JPS5948904A - 記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は記録媒体に係り、記録媒体のイ１り？性膜の組
成としてＣ０１Ｎ　Ｉ、’　ｌ）　、及びＺ　Ｉ＋を用
い、かつこれらの組Ｄｉの含有率（重−ｉｔ：％）をＸ
　Ｃ０％　ＸＮＩ　、　Ｘ　１＋　、Ｘｚｎとすると３
≦Ｘｃｏ≦４２．５４≦ＸＮｉ≦８９．４≦Ｘ＋’≦８
．０１≦Ｘ　Ｚｎ≦３．２．７２Ｘ１・１−１２．８≦
ＸＮ＋≦７２Ｘ１・＋４３２の条件を／１ｉ７ｊだす組
成よりなる垂直イ１仔化膜を月〕いることによって、高
密度記録化生が可能となる記録媒体を提供することを目
的とする。

従」（、一般に用いられているオーディオ、ビデオ、コ
ンピュータ用のデータファイル等に用いられている磁気
テープ、磁気ンート、磁気ディスク、磁気カード等の磁
気記録媒体は、基板上に磁性層が形成されたものであり
、このような磁気記録媒体に磁気記録媒体面と平行な方
向の磁化を行なうことによって記録再生を行なっている
。しかし、このような水平方向の４１タク気記録では、
高密度記録化、すなわち短波長記録化に伴ない、磁気記
録媒体自体に心いて自己減磁作用が増大し、１■生出力
が著しく低下したものとなる。

そこで、短波長記録化に伴なって増大する自己減磁の問
題を解決する手段として、短波し記録になればなる程自
己／１１．磁作用が弱いものとなる垂直イ］りν化膜記
録媒体が有望視されるに至っている１、このような磁気
記録媒体の磁性膜が垂直磁化膜である条件は、膜面に垂
直方向に磁化容易ｌ＋ｆｌ＋を４．１ち、かつ（１？（
気モーメ／１・が膜面に垂直であること、すなわち（１
クク気異方性定数が正であるということである。この（
心気１買方性定数１ぐ（１は、Ｉｌｌ、：固イＪ′の垂
直異方性定数をＩ（Ｌ、反イ１す？場を２πＭ４　（Ｍ
８はｆ；（・シＩ［ｌ　ｆ１φ目Ｅ−）とすると、Ｋ【
、＝によ一２πＭζて表わされるものであるから、磁性
膜が垂直磁化膜であるということｒ）１、Ｋ　１１　＞
　ｒ）　’−、Ｊ−１ｈちＬ＞　２　ｙｒＭ’ｊ、　テ
ナケレ＆Ｉｆｘうず、しかも膜固有の垂直異方性定数が
反磁場よりも大きければ大きい程磁気記録媒体として望
寸しいものとなる。

このような垂直磁化膜は、例えば不純物を含まないコバ
ルト静体の薄膜の飽和磁化は約１４００ＣＩＴＩＬＩ／
ｃｃもあり、不純物を含まないコバルト単体の磁性膜の
磁気異方性定数は負の値のものであり、垂直磁化膜は実
現されておらず、その為コバルト系合金して各種の不純
物を混入することによって飽和磁化を小さなものとする
試みがなされている。そして、現在垂直磁化膜として提
案されているものは、例えばスパッタ法あるいは蒸着法
等による０ｏ−Ｃｒ合金、スパッタ法によるＯ　ｏ　−
ｌＲｕ合金、無電解メッキ法によるＯ　ｏ　−Ｎｉ　−
Ｍｎ−Ｐ合金等があり・斤れらの／＜　ｆｉｙ　ｌ−系
合金は”／＜／ｌ／トの六方最密構造のＣ軸を膜面と垂
直方向にそろえることにより、結晶異方性エネルギーに
よって垂直異方性エネルギーを・確保し、か）不純物・
／）作１１１に」、つ゛〔飽和磁化を減少さぜ、もって
１〈工〕・２重Ｍ９の条件夕ｊ−と成し−Ｃ平！／］磁
化膜と４、すもの−Ｃあるが、１り１１〉ン一ばＣｏ　
（７５’、；ｌｉ川φ）　用Ｎ　ｉ　（２０ｉ、Ｉ尤：
１に受）　−Ｐ　（３重量％）−Ｍｎ（２車量％）の磁
性膜は、磁気異方性定数が正の値のものであるといって
も、ゼロに近い値のものであり、垂直磁気記録方式に適
した磁気特性のものではなく、不満足なものである。

本発明は、磁性膜の形成速度が速く、かつ例えば基板の
両面に同時に安定して安価に、しかもｌ産性にも富むメ
ッキ法等の薄膜形成技術をもってしても行々えるもので
あって、３≦ＸＣｏ≦４２．５４≦ＸＮＩ≦８９．４≦
Ｘ１・≦８．０．１≦Ｘｚ、、≦３２．７．２　Ｘ、。

−１−１２，８≦ＸＮ、≦７．２Ｘドｌ−４３，２の条
件を満たす組成の０、−　Ｎｉ　−Ｐ　−Ｚ　、、合金
磁性膜を、例えば基板上に形成することにより、磁気異
方性定数が正の大きな値で＠直磁気記録方式に適したも
のとなる磁気記録媒体を開発したものである。

特に、本発明のコバルト系合金の垂直（ＩＩｌ？化＋＋
ｇ°ｒｔよ、Ｚｎが約３．２Ｎ量チ以下共析しているの
で、皮膜組成が安定化するのみでなく、析出した皮膜の
ａ　−Ｑ。

