JPS5931787A

JPS5931787A - １，３，２−オキサアザホスホリナン−２−オキシド誘導体

Info

Publication number: JPS5931787A
Application number: JP14130982A
Authority: JP
Inventors: Tadao Sato; 佐藤　忠夫; Hitoshi Tone; 利根　斉; Takashi Ueda; 敬上田; Kazuyuki Nakagawa; 量之中川
Original assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1982-08-13
Filing date: 1982-08-13
Publication date: 1984-02-20
Also published as: JPH0258278B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は新規な１．３．２−オキサアザホスボリナン−
２−オキシド誘導体に関する。

本発明の１．３．２−オキサアザホスボリナン−２−オ
キシド誘導体は、下記一般式〔１）で表わされる。

Ｃ式中Ｒ１はフェニル環上に置換基として低級１ルキル
基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基
の１〜３個を有することのあるフェニル基、フェニル環
上に低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェ
ニル低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、ハロゲン
原子を３個有することのある低級アルキル基、低級アル
ケニル基、フリル低級アルキル基又はチェニル低級アル
キル基を示す。

Ｒ２はハロゲン原子又はＮＨＣＨ２ＣＨ２Ｘ（×はハ［
コゲン原子を示す）基を示す。ただしＲ２がハロゲン原
子のとき、Ｒ１はフェニル環上に低級アルコキシ基を１
〜３個有することのあるα−フェニル低級アルキル基で
あってはならない。〕上記一般式中Ｒ１及びＲ２で定義される各基の具体例を
夫々次に例示する。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
：１キシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の１〜３個
を有することのあるフェニル基としては、フェニル、２
−９３−もしくは４−クロロフェニル、２−．３−もし
くは４−フル３ロフ工二ル、２−．３−もしくは４−ブ
ロムフェニル、２−９３−もしくは４−ヨードフェニル
、３．５−ジクロロフェニル、２．６−ジクロロフェニ
ル、３．４−ジクロロフェニル、３．４−ジフルオロフ
ェニル、３．５−ジブロムフェニル、２−、３−もしく
は４−メチルフェニル、２−３３−もしくは４−エチル
フェニル、３−イソプロピルフェニル、４−ヘキシルフ
ェニル、３，４−ジメチルフェニル、２．５−ジメチル
フェニル、２−、３−もしくは４−メトキシフェニル、
２−９３−もしくは４−工１−キシフェニル、４−イソ
プロポキシフェニル、４−へキシルオキシフェニル、３
゜４−ジメトキシフェニル、３，４−ジェトキシフェニ
ル、２．５−ジメトキシフェニル、３−メチル−４−ク
ロロフェニル、２−クロロ−６−メチルフェニル、２−
メトキシ−３−クロロフェニル、３．４．５−トリメト
キシフェニル、３．４．５−トリメチルフェニル、３，
４．５−トリクロロフェニル基などを例示できる。

フェニル環上に低級アルコキシ基を１〜３個有すること
のあるフェニル低級アルキル基としては、ベンジル、２
−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニル
プロピル、４−フェニルエチル、１．１−ジメチル−２
−フェニルエチル、５−フェニルベンチル、６−フェニ
ルヘキシル、２−メチル−３−フェニルプロピル、２−
もしくは３−メトキシベンジル、２−（４−メトキシフ
ェニル）エチル、２−エトキシベンジル、１−（３−エ
トキシフェニル）エチル、３−（４−エトキシフェニル
）プロピル、６−（４−イソプロポキシフェニル）ヘキ
シル、４−（４−へキシルオキシフェニル）ブチル、１
．１−ジメチル−２−（３，４−ジメトキシフェニル）
エチル、５−フェニルペンチル、５−（３，４−ジェト
キシフェニル）ペンチル、６−　（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）ヘキシル、２−メチル−３−（２゜５
−ジメトキシフェニル）プロピル基などを例示できる。

５− シクロ低級アルキル基としては、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンデル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル基などを例示できる。

