JPS5929696A - 2−〔(n−ニトロソ)−2−ハロゲノエチルアミノ〕−1,3,2−オキサアザホスホリナン−2−オキシド誘導体 - Google Patents
2−〔(n−ニトロソ)−2−ハロゲノエチルアミノ〕−1,3,2−オキサアザホスホリナン−2−オキシド誘導体Info
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は新規な2− ((N−ニトロソ)−2−ハロゲ
ノエチルアミノ)−1,3,2−オキサアザホスボリナ
ン−2−オキシド誘導体に関する。 本発明の2−((N−ニトロソ)−2−ハロゲノエチル
アミノ)−1,3,2−オキサアザホス小リナンー2−
オキシド誘導体は、下記一般式1式% 〔式中Rはフェニル環上に置換基として低級アルキル基
、低級アル」キシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の
1〜3個を有することのあるフェニル基、フェニル環上
に低級アルコキシ基を1〜3個有することのあるフェニ
ル低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、フリル低級アルキル基又はチ
ェニル低級アルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す
。〕 上記一般式中R及びXで定義される各基の具体例を夫々
次に例示する。 フェニル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
コキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の1〜3個を
有することのあるフェニル基としては、フェニル、2−
.3−もしくは4−クロロフェニル、2−.3−もしく
は4−フルオーロフェニル、2’−、3−もしくは4−
ブロムフェニル、2−13−もしくは4−ヨードフェニ
ル、3,5−ジクロロフェニル、2.6−ジクロロフェ
ニル、3.4−ジクロロフェニル、3.4〜ジフルオロ
フエニル、3,5−ジブロムフェニル、2−、3−もし
くは4−メチルフェニル、2−.3−もしくは4−エチ
ルフェニル、3−イソプロごルフェニル、4−へキシル
フェニル、3,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチ
ルフェニル、2−、3−もしくは4−メトキシフェニル
、2−.3−もしくは4−エトキシフェニル、4−イソ
プロポキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、3
゜4−ラメ1ヘキシフエニル、3.4−ジェトキシフェ
ニル、2.5−ジェトキシフェニル、3−メチル−4−
クロロフJニル、2−クロロ−6−メチルフェニル、2
−メトキシ−3−クロロフェニル、3.4.5−1−リ
メトキシフェニル、3.4.5−トリメチルフェニル、
3.4.5−トリク「10フェニルMなどを例示できる
。 フェニル環上に低級アルコキシ基を1〜3個有すること
のあるフェニル低級アルキル基としては、ベンジル、2
−フェニルエチル、1−フェニルエチル、3−フェニル
プロピル、4−フェニルブチル、1,1−ジメチル−2
−フェニルエチル、5−フェニルペンチル、6−フェニ
ルヘキシル、2−メチル−3−フェニルプロピル、2−
もしくは3−メ1〜キシベンジル、2−(4−メトキシ
フェニル)エチル、2−■トキシベンジル、1−(3−
〕ニ1〜ギシフェニル)エチル、3−(4−エトキシフ
ェニル)プロピル、6− (4−イソプロポキシフェニ
ル)ヘキシル、4−(4−へキシルオキシノ−r−ニル
)ブチル、1.1−ジメチル−2−(3,4−ジメトキ
シフェニル)エチル、5−フェニルペンチル、5−(3
,4−ジェトキシフェニル)ベンプル、6− (3,4
,5−1〜リメトキシノニ[−ニル)ヘキシル、2−メ
チル−3−(2゜5−ツメ1〜キシフエニル)プロピル
基などを例示できる。 シクロ低級アル4−ル基としては、シクロプロピル、シ
フ[]ブブチルシクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロへブチル、シクロオクチル基などを例示できる。 低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンデル、
ヘキシル基などを例示できる。 5− 低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、2−ブテ
ニル、3−ブテニル、1−メチルアリル、2−ペンテニ
ル、2−へキセニル基などを例示できる。 フリル低級アルキル基としては、フルフリル、2−(2
−フリル)エチル、1−(3−フリル)エチル、3−(
2−フリル)プロピル、4−(2−フリル)ブチル、1
,1−ジメチル−2−(2−フリル)エチル、5−(3
−フリル)ペンチル、6−(2−フリル)ヘキシル、2
−メチル−3−(3−フリル)プロピル基などを例示で
きる。 チェニル低級アルキル基としては、2−チェニルメチル
、2− (2−チェニル)エチル、1−(2−チェニル
)エチル、3−(3−チェニル)プロピル、4−(2−
チェニル)ブチル、1.1−ジメチル−2−(3−チェ
ニル)エチル、5−(2−チェニル)ペンチル、6−
(2−チェニル)ヘキシル、2−メチル−3−(2−チ
ェニル)プロピル基などを例示できる。 ハロゲン原子としては、沃素、臭素、塩素、弗−6= 素原子等を例示できる。 低級アルコキシ基としては、メl〜キシ、工1ヘキシ、
ブ[]ボキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−
ブトキシ、ペンデルオキシ、ヘキシルオキシ基などを例
示できる。 本発明の」二記一般式〔1〕で表わされる誘導体は、優
れた制ガン作用を有し、制ガン剤として有用である。一
般にN−二1ヘロソウレア型の制ガン剤は、生体内で生
成するイソシアナートのために毒性が強いが、本発明の
誘導体はこのイソシアナー1〜を生成しないため、低毒
性で、特に遅延型骨Iftj性が少ないという特徴を有
している。 以下本発明誘導体の製造方法につき詳述する。 本発明誘導体は、例えば下記反応行程式−1に示づ方法
により製造される。 (反応行程式−1) C式中R及びXは前記に同じ。〕 一般式(2〕の化合物の二1〜日ソ化反応には、通常の
N−ニトロソ化反応に採用される条件を広く採用するこ
とができる。該反応は、例えば適当な溶媒中、醗又は塩
基性化合物の存在下でニトロソ化剤を使用して実iMす
ることができる。使用される溶媒としては、ニトロソ化
反応に慣用されるもの、例えば水、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール等の低級アルコール類;ジクロ
ロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素
等のハロゲン化疾化水素類:酢酸等の脂肪族カルボン酸
類:無水酢酸等の脂肪族酸無水物類;ピリジン、キノリ
ン等の芳香族アミン類等を例示できる。使用される酸と
しては、例えば塩酸、硝酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸
類:酢酸、蟻酸等の有機酸類を例示できる。使用される
塩基性化合物としては、例えばピリジン、キノリン、酢
酸ナトリウム等の有機塩基及び炭酸すl〜リウム、炭酸
カリウム、炭酸水素す1〜リウム、炭酸水素カリウム等
の無機塩基を例示できる。使用されるニトロソ化剤とし
ては亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等のアルカリ金
属の亜硝酸塩、N203 、N204等の窒素酸化物、
二]〜ロシルクロライド等を例示できる。反応温度とし
ては、通常−60℃〜15’c <=を近、好ましくは
一20℃〜7℃付近を採用でき、反応は5分〜16時間
で終了する。ニトロソ化剤の使用割合としては、一般式
(2)の化合物に対して少なくとも等モル、好ましくは
等モル−8倍モルとされる。酸又は塩基の使用量は、一
般式(2)の化合物に対して少なくとも等モル量、好ま
しくは大過剰量とするのがよい。 上記において出発原料とする一般式〔2〕の化合物は、
新規な化合物であり、例えば下記反応行程式−2及び−
3に示す方法に従い製造すること9− ができる。 (反応行程式−2) 〔式中Rは前記に同じ。×1は八[1ゲン原子を示す。 〕 上記一般式〔3〕及び〔牛〕で表わされる各化合物は公
知であり、これ等の反応は、適当な溶媒中、塩基性化合
物の存在下又は不存在下に行なうことができる。溶媒と
しては、反応に悪影響を与えないものであればいずれも
使用でき、例えば塩化メチレン、クロロホルム、1.2
−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメ10− トキシエタン、ジグライム、トリグライム等のエーテル
類;n−へブタン、n−ヘキサン、シクロへキリン、イ
ソオクタン等の脂肪族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エ
チル等のエステル類等を例示できる。塩基性化合物とし
ては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えばトリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、N、N−ジメチル
アニリン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、キ
ノリン、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノネン
−5(DBN)、1.5−ジアザどシクロ(5゜4.0
)ウンデセン−5(DBU>、1.4−ジアザビシクロ
(2,2,2)オクタン(DABGO)等の有機塩基、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等の無機塩基を例示できる。一般式〔
