JPS59196319A - ポリアミド酸の製造法 - Google Patents

ポリアミド酸の製造法

Info

Publication number
JPS59196319A
JPS59196319A JP7176283A JP7176283A JPS59196319A JP S59196319 A JPS59196319 A JP S59196319A JP 7176283 A JP7176283 A JP 7176283A JP 7176283 A JP7176283 A JP 7176283A JP S59196319 A JPS59196319 A JP S59196319A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dianhydride
bis
diamine
polyamic acid
tetracarboxylic dianhydride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7176283A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0134454B2 (ja
Inventor
Shuichi Matsuura
秀一 松浦
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
「よし」田 正俊
Masatoshi Yoshida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP7176283A priority Critical patent/JPS59196319A/ja
Publication of JPS59196319A publication Critical patent/JPS59196319A/ja
Publication of JPH0134454B2 publication Critical patent/JPH0134454B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発明にテトラカルボン酸二無水物とシアミン孕)lA
Al1するポリアミド酸の製造法に係わるもので、その
目的とT心と(ろQ旦安皿−C,Lかも閉塊処理丁ゐこ
とによりllN勢11.個体5虫度、耐摩耗性、耐榮品
注3よび一6J併性が後!しており、電気絶縁材料、仮
核刑、接泊剤、挑耕あゐいはフィルム材料として雨月な
ポリアミド酸に提供することにりる。
不発明者らに以前特殊な構造を肩するポリマーが不発明
と同一の混合浴媒中で#造式nうることに示した(特公
昭50−6498号公独)。
しかし、か刀)る特殊l構造をイ1するポリマー葡装這
丁りノζめには%殊〃へつ一価な七ツマーτ必要とし、
しかtモノマーのa類が眠らlしているため、付性の改
善が行ないにぐいとい9ム点がめった。さらにかかる特
殊な構造ンM丁ゐポリマーに最終的Kに架橋した秋、昨
で用いろICめやや9涜性に久けるきらいがあった。
以上の問題点ケ改唇丁ゐ几め鋭意検討した粕来、テトラ
カルボン酸二無水物とジアミンという簡単l構造′)K
:待ったモノマーからせ成さ7ムる原理的に非架橋性の
ポリマーにli’J−の溶媒系が適用さt′Lゐことに
見出し/ζ0 丁lわち、不発明に、テトラカルボン酸二無水物とジア
ミンとに(a)ジアセトンアルコール。
セロソルブ、メチルづツブチルケトン、2エノール、ク
レゾール2よびキシレノールから選ばrしる少lくとも
一独の有磯鹸媒と(b)非プロトン性極性溶媒とよりな
、6混曾溶媒中で反応ちせるCとに特徴とTるポリアミ
ド酸の製造法に関するO 不発明に工2’Lば(aJ 2よび(b)よりなる特定
の混合溶媒中でテトラカルボン酸二無水物とジアミンと
勿反応妊せることによって継断的に品厘台度のポリアミ
ド酸欠得ゐOとができ、しかも0扛を脱水閉環丁ゐこと
によって耐#1件、似砿強度、耐#A札性、耐楽品注嘔
よび川柳性の浚γしπポリイミド葡4#ることができゐ
C 不発明″T:便用する二無水物には軸に制限にな一〇 本発明で(史用丁ゐのに適当l二無水物の廿りとしてc
次のものがある。
ピロメリット酸二無′7F、物、  5.6’、 4.
4’−ジフェニルテトラカルホン敗二無水’IyA、 
 1.2,5.6.−ナアタレンテト2刀ルポン岐二無
水9勿% 2.5.6゜7、−す2タレンテトラカルボ
/酸二無水物、2゜2’、3 、5’−ジンエニルテト
ラカルボン敵二無水物。
2.2−ビス(5,4,−ジカルボキシフェニル)グロ
ハンニ無水物、ビス< 6.4−ジカルボキシフェニル
)スルホンニ無x+a、 3.4,9,1o−ヘリL/
ンテトンカルボン戚二焦水吻、ビスC3,4−ジカルボ
キシフェニル)エタン二無水物、ナフタレン−1,2,
4,5−テトラカルボン咳二無水物、ナフタレ7−1.