ハロゲン原子を３個有することのある低級アルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、１〜リ
フルオロメチル、１ヘリヨードメチル、トリブロモメチ
ル、トリクロロメチル、２−トリフルオロエチル、１−
トリブロモエチル、３−トリクロロプロピル、２−トリ
ブロモイソプロピル、４−１〜リフルオロブチル、５−
トリブロモペンチル、ロートリフルオロヘキシル、２−
ジブロモ−１−クロロエチル、２−フルオロ−１−ジク
ロロエチル、４−フルオロ−３−ジフルオロブチル基な
どを例示できる。

低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−へキセニル基などを例示できる。

６一フリル低級アルキル基としては、フルフリル、２−（２
−フリル）エチル、１−（３−フリル）エチル、３−　
（２−フリル）プロピル、４−（２−フリル）ブチル、
１．１−ジメチル−２−（２−フリル）エチル、５−（
３−フリル）ペンチル、６−（２−ノリル）ヘキシル、
２−メチル−３−（３−フリル）プロピル基などを例示
できる。

ヂ玉ニル低級アルキル基としては、２−チェニルメチル
、ｌ−＜２−チェニル）エチル、１−（２−チェニル）
エチル、３−（３−チェニル）プロピル、４−〈２−チ
ェニル）ブチル、１．１−ジメチル−２−（３−チェニ
ル）エチル、５−（２−チェニル）ペンチル、６−（２
−チェニル）ヘキシル、２−メチル−３−（２−チェニ
ル）プロピル基などを例示できる。

またハロゲン原子としては、沃素、臭素、塩素、弗素原
子等を例示できる。

低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基などを例示でき
る。

本発明の上記一般式〔１〕で表わされる誘導体は、本発
明者らが別途に開発した制ガン剤として有用’１２−（
（Ｎ−ニトロソ）−２−ハロゲノエチルアミノ）−１，
３，２−オキリーアデホスホリナンー２−オキシド誘導
体の合成中間体として有用である。

以下本発明誘導体の製造方法につき詳述する。

本発明誘導体は、例えば下記反応行程式−１及び−２に
示す方法により製造される。

〔反応行程式−１〕〔式中Ｒ１は前記に同じ。×１はハロゲン原子を示す。

〕一般式（２）及び〔３〕で表わされる各化合物は公知で
あり、これ等の反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の
存在下又は不存在下に行なうことができる。溶媒として
は、反応に悪影響を与えないものであればいずれも使用
でき、例えば塩化メチレン、クロロホルム、１．２−ジ
クロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
ジエチルエーテル、ジインプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、１．２−ジメトキシエタン、
ジグライム、トリグライム等のエーテル類；ｎ−へブタ
ン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン等の
脂肪族炭化水素類；Ｉ￥酸メチル、酢酸エチル等のエス
テル類等を例示できる。

塩基性化合物としては、反応に悪影響を与えない各種の
もの、例えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルア
ミノピリジン、キノリン、１゜５−ジアザビシクロ（４
，３，０）ノネン−５（ＤＢＮ）、１．５−ジアザビシ
クロ（５，４゜９− Ｏ〕ウンデレン−５（ＤＢＵ）　、１．４−ジアザビシ
クロ（２，２，２３オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩
基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を例示できる。一般
式〔２〕の化合物に対する一般式〔３〕の化合物の使用
量は、特に限定されず広い範囲から適宜選択することが
できるが、通常前者に対して後者を等モル−３倍モル量
、好ましくは等モル−１，５倍モル量用いるのがよい。

塩基性化合物の使用量としては、特に限定されず、広範
囲から適宜選択すればよいが一般式〔２〕の化合物に対
して通常２〜５倍モル量、好ましくは２〜３倍モル量と
するのがよい。反応温度は、通常−７０℃〜１００℃、
好ましくは一１０℃〜５０℃とされる。反応は１０分〜
５時間で終了する。

〔反応行程式−２〕＝１０− 〔式中Ｒ’、Ｘ及び×１は前記に同じ。］一般式〔１ａ
〕の化合物と一般式〔４〕の化合物（２−ハロゲノエチ
ルアミン又はその塩〉との反応は、適当な溶媒中、塩基
性化合物の存在下又は不存在下で行なうことができる。