3〕の化合物に対する一般式〔牟〕の化合物の使用量は
、特に限定されず広い範囲から適宜選択することができ
るが、通常前者に対して後者を等モモル3倍モル量、好
ましくは等モル−1,5モルル量用いるのがよい。塩基
性化合物の使用量としては、特に限定されず、広範囲か
ら適宜選択すれはよいが一般式〔3〕の化合物に対して
通常2〜5倍モル量、好ましくは2〜3倍モル間とする
のがよい。反応温度は、通常−70℃〜100℃、好ま
しくは一10℃〜50℃とされる。 反応は10分〜5
時間で終了する。 〔反応行程式−3〕 (8) (2)C式中R,X
及び×1は前記に同じ。〕一般式〔5〕の化合物と一般
式〔6〕の化合物(2−ハロゲノエチルアミン又はその
塩)との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下
又は不存在下で行なうことができる。使用される溶媒と
しては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えば塩
化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、1,2−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグラ
イム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
:酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類:N、N−ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プ
ロトン性極性溶媒等を例示できる。 使用される塩基性化合物としては、例えばトリエチルア
ミン、[−リプロビルアミン、N、N−ジメチルアニリ
ン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、キノリン
、DBN、DBU、DABCO等の有機塩基、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、13− 炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を
例示できる。一般式〔5〕の化合物に対する一般式〔6
〕の2−ハロゲノエチルアミン又はその塩の使用割合は
、特に限定されず適宜に選択できるが、一般に前者に対
して後者を等モモル5倍モル量、好ましくは等モル、〜
3倍モル量とすればよい。塩基性化合物の使用割合とし
ては、一般式(5〕の化合物に対して、通常等モル〜1
0倍モル量、好ましくは等モモル5倍モル量を採用でき
る。反応は一般に一30℃〜100℃、好ましくはO℃
〜50℃にて30分〜30時間を要して行なわれる。 一般式〔5〕の化合物と式〔7〕のアジリジンとの反応
は、適当な溶媒中又は溶媒の不存在下、塩基性化合物の
存在下又は不存在下に行なうことができる。溶媒及び塩
基性化合物としては前記一般式〔5〕の化合物と一般式
〔6〕の化合物との反応において例示したものと同様の
ものをいずれも使用できる。一般式〔5〕の化合物に対
する式〔7〕のアジリジンの使用割合は、一般に等モル
14− 〜10倍モル量、好ましくは等モモル3倍モル量とされ
るのがよい。塩基性化合物の使用割合は、一般式〔5〕
の化合物に対して通常等モル〜5倍モル量、好ましくは
等モモル3倍モル量とされるのがよく、反応は通常−5
0℃〜70℃、好ましくは一30℃〜50℃の温度条件
下に10分〜10時間を要して行なわれる。 引続く一般式〔8〕の化合物と一般式
ノエチルアミノ)−1,3,2−オキサアザホスボリナ
ン−2−オキシド誘導体に関する。 本発明の2−((N−ニトロソ)−2−ハロゲノエチル
アミノ)−1,3,2−オキサアザホス小リナンー2−
オキシド誘導体は、下記一般式1式% 〔式中Rはフェニル環上に置換基として低級アルキル基
、低級アル」キシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の
1〜3個を有することのあるフェニル基、フェニル環上
に低級アルコキシ基を1〜3個有することのあるフェニ
ル低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、フリル低級アルキル基又はチ
ェニル低級アルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す
。〕 上記一般式中R及びXで定義される各基の具体例を夫々
次に例示する。 フェニル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
コキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の1〜3個を
有することのあるフェニル基としては、フェニル、2−
.3−もしくは4−クロロフェニル、2−.3−もしく
は4−フルオーロフェニル、2’−、3−もしくは4−
ブロムフェニル、2−13−もしくは4−ヨードフェニ
ル、3,5−ジクロロフェニル、2.6−ジクロロフェ
ニル、3.4−ジクロロフェニル、3.4〜ジフルオロ
フエニル、3,5−ジブロムフェニル、2−、3−もし
くは4−メチルフェニル、2−.3−もしくは4−エチ
ルフェニル、3−イソプロごルフェニル、4−へキシル
フェニル、3,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチ
ルフェニル、2−、3−もしくは4−メトキシフェニル
、2−.3−もしくは4−エトキシフェニル、4−イソ
プロポキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、3
゜4−ラメ1ヘキシフエニル、3.4−ジェトキシフェ
ニル、2.5−ジェトキシフェニル、3−メチル−4−
クロロフJニル、2−クロロ−6−メチルフェニル、2
−メトキシ−3−クロロフェニル、3.4.5−1−リ
メトキシフェニル、3.4.5−トリメチルフェニル、
3.4.5−トリク「10フェニルMなどを例示できる
。 フェニル環上に低級アルコキシ基を1〜3個有すること
のあるフェニル低級アルキル基としては、ベンジル、2
−フェニルエチル、1−フェニルエチル、3−フェニル
プロピル、4−フェニルブチル、1,1−ジメチル−2
−フェニルエチル、5−フェニルペンチル、6−フェニ
ルヘキシル、2−メチル−3−フェニルプロピル、2−
もしくは3−メ1〜キシベンジル、2−(4−メトキシ
フェニル)エチル、2−■トキシベンジル、1−(3−
〕ニ1〜ギシフェニル)エチル、3−(4−エトキシフ
ェニル)プロピル、6− (4−イソプロポキシフェニ
ル)ヘキシル、4−(4−へキシルオキシノ−r−ニル
)ブチル、1.1−ジメチル−2−(3,4−ジメトキ
シフェニル)エチル、5−フェニルペンチル、5−(3
,4−ジェトキシフェニル)ベンプル、6− (3,4
,5−1〜リメトキシノニ[−ニル)ヘキシル、2−メ
チル−3−(2゜5−ツメ1〜キシフエニル)プロピル
基などを例示できる。 シクロ低級アル4−ル基としては、シクロプロピル、シ
フ[]ブブチルシクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロへブチル、シクロオクチル基などを例示できる。 低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンデル、
ヘキシル基などを例示できる。 5− 低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、2−ブテ
ニル、3−ブテニル、1−メチルアリル、2−ペンテニ
ル、2−へキセニル基などを例示できる。 フリル低級アルキル基としては、フルフリル、2−(2
−フリル)エチル、1−(3−フリル)エチル、3−(
2−フリル)プロピル、4−(2−フリル)ブチル、1
,1−ジメチル−2−(2−フリル)エチル、5−(3
−フリル)ペンチル、6−(2−フリル)ヘキシル、2
−メチル−3−(3−フリル)プロピル基などを例示で
きる。 チェニル低級アルキル基としては、2−チェニルメチル
、2− (2−チェニル)エチル、1−(2−チェニル
)エチル、3−(3−チェニル)プロピル、4−(2−
チェニル)ブチル、1.1−ジメチル−2−(3−チェ
ニル)エチル、5−(2−チェニル)ペンチル、6−
(2−チェニル)ヘキシル、2−メチル−3−(2−チ
ェニル)プロピル基などを例示できる。 ハロゲン原子としては、沃素、臭素、塩素、弗−6= 素原子等を例示できる。 低級アルコキシ基としては、メl〜キシ、工1ヘキシ、
ブ[]ボキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−
ブトキシ、ペンデルオキシ、ヘキシルオキシ基などを例
示できる。 本発明の」二記一般式〔1〕で表わされる誘導体は、優
れた制ガン作用を有し、制ガン剤として有用である。一
般にN−二1ヘロソウレア型の制ガン剤は、生体内で生
成するイソシアナートのために毒性が強いが、本発明の
誘導体はこのイソシアナー1〜を生成しないため、低毒
性で、特に遅延型骨Iftj性が少ないという特徴を有
している。 以下本発明誘導体の製造方法につき詳述する。 本発明誘導体は、例えば下記反応行程式−1に示づ方法
により製造される。 (反応行程式−1) C式中R及びXは前記に同じ。〕 一般式(2〕の化合物の二1〜日ソ化反応には、通常の
N−ニトロソ化反応に採用される条件を広く採用するこ
とができる。該反応は、例えば適当な溶媒中、醗又は塩
基性化合物の存在下でニトロソ化剤を使用して実iMす
ることができる。使用される溶媒としては、ニトロソ化
反応に慣用されるもの、例えば水、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール等の低級アルコール類;ジクロ
ロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素
等のハロゲン化疾化水素類:酢酸等の脂肪族カルボン酸
類:無水酢酸等の脂肪族酸無水物類;ピリジン、キノリ
ン等の芳香族アミン類等を例示できる。使用される酸と
しては、例えば塩酸、硝酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸
類:酢酸、蟻酸等の有機酸類を例示できる。使用される
塩基性化合物としては、例えばピリジン、キノリン、酢
酸ナトリウム等の有機塩基及び炭酸すl〜リウム、炭酸
カリウム、炭酸水素す1〜リウム、炭酸水素カリウム等
の無機塩基を例示できる。使用されるニトロソ化剤とし
ては亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等のアルカリ金
属の亜硝酸塩、N203 、N204等の窒素酸化物、
二]〜ロシルクロライド等を例示できる。反応温度とし
ては、通常−60℃〜15’c <=を近、好ましくは
一20℃〜7℃付近を採用でき、反応は5分〜16時間
で終了する。ニトロソ化剤の使用割合としては、一般式
(2)の化合物に対して少なくとも等モル、好ましくは
等モル−8倍モルとされる。酸又は塩基の使用量は、一
般式(2)の化合物に対して少なくとも等モル量、好ま
しくは大過剰量とするのがよい。 上記において出発原料とする一般式〔2〕の化合物は、
新規な化合物であり、例えば下記反応行程式−2及び−
3に示す方法に従い製造すること9− ができる。 (反応行程式−2) 〔式中Rは前記に同じ。×1は八[1ゲン原子を示す。 〕 上記一般式〔3〕及び〔牛〕で表わされる各化合物は公
知であり、これ等の反応は、適当な溶媒中、塩基性化合
物の存在下又は不存在下に行なうことができる。溶媒と
しては、反応に悪影響を与えないものであればいずれも
使用でき、例えば塩化メチレン、クロロホルム、1.2
−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメ10− トキシエタン、ジグライム、トリグライム等のエーテル
類;n−へブタン、n−ヘキサン、シクロへキリン、イ
ソオクタン等の脂肪族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エ
チル等のエステル類等を例示できる。塩基性化合物とし
ては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えばトリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、N、N−ジメチル
アニリン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、キ
ノリン、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノネン
−5(DBN)、1.5−ジアザどシクロ(5゜4.0
)ウンデセン−5(DBU>、1.4−ジアザビシクロ
(2,2,2)オクタン(DABGO)等の有機塩基、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等の無機塩基を例示できる。一般式〔
3〕の化合物に対する一般式〔牟〕の化合物の使用量は
、特に限定されず広い範囲から適宜選択することができ
るが、通常前者に対して後者を等モモル3倍モル量、好
ましくは等モル−1,5モルル量用いるのがよい。塩基
性化合物の使用量としては、特に限定されず、広範囲か
ら適宜選択すれはよいが一般式〔3〕の化合物に対して
通常2〜5倍モル量、好ましくは2〜3倍モル間とする
のがよい。反応温度は、通常−70℃〜100℃、好ま
しくは一10℃〜50℃とされる。 反応は10分〜5
時間で終了する。 〔反応行程式−3〕 (8) (2)C式中R,X
及び×1は前記に同じ。〕一般式〔5〕の化合物と一般
式〔6〕の化合物(2−ハロゲノエチルアミン又はその
塩)との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下
又は不存在下で行なうことができる。使用される溶媒と
しては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えば塩
化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、1,2−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグラ
イム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
:酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類:N、N−ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プ
ロトン性極性溶媒等を例示できる。 使用される塩基性化合物としては、例えばトリエチルア
ミン、[−リプロビルアミン、N、N−ジメチルアニリ
ン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、キノリン
、DBN、DBU、DABCO等の有機塩基、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、13− 炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を
例示できる。一般式〔5〕の化合物に対する一般式〔6
〕の2−ハロゲノエチルアミン又はその塩の使用割合は
、特に限定されず適宜に選択できるが、一般に前者に対
して後者を等モモル5倍モル量、好ましくは等モル、〜
3倍モル量とすればよい。塩基性化合物の使用割合とし
ては、一般式(5〕の化合物に対して、通常等モル〜1
0倍モル量、好ましくは等モモル5倍モル量を採用でき
る。反応は一般に一30℃〜100℃、好ましくはO℃
〜50℃にて30分〜30時間を要して行なわれる。 一般式〔5〕の化合物と式〔7〕のアジリジンとの反応
は、適当な溶媒中又は溶媒の不存在下、塩基性化合物の
存在下又は不存在下に行なうことができる。溶媒及び塩
基性化合物としては前記一般式〔5〕の化合物と一般式
〔6〕の化合物との反応において例示したものと同様の
ものをいずれも使用できる。一般式〔5〕の化合物に対
する式〔7〕のアジリジンの使用割合は、一般に等モル
14− 〜10倍モル量、好ましくは等モモル3倍モル量とされ
るのがよい。塩基性化合物の使用割合は、一般式〔5〕
の化合物に対して通常等モル〜5倍モル量、好ましくは
等モモル3倍モル量とされるのがよく、反応は通常−5
0℃〜70℃、好ましくは一30℃〜50℃の温度条件
下に10分〜10時間を要して行なわれる。 引続く一般式〔8〕の化合物と一般式
〔9〕のハロゲン
化炭化水素との反応は、上記で得られる一般式〔8〕の
化合物を単離後又は単離することな〈実施される。該反
応は適当な溶媒中で行なわれる。溶媒としては、反応に
悪影豐を与えない各種のもの、例えば塩化メチレン、ク
ロロホルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類ニジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグライム
、トリグライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類:ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類等を例示できる。 ハロゲン化炭化水素
化炭化水素との反応は、上記で得られる一般式〔8〕の
化合物を単離後又は単離することな〈実施される。該反
応は適当な溶媒中で行なわれる。溶媒としては、反応に
悪影豐を与えない各種のもの、例えば塩化メチレン、ク
ロロホルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類ニジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグライム
、トリグライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類:ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類等を例示できる。 ハロゲン化炭化水素
〔9〕の使用割合は、一般式〔8〕
の化合物に対して通常等モル〜大過剰量、好ましくは等
モモル5倍モル量とされるのがよい。 反応は通常−506C〜50℃、好ましくは一り0℃〜
室温イ」近の温度条件下に10分〜5時間を要して行な
われる。 かくして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。 尚、本発明は光学異性体も当然に包含するものである。 以下に、本発明を更に詳述するための参考例及び実施例
を挙げる。 参考例 1 オキシ塩化リン6.45(lを塩化メチレン601に溶
かし、水冷攪拌下にN−(3−ヒドロキシプロピル)−
アニリン6、o4oとトリエチルアミン8.5gとを塩
化メチレン50m1溶かした溶液を滴下し、同温度で1
.5時間反応させた。反応混合物を5%塩酸、水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレ
ンを減圧留去して、2−クロロ−3−フェニル−1,3
,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシドの粗結晶
8.3gを得た。水晶を塩化メチレン−ヘキサンより再
結晶して純品の無色針状晶7.8gを得lこ 。 融点 : 113.5〜115℃ 元素分析値(CGI Hl + CI N02 Pとし
て)C(%) H(%) N(%)計算値
46.67 4.79 6.04実測値 46.
