JPS60233054A - アジリン誘導体およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下記一般式 （式中、Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、アリール基
、またはアラルキル基を意味し、Ｒ２は低級アルキル基
、シクロアルキル基、アラルキル基。

低級アルキルオキシ基、アリールオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、またはアリールチオ基を意味し、Ｒ３は水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルキルオ
キシ基、低級アルキルチオ基、アミ７基、まだはニトロ
基を意味し、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基、アラル
キル基。

またはアシル基を意味する。） で表わされる新規アジリン誘導体、およびその新規製造
法に関する。

□゛　本明細書において用いる用語、即ち低級アルキル
基とは、炭素原子１ないし６個を有する直鎖または分岐
鎖状のもの（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基等）を意味し、アリール基とは、フェニ
ル基まだは置換フェニル基（例えばトリル基、ｐ−メト
キシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基等）を意味し、
アラルキル基とは、置換または無置換のフェニルアルキ
ル基（例えばベンジル基。

フェネチル基等）を意味し、ハロゲン原子とは、フッ素
、塩素、臭素、ヨウ素を意味し、アシル基とは、アセチ
ル基、ベンゾイル基等を意味し、そして強塩基とは、活
性水素を引き抜く能力のある塩基剤（例えば水素化ナト
リウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート
、カリウムメチラート、カリウムエチラート、カリウム
ｔ−ブチラード、リチウムジイソプロピルアミド等）を
意味する。

一般に、アジリン類、よシ正確には２Ｈ−アジリン類は
、３員環内に二重結合を含むため非常に反応性に富み請
求核試薬や電子試薬の攻撃を受けやすく、またシクロ付
加反応、熱化学反応、あるいは光化学反応が容易に進行
するため、種々の複素環合成などの製造原料として有用
である。またアジリン類の二重結合を還元すればアジリ
ジン類が得られ、このものもまたよく知られているよう
に合成化学上価値ある化合物である。

しかしながら、これまでアジリン類の合成法としては、 Ａ、Ｒ，Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ　＆　Ａ、Ｊ　、Ｂｏｕｌ
ｔｏｎ編”　Ａｄｖａｎｃｅｓｉｎ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙ
ｃｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（ＡｃａｄｅｍｉｃＰ
ｒｅｓｓ　）、第１３巻、４５頁（１９７１）Ｄ、Ｂａ
ｒｔｏｎ　＆　Ｗ、Ｄ、Ｏｌ　ｌｉｓ編ｌｌＣｏｍｐｒ
ｅｈｅｎｓｉｖｅＯｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
”　（Ｐｅｒｇａｍｏｎ　Ｐｒｅｓｓ　）。

第４巻、５６７頁（１９７９） Ａ、Ｈａｓｓｎｅｒ編”Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　
ｏｆ　ＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃＣｏｍｐｏｕｎｄｓ　
”　（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ　）、第４
２巻第１部、２１５頁（１９８３） 等に記載されているように、ネーバー（Ｎｅｂｅｒ　）
転位反応の中間体として得る方法、ビニルアジド類の熱
反応または光化学反応によって得る方法、あるいは光誘
起によるインオキサゾール−オキサゾール転位反応の中
間体として得る方法など、比較的限られた方法しか知ら
れていない。これらのうち、実際上利用価値のあるのは
、ビニルアジド類からアジリンを得る方法であるが、こ
の方法においても、特殊な反応条件や反応装置が必要で
あることや、爆発性を有するビニルアジドを扱わねばな
らないこと等の欠点がある。

本発明者らは、アジリン類の製法について鋭意研究の結
果、従来の方法とは全く異った方法、即ち１゜２−ベン
ズイソオキサゾール誘導体に強塩基を反応せしめること
によシ、アジリン誘導体が容易にかつ好収率で得られる
こと、およびその生成物が医薬としても有用であること
を見出し本発明を完成した。

