KR0173036B1 - 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법 - Google Patents

2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR0173036B1
KR0173036B1 KR1019950041295A KR19950041295A KR0173036B1 KR 0173036 B1 KR0173036 B1 KR 0173036B1 KR 1019950041295 A KR1019950041295 A KR 1019950041295A KR 19950041295 A KR19950041295 A KR 19950041295A KR 0173036 B1 KR0173036 B1 KR 0173036B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reaction
general formula
alkyl
acetonitrile
following general
Prior art date
Application number
KR1019950041295A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970027078A (ko
Inventor
류요섭
김성기
편승엽
유성훈
전재훈
김문정
조진호
Original Assignee
성재갑
주식회사엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 성재갑, 주식회사엘지화학 filed Critical 성재갑
Priority to KR1019950041295A priority Critical patent/KR0173036B1/ko
Publication of KR970027078A publication Critical patent/KR970027078A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0173036B1 publication Critical patent/KR0173036B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/24—Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 하기 일반식(I)로 표시되는 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
상기식에서,
R1은 C1-5직쇄알킬, C1-5측쇄알킬, C1-5할로알킬, C3-8시클로알킬, C1-5알킬 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 벤질, 또는 C1-5알킬 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 페닐기를 나타내고,
R2는 C1-3알킬 또는 C1-3할로알킬기를 나타낸다.