4,5.8−テトラカルボン威二無水wA、  2.6
−ジタoルナニア 1 vン−1+C5+8−テトラカ
ルボン酸二無水?/J、2.7−シクロルナ2タレン−
1,4,5,8,−テトラカルボン酸二無水物、2.3
,6.7−チトラクロルナフタレンー1,415.8−
テトラカルボン酸二無水物、2エナンスレン−1,8,
9,10−テトラカルボン殴二無水物、2.2−ビス(
2,5−ジカルボキシ2エニル)フロパン二m水物、2
.2−ビス(2,5−ジカルボキシフェニル)へキサ2
0ログロバンニ無水物、  1.1−ビス(2,3−ジ
カルボキンフェニノリエタンニ無水物、1.1−ビス(
5,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンニ熊水物、ヒ
ス(5,4−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水
物、ベンゼン−1,2,5,4−テトラカルボン酸二無
水物、 5.4.5’、4’−ベンゾ2エノンテトラカ
ルボ7酸二無水物、 2.5.2’、6’−ベンゾ2エ
ノンテト2カルボン酵二無水物、2.5.5’、4’−
ベンゾフエノノテトラカルホン酸二無水物。
上2ジン−2,5,5,6−テト2カルボン酸二無水9
勿、ナ第2エンー2.5.4.5−デトラカルボン歌二
無水物、エチレンテトラカルボン腋二無水物。
デカヒドロナフクレン−1,4,5,8−テトラカルボ
ン酸二無水物、4.8−ジメチル−1,2,3,5,6
゜7−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テト
ラカルボン酸二無水m、 シクロベンクン−1,2L3
.4−テト2カルボン=二′Rボ9勿、シクロフ゛タン
ー1.2,3.4−テトラカルボンr致二無水9勿、ヒ
′ロリジンー2.5.4.5−テトラカルボン酸二無水
W、  1.2,3.4−ブタンテトラ刀ルボン敵二無
水物、ビシクロ−(2,2,2)−オクト(7)−エフ
−2,5,5,6−テトラカルボン摩二無水物、2゜5
 、3’、 4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、5.4.5’、4’−とフヱニルテトラカルボン酸
二無水物、2.5.2’、5’−ビフェニルテトラ刀ル
ボ/酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ2エニル
〕ジメテルシランニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)メチル2エニルシランニ無水物、ヒス(5
,4−ジカルボキシ2エニル)ジンエニルンラツニ無7
J(物、ビス(2,5−ジカルボキシ2エニル)ジメテ
ルシランニ無水物s  L4−ビス(5,4−ジカルボ
キシフェニルジメチルシリル)ベンゼンニ無水物、1.
6−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) −1,1
,,5,5,−プトラメテルジシロ午すンニ無水eB+
  p −フェニレン−ビス(トリメ!J ニア トL
¥li、モノエステル岐無水物入エチレングリコールビ
ス(トリメリット劇無水物)、2.2−ビス(6,4−
ジカルボキシ2エニル、)へキサ20ログロバンニ無水
物、2.2−ビス(4−(5,4,−ジカルボキシ2エ
ノキシ)2エニル〕へキサフロロ7′ロバンニ焦水’?
7J、4,4’−ビス(5,4−ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルスル2イドニ無水物、とx (4−(5
,4−ジカルボキシ2エノキシ)フェニル〕スルホンニ
無水物、4.4’ −(1,4−7ヱニレン)ビス(3
,5,6−) !、Iフヱニルンタルば無水m ) 、
  4゜4′−(オキシジー1,4−2エニレン)ビス
(6゜5.6−ドリフエニルンタル市焦水9勿)Cそし
てCILら二無丞v/J忙2独以止混台して用いろCと
もできゐ〇 不発明で便用′Tゐジアミンには的に制限(Cない0 不発明で便用子ゐのに通白なジアミンの例としては次の
ものがあめ。
2.2−ビス(4−アミンーンエニル)グロバン、2,
6−ジンミツービリジン、ビス−(4−アミン−)工ニ
ル)ジエチルシフ/、ビス−(4−アミノ−フェニル)
ジエチルシラン、べ/ジジン、 5.6’−ジクロル−
ベンチジン、6゜6′−ジメトキシベンジジン、ビス−
(4−7ミノーフエニル)エチルホスフィンオ牛サイド
、ビス−(4−アミノーアエニル)−N−ブナルアミン
、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−メチルアミン
、 5.6’−ジメチル−4,4′−ジアミノトルエン
ル、N−(5−アミノンエニル)−4−アミノベンズア
ξド、4−アミノ2工二ルー6−アミノ安息沓敵、6,
6′−ジメチル−4゜4′−ジアミノジフェニルメタン
、3.3’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3.3’−ジェトキシ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルメタン、  3.3’−ジカルボキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、  5.6’−ジン
−ロー4.4’−シアミノジ2エニルメタン、  5.