本発明方法によれば、下記一般式 （式中、Ｒ；は低級アルキル基、アリール基、またはア
ラルキル基を意味し、Ｒ２は低級アルキル基。

シクロアルキル基、アラルキル基、低級アルキルオキシ
基、アリールオキシ基、低級アルキルチオ基、またはア
リールチオ基を意味し、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子
、低級アルキル基、低級アルキルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、アミノ基、またはニトロ基を意味する。）で
表わされる１、２−ベンズインオキサゾール誘導体に強
塩基を作用せしめることによって、目的とする下記一般
式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は前掲と同じものを意
味する。） で表わされるアジリン誘導体が容易にかっ好収率で得ら
れる。

また本発明の他の方法によれば、下記一般式（式中、Ｒ
１は低級アルキル基、アリール基、またはアラルキル基
を意味し、Ｒｓは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、ア
ミン基、またはニトロ基を意味する。） で表わされる１、２−ベンズイソオキサゾール類に、下
記一般式 ％式％（） （式中、Ｒ′２は低級アルキル基またはアラルキル基を
意味し、Ｘはハロゲン原子を意味する。）で表わされる
アルキルハライドを、強塩基の存在下反応せしめること
によって、目的とする下記一般式（式中、Ｒ’ｓ　、　
ＲＳ　、およびＲ３は前掲と同じものを意味し、Ｒ４は
水素原子、または前記Ｒ２と同じものを意味する。） で表わされるアジリン類が容易にかっ好収率で得られる
。

前記化合物〔■〕から化合物（１）への環変換反応は、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミドの如き不活性溶媒中、ｌ描量
以上の強塩基の存在下、−１０〜１００℃、好ましくは
０〜８０℃において、原料化合物（ＩＩ）を数分ないし
数十時間、通常は２０〜６０分間攪拌することにより実
施される。

一方、前記化合物［ＩＶ）から化合物（Ｖｌ）への環変
換反応は、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミドの如き不活性溶媒
中、２当量以上の強塩基および１当量または２当量以上
の化合物（Ｖ）の存在下に、−１０〜１００”Ｃ１好ま
しく０〜８０℃において、原料化合物（ＩＶ）を数分な
いし数十時間、通常は２０〜６０分間攪拌することによ
シ実施される。化合物（ＩＶ）と化合物（Ｖ）の反応に
おいて、それぞれの１当量を、強塩基２当量の存在下に
反応せしめれば、化合物〔■〕に相当する化合物を中間
体として経由し、Ｒ−が水素原子である化合物（Ｖｌ）
を得ることができる。また、２当量の強塩基の存在下に
化合物（ＩＶ）の１当量と化合物〔■〕の１当量とをま
ず反応せしめた後、続いて化合物（Ｖ）を１当量反応せ
しめることにより、己がＲ′２と同一である式（Ｖｌ）
の化合物を得ることができる。さらにまた、化合物〔■
〕１当量に２当量以上の強塩基の存在下に２当量以上の
化合物（Ｖ）を反応せしめれば、Ｒ２とＲ４が同一であ
る式（Ｖｌ）の化合物が得られる場合もある。

尚・Ｒ４が低級アルキル基、アラルキル基、またはアシ
ル基である式〔１〕の化合物は、前記の方法で得られた
式（１）の化合物を、塩基性条件下に常法によジアルキ
ル化またはアラルキル化することによって、また中性な
いし塩基性条件下に常法によりアシル化することによっ
て得られる。

Ｒ１が水素原子である式〔１〕の化合物は、Ｒ１が低級
アルキル基である化合物〔１〕を常法により加水分解す
ることによって得られる。

以上のようにして製造される本発明の化合物〔１〕は、
いずれも新規化合物であシ、鎮痙作用を有するほか、抗
狭心作用、中枢作用を有するものもあシ、医薬として使
用が期待される。さらにまた、本発明の化合物から種々
の誘導体、例えばアジリジン誘導の化合物の中にも優れ
た鎮痙作用を有するものがあるので本発明の化合物は医
薬品の中間原料としても価値あるものである。

次に実施例および参考例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。

実施例１ ３−（２−ヒドロキシフェニル）＝２−メチル−２Ｈ−
アシリン−２−カルボン酸メチルエステルα−メチル−
１，２−ベンズイソオキサゾール−３−酢酸メチルエス
テル１．５ｙを無水ジメチルホルムアミド１５１ｎｌに
溶かし、水冷下に５０チ水素化ナトリウム０．４１ｙを
少量ずつ加え、室温で１時間攪拌する。