Description

2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법
본 발명은 하기 일반식(I)로 표시되는 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
상기식에서, R1은 C1-5직쇄알킬, C1-5측쇄알킬, C1-5할로알킬, C3-8시클로알킬, C1-5알킬 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 벤질, 또는 C1-5알킬 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 페닐기를 나타내고,
R2는 C1-3알킬 또는 C1-3할로알킬기를 나타낸다.
바람직한 일반식(I)의 화합물R1가 C1-3알킬, C3-6시클로알킬, 벤질 또는 페닐기를 나타내고, R2는 메틸 또는 에틸기인 화합물이다.
상기 일반식(I)의 화합물은 역병균과 노균병균이 일으키는 식물병의 퇴치에 사용되는 살균물질의 제조에 있어서 중간체로서 유용한 유도체들로서 본 발명자들에 의해 이미 대한민국 특허출원 공개 제94-19960호로 출원되었다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명의 목적화합물인 일반식(I)의 화합물은 하기 제조방법 I에 따라 제조된다.
[제조방법 I]
상기식에서, R1및 R2는 각각 전술한 바와 같다.
먼저 일반식(III)의 카르복실산을 아실화제를 사용하여 일반식(IV)의 산염화물로 전환시킨 후, 산 염화물을 염기존재하에서 아미노니트릴 염산염과 반응시켜서 일반식(I)의 목적화합물을 제조한다.
반응 1에서 사용하는 아실화제로는 티오닐 클로라이드(SOC12),옥사릴클로라이드(C1CO COC1), 오염화인(PC15)등을 들 수 있으며, 반응온도는 -10℃내지 180℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 0℃내지 100℃가 적당하고, 반응시간은 30분 내지 12시간 정도가 적당하다. 반응에 사용되는 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소류, 디클로로케탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류 등을 사용할 수 있으며, N,N-디메틸포름아미드를 촉매로써 사용할 수 있다.
반응2에서 반응온도는 -30℃내지 70℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 0℃내지 30℃가 적당하고, 반응시간은 30분 내지 24시간 정도가 적당하다. 반응에 사용되는 염기로는 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민, N-메틸모포린 등의 유기 염기와 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 무기염기를 들 수 있으며, 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소류, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤류, 아세토니트릴, 프로피오니트릴과 같은 니트릴류, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드 등의 극성용매를 사용할 수 있다.
또한 일반식(I)의 화합물을 하기 제조방법 II에 따라 제조할 수 있다.
[제조방법 II]
상기식에서,
R1및 R2는 각각 전술한 바와 같다.
일반식(III)의 카르복실산을 탈수제와 염기존재하에서 아미노니트릴 염산염과 반응시켜서 일반식(I)의 목적화합물을 제조한다.
반응에서 사용하는 탈수제로는 디시클로헥실카르보디이미드(DCC), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드(EDC)등의 카르보디이미드류와 실리콘 테트라클로라이드 등의 무기탈수제 등을 사용할 수 있다. 반응온도는 -30℃ 내지 70℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 -10℃ 내지 30℃가 적당하고 반응시간은 10분 내지 24시간 정도가 적당하다. 반응에 사용되는 염기로는 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민, N-메틸모포린 등의 유기 염기를 들 수 있으며, 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소류, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤류, 아세토니트릴, 프로피오니트릴과 같은 니트릴류, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드 등의 극성용매를 사용할 수 있다.
또한, 일반식(I)의 화합물을 하기 제조방법III 에 따라 제조할 수 있다.
[제조방법 III]
상기식에서,
R1및 R2는 각각 전술한 바와 같고,
X는 탄소 또는 황원자이다.
일반식(III)의 카르복실산을 일반식(V)의 디이미다졸과 반응시켜 일반식(VI)의 아실이미다졸을 생성시킨 후, 특별히 분리하지 않고 염기 존재하에서 아미노니트릴 염산염과 반응시켜서 일반식(I)의 목적화합물을 제조한다.
반응온도는 -30℃ 내지 50℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 0℃ 내지 30℃가 적당하고, 반응시간은 통상 30분 내지 24시간 정도에서 가능하나, 보다 바람직하게는 1시간 내지 8시간 정도가 적당하다. 반응에 사용되는 염기로는 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민, N-메틸모포린 등의 유기 염기와 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 무기염기를 들 수 있으며, 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소류, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤류, 아세토니트릴, 프로피오니트릴과 같은 니트릴류, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드 등의 극성용매를 사용할 수 있다.
상기 제조방법I,II, 및 III에서 출발물질로 사용된 일반식(III)의 화합물은 본 발명자들에 의해 출원된 대한민국 특허출원 공개 제94-19960호에 기재된 방법에 의거 하기 반응도식 I과 반응도식 II에 따라 제조하였다.
[반응도식 I]
상기식에서,
R1및 R2는 각각 전술한 바와 같고,
R3는 메틸 또는 에틸기이며,
Y는 할로겐 원자이다.
이미 공지된 일반적으로 알킬 또는 아릴 디티오카바메이트를 만드는 방법[참조: 방법I;Synthesis, 1985,948, 방법2;아릴 클로로디티오카바메이트와 암모니아수의 반응]으로 일반식(VII)의 디티오카바메이트를 제조하고, 이를 일반식(VIII)의 화합물과 고리화반응을 시켜서 일반식(IX)의 2-술파닐-티아졸-5-카르복실산 에스테르를 생성시킨 후, 이를 가수분해시켜서 일반식(III)의 카르복실산의 유도체들을 제조한다.
반응 I에서 반응온도는 통상적으로 20℃ 내지 180℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 30℃ 내지 100℃가 적당하고, 반응시간은 30분 내지 24시간 정도가 적당하다. 반응에 사용되는 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소류, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, t-부틸알콜과 같은 알콜류, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤류, 아세토니트릴, 프로피오니트릴과 같은 니트릴류, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드 등의 극성용매를 사용할 수 있으며, 촉매로써 황산, 염산, 인산, 브롬화수소산 등을 사용할 수 있다.
반응 2에서 반응온도는 -50℃ 내지 180℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 -10℃ 내지 20℃가 적당하고, 반응시간은 5분 내지 24시간 정도에서 가능하나, 바람직하게는 30분 내지 12시간이 적당하다. 사용하는 염기로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬 등의 무기염기를 1당량에서 2당량 사용하며, 반응용매로는 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, t-부틸알콜과 같은 알콜류, 디옥산, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류의 유기용매를 물과 혼합하여 사용한다.