使用される溶媒としては、反応に悪影響を与えない各種
のもの例えば塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジ
クロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類ニ
ジエチルエーテル、１．２−ジメトキシエタン、ジグラ
イム、トリグライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類：Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド等の非プロトン性極性溶媒等を例示できる。

使用される塩基性化合物としては、例えばトリエチルア
ミン、トリプロピルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン
、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、キノリン、
ＤＢＮ、ＤＢＵ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等の無機塩基を例示できる。一般式〔１ａ〕の化
合物に対する一般式〔４〕の２−ハロゲノエチルアミン
又はその塩の使用割合は、特に限定されず適宜に選択で
きるが、一般に前者に対して後者を等モル−５倍モル量
、好ましくは等モル−３倍モル量とすればよい。塩基性
化合物の使用割合としては、一般式（１ａ〕の化合物に
対して、通常等モル−１０倍モル社、好ましくは等モル
−５倍モル量を採用できる。反応は一般に一３０℃〜１
００℃、好ましくはＯ℃〜５０℃にて３０分〜３０時間
を要して行なわれる。

一般式〔１ａ〕の化合物と式〔５〕のアジリジンとの反
応は、適当な溶媒中又は溶媒の不存在下、塩基性化合物
の存在下又は不存在下に行なうことができる。溶媒及び
塩基性化合物としては前記一般式〔１ａ〕の化合物と一
般式〔４〕の化合物との反応において例示したものと同
様のものをいずれも使用できる。一般式〔１ａ〕の化合
物に対する式（５）のアジリジンの使用割合は、一般に
等モル−１０倍モル量、好ましくは等モル−３倍モル量
とされるのがよい。塩基性化合物の使用割合は、一般式
〔１ａ〕の化合物に対して通常等モル〜５倍モル量、好
ましくは等モル−３倍モル量とされるのがよく、反応は
通常−５０℃〜７０℃、１３− 好ましくは一３０℃〜５０℃の温度条件下に１０分〜１
０時間を要して行なわれる。

引続く一般式〔６〕の化合物と一般式〔７〕のハロゲン
化炭化水素との反応は、上記で得られる一般式〔６〕の
化合物を単離後又は単離することな〈実施される。該反
応は適当な溶媒中で行なわれる。溶媒としては、反応に
悪影響を与えない各種のもの、例えば塩化メチレン、ク
ロロホルム、１．２−ジクロロエタン、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム
、トリグライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類：ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類等を例示できる。

ハロゲン化炭化水素〔ア〕の使用割合は、一般式〔６〕
の化合物に対して通常等モル〜大過剰量、好ましくは等
モル−５倍モル量とされるのがよい。

反応は通常−５０℃〜５０℃、好ましくは一り０℃〜室
温付近の温度条件下に１０分〜５時間を要して行なわれ
る。

１４− かくして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。

尚、本発明は光学異性体も当然に包含するものである。

本発明の上記一般式（１ｂ）で表わされる１゜３．２−
オキサアザホスボリナン−２−オキシド誘導体は、下記
反応行程式−３に示す方法により制御ガン剤として有用
な２−（（Ｎ−ニトロソ）−２−ハロゲンエチルアミノ
）−１，３，２−オキサアザホス、ボリナン−２−オキ
シド誘導体に導くことができる。

〔反応行程式−３〕〔式中Ｒ１及びＸは前記に同じ。〕一般式〔１ｂ〕の化合物のニトロソ化反応には、通常の
Ｎ−ニトロソ化反応に採用される条件を広く採用するこ
とができる。該反応は、例えば適当な溶媒中、酸又は塩
基性化合物の存在下でニトロソ化剤を使用して実施する
ことができる。使用さ　。