5’−ジクロロ−4、4’ −ジアミノジフェニルメタ
ン、 3.3’−ジブロム−4,47−ジアミノジフェ
ニルメタン、  5.5’−ジヒドロキシ−4,4′−
ジアミノジフェニルメタン、5.57−ジスルホ−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、  3.5’−ヅメ
ナル−4,4′−ジアミノジフエニルエーテル、  5
.5’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジンエニルエ
ーテル、 3.3’−ジェトキシ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル、5.5’−4゜4′−ジアミノジ
ンエニルエーテル、  5.5’−ジクロロ−4,4′
−ジアミノジフェニルエーテル、6゜6′−ジヒドロキ
シ−4,4′−ジアミノジンエニルエーテル、6,6′
−ジスルホ−4,4′−ジアミノジンエニルエーテル、
6.6′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルス
ルホン、5.6’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノジ
フェニルスルホン、5.5’−ジエトキ/−4,4’−
ジアミノジフェニルスルホ、y、 5.3’ −シカル
*キ’y −4,7r−シフ < / ジフェニルスル
ホン、5.5′−シクロロー4.4′−ジアミノジフェ
ニルスルホン、5□6′−ジヒドロキシ−4,4−ジア
ミノジフェニルスルホン、3..5’−ジスルホ−4,
4’−ジアミノジフェニルスルホン。
6.6′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプ
ロパン、 6.5’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノ
ジンエニルプロパン、5.6’−ジェトキシ−4、4’
 −ジアミノジ2エニルグロバン、 6.5’−ジカル
ホ゛キシー4.4′−シアはノジフェニルズロバン、6
゜6′−シクロロー4.4′−ジアミノジフェニルフ=
ロバン、 6.5’−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルプロパン、 5.5’−ジスルホ−4,4
′−シアミノジフェニルズロバン、 5..5’−ジメ
チル−44’−ジアミノジフェニルスルファイド、 3
.5’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルス
ル2アイド、5.6′−ジェトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルファイド、5.5’−ジカルボキシ−
4,4’−ジアミノジフェニルスル2アイド、5゜5/
  、−、rクロロ−a、4′−ジアミノジフェニルス
ル2アイド% 6.6′−ジヒドロキン−4,4′−ジ
アミノジフェニルスルファイド、  5.5’−ジスル
ホ−4,4′−ジアミノジフェニルスルファイド、 6
.5’−ジアミノジフェニルメタン、5.5’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、5.6’−ジアミノジン−ニル
スルホン、3.6’−ジアミノジフェニルメタン、 6
.6’−ジアミノジフェニルスル2アイド。
6.6′−ジアミノベンゾフェノン、2.4−ジアミノ
トルエン、  2.6−ジアミノトルエン、バラ−フェ
ニレンジアミン、メターンエニレンジアミン、  4.