한편 반응도식 I에서 중간체인 일반식(IX)의 2-술파닐-티아졸-5-카르복실산 에스테르는 하기 반응도식 II에 의거 제조할 수도 있다.
[반응도식 II]
상기식에서,
R1및 R2는 각각 전술한 바와 같고,
R4는 메틸 또는 에틸기이다.
이미 공지된 방법(JACS, 1953,75,102)에 의하여 일반식(X)의 2-머캡토-티아졸-5-카르복실산 에스테르를 제조한 후, 염기 존재하에서 알킬화제나 아릴화제를 사용하여 일반식(IX)의 2-술파닐-티아졸-5-카르복실산 에스테르를 제조할 수 있다.
상기 반응에서 반응온도는 -30℃ 내지 150℃에서 가능하나, 보다 바람직하게는 0℃ 내지 70℃가 적당하고, 반응시간은 30분 내지 24시간 정도가 적당하다. 반응에 사용되는 염기로는 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민, N-메틸모포린 등의 유기 염기와 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 무기염기를 들 수 있으며, 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소류, 디클로로메틸, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤류, 아세토니트릴, 프로피오니트릴과 같은 니트릴류, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드 등의 극성용매들과 물을 들 수 있으며, 상기 열거한 용매들을 혼합하여 사용하는 경우도 가능하다.
이하 본 발명을 실시예에 의거 보다 구체적으로 설명한다.
[실시예 1]
4-에틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드의 합성
4-에틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(4.3g,21밀리몰)을 크롤로포름(20㎖)에 용해시킨 후 티오닐 클로라이드(1.7㎖,1.1당량)와 디메틸포름아미드(0.5㎖)를 가하고 1시간 동안 환류시키면서 교반한 후 감압증류하여 유기용매를 제거하여 4-에틸-2-메틸술파닐-티아졸-카르복실산 염화물을 얻는다.
아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 염산염(3.8g, 21밀리몰)과 피리딘(3.6g 44밀리몰)을 디클로로메탄(20㎖)에 용해시킨 후, 0℃에서 디클로로메탄(10ml)에 용해시킨 4-에틸-2-메틸술파닐-티아졸-카르복실산 염화물을 천천히 적가하고 상온에서 2시간 동안 교반한다. 물 20㎖을 가하고 유기층을 디클로로메탄으로 추출, 분리하여 무수망초로 건조, 증발시키고 테트라히드로푸란과 디에틸에테르 혼합용액(부피/부피=1/2)하에서 재결정하여 4-에틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드(6.2g, 19밀리몰)를 92%의 수율로 얻는다.
[실시예 2]
4-메틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드의 합성
4-메틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(4.0g,21밀리몰)을 클로로포름(20㎖)에 용해시킨 후 티오닐 클로라이드(1.7㎖,1.1당량)와 디메틸포름아미드(0.5㎖)를 가하고 1시간 동안 환류시키면서 교반한 후 감압증류하여 유기용매를 제거하여 4-메틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산 염화물을 얻는다.
아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 염산염(3.8g,21밀리몰)과 피리딘(3.6g,44밀리몰)을 디클로로메탄(20㎖)에 용해시킨 후, 0℃에서 디클로로메탄(10㎖)에 용해시킨 4-메틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산 염화물을 천천히 적가하고 상온에서 2시간 동안 교만한 후 실시예 1과 동일한 방법으로 반응후 처리를 한 다음 테트라히드로푸란과 디에틸에테르 혼합용액(부피/부피=1/2)하에서 재결정하여 4-메틸-2-메틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드(5.8g, 19밀리몰)를 90%의 수율로 얻는다.
[실시예 3]
4-에틸-2-에틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드의 합성
4-에틸-2-에틸술파닐-티아졸-5-카르복실산(4.6g,21밀리몰)을 클로로포름(20㎖)에 용해시킨 후 티오닐 클로라이드(1.7㎖,1.1당량)와 디메틸포름아미드(0.5㎖)를 가하고 1시간 동안 환류시키면서 교반한 후 감압증류하여 유기용매를 제거하여 4-에틸-2-에틸술파닐-티아졸-카르복실산 염화물을 얻는다.
아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 염산염(3.8g,21밀리몰)과 트리에틸아민(4.5g,44밀리몰)을 디클로로메탄(20㎖)에 용해시킨 후, 0℃에서 디클로로메탄(10㎖)에 용해시킨 4-에틸-2-에틸술파닐-티아졸-5-카르복실산 염화물을 천천히 적가하고 상온에서 2시간동안 교반한 후 실시예 1과 동일한 방법으로 반응 후 처리를 한 다음 테트라히드로푸란과 디에틸에테르 혼합용액(부피/부피=1/2)하에서 재결정하여 4-에틸-2-에틸숲라닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드)6.2g, 18밀리몰)를 88%의 수율로 얻는다.
[실시예 4]
2-시클로헥실술파닐-4-에틸-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드의 합성
2-시클로헥실술파닐-4-에틸-티아졸-5-카르복실산(2.5g,9.2밀리몰)을 디클로로메탄(20㎖)에 용해시킨 후 0℃에서 디시클로헥실카르보디이미드(1.9g,9.2밀리몰)를 가하고 1시간 동안 교반한다. 이 반응용액에 아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 염산염(1.6g,9.2밀리몰)과 피리딘(1.5g,19밀리몰)을 디클로로메탄(20㎖)에 용해시켜서 천천히 적가한다. 25℃에서 3시간 동안 교반한 후 반응을 종결짓는다. 유기용매에 용해되지 않은 고체를 여과하여 제거하고 물로 세척한 후에 무수망초로 건조시키고 감압하여 농축시키고 생성물을 에틸 아세테이트/헥산을 사용하여 실리카겔 관 크로마토그래피하여 얻는다(수율85%).
[실시예 5]
4-에틸-2-페닐술파닐-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드의 합성
4-에틸-2-페닐술파닐-티아졸-5-카르복실산(2.5g,9.4밀리몰)을 N,N-디메틸포름아미드(4㎖)에 용해시킨 후 0℃에서 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드(EDC)(1.8g,9.4밀리몰)를 가하고 10분 동안 교반한다. 이 반응용액에 아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 염산염(1.6g,9.4밀리몰)과 트리에틸아민(19g,19밀리몰)을 N,N-디메틸포름아미드(4㎖)에 용해시켜서 천천히 적가한다. 25℃에서 1시간 동안 교반한 후 반응을 종결짓는다. 물과 에틸아세테이트를 가하여 추출하고 분리한 유기층을 무수망초로 건조시키고 감압하여 농축시키고 생성물을 에틸 아세테이트/헥산을 사용하여 실리카겔 관 크로마토그래피하여 얻는다(수율82%).
[실시예 6]
2-벤질술파닐-4-에틸-티아졸-5-카르복실산(시아노-티오펜-2-일-메틸)-아미드의 합성
아미다졸(2.7g,40밀리몰)을 테트라히드로푸란 용매(60㎖)에 용해시킨 후 0℃에서 티오닐 클로라이드(1.2g,10밀리몰)을 천천히 적가한 후 상온에서 2-벤질술파닐-4-에틸-티아졸-5-카르복실산(2.8g,10밀리몰)을 가한다. 30분 동안 교반하고, 0℃에서 이 반응용액에 아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 염산염(1.9g11밀리몰)과 트리에틸아민(1.1g,11밀리몰)을 테트라히드로푸란(10㎖)에 용해시킨 용액을 적가한다. 상온에서 1시간 동안 교반한 후 반응을 종결짓는다. 감압하에서 테트라히드로푸란을 제거하고, 물과 에틸 아세테이트를 가하여 추출하고 분리한 유기층을 무수망초로 건조시키고 감압하여 농축시킨다. 생성물을 에틸 아세테이트/헥산을 사용하여 실리카겔 관 크로마토그래피하여 얻는다(수율82%).