トルエン５０ｔｎｌと水３Ｍを加え、濃塩酸で中和した
後、トルエン層を分ける。水洗し、乾燥後、トルエンを
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで分
離精製し、油状の３−（２−ヒドロキシフエニ／ｌ／　
）　−２−メチル−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メ
チルエステル０．７２ｐを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２０５　（Ｍ＋） ＩＲｖ、”１Ｉｌｌ：　３２５０，１７５０．１７２０
　ｃｍ　”’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３）δ：　１．６
２（３Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）。

６．４（ＬＨ，ｂｓ） 実施例２ ２−ベンジル−３−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ
−アシリン−２−カルボン酸メチルエステル（１）　α
−ベンジル−１，２−ベンズイソオキサゾール−３−酢
酸メチルエステル１．５ｙを無水ジメチルホルムアミド
１０−に溶かし、水冷下に５０％水素化ナトリウム０．
２８ｙを少量ずつ加える。室温で３０分攪拌後、トルエ
ンと水を加え、５％塩酸で中和する。

トルエン層を水洗し、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し
た後、トルエンを留去する。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで分離精製して、２−ベンジル−３−（
２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−７ジＩＪンー２−カ
ルボン酸メチルエステル１．３３　ｙを得る。

ｍｐ　’１０７−１０９℃（エーテル−ヘキサンよシ再
結晶）ＩＲｖＫＢｒ：　３２００，１７６０．１７３９
　ｃｍ−１（２）　α−ベンジル−１，２−ベンズイソ
オキサゾール−３−酢酸メチルエステル１４０■を無水
テトラヒドロンラン４−に溶かし、水冷下にカリウム１
−ブチラード６２■を加える。以下（１）と同様に処理
して、を得る。水晶は（１）で得た化合物と一致した。

（３）　（２）において、無水テトラヒドロフランに蓄
えて無水ジオキサン４−を用いて同様に反応、処理し、
２−ベンジル−３−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ
−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル１０５〜を
得る。

実施例３ ２−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシフェニル）
−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル α−シクロヘキシル−１，２−ベンズインオキサゾール
−３−酢酸メチルエステル０．９ｙを無水ジメチルスル
ホキシド１０ｍｆｆに溶かし、水冷下に５０％水素化ナ
トリウム０．１９ｐを少量ずつ加える。

室温で３０分攪拌した後、水とクロロホルムを加え、水
層を塩化アンモニウムで飽和する。クロロホルム層を分
け、水洗し、乾燥する。クロロホルムを留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで分離精製し得られ
た粗結晶をエーテ）Ｋキサン混液から再結晶して、２−
シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシフェニル）−２
Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル０．７８
ｙを得る。

ｍｐ　１２５　１２７℃ ＩＲｖ　：　３２５０，１７６０，１７２５　Ｃｍ　”
ａＸ １３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）　δ：　１７２．８４（
ｓ　：オフレゾナンス下での測定、以下同じ’）、１６
１゜２１（ｓ）、　１５８．７３（ｓ）。

１３５、ｚｓ（ａ）、　１３１．ｏ６（ｄ）、　１ｚｏ
、７１（ｄ）、　ｘｘ７．ｏ７（ｄ）。

１０９．６０（ｓ）、　５２．４５（ｑ）、　４１．４
３（ｓ）、　３６．７６（ｄ）、　３０．７２（ｔ）。

２９．００（ｔ）、　２６．１３（ｔ）、　２５．９べ
ｔ）、　２５．９８（ｔ）実施例４ ２−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシ−５−クロ
ロフェニル”）−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチ
ルエステル α−シクロヘキシル−５−クロロ−１，２−ベンズイソ
オキサゾール−３−酢酸メチルエステル２．２ｙを無水
ジメチルホルムアミド２０ｍｇに溶かし、水冷下に５０
％水素化ナトリウム０．３４ｙを少量ずつ加える。

室温で３０分攪拌した後、実施例３と同様に処理して、
２−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシ−５−クロ
ロフェニル）−２Ｈ−アシリン−２−カルボン酸メチル
エステル１．８ｙを得る。

