、アルカリ水溶
液及び/又は水にある程度溶解することが必要で
ある。拡散転写法を適用する場合には、安定剤は
該物質の受容層中に添加されてもよい。 ハロゲン化銀層は、前記の色素を形成してカラ
ー画像を形成するために使用する任意の着色カプ
ラー、特に青緑色、紫色及び黄色カプラーを含む
ことができる。 本発明の写真記録材料において、式の安定剤
を着色カプラーと、更には、紫外線吸収剤又は、
他の光安定剤と共に同じ層中に混合してもよい。 ハロゲン化銀乳剤は、好ましくは、結合剤とし
てゼラチンを、場合により他の高分子の天然又は
合成化合物との混合物として含む。 ハロゲン化銀乳剤は、例えは、臭化銀、塩化銀
もしくはヨウ化銀乳剤、又はヨウ臭化銀もしくは
塩臭化化銀乳剤等のハロゲン化銀混合物を含む乳
剤であつてもよい。 乳剤は化学的に増感されていてもよく、更に常
用の有機安定剤、かぶり防止剤及びグリセロール
等の常用の可塑剤を含んでいてもよい。また、乳
剤をゼラチンに常用される硬化剤によつて硬化さ
せてもよい。更に、乳剤は常用の注型助剤を含ん
でいてもよい。乳剤は、写真記録材料に常用され
る支持体上に適用してもよい。 常用される現像浴を使用して、カラー写真記録
材料を現像することができる。一般に、これらの
浴は、p−フエニレンジアミン型の現像剤物質;
臭化カリウム等の現像遅延剤;亜硫酸ナトリウム
又はヒドロキシルアミン等の酸化防止剤;アルカ
リ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩等の塩基
を含む。また、現像浴は、常用されるかぶり防止
剤及び錯化剤を含んでいてもよい。 本発明で使用される光安定剤は、ある場合にお
いては、色素が直接乳剤中に添加されて画像が選
択的漂白によつて作られるカラー写真層を保護す
るためにも好適である。 光安定剤の量は広い範囲で変動可能であり、光
安定剤が添加される層1m2当り、おおよそ1〜
2000mg、好ましくは100〜800mg、特に200〜500mg
の範囲である。 写真材料が紫外線吸収剤を含む場合、この紫外
線吸収剤は光安定剤と共に、一つの層に存在する
か、あるいは隣接する層に存在していてもよい。
紫外線吸収剤と式の光安定剤との重量比は、約
(2〜10):1であり、モル比は約(5〜20):1
である。紫外線吸収剤としては、ベンゾフエノ
ン、アクリロニトリル、チアゾリドン、ベンゾト
リアゾール、オキサゾール、チアゾール及びイミ
ダゾールが例示される。 本発明の記録材料を露光・現像して得られるカ
ラー画像は、可視光線及び紫外線に対して極めて
良好な安定性を示す。式の化合物はほとんど無
色であつて、画像を変色させることはない。更
に、個々の層中に存在する常用の写真添加剤の良
好に共存できる。これらの化合物の優れた効果に
より、その使用量を減少させることが可能であ
り、このため、写真層の製造に使用される水性の
結合剤乳剤中に有機溶液の形で混入させた場合に
は、沈殿及び結晶析出を回避することができる。
写真記録材料を露光した後、カラー画像を作るた
めに必要とされる個々の処理工程は、光安定剤に
よつて悪影響を受けない。更に、青感光性乳剤の
場合にしばしば起る押圧かぶり現象を著しく抑制
することができる。押圧かぶりは、例えば、写真
材料(天然又は合成の物質からなる支持体上に存
在するハロゲン化銀乳剤層)に、ねじり、曲げ又
は摩擦等の機械的応力を、それらの製造の間又は
現像前の処理の間に加えた場合に起こる〔テー・
エツチ・ジエームス、ザ・セオリイ・オブ・フオ
トグラフイツク・プロセス、第4版、マクミラ
ン、ニユーヨーク、エヌ・ワイ、1977年、23頁以
下166頁以下(T・H・James、The Theory of
Photographic Process、4th Editioh、
Macmillan、NeuYork、N.Y.、1977)〕。 本発明を以下の実施例に基づき詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例 次式: の黄色カプラー0.087g及び下記の表に記載した
光安定剤0.026gを、トリクレシルホスフエー
ト/酢酸エチル混合物(100ml中1.5g)2.0mlに
溶解した。この溶液に6%ゼラチン溶液7.0ml、
次式: の湿潤剤の8%イソプロパノール/水(3:4)
