KR100424341B1 - 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 할로페닐아세테이트를 출발물질로 사용하여 기존의 제조방법에서 문제 되었던 복잡한 제조공정, 부산물로 생성되는 이성질체의 분리 및 정제의 번거로운 과정, 취급하기 어려운 나트륨금속의 사용 등을 배제하고 단축된 공정으로 이성질체의 생성없이 경제적으로 다음 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산을 제조하는 방법에 관한 것이다.

Description

1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법{A process for preparing 1-Methyl- indazole-3-carboxylic acid}
본 발명은 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 할로페닐아세테이트를 출발물질로 사용하여 기존의 제조방법에서 문제 되었던 복잡한 제조공정, 부산물로 생성되는 이성질체의 분리 및 정제의 번거로운 과정, 취급하기 어려운 나트륨금속의 사용 등을 배제하고 단축된 공정으로 이성질체의 생성없이 경제적으로 다음 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산을 제조하는 방법에 관한 것이다.
[화학식 1]
상기 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산은 N-(엔도-9-메틸-9-아자비시클로[3.3.1]온-3-일)-1-메틸인다졸-3-카르복스아미드 염산염으로 명명되는제약화합물의 제조에 중요한 중간체로서 공지되어 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산에 관한 기존의 합성방법을 소개하면 다음과 같다.
먼저, 다음 반응식 1에 나타낸 바와 같이 이스타틴을 출발물질로 사용하여 여러 단계에 걸쳐 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 합성방법이 보고되어 있다[Chem. Ber.521340 (1919)].
상기 반응식 1에 따른 공지 방법에 의하면, 상기 화학식 16으로 표시되는 인다졸 화합물을 N-메틸화하게 되면 상기 화학식 17a로 표시되는 1-메틸인다졸 유도체와 함께 이성질체로서의 상기 화학식 17b로 표시되는 2-메틸인다졸 유도체가 생성되므로 이성질체 분리과정 추가 및 이로인한 수율 저하의 문제가 심각하다.
이와다른 합성방법으로서, 다음 반응식 2에 나타낸 바와 같은 여러 단계의합성과정을 거쳐 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 합성방법이 보고되어 있다[J. Am. Chem. Soc. 3047 (1950)].
상기 반응식 2에 따른 공지방법에서도 역시 상기 화학식 29a로 표시되는 1-메틸인다졸 유도체를 합성하는 과정에서 이성질체인 상기 화학식 29b로 표시되는 2-메틸인다졸 유도체가 부산물로 함께 생성됨으로써 이성질체 분리 및 정제 과정이 까다롭고, 더욱이 많은 단계의 제조과정으로 산업화하기 어려운 단점이 있다.
이와 또다른 합성방법으로서, 상기 반응식 1의 중간물질인 화학식 15로 표시되는 인다졸-3-카르복실산을 알카리금속 및 알콜용매 존재하에 다음 반응식 3의 과정으로 메틸화하여 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 합성하는 방법이 보고되어있다[대한민국 제121921호].
상기 반응식 3에 따른 메틸화 방법에 의해 2-메틸인다졸 이성질체의 생성을 어느 정도 억제할 수는 있었으나 공업적으로 취급하기 위험한 나트륨금속을 다량 사용해야 된다는 어려운 점이 있다.
결국 상기한 종래의 제조방법들은 적어도 5 단계 이상의 다단계 공정을 거쳐야하고 이성질체의 분리 및 정제과정이 수반되며 취급하기 위험한 시약을 사용해야 하므로 제조과정이 번거롭고 까다롭다는 단점이 있다.
본 발명은 종래기술이 가지는 문제점을 해결하여 보다 간편하고 단축된 공정에 의하여 불순물인 이성질체의 생성없이 1-메틸인다졸-3-카르복실산을 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 다음 화학식 2로 표시되는 할로페닐아세테이트 유도체를 산화반응시켜 다음 화학식 3으로 표시되는 피루베이트 화합물을 합성하는 과정; 합성된 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 메틸히드라진과 축합반응시켜 다음 화학식 4로 표시되는 히드라존 화합물을 합성하는 과정; 합성된 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 염기조건으로 고리화하여 다음 화학식 5로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복시산 에스테르를 합성하는 과정; 그리고 합성된 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 가수분해하여 다음 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산을 제조하는 과정을 포함하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법을 그 특징으로 한다.
