JPS59157055A - ４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法 - Google Patents
４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法Info
- Publication number
- JPS59157055A JPS59157055A JP3325683A JP3325683A JPS59157055A JP S59157055 A JPS59157055 A JP S59157055A JP 3325683 A JP3325683 A JP 3325683A JP 3325683 A JP3325683 A JP 3325683A JP S59157055 A JPS59157055 A JP S59157055A
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- Japan
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- methyl
- hydroxy
- reducing agent
- butanol
- oxo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学純度の高い４−ヒドロキシ−５−テトラデ
シン酸メチルを製造する方法に関する。
シン酸メチルを製造する方法に関する。
４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルは、マメコ
ガネ性フェロモンを合成するための重要な中間体である
。マメコガネ性フェロモンの合成方法は既に幾つかが知
られているが、一つの代表的な方法は、次のスキームに
示すように、４−オキソ−５−テトラデシン酸メチル（
１）を不斉還元して、光学活性な４−ヒドロキシ−５−
テトラデシン酸メチル（２）とし、これをケン化して４
−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸（３）とする。
ガネ性フェロモンを合成するための重要な中間体である
。マメコガネ性フェロモンの合成方法は既に幾つかが知
られているが、一つの代表的な方法は、次のスキームに
示すように、４−オキソ−５−テトラデシン酸メチル（
１）を不斉還元して、光学活性な４−ヒドロキシ−５−
テトラデシン酸メチル（２）とし、これをケン化して４
−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸（３）とする。
次に、これを例えばアミンにより光学分割して光学活性
なアミン塩（４）を得、再結晶した後、酸により処理し
、蒸留して、（Ｒ，Ｚ） −（−） −５−ｄｅｃ−１
−ｙｎｙｌｏｘａｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｅ−２−ｏｎ
ｅ （５）を得、これを半還元劣ることにより、目的
とするマメコガネフェロモン、即ち、（Ｒ，Ｚ）−（−
） −５−ｄｅｃ−１−ｅｎｙｌｏｘａｃｙｃｌｏｐｅ
ｎｔａｎｅ−２−ｏｎｅ （６）を得ることができる
。
なアミン塩（４）を得、再結晶した後、酸により処理し
、蒸留して、（Ｒ，Ｚ） −（−） −５−ｄｅｃ−１
−ｙｎｙｌｏｘａｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｅ−２−ｏｎ
ｅ （５）を得、これを半還元劣ることにより、目的
とするマメコガネフェロモン、即ち、（Ｒ，Ｚ）−（−
） −５−ｄｅｃ−１−ｅｎｙｌｏｘａｃｙｃｌｏｐｅ
ｎｔａｎｅ−２−ｏｎｅ （６）を得ることができる
。
しかしながら、マメコガネフェロモンは（Ｓ、Ｚ）異性
体の混入によりその活性が大幅に低下することが知られ
ており、例えば、０．５％の（Ｓ、 Ｚ）異性体が存在
してもその活性は６０％程度にまで低下し、２％が存在
すると活性は約１／３に低下し、６％存在するときは最
早活性を示さない。
体の混入によりその活性が大幅に低下することが知られ
ており、例えば、０．５％の（Ｓ、 Ｚ）異性体が存在
してもその活性は６０％程度にまで低下し、２％が存在
すると活性は約１／３に低下し、６％存在するときは最
早活性を示さない。
このため、従来より光学的に純粋なマメコガネフェロモ
ンの合成が多くの研究者によって研究されているが、尚
種々の問題を有している。例えば、上記のスキームにお
′いて（１）から（２）への不斉還元にα−ピネンを用
いる方法が提案されているが、一般にこの方法によれば
、（１）に対してα−ピネンを大量に用いる必要があり