溶液0.5ml及び水0.5mlを加え、100Wの電力で超
音波を用い5分間乳化した。 得られた乳剤2.5mlに、銀含有量が6.0g/の
臭化銀乳剤2.0ml、次式: の硬化剤の1%水溶液0.7ml及び水3.8mlを加え、
混合物をPH6.5に調整し、これを、ガラス板上に
貼付され、下引き(下塗り)され、プラスチツク
で被覆された白色紙上に注いだ。 注型材料が固化した後、乾燥棚中で室温下通風
して乾燥した。 7日後、35×180mmに切断した試料を階段光学
くさび下に3000ルツクスで露光し、引続き、コダ
ツク社のエクタプリント2−プロセス(商標名、
Ektaprint 2−Process)で処理した。 得られた黄色くさびを、アノラスウエザオメー
ターで2500W−キセノンランプを用いて合計
42KJoule/cm2で照射した(対照試料は光安定剤
を含まない)。 初期濃度1.0の色濃度減少率を表に示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも一の感光性ハロゲン化銀乳剤層、
中間層、画像受容層及び/又は保護層中に、安定
剤として少なくとも一の次式: [式中、 R1は水素原子又はメチル基を表し、 R2はヒドロキシル基、C1〜C12のアルキル基、
C3〜C6のアルケニル基、C3〜C4のアルキニル基、
C7〜C12のアラルキル基、グリシジル基、又はハ
ロゲン原子、シアノ基、−COOR7もしくは−
CON(R8)(R9)で置換されたC1〜C4のアルキル
基、基−CO−R10、基−COOR7、基−CON(R8)
(R9)、基−CH2−CH(R11)−OR12、基−SO−
R13、基−SO2−R13、基−OR7又は基−OOC−
R10を表し、 R3は水素原子又はメチル基を表し、 R4はC1〜C8のアルキル基、C5〜C8のシクロア
ルキル基、C7〜C9のフエニルアルキル基、フエ
ニル基又はC7−C10のアルキルフエニル基を表し、 R5は水素原子、C1〜C8のアルキル基、C5〜C8
のシクロアルキル基、C7〜C9のフエニルアルキ
ル基、フエニル基又はC7〜C10のアルキルフエニ
ル基を表し、 R6は水素原子、C1〜C18のアルキル基、C3〜C6
のアルケニル基、C3〜C13のシクロアルキル基、
C7〜C10のアルキルフエニル基、又は−OR8、−N
(R9)2もしくは次式の基、 で置換されたC2〜C4のアルキル基、又は次式の
基: を表し、 R7はC1〜C12のアルキル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基又はベンジル基を表し、 R8はC1〜C12のアルキル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基又はフエニル基を表し、 R9は水素原子、C1〜C12のアルキル基、アリル
基、シクロヘキシル基又はベンジル基を表し、 R8及びR9はそれらが結合しているN原子と共
に5もしくは6員ヘテロ環基を形成し、 R10は水素原子、C1〜C12のアルキル基、C2〜
C6のアルケニル基、クロロメチル基、C5〜C8の
シクロアルキル基、C7〜C12のアラルキル基、フ
エニル基、C7〜C10のアルキルフエニル基、又は
一もしくは二のC1〜C4のアルキル基及び一のヒ
ドロキシル基で置換されたフエニル基、フエニル
メチル基もしくはフエニルエチルを表し、 R11は水素原子、C1〜C4のアルキル基、C2〜
C13のアルコキシメチル基、フエニル基又はフエ
ノキシメチル基を表し、 R12は水素原子、C1〜C12のアルキル基、基−
CO−R10又は基−CON(R8)(R9)を表し、 R13はC1〜C12のアルキル基、フエニル基又は
C7〜C18のアルキルアリール基を表し、 Aは水素原子、C1〜C18のアルキル基、又は−
OR14、−SR15、−CN、−CO−X−R16、−O−CO
−R17もしくは−P(O)(OR18)2のうちの少なく
とも一で置換されたC1〜C10のアルキル基、又は
−O−、−S−、−SO−もしくは−SO2−が介在
したC2〜C20のアルキル基、C3〜C18のアルケニル
基、C3〜C8のアルキニル基、C3〜C12のシクロア
ルキル基、C6〜C10のアルキルシクロアルキル基、
C6〜C10のシクロアルキルアルキル基、C7〜C12の
アラルキル基、C8〜C16のアルキルアラルキル基、