れる溶媒としては、ニトロソ化反応に慣用される　゛も
の、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール等の低級アルコール類；ジクロロメタン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類；酢酸等の脂肪族カルボン酸類：無水酢酸等の脂
肪族酸無水物類；ピリジン、キノリン等の芳香族アミン
類等を例示できる。使用される酸としては、例えば塩酸
、硝酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸類：酢酸、蟻酸等の
有機酸類を例示できる。使用される塩基性化合物として
は、例えばピリジン、キノリン、酢酸ナトリウム等の有
機塩基及び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素す
［・リウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を例示でき
る。使用されるニトロソ化剤としては亜硝酸ナトリウム
、亜硝酸カリウム等のアルカリ金属の亜硝酸塩、Ｎ２Ｏ
３、Ｎ２０Ｌ等の窒素酸化物、ニトロシルクロライド等
を例示できる。反応温度としては、通常−６０℃〜１５
℃付近、好ましくは一２０℃〜７℃付近を採用でき、反
応は５分〜１６時間で終了する。ニトロソ化剤の使用割
合としては、一般式〔１ｂ〕の化合物に対して少なくと
も等モル、好ましくは等モル−８倍モルとされる。酸又
は塩基の使用量は、一般式〔１ｂ〕の化合物に対して少
なくとも等モル量、好ましくは大過剰量とするのがよい
。

以下に、本発明を更に詳述するため本発明化合１７− 物のＷＡ造例を実施例として挙げ、また本発明化合物か
らの制御ガン剤有効成分化合物の製造例を参考例として
挙げる。

実施例　１オキシ塩化リン６．４５（］を塩化メチレン６０１に溶
かし、水冷攪拌下にＮ−（３−ヒドロキシプロピル）−
アニリン６．０４（ｌとトリエチルアミン８，５ｇとを
塩化メチレン５０ｍ１溶かした溶液を滴下し、同温度で
１．５時間反応させた。反応混合物を５％塩酸、水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチ
レンを減圧留去して、２−クロロ−３−フェニル−１，
３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキシドの゛粗
結晶８．３ｇを得た。水晶を塩化メチレン−ヘキサンよ
り再結晶して純品の無色針状晶７．８ｇを得た。融点１
１３．５〜１１５℃ 元素分析値（Ｇｏ　Ｈ＋　ＩＣＩ　ＮＯ２ＰとＬＴ）Ｃ
〈％）　　　　　Ｈ（％）　　　　　Ｎ（％）計算値　
　４６．６７　　４．７９　　６．０４実測値　　４６
．６４　　４．６９　　６．０１１８− 実施例実施例１と同様にして、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル
）−ｐ−１−ルイジン８．７５Ωをオキシ塩化リンフ、
９８０と反応させて２−クロロ−（３−〇−メチルフェ
ニル）−１，３，２−オキリー７ザ小スホリナンー２−
オキシドの無色剣状晶１０、ｉ＋　　　を　得　プこ　
。

融点１３０〜１３２°Ｃ６元素分析値（ＣＩ　ｏ　Ｈ＋　３　ＣＩ　ＮＯ２Ｐとし
て）Ｃ（％　）　　　　　　　ト１　　（％　）　　　
　　　　　Ｎ（％　）計算値　　４８．８９　　５．３
３　　５．７０実測値　　４８．８５　　５．２２　　
５．６９実施例　３オキシ塩化リンフ、８１＋をトルエン１００…１に溶か
し、水冷攪拌下にＮ−（３−ヒドロキシプロピル）シク
ロヘキサン１２．５０とトリエチルアミン２１０とをト
ルエン５０１に溶かした溶液を滴下し、同温度で１時間
反応させた。反応混合物を５％塩酸、水及び飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。トル
エンを減圧留去して得た残渣を、シリカゲル３００ｇ　
（クロロホルム溶出）でカラムクロマト精製して、２−
クロロ−３−シクロヘキシル−１，３，２−オキサアザ
ホスボリナン−２−オキシドの無色油状物１８（＋を得
た。これはＩＲにより同定された。

Ｔ　Ｆ？、　　νｍａｘ　　（ｎｅａｔ）　、ｃｍ−’
　：２９５０．２８６０．１４５０．１３００．１２４
５．１１０９．１０９０．１０５０゜１０１５．９２０
，８２０，７５０上記いずれかの実施例と同様にして、適当な出発原料を
用いて以下の各化合物を得た。