ｍｐ　１５５−１５７℃ｌ酸−ｃｙ−ルエステルーエー
テルよシ再結晶） ＩＲｐ　：　３３２０，１７６０，１７０５　Ｃｍ　”
実施例５ ３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ−２Ｈ
−アシリン−２−カルボン酸メチルエステルα−メトキ
シ−１，２−ベンズイソオキサゾール−３−４ｈ酸メチ
ルエステル３．０ｙを無水ジメチルポルムアミド２０ｄ
に溶かし、６０℃で５０％水素化ナトリウム５４３■を
少量ずつ加え、８０’Ｃで２０分間攪拌する。

以下実施例１と同様に処理して、油状の３−（２，−ヒ
ドロキシフェニル）−２−メトキシ−２Ｈ−アジリン−
２−カルボン酸メチルエステル１．１ｙを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２２１（Ｍ”） ＩＲ１）　：　３２５０，１７４０−１７２０　ｃｍ　
’’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　ｓ　）δ：　３．４７（３
Ｈ，ｓ　）　、３．７５（３Ｈ，ｓ）実施例６ ３−　（２−？：　トロキシフェニル）−２−−ｙエニ
ルオキシ−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエス
テル ゛−α−フェニルオキシー１，２−ベンズイソオキサゾ
ール−３−酢酸メチルエステル１．０ｙを無水ジメチル
ホルムアミド７ｒｎｌに溶かし、５０％水素化ナトリウ
ム１４１ｆｎｇを加えて、８０℃で２０分間攪拌する。

以下実施例１と同様に処理して、油状の３−（２−ヒド
ロキシフェニル）−２−フェニルオキシ−２Ｈ−アジリ
ン−２−カルボン酸メチルエステル０．９ｙを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２８３（Ｍ＋） ＩＲｖ　：　３３００，１７５０−１７２０　ｃｍ　’
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３　）δ：　３．７６Ｃ３Ｈ，
ｓ）実施例７ ３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルチオ−
２Ｈ−アリジン−２−カルボン酸メチルエステル α−フェニルチオ−１，２−ベンズインオキサゾール−
３−酢酸メチルエステル１．７９ｙを無水ジメチルホル
ムアミド１０ｍ７’に溶かし、水冷下に５０％水素化ナ
トリウム０．２９ｙを加えて、室温で３０分攪拌する。

以下実施例３と同様に処理し、得られた粗生成物をロキ
シフェニル）−２−フェニルチオ−２Ｈ−アジリン−２
−カルボン酸メチルエステル０．５２を得る。

ｍｐ　１１２　１１４℃ ＩＲｉｌｌ”’　：　３３００，１７６０，１７２５　
Ｃｍ　”１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　δ：　１７０
．６４（ｓ：オフレゾナンス下での測定、以下同じ）　
、　１５８．５５（ｓ）、　１５８．５５（ｓ）。

１３６．１７（ｄ）、　１３３．１６（ｄ）、　１３３
．１６（ｄ）、　１３１．２４（ｓ）ｊ１３１．２祇ｄ
）、　１２８．９５（ｄ）ｊ１２８．９５（ｄ）、　１
２８．１以ｄ）。

１２０．７１（ｄ）、　１１７．０９（ｄ）、　１０７
．８１（ｓ）、　５３．６１（ｑ）。

４４．２（Ｋ８） 実施例８ ２−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシ−５−クロ
ロフェニル）−２Ｈ−アシリン−２−カルボン酸メチル
エステル ５−クロロ−１，２−ベンズイソオキサゾール−３−酢
酸メチルエステル１１７とヨウ化シクロヘキシル２１ｙ
を無水ジメチルホルムアミド１１０ｍｔ’に溶かし、水
冷下に５０％水素化ナトリウム２，４１を少量ずつ加え
た後、室温で３時間攪拌する。以下実施例１と同様に処
理し、得られた粗生成物を酢酸エチルエステル−エーテ
ルから再結晶して、２−シクロヘキシル−３−（２−ヒ
ドロキシ−５−クロロフェニル）−２Ｈ−アジリン−２
−カルボン酸メチルエステル１．３ｙを得る。水晶は実
施例４で得たものと一致した。