64 4.69 6.01参考例 2 参考例1と同様にして、N−(3−ヒドロキシプロピル
>−p−t−ルイジン8.750をオキシ塩化リンフ、
98!]と反応させて2−クロロ−(3−p−メチルフ
ェニル)−1,3,2−’オキサアザホスホリチン−2
−オキシドの無色針状晶10、’!1.(Iを得た。 17− 融点 = 130〜132℃。 元素分析値(CI o Hl 3 CI N02 Pと
して)C(%) H(%) N(%)計算値
48.89 5.33 5.70実測値 48
.85 5.22 5.69参考例 3 オキシ塩化リンフ、84gをトルエン100n+1に溶
かし、水冷攪拌下にN−(3−ヒドロキシプロピル)シ
クロヘキサン12.5(lとトリエチルアミン21!+
とをトルエン50m1に溶かした溶液を滴下し、同温度
で1時間反応させた。反応混合物を5%塩酸、水及び飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。トルエンを減圧留去して得た残漬を、シリカゲル3
00(1(クロロホルム溶出〕でカラムクロマト精製し
て、2−クロロ−3−シクロへキシル−1,3,2−オ
キサアザホスボリナン−2−オキシドの無色油状物18
(]を得た。これはIRにより同定された。 IRvIllax (neat) 、am−’ :2
950.2860.1450,1300、18− 1245.1109.1090.1050.1015.
920,820、750 」−記いずれかの参考例と同様にして、適当な出発原料
を用いて以下の各化合物を得た。 02−クロロ−3−ベンジル−1,3,2−オキ→ノー
アデボスホリナンー2−オキシド融点 69〜70.5
℃ (酢酸エチル−ヘキサン) 無色針状晶 02−クロロ−3−(3,4−ジメトキシベンジル)−
1,3,2−オキサアザボスボリナン−2−オキシド NMRδIIDIII (CDCI 3) :1.5
3〜2.33 (m 、2H) 2.70〜3.20 (m 、2H) 3.23〜3.70 (m 、2H) 3.83 (s 、6H) 4.20〜4.76 (+++ 、2H)6、70〜6
.97 (n+ 、 3l−1)02−クロロ−3−シ
クロペンチル−1,3,2−オキサアザホスボリナンー
2−オキシドNMRδppIll (CDC13):1
.30〜2.43 (m 、l0H)2.87〜3.4
7 (m 、2H) 3 、 73〜4.70(n+、3 ト1 )02−
クロロ−3−シクロへブチル−1,3,2=オキサアザ
ホスホリナン−2−オキシドNMRδl)Illm
(CDCI 3) :1.13〜2.38 (+n 、
14H)2.87〜3.92 (m 、3H) 4.07〜4.67 (+n 、2H)02−クロロ−
3−シクロオクチル−1,3,2−オキサアザボスボリ
ナン−2−オキシドNMR6110m (CDCI
a ) :1.27〜2.33 (m 、 16Ll)
2.90〜3.45 (m 、2H) 3.56〜4.03 (m 、IH) 4.13〜4.57 (IIl、2H)02−クロロ−
3−n−ブチル−1,3,2−オキサアザ小スホリナン
ー2−オキシド NMR15DpIll (CDCI 3 )
:0、67〜3. 57 (m 、 13H)4
、13〜4. 70 (i 、 2H)02−ク
ロロ−3−n−へキシル−1,3,2−オキザアザ小ス
ホリナンー2−オキシドNMRδI)lllll (
CDCI 3 ) :0、60〜3.57 (m 、
171−1>4.13〜4.70 (R1,2H) 02−クロロ−3−アリル−1,3,2−オキサアザホ
スボリナン−2−オキシド NMR15plJIIl (CDCI 3 ) :1
.60〜2.50 (m 、2H) 2.80〜3.53 (+++ 、2H)3.60〜4
.73 (m 、4H) 5.03〜5.40 (i 、2H) 5.47〜6.03 (m 、IH) 02−クロロ−3−フルフリル−1,3,2−オキリア
ザ小スホリナンー2−オキシド NMR61)I)ffi (CDCI a ) :1
.57〜2.51 (m 、2H) 21− 2.87〜3. 57 (III 、 2H)3
.83〜4.67 (IIl 、4l−1)−6,2
3〜6.37 (i、2H) 7.33 (t 、 IH,J=1.5Hz
)02−クロロ−3−(2−チェニルメチル)−1゜3
.2−オキサアザホスホ、リチン−2−オキシド NMRδ DD[ll (CDCI 3 )
: ”1 、5
7〜2. 43 (m 、 2H)2 、80
〜3. 50 (1、28)3 、83〜4. 87
(III 、 4H)6 、80〜7. 07
(m 、 2H)7、 ’17〜7. 30
(m 、 I H)02−クロロ−3−(p−メトキ
シフェニル)〜1.3.2−オキサアザホスボリナン−
2−オキシド 融点 = 127〜130℃ 無色針状晶(CH2CI 2−n−へキサン)02−ク
ロロ−3−(p−フルオロフェニル)−1,3,2−オ
キサアザホスボリナン−2−オ22− キシド 融点 : 132〜134℃ 無色プリズム状晶 (CN2 Cl 2 n−ヘキサン)02−クロロ−
3−(m−トリフルオロメチルフェニル)−1,3,2
−オキサアザホスボリナン−2−オキシド NMR6ppm (cocl 3 ) :1.67〜
2.67 (m 、2H) 3.00〜4.00 (m 、2H) 4.20〜4.80 (m 、2H> 7.23〜7.67 (m 、4H> 02−クロロ−,3−(3,4−ジクロロフェニル)−
1,3,2−オキナアザホスホリナンー2−オキシド 融点 = 114〜116℃ 淡黄色板状晶(CH2CI 2−n−ヘキサン)参考例
4 2−クロロ−3−フェニル−1,−3,2−オキザアl
アホスホリナンー2−オキシド4.630と2−クロロ
エチルアミン塩酸塩2.90とを塩化メチレン50n+
1中氷冷下に攪拌し、1ヘリエチルアミン5,1gを塩
化メチレン30m1溶かした溶液を滴下し、室温で20
時間撹拌した。反応混合物を5%塩酸、水で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
て、2−(2−クロロエチルアミノ)−3−フェニル−
1,3゜2〜オキサアザホスホリナン−2−オキシドの
粗結晶4.9gを得た。水晶を酢酸エチルより再結晶し
て純品の無色針状晶4.5gを得た。 融点 = 113〜115℃ 元素分析値(CI + H+ e N202 PCIと
して) C(%) H(%) N(%)計算値 48
.10 5,87 10.20実測値 47.98
5.74 10.31参考例 5 2−クロロ−3−(p−メトキシフェニル)−1,3,
2−オキサアザボスボリナン−2−オキシド5.25(
+を塩化メチレン501溶かし、アジリジン1Ωを塩化
メチレンiQn+lに溶がした溶液を滴下し、室温で2
時間反応させた。次いで水冷撹拌下に過剰の乾燥塩化水
素ガスを吹き込み、同温度で30分撹拌した。反応混合
物を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去して、2− (2−クロロエチルアミノ)−3−
(p−メトキシフェニル)−1,3,2−オキサアザ小
スホリナンー2−オキシドの粗結晶6gを得た。水晶を
酢酸エチルより再結晶して純品の無色針状晶5.7Qを
得た。 融点 = 123〜124℃ 元素分析値(CI+ 2 H+ a Nl! 03 P
ctとして) C(%) H(%) N(%)計算値 47
.30 5.95 9.19実測値 47.34
5.85 9.25参考例 6 2−クロロ−3−ベンジル−1,3,2−オキザアザホ
スホリナンー2−オキシド4.9gとβ−クロロエチル
アミン塩酸塩2.6gとを塩化メ25− チレン60il中水冷下に撹拌し、トリエチルアミン4
.5gを塩化メチレン201に溶かした溶液を滴下し、
次いで室温で20時間撹拌した。反応混合物を5%塩酸
、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。塩化メチレンを減圧留去して、2−(2−