０２−クロロ−３−ベンジル−１，３，２−オキザアザ
ホス小すナンー２−オギシド融点　６９〜７０．５°Ｃく酢酸エチル−ヘキサン）無色針状晶Ｏ２−クロロ−３−（３，４−ジメトキシベンジル）−
１，３，２−オキザアザホスホリナンー２−オキシドＮＭＲ６ｐｐｍ　　（ＣＤＣＩ　３　）　：１、　５３
〜２．　３３　　（ｍ、　　２Ｈ）２、．７０〜３．　
２０　　（ｎ＋　　、　　２ｌ−１）３　、　２３〜３
．７０（ｍ、２　　ト１　）３、　８３　　（ｓ　　、
　　６Ｈ）４．２０〜４．７６（１１１，２日〉６、７０〜６．　９７　　（ＩＩＩ　　、　　３Ｈ）０
２−クロロ−３−シクロペンチル−１，３，２−オキサ
アザホスボリナン−２−オキシドＮＭＲδｐｐｍ　　（
ＣＤＣ，＋　３　）　：１．３０〜２．４３　＜ｍ　、
１０Ｈ）２．８７〜３．４７．（＋ｎ　、２Ｈ）３．７
３〜４．７０　（ｍ　、３Ｈ）０２−クロロ−３−シクロへブチル−１，３，２＝オキ
ザアザホスホリナン−２−オキシドＮＭＲδ１１１１１
１１１　　（ＣＤＣＩ　３　）　：１．１３〜２．３８
　（ｍ　、　１４．Ｈ）２．８７〜３．９２　（ｍ、３
Ｈ）４．０７〜４．６７　（１，２Ｈ）０２−クロロ−７−３−シクロオクチル−１，３，２−
オーキザアザホスホリナンー２−オキシド２１− ＮＭＲ６ＤｐＩ　（ＣＤＣＩ　　３　　）　　：１、　
２７〜２．３３　　（ｍ　　、　　１　６Ｈ）２．９．
０〜３．４５　　（ｍ　　、　　２Ｈ）３、．５６〜４
．０３　　（ｍ　　、　　Ｉ　Ｈ）４、　１３〜４．　
５７　　（ｍ　　、　　２’Ｈ）０２−クロロ−３−ｎ
−ブチル−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−
オキシドＮＭＲδＤｐＩＩＩ　　（ＣＤＣＩ　３　）　：０６６
７〜３．５７　（＋ｎ　、１３Ｈ）４．１３〜４．７０
　（１１１，２Ｈ）０２−クロロ−３−ｎ−へキシル−
１，・３．２−オキザアザホスホリナンー２−オキシド
ＮＭＲ６ｐｐｍ　　（ＣＤＣＩ　３　）　：０．６０〜
３．５７　（ｍ　、１７Ｈ）４．１３〜４．７０　（ｍ
　、２Ｈ）０２−クロロ−３−アリル−１，，３，２−オキサアザ
ホスボリナン−２−オキシドＮＭＲδ１）ｌ）ＩＩＩ　　（ＣＤＣＩ　ａ　）　：１
．６０〜２．５０（…、２Ｈ〉２．８０〜３．５３　（ｎ＋　、２Ｈ）２２− ３　、　６０〜４．　　７３　　　（Ｉｌｌ　、　　　
４　　ト１　）５．０３〜５．　４０　　（ｍ　　、　
　２Ｈ）５．４７〜６．０３（ｍ、１Ｈ）０２−クロロ−３−フルフリル−１，３，２−オキサア
ＩＪ″ホスホリナンー２−オキシドＮＭＲ６ＤＩ）Ｉｌ
ｌ　　（ＣＤＣＩ　３　）　：１．５７〜２．５１　（
＋ｎ　、２Ｈ）２゜８７〜３．５７　（ｍ　、　２Ｈ）
３．８３〜４．６７　（ｍ　、４Ｈ）６．２３〜６．３’７　（ｍ　、２Ｈ）７、３３　（ｔ
　、　ＩＩ−（、Ｊ＝１．５１−１２　）０２−クロロ
−３−（２−チェニルメチル）−１゜３．２−オキザア
ザボスホリナンー２−オキシドＮＭＲδ　ｐｐｎ＋　　　（ＣＤＣＩ　　３　　＞　　
　：１、　５７　〜２．　４３　　（Ｉｌｌ、　　　２
Ｈ）２　、８０〜３．　５０　　（ｍ　　、　　２Ｈ）
３、　８３　〜４　　、８７　　（ｍ　　、　　４Ｈ）
６　、８０〜７．０７（…　、　　２　日　）７　、　
１７〜７．　３０　　（ｍ　　、　　　１Ｈ）０２−ク
ロロ−３−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，２−オ
キサアザホスボリナン−２−オキシド融点　＝　１２７〜１３０℃ 無色針状晶（ＣＨ２Ｃ１２ｎ−ヘキサン）０２−クロロ
−３−（ｐ−フルオロフェニル）−１，３，２−オキサ
アザホスボリナン−２−オキシド融点　：　１３２〜１３４℃ 無色プリズム状晶〈０日２Ｃｌ、、’ｎ−ヘキザン）０２−クロロ−３−（ｍ　−ｔ−リフルオロメチルフェ
ニル）−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−オ
キシドＮＭＲδＦＩｐＩＩＩ　　（ＣＤＣＩ　３）　：１．６
７〜２．６７　（ｍ　、２１−１＞３、　００〜４．　
００　　（ｍ　　、　　２１−１＞４．２０〜４．８０
　（ｍ　、　２ｌ−１）７．２３〜７．６７　（＋ｎ　
、４Ｈ）０２−クロロ−３−（３，４−ジクロロフェニ
ル）−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキ
シド融点　：　１１４〜１１６℃ 淡黄色板状晶（ＣＨ２ＣＩ　２−ｎ　−ヘ＊”）”ン）
実施例　４２−クロロ−３−フェニル−１，３，２−オキサアザホ
スボリナン−２−オキシド４．’６３（ｌと２−クロロ
エチルアミン塩酸塩２．９９とを塩化メチレン５０１中
氷冷下に攪拌し、トリエチルアミン５．１ｇを塩化メチ
レン３０ｍ１溶かした溶液を滴下し、室温で２０時間撹
拌した。反応混合物を５％塩酸、水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、２
−（２−クロロエチルアミノ）−３−フェニル−１，３
゜２−オキザアザホスホリナンー２−オキシドの粗結晶
４．９ｇを得た。水晶を酢酸エチルより再結晶して純品
の無色針状晶４，５Ωを得た。