4’−ジアミノージンエニルグロバン、4゜4′−ジア
ミノ−ジフェニルメタン、  4.4’−ジアミノ−ジ
フェニルスルフィド、  4.4’−ジアミノ−ジフェ
ニルスルホン、 4.4’−ジアミノージ2エニルエー
テル、  3.4’−ジアミノジフェニルニーデル、1
.5−ジアミノ−ナフタレン、5.3’−ジメトキシベ
ンジン、2.4−ビス(べ−7−7ミノーt −7’チ
ル)トルエン、ビス−(バラーヘ−ター7ミ/ −t−
7−5−ルー2エニル)エーテル、ビス−(ハラ−ベー
ターメチル−チルターアミノ−ペンチル)ベンゼン、ビ
ス−バプラ−(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン、1−インノロビル−29ヰ−ノタン一二
レンジアミン、m−キシレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、ヘプタメチレンジアミン。
オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカ
メチレンジアミン、ジアミノーグロビルテトラメテレン
ジアミン、6−メチルへブタメチレンジアミン、  4
.4’−ジメチルへブタメチレンジアミン、  2.1
1 −ジアミノ−ドデカン、1.2−ビス−(6−アミ
ツーグロホキ7)エタン、2,2−ジメチル−10ピレ
ンジアミン、6−メドキシーへキサメチレンジアミン、
3.5’−ジメチルベンジジン、2.5−ジメチルヘキ
サメチレンジアミン、2,5−ジメチルへブタメチレン
ジアミン、5−メチル−ノナメチレンジアミン、  2
.17−ジアミツーアイコサテカン、1.4−ジアミツ
ーシクロヘキタン、  1.io −ジアミノ−1,1
0−ジメチルデカン、1,12−ジアミノ−オフタテカ
ン。
セしてこt’Lらジアミン類k 2 f*以上混混合て
用イることもできる0テトラカルボン酸二無水物とジア
ミンのモル比ハ@血であることが望ましい。こn(グ京
会したポリアミド酸の分子量が最も人きくなるからJl
l幾重的強度ど十分鉤足丁べき箇未が侍ら′n−/8た
めである。
及↓色、瀞度f150℃以下で行なうの凌・好−ましい
50°Cよりも尚い温度で行19とイミド化が進み丁き
゛、生成した水によって分子tt 7)’上がらないは
力1シかワニスの珠存安定惟も悪くなるからである。
本発明の待畝に前述の池Q1頁溶媒あゐい(ζ反応性溶
媒と考えらnていたジアセトンアルコール、メケルイン
プテルケトン、セロンルプ、タレゾール、キシレノール
およびフェノールなどの溶媒が波列1可77ヒであるこ
と〒見出した点で、こnらの溶媒と非プロトン性幌性浴
姪との混合により高凪台朋のポリアミド酸が倚らnる。
こ′n−は混8溶奴として通首な組付せのためであり非
10トン件像性浴媒と炭化水累糸溶楳例えはトルエンキ
シレンなどの組甘ぜでは爪台度が上がらない。
本発明において混8浴媒の(aJと(b)の配台割せに
よって反応生成物の銖存安知性に治干の差異が生じるが
、かなり広範囲に亘って変えゐCとができる。普通前者
80〜20谷ル都に対し、俊820〜80答勤部の範囲
で用いrLは本発明の目的に十分達成ざ′nる0仝発明
でいj (bJの非プロトン性称性溶媒としてeコ例え
ばN、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピ
ロリドン、 N、N−ジメチルホルムアミド、 N、N
−ジエチルホルムアミドなとかある。
本発明で倚らnるポリアミド酸に浴剤に9浴性のもので
あplこ′n葡100℃以上に加熱すゐか、もしくに脱
水剤例えば無水酢は−ビリジンで処理することによp閉
環して耐熱性、磯椋強度、耐摩耗性、耐楽品住2よび司
恍性の優tたポリイミドに変供′TゐCとができる。
不発明によって侍らnゐポリイミドa′屯気絶縁材料、
フィルム、抗層用塗料あるいに成形品用として憧めて有
用であゐ0 以下不発明侘実施例孕用いてさらに詳維に祝明丁4+が
、不発明の範囲は以下の実施例に限定δfLるものでU
7zいC 実施例1 7高度方士、猜(年4炊2よび塩化カル7ウム官につり
た300m14つロフラスコに4.4′−ジアミノジア
エニルエーテル20.0g、!=N、N−ジメチルアセ
トアミド100m1オ入n攪拌入光攪拌溶触する。次い
でジアセトンアルコール100m1t力1えて水浴で冷
却してp(ocO浴敵にピロメリット眼二無水物21.