クロロエチルアミノ)−3−ベンジル−1,3,2−オ
キナアザホスホリナンー2−オキシドの粗結晶5.6g
を得た。 水晶を酢酸エチル−エーテルより再結晶して純品の無色
針状晶5.3gを得た。 融点 二 90〜92℃ 元素分析値(CI 2 H+ a N202 PCIと
して) C(%) H(%) N(%) 計算値 49.92 6.28 9.70実測値
49.88 6.13 9.75参考例4.5
又は6のいずれかと同様にして、適当な出発原料を用い
て以下の各化合物を得た。 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−シクロへキシ
ル−1,3,2−オキサアザホスホリナ26− シー2−オキシド 融点 : 102〜103.5℃ 無色針状晶(酢酸エチル〉 02−(2−クロロエチルアミノ)−,3−(3゜4−
ジメトキシベンジル11.3.2−オキリーアザホスホ
リナンー2−オキシド 融点 : 111〜113℃ 無色針状晶(エーテル−n−ヘキサン)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−シクロペンチル−1,3,2
−オキサアザホスボリナン−2−オキシド 融点 = 100〜102℃ 無色針状晶(酢酸エチル) 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−シクロへブチ
ル−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシ
ド 融点 : 95〜96℃ 無色釦状晶(n−ヘキサン−エーテル)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−シクロオクチル−1,3,2
−オキサアザホスボリナン−2−オキシド 融点 二 80〜81℃ 無色針状晶(n−ヘキザンーエーテル)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−n−ブチル−1,3,2−オ
キ量ナアザホスホリナンー2−オキシド NMRδfllllll (CDCI 3) :0.
73〜2.07 (m 、9H) 2.53〜3.67 (m 、9H) 3.87〜4.53 (n+ 、2H)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−n−へキシル−1,3,2−
オキサアザホスボリナン−2−オキシド NMRδ1)Dlll (CDCI a ) :0.
67〜2.03 (n+ 、13H)2.53〜4.4
3 (m 、11H)02−(2−クロロエチルアミノ
)−3−アリル−1,3,2−オキザアザホスホリナン
ー2−オキシド NMRδDIIIn (CDCI 3 ) :1、
60〜2. 50 (+n 、 2H)2.80
〜4. 73 (IIl 、 1it−1)6゜
03〜5. 40 (1、2H)5.47〜6. 0
3 (III 、 IH)02−(2−クロロエ
チルアミノ)−3−フルフリル−1,3,2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド NMRδ1111111(CDCI a ) :1.6
0〜2.10 (i+ 、2H)2.80〜4.67
(+n 、11H)6.03〜6.30 (i+ 、2
l−1)7.17〜7.30 (i 、IH) 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−(2−チェニ
ルメチル)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2
−オキシド 融点 : 108〜109.5℃ 無色針状晶(酢酸エチル−〇−ヘキサン)02−(2−
クロロエチルアミノ) −3−(11−メチルフェニル
)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシ
ド 29− 融点 : 104〜106℃ 無色針状晶(酢酸エチル) 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−(p−フルオ
ロフェニル)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−
2−オキシド 融点 二84〜85℃ 無色針状晶(酢酸エチル) 02−(2−クロロエチルアミノ) −3= (IIl
−トリフルオロメチルフェニル)−1,3,2−オキサ
アザホスボリナン−2−オキシド融点 = 89〜91
℃ 無色針状晶(酢酸エチル−〇−ヘキサン)02−(2−
クロロエチルアミノ) −3−(3゜4−ジクロロフェ
ニル)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オ
キシド 融点 = 101〜103℃ 無色針状晶(塩化メチレン−n−ヘキサン)実施例 1 2−(2−クロロエチルアミノ)−3−フェニル−1,
3,2−オキサアザホスホリナン−2−30− Aキシド1.31gを90%蟻酸131に溶かし、食塩
−氷浴中途却下に内温−10℃〜0℃にて亜硝酸ナトリ
ウム1gを水101に溶かした溶液を滴下し、同温度で
10分間撹拌した。反応液をエーテル50m1に添加し
、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。エー
テルを減圧下に室温以下で留去し、残漬をエーテル−ヘ
キサンにて結晶化させて2− ((N−ニトロソ)−2
−クロロエチルアミノコ−3−フェニル−1,3゜2−
オキサアザホスボリナン−2−オキシドの淡黄色結晶の
1.2gを得た。水晶をエーテルーヘキザンより再結晶
して純品の淡黄色プリズム状晶1gを得た。 融点 : 47〜48℃(分解) IRvmay、 (KBr ) : 1600.1480.1280.1180.1010
am” 元素分析値(c+ + H+ 50iN303 Pとし
て) C(%) H(%) N(%)計算値
43.51 4.98 13.84実測値 4
3.32 4.91 13.81実施例 2 2−(2−クロロエチルアミノ)−3−ベンジル−1,
3,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシド1.1
6oを90%蟻112m1に溶かし、食塩水浴中冷却撹
拌下に亜硝酸ナトリウム830mgを水101に溶かし
た溶液を滴下し、同温度で10分間撹拌した。反応混合
物にエーテル50m1を添加し、冷水、冷飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、冷水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。エーテルを減圧下に室温以下で留去
し、残漬をエーテル−ヘキサンにて結晶化させて2−〔
(N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ〕=3−ベ
ンジル−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オ
キシドの淡黄色結晶950[Ilgを得た。 融点 = 53〜54℃(分解) 実施例1又は2と同様にして、適当な出発化合物から下
記各化合物を得た。 02−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−(p−メチルフェニル)−1,3゜2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド融点 = 51〜52℃
(分解) 淡黄色プリズム状晶 (エーテル−〇−ヘキサン) 02−1N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−