Claims (13)

  1. 하기 일반식(I)의 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체.
    상기식에서, R1은 C1-5직쇄알킬, C1-5측쇄알킬 C1-5할로알킬, C3-8시클로알킬, C1-5알킬, 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 벤질, 또는 C1-5알킬 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 페닐기를 나타내고, R2는 C1-3알킬 또는 C1-3할로알킬기를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, R1가 C1-3알킬, C3-6시클로알킬, 벤질 또는 페닐기를 나타내고, R2는 메틸 또는 에틸기인 일반식(I)의 화합물의 유도체.
  3. 반응 1) 하기 일반식(III)의 2-술파닐-티아졸-5-카르복실산을 아실화제를 사용하여 하기 일반식(IV)의 산염화물로 전환시키고, 반응2) 이 산염화물을 염기 존재하에서 아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 또는 그의 염산염과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, R1및 R2는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  4. 제3항에 있어서, 반응1에서 아실화제가 티오닐 클로라이드(SOC12), 옥사릴 클로라이드(C1COCOC1) 및 오염화인(PC15) 중에서 선택된 1종 이상이고, 용매가 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄 및 클로로포름 중에서 선택된 1종 이상인 방법.
  5. 제3항에 있어서, 반응2에서 염기가 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민, N-메틸모포린, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수소화나트륨 및 수소화칼륨 중에서 선택된 1종 이상이고, 용매가 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 및 디메틸술폭시드 중에서 선택된 1종 이상인 방법.
  6. 제3항에 있어서, 반응1을 -10℃ 내지 180℃에서 수행하는 방법.
  7. 제3항에 있어서, 반응2를 -30℃ 내지 70℃에서 수행하는 방법.
  8. 하기 일반식(III)의 2-술포닐-티아졸-5-카르복실산을 탈수제와 염기 존재하에서 아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 또는 그의 염산염과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, R1및 R2는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  9. 제8항에 있어서, 탈수제가 디시클로헥실카르보디이미드(DCC), 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드(EDC) 및 실리콘 테트라클로라이드 중에서 선택된 1종 이상이고, 염기가 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민 및 N-메틸모포린 중에서 선택된 1종 이상이며, 용매가 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 및 디메틸술폭시드 중에서 선택된 1종 이상인 방법.
  10. 제8항에 있어서, 반응을 -30℃ 내지 70℃에서 수행하는 방법.
  11. 하기 일반식(III)의 2-술포닐-티아졸-5-카르복실산을 하기 일반식(V)의 디이미다졸과 반응시켜 하기 일반식(VI)의 아실이미다졸을 생성시킨 후, 염기 존재하에서 아미노-티오펜-2-일-아세토니트릴 또는 그의 염산염과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, R1및 R2는 제1항에서 정의한 바와 같고, X는 탄소 또는 황원자이다.
  12. 제11항에 있어서, 염기가 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 트리부틸아민, N-메틸모포린, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨 중에서 선택된 1종 이상이고, 용매가 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 디에틸에테르, 디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 및 디메틸술폭시드 중에서 선택된 1종 이상인 방법.
  13. 제11항에 있어서, 반응을 -30℃ 내지 50℃에서 수행하는 방법.
KR1019950041295A 1995-11-14 1995-11-14 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법 KR0173036B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950041295A KR0173036B1 (ko) 1995-11-14 1995-11-14 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950041295A KR0173036B1 (ko) 1995-11-14 1995-11-14 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970027078A KR970027078A (ko) 1997-06-24
KR0173036B1 true KR0173036B1 (ko) 1999-02-01