상기 반응식 4에서 : R은 C1∼6알킬기, C3∼7시크로알킬기, 페닐기 또는 페닐-C1∼3알킬기이고, X는 할로겐 원소이다.
이와 같은 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 제조방법은 상기 화학식 2로 표시되는 할로페닐아세테이트 유도체를 출발물질로 사용하여 4단계의 단축된 합성공정으로 이루어져 있고, 공업적으로 사용이 어려운 시약의 사용을 배제하면서도 반응진행중에는 불순물인 이성질체의 생성없이 목적하는 상기 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산을고순도로 합성하게 되는 공업적으로 유용한 방법이다.
상기 반응식 4에 따른 본 발명의 제조방법을 각 단계별로 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 산화시켜 상기 화학식 3으로 표시되는 피루베이트 화합물을 합성한다. 본 발명이 출발물질로 사용되는 상기 화학식 2로 표시되는 할로페닐아세테이트 유도체는 공지된 화합물로서, 쉽게 얻을 수 있는 화합물이다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 산화반응은 다음과 같은 두가지 방법으로 수행이 가능하다. 첫 번째 산화방법은 테트라부틸암모늄 할라이드, 테트라부틸 히드로겐 술페이트 등의 상전이 촉매 존재하에서 과망간산칼륨과 수산화칼륨 및 탄산칼륨을 사용하여 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 벤젠, 톨루엔 등의 유기 용매에서 0 ∼ 100 ℃ 온도로 교반하여 수행하는 것이다. 상기의 산화반응을 수행함에 있어 유기 용매에서 상전이 촉매를 사용하는 것에 큰 특징이 있으며, 바람직하기로는 상전이 촉매로 테트라부틸암모늄 브로마이드를 사용하는 것이다. 두 번째 산화방법은 아조비스이소부티로니트릴을 촉매로 사용하여 N-브로모숙신이미드를 사염화탄소, 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 벤젠 등의 유기 용매에서 환류온도로 반응시킨 다음, 디메틸술폭시드와 탄산수소나트륨을 첨가하여 0 ∼ 90 ℃에서 교반하여 수행하는 것이다. 상기한 두가지 산화방법중 어느 방법을 선택 사용하더라도 동일한 산화반응 효과를 기대할 수 있다.
상기한 산화반응 결과로 합성된 상기 화학식 3으로 표시되는 피루베이트 화합물을 메틸히드라진으로 축합반응시켜 상기 화학식 4로 표시되는 히드라존 화합물로 전환시킨다. 축합반응은 메틸히드라진을 초산, 황산, 인산, 파라-톨루엔술폰산 등의 산 촉매 존재하에서 알콜류 및 디메틸술폭시드, 아세토니트릴, 디옥산 등의 유기 용매에서 50 ∼ 100 ℃에서 교반하여 수행한다.
그리고, 상기한 축합반응 결과로 합성된 상기 화학식 4로 표시되는 히드라존 화합물을 염기적 조건하에서 분자내 고리화 반응시켜 상기 화학식 5로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복시산 에스테르를 합성한다. 분자내 고리화 반응은 요오드화 구리(I) 존재하에서 알칼리류나 아민류를 염기로 사용하여 디메틸 술폭시드, 아미드류(예, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드), 아세토니트릴, 알콜류 등의 극성 유기 용매에서 50 ∼ 100 ℃에서 교반하여 수행한다. 상기 염기로서 바람직하기로는 탄산칼륨을 사용하는 것이다.
그리고, 상기한 고리화 반응 결과로 합성된 상기 화학식 5로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복시산 에스테르를 가수분해반응시켜 목적하는 상기 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산을 제조한다. 가수분해반응은 일반적인 염기성 가수분해 조건을 적용한다. 즉, 알칼리 수용액을 사용할 수 있으며, 바람직하기로는 수산화나트륨 수용액을 사용하는 것이며, 반응용매는 알콜류의 유기용매를 사용하고, 반응온도는 실온 내지 용매의 환류 온도 범위를 유지하는 것이고, 무기산 수용액으로 산성화하여 수행한다.
지금까지 알려진 종래방법에서는 먼저 고리화된 화합물인 인다졸 유도체를 합성한 후 인다졸에 1-메틸기를 도입하는 방법을 채택하고 있어 메틸화 반응과정에서는 제거하기 어려운 이성질체인 2-메틸인다졸 유도체가 부산물로 생성되는 난점이 있다. 이에 반하여, 본 발명에서는 고리화된 화합물인 인다졸 유도체를 합성하기 이전에 메틸히드라진의 축합반응을 수행하여 1-메틸기를 도입한 후에 고리화 반응을 수행하여 인다졸 유도체를 합성함으로써 제거하기 어려운 이성질체인 2-메틸인다졸 유도체의 생성을 원천적으로 방지하므로써 상기 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸 유도체만을 순수하게 제조할 수 있는 방법이라는 점에 그 우수성이 있는 것이다.