融点　：　１１３〜１１５℃ 元素分析値（Ｃ’＋　＋　Ｈｌ　ａ　Ｎ２’０２　ＰＣ
Ｉとして）２５− Ｃ（％）　　　　Ｈ（％）　　　　Ｎ（％）計算値　　
４．８．１０　　５．８７　１０．２０実測値　　４．
７．９８　　５．７４　１０．３１実施例　５２−クロロ−３−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，
２−オキサアザホスボリナン−２−オキシド５．２５（
ｌを塩化メチレン５０１溶”かし、アジリジン１ｇを塩
化メチレン１０ｍ’ｌに溶かした溶液を滴下し、室温で
２時間反応させた。次いで水冷撹拌下に過剰の乾燥塩化
水素ガスを炊き込み、同温度で３０分撹拌した。反応混
合物を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去して、２−（２−クロロエチルアミノ）−３−
（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，２−オキサアザホ
スボリナン−２−オキシドの粗結晶６ｇを得た。水晶を
酢酸エチルより再結晶して純品の無色針状晶５．７ｇを
得た。

融点　：　１２３〜１２４℃ 元素分析値（ＣＩ’２　Ｈｌ　ａ　Ｎ２Ｏ３ＰＣ’１と
して）２６− Ｃ（％）　　　　　Ｈ（％）　　　　Ｎ　（％）計算値
　　４７．３０　　５．９５　　９．１９実測値　　４
７．３４　　５．８５　　９．２５実施例　６２−クロロ−３−ベンジル−１，３，２−オキサアザホ
スボリナン−２−オキシド４．９９とβ−クロロエチル
アミン塩酸塩２．６０とを塩化メチレン６０ｍ１中氷冷
下に撹拌し、トリエチルアミン４．５ｇを塩化メチレン
２０ｍ１に溶かした溶液を滴下し、次いで室温で２０時
間撹拌した。反応混合物を５％塩酸、水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メ
チレンを減圧留去して、２−（２−クロロエチルアミノ
）−３−ベンジル−１，３，２−オキサアザホスボリナ
ン−２−オキシドの粗結晶５．６ｇを得た。