’8gτ除々に除刀口丁を〇添力l]俊反応液の副夏老
15℃にし7時間反応はせ1ヒ。7時間反比、後のワニ
スの還元粘にオ祠厘したところ1.65dl/g(溶媒
ジメチルアセトアミド、μ度0.1g/dl、温度25
.0℃、以下に述べる実施例、比較例もCAと同じ条件
)てあった。この反応浴液にカラス板上にηLして醪媒
老乾燥除去するとポリアミド酸からなる丈夫なフィルム
7)’得うtl−た0この2イルレム勿尺に200℃お
工ひ400℃で熱処坤丁/:)Cとによって曖nたl1
II′を蒋性5機械萄性、剛尾耗性、耐楽品性およびi
jJ撓性勿七するポリイミドフイルムケ得た。
実施例2 実施例1と同様の2ラスコに4.4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル17.60gとp−フェニレンジアミン9
.50 g k人t1.、史に1oontLのN−メチ
ル−2−ピロリドン勿加えた。この溶液に10℃以下に
保ち、ピロメリット嘔二無水物19、18 gと3.3
’、4.4’−ベンゾンエノンテトラカルボン酸二無水
物2 a34 gに除々に添加した。少し粘稠性が玩わ
扛たらクレゾール100m1孕少童ずつカロえ、その後
、7吋向反嘉巳、させ瓦。
7時間反応性のワニスの還元粘度に1.26dl/gで
あった。得ら′rしたポリアミド酸ワニスχ用いて実施
例1と同様の操作釦付ないせn九耐熱性、機械強度、耐
薬品性及び可撓性を有するフィルムτ倚だ〇 実施例」6 n−ブナルセロソルブオ用いる以外に実施例1と同様に
して反光、に行なった0狗らlしたワニスの還元粘度f
”11.15 dl/ g T:h ツfco 付ら2
tたワニスに用いて実施例1と同様の操作忙行ない、優
nた耐f性、慎械強贋、耐薬品性及び可撓性忙脣丁ゐフ
ィルム’Z 侍7j 。
実施例4 50m1のN、N−ジメチルアセドアミド、50[11
1ON−ノナルー2−ピロリドンh  100mlのメ
チルインブチルケトン葡用いる以り)U*ha例1と1
i′1.、;様にして反応に行なった0倚ら7したワニ
スの還元粘IWD O,83dl/ gであツ7co得
ら7’したワニスに用いて実施例1と同様の操作γ竹な
い、讃t′した耐に6性、恢砿強度、耐楽品注及び可焼
性に刹するフィルム知得1ζ。
実施例5 フェノール葡用いる以夕t(グ実施例2と同様にして反
応ヶ行なった0+4らn′fcワニスの還元粘U之Qユ
1.05dl/gであった。イ苛らrしたワニス葡用い
−C笑実施1と11jJ株の操作斃行lい稜Iした耐勢
住、イ幾械労i度、耐?f耗性、耐桑品住及び可読性【
南するフィルムを得た。
夾/#j例6 50m1のN、N−ジメチルアセドアミド、50m1c
/)N −メチル−2−ピロリドン、100m1のギシ
レノール′ぞ用いる以外にL実施例2と同様にして反応
〒行なっfco倚ら7したワニスの還元粘度に0.74
dl/gであっπQ侍ら才tたワニス7用いて実施例1
と同様の操作を行ない後7tた耐gs註、体m強度、耐
冷札任、1m桑品性及びMJ屍注覧勺丁ゐフィルムχ倚
た。
比戦例1 トルエン葡用いる以外(q朱り例2と同様にして反応孕
行なった。侍らnたワニスの還元粘度はC1,15dl
/gであり、実施例1と同様の操作忙行lったが、2イ
ルムに形成丁ゐことにできなかった0

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを(a)
    ジアセトンアルコール、セロソルブ、メチルインブチル
    ケトン、フェノール、クレゾールおよびキシレノールカ
    ・ら選はハる少Zくとも一十市の南似ン谷グ駿と(bJ
    非)゛ロトン性極仙溶媒とよりなる混8溶媒申で反応さ
    せゐことを翁叡とするポリアミド叡の製造法。
JP7176283A 1983-04-22 1983-04-22 ポリアミド酸の製造法 Granted JPS59196319A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7176283A JPS59196319A (ja) 1983-04-22 1983-04-22 ポリアミド酸の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7176283A JPS59196319A (ja) 1983-04-22 1983-04-22 ポリアミド酸の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59196319A true JPS59196319A (ja) 1984-11-07
JPH0134454B2 JPH0134454B2 (ja) 1989-07-19

Family

ID=13469872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7176283A Granted JPS59196319A (ja) 1983-04-22 1983-04-22 ポリアミド酸の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59196319A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6049031A (ja) * 1983-08-29 1985-03-18 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポリアミツク酸溶液の製造方法
JPS63500185A (ja) * 1985-11-25 1988-01-21 ヒユ−ズ・エアクラフト・カンパニ− 高分子量ポリイミドの製造方法、生成物及び用途
JPH0222329A (ja) * 1988-07-11 1990-01-25 Nissan Chem Ind Ltd 低熱膨張性ポリイミド
JPH04299885A (ja) * 1990-12-17 1992-10-23 E I Du Pont De Nemours & Co ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を含有するテトラポリイミドフィルム