実施例９ ３−（２−メトキシフェニル）−２−メチル−２Ｈアジ
リン−２−カルボン酸メチルエステル１．２−ベンズイ
ンオキサゾール−３−酢酸メチルエステルｌＯｙを無水
ジメチルホルムアミド１０〇−に溶かし、水冷下に５０
％水素化ナトリウム２．６ｙを少量ずつ加える。室温で
１５分攪拌した後、水冷下にヨウ化メチル７．４５Ｆを
加え、室温で１時間攪拌する。

氷冷し、５０％水素化す）　ＩＪウム２．６２を加え、
室温で３０分攪拌した後、再び氷冷し、ヨウ化メチル７
．４５２を加え、室温で１時間攪拌する。反応液にトル
エン１００−と水１００Ｗｉを加え、濃塩酸で中和して
振シまぜる。トルエン層を分け、水洗、乾燥後、トルエ
ンを留去し、残漬を７リカゲルカラムクロマトグラフイ
で分離精製して、油状の３−（２−メトキシフェニル）
−２−メチル−２Ｈ−アシリン−２−カルボン酸メチル
エステル４ｙを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２１９（Ｍ”） １１１ｍ ＩＲｖ　：　１７６０．１７２０　ｃｍ”Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣＩｇ　）δ：　１．５８（３Ｈ，ｓ）、３．６７
（３Ｈ，ｓ）。

３．９７　（３Ｈ、ｓ　） １３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩａ　）　δ：　１７３．９４
（ｓ　ニオフレシナ／ス下の測定、以下同じ）　、　１
６０．４９　（ｓ）　、　１５９．９くＳ）。

１３５．３１（ｄ）、　１３２．０％ｄ）、　１２０．
９１（ｄ）、　１１１．６　（Ｘｄ）。

１１１．５４）、　５５．９７（ｑ）、　５２．２５（
ｑ）、　３３．６１１（ｓ）、　１７．９！１Ｖｑ）実
施例１０ ２−ベンジル−３−（２−ベンジルオキシフェニル）−
２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル １．２−ベンズイソオキサゾール−３−酢酸メチルエス
テル１０ｙを無水ジメチルホルムアミド１００ｍｔ’に
溶かし、水冷下に５０％水素化ナトリウム２．７Ｐを少
量ずつ加えた後、室温で１５分攪拌する。氷冷し、ベン
ジルプロミド９．８ｙを加え、室温で１時間攪拌する。

氷冷し、５０％水素化ナトリウム２．７ｙを少量ずつ加
え、室温で３０分攪拌後、氷冷下にベンジ、ルフ゛ロミ
ド１０２を加えて室温で２時間攪拌する。以下実施例９
と同様に処理して、２−ベンジル−３−（２−ベンジル
オキシフェニル）−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メ
チルエステル７．３５ｙを得る。

ｍｐ　１１７−１１８℃（ジクロロメタン−ヘキサンよ
り再結晶） ＩＲｖＫＢ’　：　１７６０．１７１０　ｃｍ−１実施
例１１ ３−（２−メトキシフェニル）−２−メチル−２Ｈ−ア
ジリン−２−カルボン酸メチルエステル３−（２−ヒド
ロキシフェニル）−２−メチル−２Ｈ−アジリン−２−
カルボン酸メチルエステル０．４１２を無水ジメチルホ
ルムアミド８−に溶かし、水冷下に５０チ水素化ナトリ
ウム０．１ｙを加えて、０℃で２０分攪拌する。次いで
ヨウ化メチル０．３２を加え、室温で３０分攪拌する。

反応液にトルエンと水を加えて振シまぜた後、トルエン
層を分け、水洗し、乾燥する。トルエンを留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィで分離精製して、
油状の３−　（２−メトキシフェニル）−２−メチル−
２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル０．３
９ｙを得る。本品は実施例９で得たものと一致した。