水晶を酢酸エチル−エーテルより再結晶して純品の無色
針状晶５．３ｇを得た。

融点　＝　９０〜９２℃ 元素分析値（Ｃ＋　２Ｈ＋　ａ　Ｎ２０２　Ｐｃｔとし
て）Ｃ（％）　　　Ｈ（％）　　　　Ｎ（％）計算値　　４
９．９２　　６．２８　　９．７０実測値　　４９．８
８　　６．１３　　９．７５実施例４．５又は６のいず
れかと同様にして、適当な出発原料を用いて以下の各化
合物を得た。

０２−（２−クロロエチルアミノ）−３−シクロへキシ
ル−１，３，２−オキ１ナアザホスホリナン−２−オキ
シド融点　：　１０２〜１０３．５℃ 無色針状晶（酢酸エチル）０２−（２−クロロエチルアミノ）−３−（３゜４−ジ
メトキシベンジル）−１，３，２−オキサアザホスボリ
ナン−２−オキシド融点　：　１１１〜１１３℃ 無色針状晶（エーテル−〇−ヘキサン）０２−（２−ク
ロロエチルアミン）−３−シ’ｙロペンチルー１．３．
２−オキサアザホスホリナン−２−オキシド融点　：　１００〜１０２℃ 無色針状晶（酢酸エチル）０２−（２−クロロエチルアミノ）−３−シクロへブチ
ル−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキシ
ド融点　二　９５〜９６℃ 無色針状晶（ｎ−ヘキサン−エーテル）０２−（２−ク
ロロエチルアミノ）−３−シクロオクチル−１，３，２
−オキサアザホスボリナン−２−オキシド融点　：　８０〜８１℃ 無色針状晶（ｎ−ヘキサン−エーテル）０２−（２−ク
ロロエチルアミノ）−３−ｎ−ブチル−１，３，２−オ
キサアザホスボリナン−２−オキシドＮＭＲδＤＤｍ　　（ＣＤＣＩ　３）　：０．７３〜２
．０７　（１，９Ｈ）２．５３〜３．６７　（ｍ　、９Ｈ）３．８７〜４．５３　（ｍ　、　２１−（＞０２−（２
−クロロエチルアミノ）−３−ｎ−ヘキシル−１，３，
２−オキサアザホスホリナン＝２−オキシド２９− ＮＭＲδ１１＋１１１１　　（ＣＤＣＩ　　３　　）　
　：０．６７〜２．０３　　（ｍ　　、１３Ｈ）２．５
３〜４．４３　　（ｍ　　、１１Ｈ）０２−（２−クロ
ロエチルアミノ）−３−アリル−１，３，２−オキサア
ザホスボリナン−２−オキシドＮＭＲ６ｐｐｎ＋　　（ＣＤＣＩ　３　）　：１．６０
〜２．５０　（ｍ　、２Ｈ）２．８０〜４．７３　（ｍ　、１１Ｈ）６．０３〜５．
４０　（ｍ　、２Ｈ）５．４７〜６．０３　（ｍ　、ＩＨ）０２−（２−クロロエチルアミノ）−３−フルフリル−
１，３，２−オキサアザホスホリチン−２−オキシドＮＭＲ６ＦＩＦ１ｍ　　（ＣＤＣＩ　３）　：１．６０
〜２．１０　（ｍ　、２Ｈ＞２．８０〜４．６７　（ｍ　、１１Ｈ）６．０３〜６．
３０　＜ｍ　、２Ｈ）７．１７〜７．３．０　（ｉ＋　、　Ｉ　Ｈ）０２−（
２−クロロエチルアミノ）−３−（２−３０− チェニルメチル）−１，３，２−オキサアザホスボリナ
ン−２−オキシド融点　：　１０８〜１０９．５℃ 無色釧状晶（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）０２−（２−
クロロエチルアミノ）−３−（ｐ　−メチルフェニル）
−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキシド融点　：　１０４〜１０６℃ 無色針状晶（酢酸エチル）０２−（２−クロロエチルアミノ）　−３−（ｐ　−フ
ルオロフェニル）−１，３，２−オキサアザホスボリナ
ン−２−オキシド融点　二８４〜８５℃ 無色針状晶（酢酸エチル）０２−（２−クロロエチルアミノ）−３−（ｉ−トリフ
ルオロメチルフェニル）−１，３，２−オキサアザホス
ボリナン−２−オキシド融点　二　８９〜９１℃ 無色針状晶（酢酸エチル−〇−ヘキサン）０２−（２−
クロロエチルアミノ）−３−（３゜４−ジクロロフェニ
ル）−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキ
シド融点　＝　１０１〜１０３℃ 無色針状晶（塩化メチレン−〇−ヘキサン）参考例　１２−　（１１０ロエチルアミノ）−３−フェニル−１，
３，２−オギサアザボスホリナンー２−オキシド１．３
１ｇを９０％蟻酸１３ｍ１に溶かし、食塩−氷浴中津却
下に内温−１０℃〜Ｏ℃にて亜硝酸ナトリウム１ｇを水
１０ｍ１に溶かした溶液を滴下し、同温度で１０分間撹
拌した。反応液をエーテル５０ｍ１に添加し、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。エーテルを減圧
下に室温以下で留去し、残渣をエーテル−ヘキサンにて
結晶化させて２−　（（Ｎ−ニトロソ〉−２−クロロエ
チルアミノコ−３−フェニル−１，３゜２−オキサアザ
ホスボリナン−２−オキシドの淡黄色結晶の１，２Ｑを
得た。水晶をエーテル−ヘキサンより再結晶して純品の
淡黄色プリズム状晶１ｇを得た。