Family

ID=19434073

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950041295A KR0173036B1 (ko) 1995-11-14 1995-11-14 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0173036B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR970027078A (ko) 1997-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100460828B1 (ko) 구아니딘유도체의제조방법,이의중간체및이의제조방법
JP3642797B2 (ja) フェニルカルボキサミドイソオキサゾールの新誘導体及びそれらの塩類、それらの製造法及びこの製造法の新規な中間体、それらの薬剤としての用途並びにそれらを含有する製薬組成物
JPS63310882A (ja) ポリ酸素化されたラブダン誘導体及びその製造法
JP3413632B2 (ja) グアニジン誘導体の製造方法
KR0173036B1 (ko) 2-술파닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법
US4575557A (en) Preparation of substituted benzamides
KR0157511B1 (ko) 2-술포닐티아졸 카르복사미드 유도체의 제조방법
KR20200073254A (ko) 제초제 피리다지논 화합물을 생성하는 공정
KR100191151B1 (ko) 2-술포닐티아졸 카르복사미드 유도체 및 그의 제조방법
JP3172225B2 (ja) ２−アリール−１−置換−５−（トリフルオロメチル）ピロールの製造法
JP3253245B2 (ja) グアニジン誘導体の製造法、新規中間体およびその製造法
RU2193034C2 (ru) Способ получения производных 2-аминотиазолкарбоксамида
KR100361824B1 (ko) 2-아미노티아졸카르복사미드유도체의제조방법
JP2579532B2 (ja) アミノアセトニトリル誘導体及びその製造方法
JP4336913B2 (ja) アミド誘導体の製造方法
JPH0231067B2 (ko)
EP3562808B1 (en) Processes for the preparation of pesticidal compounds
JP2582809B2 (ja) 新規ピロリジン誘導体およびその製法
US4232162A (en) P-Substituted N,N'-bis-(3-oxazolidinyl-2-one)phosphoramides and process for the preparation thereof
HU201516B (en) Process for producing 2-cyano-2-oximinoacetamide derivatives
JP2671401B2 (ja) α‐アミノチオアセトアミド誘導体およびその製造法
KR101142283B1 (ko) 2-아미노티아졸 카르복사미드 유도체의 신규한 제조방법
US4814500A (en) Cyanoguanidine derivative and process for preparation thereof
RU2068411C1 (ru) Способ получения замещенных n-3-оксоалкилтиоамидов
JP3886751B2 (ja) グアニジン誘導体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120906

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130904

Year of fee payment: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140912

Year of fee payment: 17