또한, 일반적인 종래방법에서와 같이 취급이 불편하고 위험 및 유해한 반응물질의 사용이 배제되어 있고, 제조과정도 간단하며 순도 및 수율도 우수하여 공업적으로 적용하는데 전혀 어려움이 없는 진보된 제조방법임에 틀림이 없다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명은 다음의 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하겠는 바, 본 발명의 다음의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 : 메틸 2-브로모페닐피루베이트의 제조
방법 A.
메틸 2-(2-브로모페닐)아세테이트 4.58 g을 메틸렌클로라이드 50 mL에 녹이고 과망간산칼륨 6.32 g, 수산화칼륨 3.17 g 및 테트라부틸암모늄 브로마이드 0.32 g을 차례로 가하고 12 시간동안 교반하였다. 2 N-황산수용액 100 mL를 첨가하고 거른 다음 유기층을 분리하여 포화 아황산 수소나트륨 수용액 30 mL로 세척하였다. 유기층을 무수황산마그네슘으로 건조한 다음 감압증류로 용매를 제거하고 실리카겔 관 크로마토그래피로 분리하여 표제 화합물 2.48 g(수율 51%)을 얻었다.
1H NMR(CDCl3) δ3.96(s, 3H), 7.41∼7.48(m,2H), 7.63∼7.70(m, 2H).
방법 B.
메틸 2-(2-브로모페닐)아세테이트 2.29 g을 사염화탄소 30 mL에 녹이고 N-브로모숙신이미드 1.96 g 및 아조비스이소부티로니트릴 0.08 g을 차례로 가하고 12 시간동안 환류하였다. 에테르 30 mL를 넣고 생성된 고체를 거른 다음 여액을 포화 티오황산나트륨 수용액 50 mL로 세척하였다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 건조한 다음 실리카겔 패드로 거르고 감압증류로 용매를 제거하였다. 얻어진 잔사를 디메틸술폭시드 20 mL에 녹이고 탄산수소나트륨 1.68 g을 가하고 12 시간동안 교반하였다. 에테르 50 mL를 넣고 생성된 고체를 거른 다음 여액을 포화 티오황산나트륨 수용액 50 mL로 세척하고 정제수 100 mL로 두 번 세척하였다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 건조한 다음 감압증류로 용매를 제거하고 실리카겔 관 크로마토그래피로 분리하여 표제 화합물 1.12 g(수율 46%)을 얻었다.
실시예 2 : 메틸 2-브로모페닐피루베이트 메틸 히드라존의 제조
메틸 2-브로모페닐피루베이트 2.43 g을 메탄올 25 mL에 녹이고, 메틸히드라진 0.92 g과 초산 2.52 g을 가하고 8 시간동안 환류시킨 다음 메탄올을 감압증류로 제거하였다. 초산에틸 30 mL를 첨가하고 포화탄산수소나트륨 수용액 30 mL로 중화 및 세척하고 유기층을 분리하였다. 무수 황산 마그네슘으로 유기층을 건조하고 용매를 감압증발로 제거하여 표제 화합물 1.98 g(수율 73%)을 얻었다.
1H NMR(CDCl3) δ3.25(s, 1H), 3.85(s, 3H), 3.98(s, 3H), 7.21∼7.73(m, 4H).
실시예 3 : 1-메틸-3-메톡시카보닐인다졸의 제조
메틸 2-브로모페닐피루베이트 메틸 히드라존 1.9 g을 디메틸술폭시드 20 mL에 녹인 후 요오드화 구리(I) 1.33 g과 탄산칼륨 1.16 g을 가하고 90 ℃에서 1 시간 교반하였다. 실온으로 냉각한 다음 초산에틸 60 mL를 첨가하고 정제수 100 mL로 3회 세척하였다. 유기층을 분리하여 무수 황산 마그네슘으로 건조하여 유기용매를 감압증류로 제거한 다음 헥산-아세트산 에틸 혼합용매로 고체화하여 표제화합물 0.84 g(수율 63%)을 얻었다.
융점 77∼78℃;1H NMR(CDCl3) δ4.06(s, 3H), 4.21(s, 3H), 7.34∼7.38(m, 1H), 7.49(m, 2H), 8.26(d, 1H,J=6.0 Hz).
실시예 4 : 1-메틸-3-카르복실산의 제조
1-메틸-3-메톡시카보닐인다졸 0.78 g을 메탄올 5 mL에 녹인 다음, 2 N-수산화나트륨 수용액 3.1 mL를 가하고 2 시간동안 교반하였다. 메탄올을 감압증류로 제거하고 정제수 5 mL를 가하여 묽힌 다음 초산에틸 10 mL로 두 번 세척하였다. 수용액층을 분리하여 2 N-염산수용액 3.5 mL를 가하여 산성화시키고 초산에틸 10mL로 두 번 추출하였다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 건조하고 용매를 감압증류로 제거한 다음 에테르로 고체화하여 표제화합물 0.68 g(수율 94%)을 얻었다.
융점 215∼216℃;1H NMR(DMSO-d6) δ4.16(s, 3H), 7.31(m, 1H), 7.49(m, 1H), 7.76(d, 1H,J=8.3 Hz), 8.08(d, 1H,J=8.3 Hz), 12.7(brs, 1H).
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 제조방법은 기존의 제조방법과 전혀 다른 신규 구조의 중간체들의 합성단계들로 이루어져 있음으로써 기존의 제조공정보다 단축된 공정으로 반응을 진행시킬 수 있으며 위험하거나 유해한 물질의 사용 및 불순물인 이성질체의 생성을 배제시켜 고순도의 목적화합물을 경제적이며 작업상 용이하게 제조할 수 있다.