実施例１２ ２−ベンジル−３−（２−ベンジルオキシフェニル）−
２８−アシジノ−２−カルボン酸メチルエステル ２−ベンジル−３−（２−ヒドロキシフェニル）２Ｈ−
アシリン−２−カルボン酸メチルエステル１５８■を無
水ジメチルホルムアミド３−に溶かし、水冷下に５０チ
水素化ナトリウム４０■を加える。室温で１０分攪拌し
た後、これにベンジルプロミド１３Ｍを無水ジメチルホ
ルムアミド０．５艷に溶かした溶液を加え。

室温で３０分攪拌する。反応液にトルエン１５−と水８
ｍｅを加え、塩酸で中和する。有機層を分け、水洗、乾
燥後、トルエンを留去する。残渣をジクロロメタン−ヘ
キサン混液から再結晶して、２−べ／ジルー３−（２−
ベンジルオキシフェニル）−２Ｈ−アジリン−２−カル
ボン酸メチルエステル１６９ｙを得る。

本品は実施例１０で得たものと一致した。

実施例１３ ２−ベンジル−３−（２−ベンジルオキシフェニル）　
−２Ｈ−７シリンー２−カルボン酸メチルエステル α−ベンジル−１，２−ベンズイソオキサゾール−３−
酢酸メチルエステル６３０■を無水ジメチルホルムアミ
ド５−に溶かし、水冷下に５０％水素化ナトリウム１５
０■を加える。室温で３０分攪拌した後、有機層を水洗
し、乾燥する。トルエンを留去し、残漬ヲシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーで分離精製シて、２−ベンジル
−３−（２−ベンジルオキ７フエニル’）−２Ｈ−アジ
リン−２−カルボン酸メチルエステル４５Ｍを得る。本
品は実施例１０で得たものと一致した。

実施例１４ ２−ベンジル−３−（２−ベンゾイルオキシフェニル）
　−２Ｎ−アジリ／−２−カルボン酸メチルエステル ２−ベンジル−３−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ
−アシリン−２−カルボン酸メチルエステル０．３ｙを
無水ピリジン３ｒｄに溶かし、水冷下にベンゾイルクロ
リド０．１５−を加えて０℃で３時間放置する。

反応液を減圧下に濃縮乾固し、残渣に水とエーテルを加
えて振りまぜる。エーテル層を水洗し、乾燥後、エーテ
ルを留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで分離精製して、油状の２−ベンジル−３−（２−ベ
ンゾイルオキシフェニル）−２Ｈ−アジリン−２−カル
ボン酸メチルエステル０．３３ｙを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　３８５（Ｍ＋） ＩＲν　：　１７２０〜１７６０　Ｃ１１１−”実施例
１５ ３−（２−アセトキシフェニル）−２−ベンジル−２Ｈ
−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル２−ベンジ
ル−３−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−７シＩ）
ノー２−カルボン酸メチルエステル０．３２９を無水ピ
リジン３ｍｔ’に溶かし、無水酢酸１．５ｔｄを加えて
室温で一夜放置する。以下実施例１４と同様に処理して
、油状の３−（２−アセトキシフェニル）−２−ベンジ
ル−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル０
．２８ｙを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　３２３（Ｍ＋） ＩＲｖ””　：　１７６５，１７２５　Ｃｍ−１実施例
１６ ３−（２−アセトキシフェニル）−２−シクロヘキシル
−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル ２−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシフェニル）
−２Ｈ−アシリン−２−カルボン酸メチルエステル２．
５ｙ−を無水ピリジン３ｄに溶かし、無水酢酸３−を加
えて室温で一夜放置する。反応液を減圧下に濃縮乾固し
、残渣をエーテ戸スキサン混液から再結晶シて、３−（
２−アセトキシフェニル）−２−シクロヘキシル−２Ｈ
−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル２，３ｙを
得る。

ｍｐ９７−９８℃ ＩＲｖ　：　１７６０．１７２０　ｃｍ　”実施例１７ ”Ｉ−（２−アセトキシフェニル）−２−メトキシ−２
Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル３−（２
−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ−２Ｈ−アジリ
ン−２−カルボン酸メチルエステル５ｏｏｑを無水ピリ
ジン３−に溶かし、無水酢酸１．５ｍｔ’を加えて室温
で一夜放置する。以下実施例１４と同様に処理して、油
状の３−（２−アセ）−Ｓキシフェニル）−２−メトキ
シ−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル３
２５■を得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２６３（Ｍ”） ＩＲν　：　１７７０−１７４０　ＣＩｌ！　””Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３　）　δ：　２．３７（３Ｈ，ｓ
）、３．４５（３Ｈ，ｓ）。