、しかも、これを回収することができず、更に、例えば
、α−ピネンと９−ポラビシタロ（３，３，１）ノナン
を不斉還元剤とする場合には、反応に数日間を要する。
ンの合成が多くの研究者によって研究されているが、尚
種々の問題を有している。例えば、上記のスキームにお
′いて（１）から（２）への不斉還元にα−ピネンを用
いる方法が提案されているが、一般にこの方法によれば
、（１）に対してα−ピネンを大量に用いる必要があり
、しかも、これを回収することができず、更に、例えば
、α−ピネンと９−ポラビシタロ（３，３，１）ノナン
を不斉還元剤とする場合には、反応に数日間を要する。
このように従来の方法によれば、効率や費用の点におい
て多くの問題がある。
て多くの問題がある。
本発明者は上記した問題を解決するために鋭意研究した
結果、４−オキソ−５−テトラデシン酸メチルを不斉還
元するに際して、（２Ｓ、 ３Ｒ） −（＋）−４−ジ
メチルアミノ−１，２−ジフエちルー３−メチル−２−
ブタノールを還元剤成分とする不斉還元剤を用いること
により、短時間の反応によってほぼ定量的に光学純度の
高い４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルを得る
ことができることを見出して、本発明に至ったものであ
る。
結果、４−オキソ−５−テトラデシン酸メチルを不斉還
元するに際して、（２Ｓ、 ３Ｒ） −（＋）−４−ジ
メチルアミノ−１，２−ジフエちルー３−メチル−２−
ブタノールを還元剤成分とする不斉還元剤を用いること
により、短時間の反応によってほぼ定量的に光学純度の
高い４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルを得る
ことができることを見出して、本発明に至ったものであ
る。
即ち、本発明による４−ヒドロキシ−５−テトラデシン
酸メチルの製造方法は、４−オキソ−５＝テトラデシン
酸メチルを（２Ｓ、 ３Ｒ） −（＋） −４−ジメチ
ルアミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタ
ノールと一般式 （但し、ＭはＬｉ又はＮａを示し、ＸはＡＩ又はＢを示
す。） とからなる還元剤により不斉還元することを特徴とする
。
酸メチルの製造方法は、４−オキソ−５＝テトラデシン
酸メチルを（２Ｓ、 ３Ｒ） −（＋） −４−ジメチ
ルアミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタ
ノールと一般式 （但し、ＭはＬｉ又はＮａを示し、ＸはＡＩ又はＢを示
す。） とからなる還元剤により不斉還元することを特徴とする
。
本発明において不斉還元剤成分として用いる（２Ｓ、
３Ｒ） −（＋） −４−ジメチルアミノ−１，２−ジ
フェニル−３−メチル−２−ブタノール（７）は次式で
表わされ、市販されているため、容易に入手する不斉還
元剤の他の成分は一般式 で表わされる金属ハイドライドであって、ここに、Ｍは
Ｌｉ又はＮａを示し、ＸはＡＩ又はＢを示す。
３Ｒ） −（＋） −４−ジメチルアミノ−１，２−ジ
フェニル−３−メチル−２−ブタノール（７）は次式で
表わされ、市販されているため、容易に入手する不斉還
元剤の他の成分は一般式 で表わされる金属ハイドライドであって、ここに、Ｍは
Ｌｉ又はＮａを示し、ＸはＡＩ又はＢを示す。
従って好ましい具体例として、ＬｉＡｌＨ４、ＮａＡｌ
Ｈ４、ＬｉＢ Ｈ４、ＮａＢ Ｈ４等を挙げることがで
きるが、特にＬｉＡＩＨが好ましく用いられる。
Ｈ４、ＬｉＢ Ｈ４、ＮａＢ Ｈ４等を挙げることがで
きるが、特にＬｉＡＩＨが好ましく用いられる。
本発明による不斉還元剤は、好ましくは、上記した金属
ハイドライドのジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル系有機溶液に攪拌下に温度−３０℃乃至５
０℃、好ましくは一１Ｏ℃乃至常温で金属ハイドライド
に対して２〜５倍モル、好ましくは２〜２．５倍モルの
（２Ｓ、 ３Ｒ） −（＋）−４−ジメチルアミノ−１
，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタノール（７）
の上記同様のエーテル溶液を添加し、攪拌することによ
り得られる。
ハイドライドのジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル系有機溶液に攪拌下に温度−３０℃乃至５
０℃、好ましくは一１Ｏ℃乃至常温で金属ハイドライド
に対して２〜５倍モル、好ましくは２〜２．５倍モルの
（２Ｓ、 ３Ｒ） −（＋）−４−ジメチルアミノ−１