融点　：　４７〜４８℃（分解）ＩＲｖｍａｙ、　　（ＫＢＩ’　　）　　：１　６００
、　１　４８０．　１　２８０、１１８０．１０１１０
１Ｏ’ 元素分析値（Ｃ＋　＋　Ｈ＋　５　ＣＩ　Ｎ３０３Ｐと
して）Ｃ（％）　　　Ｈ（％）　　　Ｎ（％）計算値　　４３
．５１　　４．９８　１３．８４実測値　　４３．３２
　　４．９ｉ　　１３．８１参考例　２２−（２−クロロエチルアミノ）−３−ベンジル−１，
３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキシド１．１
６ｏを９０％蟻酸１２１に溶かし、食塩水浴中冷却撹拌
下に亜硝酸ナトリウム８３０１（］を水１０１に溶かし
た溶液を滴下し、同温度で１０分間撹拌した。反応混合
物にエーテル５０ｍ１を添加し、冷水、冷飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、冷水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。エーテルを減圧下に室温以下で留去
し、３３− 残渣をエーテル−ヘキサンにて結晶化させて２−（（Ｎ
−ニトロソ）−２−クロロエチルアミノコ−３−ベンジ
ル−１，３，２−オキサアザホスボリナン−２−オキシ
ドの淡黄色結晶９５０ｎ＋ｏを得た。

融点　＝　５３〜５４℃（分解）（以　上）３４−

Claims

【特許請求の範囲】 ■　一般式（式中Ｒ１はフェニル環上に置換基として低級アルキル
基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基
の１〜３個を有することのあるフェニル基、フェニル環
上に低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェ
ニル低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、ハロゲン
原子を３個有することのある低級アルキル基、低級アル
ケニル基、フリル低級アルキル基又はチェニル低級アル
キル基を示す。Ｒ２はハロゲン原子又はＮＨＣＨ２ＣＨ２Ｘ（Ｘはハロ
ゲン原子を示す〉基を示す。ただしＲ２がハロゲン原子
のとき、Ｒ１はフェニル環上に低級アルコキシ基を１〜
３個有することのあるα−フェニル低級アルキル基であ
ってはならない。〕で表わされる１、３．２−オキサアザホスボリナン−２
−オキシド誘導体。