3−(p−メトキシフェニル)−1゜3.2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド 融点 = 69〜70℃(分解) 淡橙色プリズム状晶 (エーテル−n−ヘキサン) 02−1N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−
3−(p−フルオロフェニル)−1゜3.2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド 融点 : 45〜47℃(分解) 淡黄色粉末状晶 33− (エーテル−0−ヘキサン) 02−〔(N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノコ
−3−シクロへキシル−1,3,2−オキサアザホスボ
リナン−2−オキシド 融点 = 43〜45℃(分解) 無色プリズム状晶 (エーテル−n−ヘキサン) 01−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−(3,4−ジメトキシベンジル)−1,3,2−
オキサアザホスボリナン−2−オキシド NMRδppn (CDCI 3 ) :1.55〜
2.15 (+n 、2H)2.68〜4.48 (m 、12H,3,78のOCH3を含む)6 、
69〜6. 99 (Ill 、 3
ト1 )02−((N−ニトロソ)−2−クロロエチル
アミ〕−3−シクロペンチル−1,3,2−オキ法アザ
ホスホリナンー2−オキシド NMRδpDlil (CDCI 3 ) :34− 1.10〜2.20 (m 、l0H)2.77〜
zl 43 (m 、9H)02−〔(N−ニト
ロソ)−2−クロロエチルアミノ〕−3−シクロへブチ
ル−1,3,2−オキザアザホスホリナンー2−オキシ
ド NMRδρ11111 (CDCI 3) :1.1
0〜2.17(i+、14H) 2.77〜4゜43 (m 、9H) 01−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−シクロオクチル−1,3,2−オキザアザホスホ
リナンー2−オキシド 融点 : 46〜47℃(分解) (エーテル−〇−ヘキサン) 02−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−n−ブチル−1,3,2−オキサアザホスボリナ
ン−2−オキシド NMR611011(CDCI 3) :0.77〜2
.10 (m 、9H) 2.50〜4.47 (m 、101−1)02−((
N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−3−n−
へキシル−1,3,2−オキサアザ小スホリナンー2−
オキシド NMR60111m (CDCI 3) :0.72
〜2.12(…、13H) 2、 58 〜4. 45 (+n 、
1 0H)02−((N−ニトロソ)−2−クロロエ
チルアミノコ−3−アリル−1,3,2−オキサアリ”
ホスホリチン−2−オキシド NMR6ppm (CDCI 3 ) :1.60〜
2.30 <+++ 、2H)2.75〜4.60 (
m 、10t−1>6.03〜5.42 (m 、2H
) 5.48〜6.02 (+++ 、IH)02−〔(N
−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノコ−3−フルフ
リル−1,3,2−オキザアザホスホリナンー2−オキ
シド NMR6013m (CDCI 3 ) :1.64
〜2.13 (m 、2H) 2 、 27〜4.60(m、10 ト1 )6.0
3〜6.31 (m 、2H) 7、 1 7〜7.30 (m 、 IH)02
−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−3
−(2−チェニルメチル)−1,3゜2−オギサアザホ
ス小すナンー2−オキシドN M I’< δppl
Il(CDCI 3 ) :1.67〜2.13 (m
、2H) 2.90〜3.70 (+n 、6H)3.83〜4.
73 (m 、4H) 6.80〜7.00 (n+ 、2H)7.10〜7.
27 (IIl、IH)(以 上) 37−
の化合物に対して通常等モル〜大過剰量、好ましくは等
モモル5倍モル量とされるのがよい。 反応は通常−506C〜50℃、好ましくは一り0℃〜
室温イ」近の温度条件下に10分〜5時間を要して行な
われる。 かくして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。 尚、本発明は光学異性体も当然に包含するものである。 以下に、本発明を更に詳述するための参考例及び実施例
を挙げる。 参考例 1 オキシ塩化リン6.45(lを塩化メチレン601に溶
かし、水冷攪拌下にN−(3−ヒドロキシプロピル)−
アニリン6、o4oとトリエチルアミン8.5gとを塩
化メチレン50m1溶かした溶液を滴下し、同温度で1
.5時間反応させた。反応混合物を5%塩酸、水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレ
ンを減圧留去して、2−クロロ−3−フェニル−1,3
,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシドの粗結晶
8.3gを得た。水晶を塩化メチレン−ヘキサンより再
結晶して純品の無色針状晶7.8gを得lこ 。 融点 : 113.5〜115℃ 元素分析値(CGI Hl + CI N02 Pとし
て)C(%) H(%) N(%)計算値
46.67 4.79 6.04実測値 46.
64 4.69 6.01参考例 2 参考例1と同様にして、N−(3−ヒドロキシプロピル
>−p−t−ルイジン8.750をオキシ塩化リンフ、
98!]と反応させて2−クロロ−(3−p−メチルフ
ェニル)−1,3,2−’オキサアザホスホリチン−2
−オキシドの無色針状晶10、’!1.(Iを得た。 17− 融点 = 130〜132℃。 元素分析値(CI o Hl 3 CI N02 Pと
して)C(%) H(%) N(%)計算値
48.89 5.33 5.70実測値 48
.85 5.22 5.69参考例 3 オキシ塩化リンフ、84gをトルエン100n+1に溶
かし、水冷攪拌下にN−(3−ヒドロキシプロピル)シ
クロヘキサン12.5(lとトリエチルアミン21!+
とをトルエン50m1に溶かした溶液を滴下し、同温度
で1時間反応させた。反応混合物を5%塩酸、水及び飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。トルエンを減圧留去して得た残漬を、シリカゲル3
00(1(クロロホルム溶出〕でカラムクロマト精製し
て、2−クロロ−3−シクロへキシル−1,3,2−オ
キサアザホスボリナン−2−オキシドの無色油状物18
(]を得た。これはIRにより同定された。 IRvIllax (neat) 、am−’ :2
950.2860.1450,1300、18− 1245.1109.1090.1050.1015.
920,820、750 」−記いずれかの参考例と同様にして、適当な出発原料
を用いて以下の各化合物を得た。 02−クロロ−3−ベンジル−1,3,2−オキ→ノー
アデボスホリナンー2−オキシド融点 69〜70.5
℃ (酢酸エチル−ヘキサン) 無色針状晶 02−クロロ−3−(3,4−ジメトキシベンジル)−
1,3,2−オキサアザボスボリナン−2−オキシド NMRδIIDIII (CDCI 3) :1.5
3〜2.33 (m 、2H) 2.70〜3.20 (m 、2H) 3.23〜3.70 (m 、2H) 3.83 (s 、6H) 4.20〜4.76 (+++ 、2H)6、70〜6
.97 (n+ 、 3l−1)02−クロロ−3−シ
クロペンチル−1,3,2−オキサアザホスボリナンー
2−オキシドNMRδppIll (CDC13):1
.30〜2.43 (m 、l0H)2.87〜3.4
7 (m 、2H) 3 、 73〜4.70(n+、3 ト1 )02−