，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタノール（７）
の上記同様のエーテル溶液を添加し、攪拌することによ
り得られる。
前記アセチレンケトン（１）をこの不斉還元剤にて還元
するには、このケトン（１）に対して１〜ｌＯ倍モル、
好ましくは１〜５倍モルの金属ハイドライドを用いて得
た不斉還元剤の溶液を−１２０℃〜５０℃、好ましくは
−ｉ ｏ ｏ ’ｃ〜常温とし、これに上記ケトンを加
え、攪拌下に１〜５時間程度反応させればよい。反応を
終了させるには、例えば水飽和エーテルを加える。この
ようにして反応を終了させた後、塩酸水溶液、次に飽和
食塩水で反応溶液を洗浄し、乾燥した後、濃縮すれば、
はぼ定量的に４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチ
ルの粗生成物を得ることができる。
するには、このケトン（１）に対して１〜ｌＯ倍モル、
好ましくは１〜５倍モルの金属ハイドライドを用いて得
た不斉還元剤の溶液を−１２０℃〜５０℃、好ましくは
−ｉ ｏ ｏ ’ｃ〜常温とし、これに上記ケトンを加
え、攪拌下に１〜５時間程度反応させればよい。反応を
終了させるには、例えば水飽和エーテルを加える。この
ようにして反応を終了させた後、塩酸水溶液、次に飽和
食塩水で反応溶液を洗浄し、乾燥した後、濃縮すれば、
はぼ定量的に４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチ
ルの粗生成物を得ることができる。
このようにして得られるヒドロキシ酸（３）の光学純度
は、反応条件により若干具なるが、通常、７５〜９０％
ｅ、ｅ、 （ｅｎａｔｉｏｍｅｒｉｃ ｅｘｃｅｓｓ）
であるもまた、反応終了後に反応溶液を洗浄した上記塩
酸水溶液に食塩を飽和させ、力性アルカリ水溶液でアル
カリ性とした後、エーテル抽出し、このエーテル層を乾
燥、濃縮することにより、不斉還元に用いたアミノアル
コール（７）をほぼ定量的に回収することができる。
は、反応条件により若干具なるが、通常、７５〜９０％
ｅ、ｅ、 （ｅｎａｔｉｏｍｅｒｉｃ ｅｘｃｅｓｓ）
であるもまた、反応終了後に反応溶液を洗浄した上記塩
酸水溶液に食塩を飽和させ、力性アルカリ水溶液でアル
カリ性とした後、エーテル抽出し、このエーテル層を乾
燥、濃縮することにより、不斉還元に用いたアミノアル
コール（７）をほぼ定量的に回収することができる。
以下に本発明の実施例を挙げる。
実施例
ＬｉＡｌＨ４２２Ｂ ｍｇニ乾燥−［−７／Ｌ’１００
ｍ１を加えて０℃に冷却した。（２Ｓ、 ３Ｒ） −（
＋） −４−ジメチルアミノ−１，２−ジフェニル−３
−メチル−２−ブタノール（７）３．８３ｇを乾燥エー
テル２０ｍ１に溶解した溶液を上゛記金属ハイドライド
エーテル溶液に２分間を要して滴下し、更に０℃にて２
分間攪拌した後、−１００℃まで冷却した。
ｍ１を加えて０℃に冷却した。（２Ｓ、 ３Ｒ） −（
＋） −４−ジメチルアミノ−１，２−ジフェニル−３
−メチル−２−ブタノール（７）３．８３ｇを乾燥エー
テル２０ｍ１に溶解した溶液を上゛記金属ハイドライド
エーテル溶液に２分間を要して滴下し、更に０℃にて２
分間攪拌した後、−１００℃まで冷却した。
次に、４−オキソ−５−テトラデシン酸メチル（１）１
．２６ｇを乾燥エーテル２０ｍ１に溶解した溶液を上記
還元剤溶液に３０分間を要して滴下し、この後、−１０
０℃で２時間、更に−７０〜−６５℃の温度で２時間攪
拌した後、水飽和エーテルを加えて反応を終了させた。
．２６ｇを乾燥エーテル２０ｍ１に溶解した溶液を上記
還元剤溶液に３０分間を要して滴下し、この後、−１０
０℃で２時間、更に−７０〜−６５℃の温度で２時間攪
拌した後、水飽和エーテルを加えて反応を終了させた。
反応溶液をＩＮ塩酸水溶液で３回洗浄し、飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。この
後、濾過し、濃縮して粗４−ヒドロキシー５−テトラデ
シン酸メチル１．２３ｇを得た（収率９７％）。光学純
度は、Ｅｕ （ｔｆｍｃ）３ の存在下の核磁気共鳴
スペクトルから７９％ｅ、ｅ、であった。
洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。この
後、濾過し、濃縮して粗４−ヒドロキシー５−テトラデ
シン酸メチル１．２３ｇを得た（収率９７％）。光学純
度は、Ｅｕ （ｔｆｍｃ）３ の存在下の核磁気共鳴
スペクトルから７９％ｅ、ｅ、であった。
また、反応溶液を洗浄した上記塩酸水溶液に食塩を飽和
させ、ＩＮ力性ソーダ水溶液を加えてアルカリ性とした