３．７３（３Ｈ，Ｓ） 実施例１８ ３−（２−アセトキシフェニル）−２−フェニルオキシ
−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル ３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルオキシ
−２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル８１
７ｆｎｇを無水ピリジン３Ｗｄ！に溶かし、無水酢酸１
．５ｍｌ！を加えて室温で一夜放置する。以下実施例１
４と同様に処理して、油状の３−（２−アセトキシフェ
ニル）−２−フェニルオキシ−２Ｈ−アシリン−２−カ
ルボン酸メチルエステル７０９〜を得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　３２５（Ｍ＋） ＩＲｖ　：　１７５０−１７３５　Ｃｍ　’ｍ畠Ｘ ’Ｈ−ＮＭＲ＜ＣＤＣｌ３　）δ：　２．４３（３Ｈ，
ｓ）　、３．７３（３Ｈ，ｓ）実施例１９ ３−（２−アセトキシフェニル）−２−フェニルチオ−
２Ｈ−アクリノー２−カルボン酸メチルエステル ３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルチオ−
２Ｈ−アジリン−２−カルボン酸メチルエステル２６０
■、無水ピリジン２−８無水酢酸１ｍｆｆ１の混合物を
室温で一夜放置する。以下実施例１４と同様に処理し、
粗結晶をエーテルスキサンから再結晶して、３−（’２
−アセトキシフェニル）−２−フェ□ニルチオー２Ｈ−
アジリン−２−カルボン酸メチルエステル２３６■を得
る。

ｍｐ６０−６８°Ｃ ＩＲｖ　；　１７６０，１７３０　Ｃｍ実施例２０ ３−（２−メトキシフェニル）−２−メチル−２Ｈ−ア
ジリン−２−カルボン酸 ３−（２−メトキシフェニル）−２−メチル−２Ｈ−ア
ジリン−２−カルボン酸メチルエステル０．６２ｙ。

エタノ−ｋ　１０ｍｌ　、水酸化ナトリウム０．１３ｙ
、水１ｒＩｄ！゛　の混合物を６０〜７０℃で２５分加
熱する。減圧で濃縮乾固し、残渣に水とトルエンを加え
て振シまぜる。

水層を分け、弱酸性とした後、酢酸エチルエステルで抽
出する。酢酸エチル層を水洗し乾燥した後、濃縮し、残
渣をエーテル−ヘキサンから再結晶して、３−（２−メ
トキシフェニル）−２−メチル−２Ｈ−アジリン−２−
カルボン酸０．２５ｙを得る。

ｍｐ　１２５−１２８℃ ＩＲｖｍ、ｘ：２８００〜３０００，１７６０，１６８
０　Ｃｍ　”実施例２１ ２−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシフェニル）
−２Ｈ−アシリン−２−カルボン酸２−シクロヘキシル
−３−（２−ヒドロキシフェニル’）−２Ｈ−アシリン
−２−カルボン酸メチルエステルＱ、３ｙ、　：ｒ、、
タノーｆｉｖ２０ｍｌ、水酸化ナトリウム０．０５ｙ、
水１＋＋ｔ’の混合物を６５℃で２０分加熱する。以下
実施例２０と同様に処理して、２−シクロヘキシル−１
−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−７シ１７ンー２
−カルボン酸０．１４ｙを得る。

ｍｐ　１４８−１５０℃（エーテ２６ミキサンから再結
晶）ＩＲｖＫＢ’　：　３１００，１７６０，１６７０
　Ｃｍ参考例１ α−メチル−１ｊ２−ベンズインオキサゾール−３−酢
酸メチルエステル １．２−ベンズイソオキサゾール−３−酢酸メチルエス
テル１０ｙを無水ジメチルホルムアミド１０〇−に溶か
し、水冷下に５０チ水素化ナトリウム２゜６ｙを少量ず
つ加える。室温で１５分攪拌した後、水冷下にヨウ化メ
チル７．４！Ｍ’を加えて室温で３０分攪拌する。