Claims (6)

  1. 다음 화학식 2로 표시되는 할로페닐아세테이트 유도체를 산화반응시켜 다음 화학식 3으로 표시되는 피루베이트 화합물을 합성하는 과정;
    합성된 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 메틸히드라진과 축합반응시켜 다음 화학식 4로 표시되는 히드라존 화합물을 합성하는 과정;
    합성된 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 염기조건으로 고리화하여 다음 화학식 5로 표시되는 1-메틸인다졸 3-카르복시산 에스테르를 합성하는 과정; 및
    합성된 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 가수분해하여 다음 화학식 1로 표시되는 1-메틸인다졸-3-카르복실산을 제조하는 과정을
    포함하는 것을 특징으로 하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법.
    상기에서 : R은 C1∼6알킬기, C3∼7시크로알킬기, 페닐기 또는 페닐-C1∼3알킬기이고, X는 할로겐 원소이다.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 산화반응은 테트라부틸암모늄 할라이드 및 테트라부틸 히드로겐 술페이트 중에서 선택된 상전이 촉매 존재하에서 과망간산칼륨과 수산화칼륨 및 탄산칼륨을 사용하여 0 ∼ 100 ℃ 온도에서 교반하여 수행하는 것을 특징으로 하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 산화반응은 아조비스이소부티로니트릴 촉매 존재하에서 N-브로모숙신이미드를 사용하여 환류한 후에, 디메틸술폭시드와 탄산수소나트륨을 첨가하여 0 ∼ 90 ℃에서 교반하여 수행하는 것을 특징으로 하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 축합반응은 초산, 파라-톨루엔술폰산, 황산 및 인산 중에서 선택된 산 촉매 존재하에서 50 ∼ 100 ℃에서 교반하여 수행하는 것을 특징으로 하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 고리화 반응은 요오드화 구리(I) 존재하에서 알칼리류 및 아민류 중에서 선택된 염기를 사용하여 50 ∼ 100 ℃에서 교반하여 수행하는것을 특징으로 하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 가수분해 반응은 알칼리 수용액과 알콜 용매를 사용하여 실온 내지 용매의 환류 온도범위에서 교반한 후에, 무기산 수용액으로 산성화하여 수행하는 것을 특징으로 하는 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115124472B (zh) * 2022-05-25 2023-09-08 湖南大学 一类二氢吲唑化合物及其光诱导合成方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3895026A (en) * 1972-02-29 1975-07-15 Acraf Substituted 1-benzyl-1h-indazole-3-carboxylic acids and derivatives thereof
EP0323105A1 (en) * 1987-12-22 1989-07-05 Beecham Group Plc Novel process
JPH01207208A (ja) * 1988-02-10 1989-08-21 Nissan Chem Ind Ltd 植物生長調節剤
KR900011737A (ko) * 1989-01-21 1990-08-02 하우프터, 라이싱어 일반식(Ia) 및 (Ib)의 N-페닐테트라 히드로인다졸 유도체
US6005118A (en) * 1996-05-03 1999-12-21 Caron; Stephane Methods of preparing 4-cyano-4 (substituted indazole) cyclohexane-carboxylic acids useful as PDE4 inhibitors

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3895026A (en) * 1972-02-29 1975-07-15 Acraf Substituted 1-benzyl-1h-indazole-3-carboxylic acids and derivatives thereof
EP0323105A1 (en) * 1987-12-22 1989-07-05 Beecham Group Plc Novel process
JPH01207208A (ja) * 1988-02-10 1989-08-21 Nissan Chem Ind Ltd 植物生長調節剤
KR900011737A (ko) * 1989-01-21 1990-08-02 하우프터, 라이싱어 일반식(Ia) 및 (Ib)의 N-페닐테트라 히드로인다졸 유도체
US6005118A (en) * 1996-05-03 1999-12-21 Caron; Stephane Methods of preparing 4-cyano-4 (substituted indazole) cyclohexane-carboxylic acids useful as PDE4 inhibitors

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101713303B1 (ko) * 2015-12-24 2017-03-07 강원대학교산학협력단 2ｈ-인다졸 유도체의 제조방법

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