後、エーテル抽出し、このエーテル層を乾燥し、濃縮す
ることにより、（２Ｓ、 ３Ｒ）−（＋） −４−ジメ
チルアミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブ
タノール（７）を回収率９８．５％で回収することがで
きた。
させ、ＩＮ力性ソーダ水溶液を加えてアルカリ性とした
後、エーテル抽出し、このエーテル層を乾燥し、濃縮す
ることにより、（２Ｓ、 ３Ｒ）−（＋） −４−ジメ
チルアミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブ
タノール（７）を回収率９８．５％で回収することがで
きた。
Claims (1)
- （１）４−オキソ−５−テトラデシン酸メチルを（２Ｓ
、 ３Ｒ）−（＋） −４−ジメチルアミノ−１，２
−ジフェニル−３−メチル−２−ブタノールと一般式（
但し、ＭはＬｉ又はＮａを示し、Ｘは酎又はＢを示す。 ） とからなる還元剤により不斉還元することを特徴とする
４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3325683A JPS59157055A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | ４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3325683A JPS59157055A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | ４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59157055A true JPS59157055A (ja) | 1984-09-06 |
| JPH0150215B2 JPH0150215B2 (ja) | 1989-10-27 |
Family
ID=12381420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3325683A Granted JPS59157055A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | ４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59157055A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01226855A (ja) * | 1988-03-07 | 1989-09-11 | Nitto Denko Corp | 光学活性（ｒ）４‐ヒドロキシ‐５‐テトラデシン酸メチルの製造方法 |
| EP0435293A2 (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-03 | Nitto Denko Co. Ltd. | Methods of producing optically active hydroxyesters |
| US7237757B2 (en) | 2001-09-14 | 2007-07-03 | Wayo Co., Ltd | Article support |
-
1983
- 1983-02-28 JP JP3325683A patent/JPS59157055A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01226855A (ja) * | 1988-03-07 | 1989-09-11 | Nitto Denko Corp | 光学活性（ｒ）４‐ヒドロキシ‐５‐テトラデシン酸メチルの製造方法 |
| EP0435293A2 (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-03 | Nitto Denko Co. Ltd. | Methods of producing optically active hydroxyesters |
| US7237757B2 (en) | 2001-09-14 | 2007-07-03 | Wayo Co., Ltd | Article support |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0150215B2 (ja) | 1989-10-27 |
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