の六方最密構造のＣ軸が膜面と垂直方向に配向しやすく
なり、かつ飽和磁化が減少し、ＫＬ〉２重Ｍ２ｓの垂直
磁化膜の条件が達成されるものとなり、例えば電気メツ
キ法によって本発明の組成の垂直磁化膜をｔｆ７ｉ成す
る場合でも、メッキ浴温は比較的低７．１畠でも行なえ
るようになり、又、Ｃｏ含有率の少ない領１或にても垂
１σ磁化膜が１４）られるものとなり、しかもｌ１ｃｌ
は２５〜２３２０エルステッドといっり広い範囲にわた
るものが得られるものとなるので、コバルト系合金の組
成を調整することによって、垂直＋ｉｙｌ化記録媒体と
して望ましいｆ−Ｉ　ＣＬが２ｏｏ〜８００エルステツ
ドのものが得られる。

以下、本発明に係る記録媒体の具体的実施例について説
明する。

まず、約０２πｍ厚−の圧延銅板を、電解洗浄及び酸中
和処理等によって表面を清浄、活性化処理した後、例え
ば無電解メッキ法によってニッケルーリン非磁性嘆を約
０，２μｎ；厚形成する。

このメッキ処理された圧延銅板をヘースとして、少なく
ともニラクルとコバルトと亜鉛の塩（例えば塩化物）を
含み、かつリンの供給剤（例えば次亜リン酸塩）を含む
酸性溶液のメッキ液中に浸漬し、加温状態で電気メッキ
し、約１３μｍ厚のＣ。

−Ｎｉ　−ｌ’−Ｚｎ合金の磁性薄膜を形成する。

２．２重：１：、係、Ｐが６．７　’ｑ　！’ｉ：Ｈ％
であり、との１１外性１］ぐのＸ線回折ハターン、（Ｃ
ｏ２）面のロッキング曲線、ヒス７９７２曲線、トルク
曲線を求めると、それぞれ徳１図、第２図、第３図、第
４図に示す通りであった。これらによれば、°４−なわ
ちＸ線回折パターンによれば、（００２）而のみがピー
クとして現われており、ａ−ｃｏの六方ｌ■密（’ｆ’
？造のＣ軸は膜面に垂直方向に配向したものとなってち
・す、Ｃ軸の分散度合は、ロッキング曲線の半噴１１〕
Δθ９．。

が１０．８°と小さいことから、配向性の良いことを示
している。さらに、垂直磁化膜特有のヒス７９７２曲線
、すなわちＭｒ　（１）／Ｍｒ　（／／）　＞　１を示
しており、父、トルク曲線においても垂直磁化膜の牙１
徴伺、■■ｃ工が大きすぎる場合には磁気ヘッドの高周
波応答性が悪くなり、逆に［■ｏ、が小さす、ぎる場合
には記録情報が外部磁場によって棋なわれやすくなり、
このような点より１−１６．の最適範囲は約２０Ｑ〜８
（’１０エルステッドのものである為、この範囲内のＣ
６−Ｎ１Ｐ　’Ｉｎ合金（１り）性膜にｔｌその組成が
、５≦Ｘｏｏ≦２２．７３≦ＸＮ、≦８５．４≦Ｘ１・
≦８．０．１≦Ｘｚｎ≦３２５、Ｘ　Ｎ＋　＜　７．２
　Ｘ＋、ｊ　４３．２の条件を６１４だすものであるこ
とが一層望ましい。

上述の如く、本発明に係る記録媒体は、３≦ＸＣ。

≦４２葛　５４≦ＸＮ！≦８９．４≦ｘ、・≦８．０．
１≦ＸＺ１１≦：３２．７、２　Ｘｐ　−１−已、８≦
ＸＮ１≦７．２　Ｘ　ｐ　＋　４３．２（但し、Ｘｃ　
ｏ　、　Ｘ　Ｎ　Ｉ　。

Ｘ、・、ｘ、、はそれぞれＣ８、Ｎ１、Ｌ’　、　Ｚｌ
ｌの含イ４　、ｌ！：　ｉ、ｊ％の値）の条件を満たす
Ｏｏ、　Ｎｉ、Ｐ及びＺ。を含む垂面磁化膜で磁性膜を
構成してなるので、面内イ１り）気記録方式の記録密度
の限界を越える高密度記４イ；ができるようになり、し
かもこのような垂直イ訴化１１りは例えばメッキ法によ
って形成できるので低二゛ｒストで実施できる管種々の
メリットがあり、父、メッキ条件の変化によってもそれ
程特性に大きな差のないものができ、均一な安定した特
性の記録媒体を作りやすく、又、高価なコバルト量は比
較的少なくてすむので低コストなものである等の特長を
有する。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図及び第４図は、本発明に係る記
録媒体の１実施例のＸ線回折パターン、ロッキンク曲線
、反磁場補正のないヒステリジス曲線及びトルク曲線の
説明図である。 特許出願人　　日本ビクター株式会社 代　理　　人　　　宇　　高　　　克　　己オ　ｊ　固 ２ｅ（内、θψ ７２　口 ６（７？：αり 才３聞 ７４　臼

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ３≦Ｘ　Ｃ１１≦４２．５４≦ＸＮｉ≦８９．４≦ＸＩ
   ・≦８．０．１≦Ｘ　７．ｎ≦３２．７．２Ｘ＋−＋１
   ２．８≦ＸＮＩ≦７．２Ｘ＋−＋４３２（但し、Ｘ　ｃ
   ｏ　、　ＸＮ　ｉ、Ｘ　ｐ、Ｘ７．ｎはそれぞれＣ０１
   Ｎ”Ｐ％Ｚｎ　　の含有重量係の値）の条件を満たすＣ
   ０１Ｎｉ、ｌ）及びＺｎを含む垂直磁化膜で磁性膜を構
   成したことを特徴とする記録媒体。