JPH06334204A (ja) * 1993-05-21 1994-12-02 Ind Technol Res Inst 可撓性アモルファスシリコン太陽電池の製造法
WO2016136597A1 (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 株式会社カネカ ポリイミド積層体の製造方法およびその利用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS506498A (ja) * 1973-05-21 1975-01-23
JPS52108497A (en) * 1976-03-09 1977-09-10 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd Preparation of polyimide resins

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS506498A (ja) * 1973-05-21 1975-01-23
JPS52108497A (en) * 1976-03-09 1977-09-10 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd Preparation of polyimide resins

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6049031A (ja) * 1983-08-29 1985-03-18 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポリアミツク酸溶液の製造方法
JPH0368893B2 (ja) * 1983-08-29 1991-10-30 Japan Synthetic Rubber Co Ltd
JPS63500185A (ja) * 1985-11-25 1988-01-21 ヒユ−ズ・エアクラフト・カンパニ− 高分子量ポリイミドの製造方法、生成物及び用途
JPH0222329A (ja) * 1988-07-11 1990-01-25 Nissan Chem Ind Ltd 低熱膨張性ポリイミド
JPH04299885A (ja) * 1990-12-17 1992-10-23 E I Du Pont De Nemours & Co ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を含有するテトラポリイミドフィルム
JPH06334204A (ja) * 1993-05-21 1994-12-02 Ind Technol Res Inst 可撓性アモルファスシリコン太陽電池の製造法
WO2016136597A1 (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 株式会社カネカ ポリイミド積層体の製造方法およびその利用
JPWO2016136597A1 (ja) * 2015-02-24 2017-08-10 株式会社カネカ ポリイミド積層体の製造方法およびその利用

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0134454B2 (ja) 1989-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4075171A (en) Process for preparing aromatic polyimides and some polyimides prepared thereby
JPH0338229A (ja) ポリイミド分離膜
JPH0743726A (ja) 液晶表示素子
JPS627733A (ja) 無色透明なポリイミド成形体およびその製法
JP2016120630A (ja) 剥離層の製造方法及びポリイミド積層体
JP2969412B2 (ja) 液晶配向膜,これを有する液晶挟持基板及び液晶表示素子
US4734464A (en) Method of preparing modified polyimides or poly(amide-tmides)
US4689391A (en) Process for making polyetherimides
JPS59196319A (ja) ポリアミド酸の製造法
EP0486899B1 (en) Polyimide resin and preparation thereof
JPS6323928A (ja) 変性ポリイミドの製造方法
JP3079867B2 (ja) ポリイミド共重合体、その製造方法及びポリイミドフィルム
JPH047333A (ja) 新規ポリイミド
JPS61258836A (ja) ポリアミド酸溶液の製造方法
JPH0820721A (ja) ポリイミドフィルム及びその製造方法
JPS61130342A (ja) 有機溶媒に可溶なポリイミド樹脂の製造方法
US5294696A (en) Process for producing polyisoimide
JPH07228838A (ja) 含フッ素コーティング剤
US6538100B2 (en) Method for producing polyimide resin
JPH0881555A (ja) ポリイミド共重合体及びその製造方法
JPS645057B2 (ja)
JPS6119633A (ja) イミド系化合物またはその前駆体の合成方法
JPH1039312A (ja) 液晶配向膜、これを有する液晶挾持基板及び液晶表示素子並びに液晶配向膜用材料
JPH06100756B2 (ja) 液晶セル用配向処理剤
JPH06145347A (ja) 含フッ素ポリイミド、含フッ素ポリアミド酸及びポリイミド系樹脂、並びにそれらの製造法