クロロ−3−シクロへブチル−1,3,2=オキサアザ
ホスホリナン−2−オキシドNMRδl)Illm
(CDCI 3) :1.13〜2.38 (+n 、
14H)2.87〜3.92 (m 、3H) 4.07〜4.67 (+n 、2H)02−クロロ−
3−シクロオクチル−1,3,2−オキサアザボスボリ
ナン−2−オキシドNMR6110m (CDCI
a ) :1.27〜2.33 (m 、 16Ll)
2.90〜3.45 (m 、2H) 3.56〜4.03 (m 、IH) 4.13〜4.57 (IIl、2H)02−クロロ−
3−n−ブチル−1,3,2−オキサアザ小スホリナン
ー2−オキシド NMR15DpIll (CDCI 3 )
:0、67〜3. 57 (m 、 13H)4
、13〜4. 70 (i 、 2H)02−ク
ロロ−3−n−へキシル−1,3,2−オキザアザ小ス
ホリナンー2−オキシドNMRδI)lllll (
CDCI 3 ) :0、60〜3.57 (m 、
171−1>4.13〜4.70 (R1,2H) 02−クロロ−3−アリル−1,3,2−オキサアザホ
スボリナン−2−オキシド NMR15plJIIl (CDCI 3 ) :1
.60〜2.50 (m 、2H) 2.80〜3.53 (+++ 、2H)3.60〜4
.73 (m 、4H) 5.03〜5.40 (i 、2H) 5.47〜6.03 (m 、IH) 02−クロロ−3−フルフリル−1,3,2−オキリア
ザ小スホリナンー2−オキシド NMR61)I)ffi (CDCI a ) :1
.57〜2.51 (m 、2H) 21− 2.87〜3. 57 (III 、 2H)3
.83〜4.67 (IIl 、4l−1)−6,2
3〜6.37 (i、2H) 7.33 (t 、 IH,J=1.5Hz
)02−クロロ−3−(2−チェニルメチル)−1゜3
.2−オキサアザホスホ、リチン−2−オキシド NMRδ DD[ll (CDCI 3 )
: ”1 、5
7〜2. 43 (m 、 2H)2 、80
〜3. 50 (1、28)3 、83〜4. 87
(III 、 4H)6 、80〜7. 07
(m 、 2H)7、 ’17〜7. 30
(m 、 I H)02−クロロ−3−(p−メトキ
シフェニル)〜1.3.2−オキサアザホスボリナン−
2−オキシド 融点 = 127〜130℃ 無色針状晶(CH2CI 2−n−へキサン)02−ク
ロロ−3−(p−フルオロフェニル)−1,3,2−オ
キサアザホスボリナン−2−オ22− キシド 融点 : 132〜134℃ 無色プリズム状晶 (CN2 Cl 2 n−ヘキサン)02−クロロ−
3−(m−トリフルオロメチルフェニル)−1,3,2
−オキサアザホスボリナン−2−オキシド NMR6ppm (cocl 3 ) :1.67〜
2.67 (m 、2H) 3.00〜4.00 (m 、2H) 4.20〜4.80 (m 、2H> 7.23〜7.67 (m 、4H> 02−クロロ−,3−(3,4−ジクロロフェニル)−
1,3,2−オキナアザホスホリナンー2−オキシド 融点 = 114〜116℃ 淡黄色板状晶(CH2CI 2−n−ヘキサン)参考例
4 2−クロロ−3−フェニル−1,−3,2−オキザアl
アホスホリナンー2−オキシド4.630と2−クロロ
エチルアミン塩酸塩2.90とを塩化メチレン50n+
1中氷冷下に攪拌し、1ヘリエチルアミン5,1gを塩
化メチレン30m1溶かした溶液を滴下し、室温で20
時間撹拌した。反応混合物を5%塩酸、水で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
て、2−(2−クロロエチルアミノ)−3−フェニル−
1,3゜2〜オキサアザホスホリナン−2−オキシドの
粗結晶4.9gを得た。水晶を酢酸エチルより再結晶し
て純品の無色針状晶4.5gを得た。 融点 = 113〜115℃ 元素分析値(CI + H+ e N202 PCIと
して) C(%) H(%) N(%)計算値 48
.10 5,87 10.20実測値 47.98
5.74 10.31参考例 5 2−クロロ−3−(p−メトキシフェニル)−1,3,
2−オキサアザボスボリナン−2−オキシド5.25(
+を塩化メチレン501溶かし、アジリジン1Ωを塩化
メチレンiQn+lに溶がした溶液を滴下し、室温で2
時間反応させた。次いで水冷撹拌下に過剰の乾燥塩化水
素ガスを吹き込み、同温度で30分撹拌した。反応混合
物を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去して、2− (2−クロロエチルアミノ)−3−
(p−メトキシフェニル)−1,3,2−オキサアザ小
スホリナンー2−オキシドの粗結晶6gを得た。水晶を
酢酸エチルより再結晶して純品の無色針状晶5.7Qを
得た。 融点 = 123〜124℃ 元素分析値(CI+ 2 H+ a Nl! 03 P
ctとして) C(%) H(%) N(%)計算値 47
.30 5.95 9.19実測値 47.34
5.85 9.25参考例 6 2−クロロ−3−ベンジル−1,3,2−オキザアザホ
スホリナンー2−オキシド4.9gとβ−クロロエチル
アミン塩酸塩2.6gとを塩化メ25− チレン60il中水冷下に撹拌し、トリエチルアミン4
.5gを塩化メチレン201に溶かした溶液を滴下し、
次いで室温で20時間撹拌した。反応混合物を5%塩酸
、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。塩化メチレンを減圧留去して、2−(2−
クロロエチルアミノ)−3−ベンジル−1,3,2−オ
キナアザホスホリナンー2−オキシドの粗結晶5.6g
を得た。 水晶を酢酸エチル−エーテルより再結晶して純品の無色
針状晶5.3gを得た。 融点 二 90〜92℃ 元素分析値(CI 2 H+ a N202 PCIと
して) C(%) H(%) N(%) 計算値 49.92 6.28 9.70実測値
49.88 6.13 9.75参考例4.5
又は6のいずれかと同様にして、適当な出発原料を用い
て以下の各化合物を得た。 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−シクロへキシ
ル−1,3,2−オキサアザホスホリナ26− シー2−オキシド 融点 : 102〜103.5℃ 無色針状晶(酢酸エチル〉 02−(2−クロロエチルアミノ)−,3−(3゜4−
ジメトキシベンジル11.3.2−オキリーアザホスホ
リナンー2−オキシド 融点 : 111〜113℃ 無色針状晶(エーテル−n−ヘキサン)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−シクロペンチル−1,3,2
−オキサアザホスボリナン−2−オキシド 融点 = 100〜102℃ 無色針状晶(酢酸エチル) 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−シクロへブチ
ル−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシ
ド 融点 : 95〜96℃ 無色釦状晶(n−ヘキサン−エーテル)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−シクロオクチル−1,3,2
−オキサアザホスボリナン−2−オキシド 融点 二 80〜81℃ 無色針状晶(n−ヘキザンーエーテル)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−n−ブチル−1,3,2−オ
キ量ナアザホスホリナンー2−オキシド NMRδfllllll (CDCI 3) :0.
73〜2.07 (m 、9H) 2.53〜3.67 (m 、9H) 3.87〜4.53 (n+ 、2H)02−(2−ク
ロロエチルアミノ)−3−n−へキシル−1,3,2−
オキサアザホスボリナン−2−オキシド NMRδ1)Dlll (CDCI a ) :0.