フエニル基、基−CN、基−CO−R20、基−SO2
−R21、基−P(O)(OR18)2又は次式の基: 【式】 【式】 のいずれか一を表し、 更に、上記式中、 Xは−O−又は−N(R19)−を表し、 R14はフエニル基、ベンジル基又はシクロヘキ
シル基を表し、 R15はフエニル基又はC7〜C9のフエニルアルキ
ル基を表し、 R16はC1〜C18のアルキル基又はC5〜C8のシク
ロアルキル基を表し、 R17はC1〜C18のアルキル基、C5〜C8のシクロ
アルキル基、フエニル基、C7〜C9のフエニルア
ルキル基又は次式の基: を表し、 R18はC1〜C8のアルキル基、アリル基又はフエ
ニル基を表し、 R19は水素原子、C1〜C18のアルキル基、アリ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又はフエニ
ル基を表すか、あるいは、R16及びN原子と共に
5もしくは6員ヘテロ環基を形成し、 R20は水素原子、C1〜C18のアルキル基、C2〜
C6のアルケニル基、C5〜C8のシクロアルキル基、
フエニル基、C7〜C10のアルキルフエニル基又は
C7〜C9のフエニルアルキル基を表し、 R12はC1〜C18のアルキル基、シクロヘキシル
基、フエニル基、ナフチル基、C7〜C18のアルキ
ルアリール基、C7〜C9のフエニルアルキル基又
は次式の基: を表し、 mは0、1又は2であり、 nは0、1、2又は3である。] で示されるポリアルキル基ピペリジン化合物を含
有することを特徴とするカラー写真記録材料。 2 安定剤が、次式: [式中、 R2はヒドロキシル基、C1〜C4のアルキル基、
C3〜C4のアルケニル基、プロパルギル基、ベン
ジル基、グリシジル基、又はハロゲン原子、シア
ノ基、−COOR7もしくは−CON(R8)(R9)で置
換されたC1〜C4のアルキル基、基−CO−R10、
基−CO−OR7、基−CO−N(R8)(R9)、基−
CH2−CH(R11)−OR12、基−SO−R13、基−SO2
−R13、基−OR7又は基−OOC−R10を表し、 R4はC1〜C4のアルキル基を表し、 R5は水素原子、C1〜C4のアルキル基を表し、
R6は水素原子、C1〜C12のアルキル基、C3〜C7の
アルコキシアルキル基、シクロヘキシル基又は次
式の基: を表し、 R7はC1〜C8のアルキル基、ベンジル基又はシ
クロヘキシル基を表し、 R8はC1〜C8のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフエニル基を表し、 R9は水素原子又はC1〜C8のアルキル基を表す
か、又は、R8及びR9はN原子と共にピペリジン
又はモルホリン環を形成し、 R10はC1〜C4のアルキル基、C2〜C3のアルケニ
ル基、クロロメチル基、フエニル基、ベンジル基
又は次式の基: を表し、 R11は水素原子、メチル基又はフエニル基を表
し、 R12は水素原子、C1〜C8のアルキル基、基−
CO−R10又は基−CO−N(R8)(R9)を表し、 R13はC1〜C4のアルキル基、フエニル基又はp
−トリル基を表し、 Aは水素原子、C1〜C8のアルキル基、シアノ
基、アリル基又はベンジル基を表す。] で示される化合物である特許請求の範囲第1項記
載のカラー写真記録材料。 3 安定剤が: R2がヒドロキシル基、メチル基、アリル基、
ベンジル基、2−ヒドロキシエチル基、アセチル
基、アクリルオキシ基、メトキシ基、アセトキシ
基又は基−CO−N(R8)(R9)を表し、 R4がtert−ブチル基を表し、 R5がメチル基又はtert−ブチル基を表し、 R6が水素原子又はC1〜C8のアルキル基を表し、 R8がC1〜C8のアルキル基、フエニル基又はシ
クロヘキシル基を表し、 R9が水素原子又はC1〜C8のアルキル基を表し、 Aが水素原子、C1〜C8のアルキル基又はベン
ジル基を表す; 式の化合物である特許請求の範囲第2項記載の
カラー写真記録材料。 4 式で示される安定剤と共に、紫外線吸収剤
に属する光安定剤を含有する特許請求の範囲第1
項記載のカラー写真記録材料。 5 1m2当り、1〜2000mg、好ましくは100〜800
mgの式の化合物を含有する特許請求の範囲第1
項記載のカラー写真記録材料。
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