反応液に水１０Ｍとトルエン１００−を加え、塩酸で弱
酸性とした後、トルエン層を分け、水洗し乾燥する。ト
ルエンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで分離精製して、油状のα−メチル−１，２−ベン
ズイソオキサゾール−３−酢酸メチルエステル３２を得
る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２０５（Ｍ＋） ＩＲｖ””：　１７３５　Ｃｍ ”Ｈ−ＮＭＲ、（ＣＤＣ１３）δ：　１．７５（３Ｈ，
ｄ）、３．７２（３Ｈ，Ｓ）。

４．３２（ＩＨ，Ｑ） 参考例２ α−メトキシ−１，２−ベンズインオキサゾール−３−
酢酸メチルエステル α−ブロモ−１，２−ベンズイソオキサゾール−３−酢
酸１２．８ｙをメタノール１００ｒＩＴｌに溶かし、水
冷下に、ナトリウム２，２ｙとメタノール１００ｒｎｌ
から調製したナトリウムメチラートの溶液を滴下する。

室温で３時間攪拌した後、濃硫酸を少量ずつ加えてｐＨ
〈１に調整する。５時間加熱還流し、メタノールを留去
した後、残渣に水を加えてクロロホルムで抽出する。ク
ロロホルム層を分け、１０％炭酸ナトリウム水溶液、水
で順次洗・った後、乾燥する。クロロホルムを留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで分離精製し
て、油状のα−メトキシ−１，２−ペンズイソオキサゾ
膚−ルー３−酢酸メチルエステル７．６８ｙを得る。

ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２２１　（Ｍ”） ＩＲＩＩ””　：　１７４０　ｃｍ　”’Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣＩａ）δ：　３．５０（３Ｈ，ｓ）、３．７６（
３Ｈ，ｓ）。

５．３３（ＬＨ，ｓ）

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 （式中、Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、アリール基
   、またはアラルキル基を意味し、Ｒ２は低ａアルキル基
   、シクロアルキル基、アラルキル基、低級アルキルオキ
   シ基、アリールオ′　キシ基、低級アルキルチオ基、ま
   たはアリ−□　ルチオ基を意味し、Ｒ３は水素原子、ハ
   ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルキルオキシ基、
   低級アルキルチオ基、アミン基、またはニトロ基を意味
   し、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、
   またはアシル基を意味する。） で表わされるアジリン誘導体。
2. （２）一般式 （式中、Ｒｓは低級アルキル基、了り−ル基、またはア
   ラルキル基を意味し、Ｒ２は低級アルキル基、シクロア
   ルキル基、アラルキル基、低級アルキル芽キシ基、アリ
   ールオキシ基、低級アルキルチオ基、またはアリールチ
   オ基を意味し、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、低級ア
   ルキル基、低級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基
   、アミン基、またはニトロ基を意味する。） で表わされる１、２−ベンズイソオキサゾール誘導体に
   強塩基を作用せしめることを特徴とする、下記一般式 （式中、Ｒ：　、　Ｒ２、およびＲ３は前掲と同じもの
   を意味する。） で表わされるアジリン誘導体の製造法。
3. （３）一般式 （式中、Ｒ’＋は低級アルキル基、アリール基、まだは
   アラルキル基を意味し、Ｒ３は水素原子。 ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルキルオキシ基
   、低級アル、キルチオ基、アミン基。 またはニトロ基を意味する。） で表わされる１、２−ベンズイソオキサゾール類に、一
   般式 ％式％（） （式中、Ｒ２は低級アルキル基またはアラルキル基を意
   味し、Ｘは）・ロゲン原子を意味する。）で表わされる
   アルキルノ・ライドを、強塩基の存在下反応せしめるこ
   とを特徴とする、一般式（式中、Ｒｒ　、　Ｒ２、およ
   びＲ３は前掲と同じものを意味し、Ｒ４は水素原子、ま
   たは前記Ｒ２と同じものを意味する。） で表わされるアジリン誘導体の製造法。