67〜2.03 (n+ 、13H)2.53〜4.4
3 (m 、11H)02−(2−クロロエチルアミノ
)−3−アリル−1,3,2−オキザアザホスホリナン
ー2−オキシド NMRδDIIIn (CDCI 3 ) :1、
60〜2. 50 (+n 、 2H)2.80
〜4. 73 (IIl 、 1it−1)6゜
03〜5. 40 (1、2H)5.47〜6. 0
3 (III 、 IH)02−(2−クロロエ
チルアミノ)−3−フルフリル−1,3,2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド NMRδ1111111(CDCI a ) :1.6
0〜2.10 (i+ 、2H)2.80〜4.67
(+n 、11H)6.03〜6.30 (i+ 、2
l−1)7.17〜7.30 (i 、IH) 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−(2−チェニ
ルメチル)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2
−オキシド 融点 : 108〜109.5℃ 無色針状晶(酢酸エチル−〇−ヘキサン)02−(2−
クロロエチルアミノ) −3−(11−メチルフェニル
)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシ
ド 29− 融点 : 104〜106℃ 無色針状晶(酢酸エチル) 02−(2−クロロエチルアミノ)−3−(p−フルオ
ロフェニル)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−
2−オキシド 融点 二84〜85℃ 無色針状晶(酢酸エチル) 02−(2−クロロエチルアミノ) −3= (IIl
−トリフルオロメチルフェニル)−1,3,2−オキサ
アザホスボリナン−2−オキシド融点 = 89〜91
℃ 無色針状晶(酢酸エチル−〇−ヘキサン)02−(2−
クロロエチルアミノ) −3−(3゜4−ジクロロフェ
ニル)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オ
キシド 融点 = 101〜103℃ 無色針状晶(塩化メチレン−n−ヘキサン)実施例 1 2−(2−クロロエチルアミノ)−3−フェニル−1,
3,2−オキサアザホスホリナン−2−30− Aキシド1.31gを90%蟻酸131に溶かし、食塩
−氷浴中途却下に内温−10℃〜0℃にて亜硝酸ナトリ
ウム1gを水101に溶かした溶液を滴下し、同温度で
10分間撹拌した。反応液をエーテル50m1に添加し
、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。エー
テルを減圧下に室温以下で留去し、残漬をエーテル−ヘ
キサンにて結晶化させて2− ((N−ニトロソ)−2
−クロロエチルアミノコ−3−フェニル−1,3゜2−
オキサアザホスボリナン−2−オキシドの淡黄色結晶の
1.2gを得た。水晶をエーテルーヘキザンより再結晶
して純品の淡黄色プリズム状晶1gを得た。 融点 : 47〜48℃(分解) IRvmay、 (KBr ) : 1600.1480.1280.1180.1010
am” 元素分析値(c+ + H+ 50iN303 Pとし
て) C(%) H(%) N(%)計算値
43.51 4.98 13.84実測値 4
3.32 4.91 13.81実施例 2 2−(2−クロロエチルアミノ)−3−ベンジル−1,
3,2−オキサアザホスボリナン−2−オキシド1.1
6oを90%蟻112m1に溶かし、食塩水浴中冷却撹
拌下に亜硝酸ナトリウム830mgを水101に溶かし
た溶液を滴下し、同温度で10分間撹拌した。反応混合
物にエーテル50m1を添加し、冷水、冷飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、冷水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。エーテルを減圧下に室温以下で留去
し、残漬をエーテル−ヘキサンにて結晶化させて2−〔
(N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ〕=3−ベ
ンジル−1,3,2−オキサアザホスボリナン−2−オ
キシドの淡黄色結晶950[Ilgを得た。 融点 = 53〜54℃(分解) 実施例1又は2と同様にして、適当な出発化合物から下
記各化合物を得た。 02−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−(p−メチルフェニル)−1,3゜2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド融点 = 51〜52℃
(分解) 淡黄色プリズム状晶 (エーテル−〇−ヘキサン) 02−1N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−
3−(p−メトキシフェニル)−1゜3.2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド 融点 = 69〜70℃(分解) 淡橙色プリズム状晶 (エーテル−n−ヘキサン) 02−1N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−
3−(p−フルオロフェニル)−1゜3.2−オキサア
ザホスボリナン−2−オキシド 融点 : 45〜47℃(分解) 淡黄色粉末状晶 33− (エーテル−0−ヘキサン) 02−〔(N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノコ
−3−シクロへキシル−1,3,2−オキサアザホスボ
リナン−2−オキシド 融点 = 43〜45℃(分解) 無色プリズム状晶 (エーテル−n−ヘキサン) 01−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−(3,4−ジメトキシベンジル)−1,3,2−
オキサアザホスボリナン−2−オキシド NMRδppn (CDCI 3 ) :1.55〜
2.15 (+n 、2H)2.68〜4.48 (m 、12H,3,78のOCH3を含む)6 、
69〜6. 99 (Ill 、 3
ト1 )02−((N−ニトロソ)−2−クロロエチル
アミ〕−3−シクロペンチル−1,3,2−オキ法アザ
ホスホリナンー2−オキシド NMRδpDlil (CDCI 3 ) :34− 1.10〜2.20 (m 、l0H)2.77〜
zl 43 (m 、9H)02−〔(N−ニト
ロソ)−2−クロロエチルアミノ〕−3−シクロへブチ
ル−1,3,2−オキザアザホスホリナンー2−オキシ
ド NMRδρ11111 (CDCI 3) :1.1
0〜2.17(i+、14H) 2.77〜4゜43 (m 、9H) 01−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−シクロオクチル−1,3,2−オキザアザホスホ
リナンー2−オキシド 融点 : 46〜47℃(分解) (エーテル−〇−ヘキサン) 02−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)
−3−n−ブチル−1,3,2−オキサアザホスボリナ
ン−2−オキシド NMR611011(CDCI 3) :0.77〜2
.10 (m 、9H) 2.50〜4.47 (m 、101−1)02−((
N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−3−n−
へキシル−1,3,2−オキサアザ小スホリナンー2−
オキシド NMR60111m (CDCI 3) :0.72
〜2.12(…、13H) 2、 58 〜4. 45 (+n 、
1 0H)02−((N−ニトロソ)−2−クロロエ
チルアミノコ−3−アリル−1,3,2−オキサアリ”
ホスホリチン−2−オキシド NMR6ppm (CDCI 3 ) :1.60〜
2.30 <+++ 、2H)2.75〜4.60 (
m 、10t−1>6.03〜5.42 (m 、2H
) 5.48〜6.02 (+++ 、IH)02−〔(N
−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノコ−3−フルフ
リル−1,3,2−オキザアザホスホリナンー2−オキ
シド NMR6013m (CDCI 3 ) :1.64
〜2.13 (m 、2H) 2 、 27〜4.60(m、10 ト1 )6.0
3〜6.31 (m 、2H) 7、 1 7〜7.30 (m 、 IH)02
−((N−ニトロソ)−2−クロロエチルアミノ)−3
−(2−チェニルメチル)−1,3゜2−オギサアザホ
ス小すナンー2−オキシドN M I’< δppl
Il(CDCI 3 ) :1.67〜2.13 (m
、2H) 2.90〜3.70 (+n 、6H)3.83〜4.
73 (m 、4H) 6.80〜7.00 (n+ 、2H)7.10〜7.
27 (IIl、IH)(以 上) 37−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 C式中Rはフェニル環上に置換基として低級アルキル基
、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の
1〜3個を有することのあるフェニル基、フェニル環上
に低級アルコキシ基を1〜3個有することのあるフェニ
ル低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、フリル低級アルキル基又はチ
ェニル低級アルキル基を示ず。Xはハロゲン原子を示す
。〕 で表わされる2−((N−ニトロソ)−2−ハロゲノエ
チルアミノ)−1,3,2−オキサアザホスボリナン−
2−オキシド誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14130882A JPS5929696A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 2−〔(n−ニトロソ)−2−ハロゲノエチルアミノ〕−1,3,2−オキサアザホスホリナン−2−オキシド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14130882A JPS5929696A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 2−〔(n−ニトロソ)−2−ハロゲノエチルアミノ〕−1,3,2−オキサアザホスホリナン−2−オキシド誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5929696A true JPS5929696A (ja) | 1984-02-16 |
JPH0258277B2 JPH0258277B2 (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=15288867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14130882A Granted JPS5929696A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 2−〔(n−ニトロソ)−2−ハロゲノエチルアミノ〕−1,3,2−オキサアザホスホリナン−2−オキシド誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5929696A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2567129A1 (fr) * | 1984-07-06 | 1986-01-10 | Adir | Nouveaux derives de l'oxaazaphosphorine, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques les renfermant |
US4812501A (en) * | 1986-04-23 | 1989-03-14 | Ciba-Geigy Corporation | 1,3,2-oxazaphospholidine stabilizers |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0564163U (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-24 | 中国パール販売株式会社 | 粘着テープ |
-
1982
- 1982-08-13 JP JP14130882A patent/JPS5929696A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2567129A1 (fr) * | 1984-07-06 | 1986-01-10 | Adir | Nouveaux derives de l'oxaazaphosphorine, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques les renfermant |
US4605647A (en) * | 1984-07-06 | 1986-08-12 | Adir, S.A.R.L. | Oxaazaphosphorine compounds and pharmaceutical compositions |
US4812501A (en) * | 1986-04-23 | 1989-03-14 | Ciba-Geigy Corporation | 1,3,2-oxazaphospholidine stabilizers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0258277B2 (ja) | 1990-12-07 |
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