JPH01226855A

JPH01226855A - 光学活性（ｒ）４‐ヒドロキシ‐５‐テトラデシン酸メチルの製造方法

Info

Publication number: JPH01226855A
Application number: JP5319188A
Authority: JP
Inventors: Shuji Senda; 千田　修治; Yutaka Nakazono; 豊中薗; Tamaki Tachikawa; 立川　環; Tetsuo Komata; 哲夫小俣; Mitsuru Konno; 今野　満
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 1988-03-07
Filing date: 1988-03-07
Publication date: 1989-09-11
Anticipated expiration: 2012-04-09
Also published as: JP2598950B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は光学活性（Ｒ）４−ヒドロキシ−５−テトラ
デシン酸メチルの製造方法に関し、その目的は害虫マメ
コガネの性フエロモンである（Ｒ，Ｚ）−５−（１−デ
セニル）オキサシクロペンタンを得るための合成中間体
である光学活性（Ｒ）４−ヒドロキシ−５−テトラデシ
ン酸メチルの製造方法の提供にある。

（従来技術）４−ヒドロキシ−５〜テトラデシン酸メチル（次式ｌ）
は、次式に示す構造を持つ。

この４〜ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの光学
活性体である（Ｒ）体は（Ｒ，Ｚ）−５−（１−デセニ
ル）オキサシクロペンクン−２（次式３）を得るための
重要な合成中間体である。

即ち、下記（式ｌ）に示すように、４−オキソ−５−テ
トラデシン酸メチルを加水分解、閉環させてラクトン（
式２）とした後、これを半還元することによって（Ｒ，
Ｚ）−５〜（１−デセニル）オキサシクロペンクン−２
（式３）を得ることができる。

（以下余白）この化合物（Ｒ，Ｚ）−５−（１−デセニル）オキサシ
クロベンクン〜２（式３）は、米国において大きな被害
を与えているマメコガネ（通称Ｊａｐａｎｅｓｅ　ｂｅ
ｅｔｌｅ。

学名Ｐｏｐｉｌｌｉａ　ｊａｐｏｎｉｃａ）の性フエロ
モンであって従来、マメコガネの大量誘引殺虫に用いら
れている。

マメコガネは鞘翅目コガネムシ科に属する昆虫で、ダイ
ズ、アズキ、エントウ等のマメ類やブドウなどの葉を食
する害虫である。

元来、日本全土に分布するが、アメリカに侵入し、アメ
リカで果樹、農作物に多大の被害を与えている。

係るマメコガネの誘引殺虫に使用される（Ｒ，Ｚ）−５
−（１−デセニル）オキサシクロペンクン−２（式３）
の重要な合成中間体である、光学活性４−ヒドロキシ−
５−テトラデシン酸メチルの製造方法としては、従来４
−オキソ−５−テトラデシン酸メチルを種々の光学活性
還元剤により不斉還元する方法が知られている。

例えば、ａ）バーカー法、ｂ）ミツドランド法、Ｃ）セ
ンダ法等である。

ａ）　Ｒ，Ｂａｋｅｒ　ｅｔ　ａｔ、　Ｊ、　ＣｈｅＩ
Ｉｌ、　Ｓｏｃ、　Ｐｅｒｋｉｎ　Ｉ。

６９　（１９８２）。

ｂ）　Ｍ、　Ｍ、　Ｍｉｄｌａｎｄ　ｅｔ　ａｌ、、　
Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、、４６＋４１０８　（１９
８１）。

ｃ）　Ｓ、　５ｅｎｄａ　ｅｔ　ａｌ、　Ａｇｒｉｃ、
　Ｂｉｏｌ、　Ｃｈｅｍ、、　４７゜２５９５　（１９
８３）。

しかし、これらの方法は、以下に示すような欠点を有し
ている。

（従来技術の欠点）すなわち、ａ）のへ−カー法、ｂ）のミツドランド法は
いずれもボラン系の不斉還元剤を用いているがこの不斉
源が反応中に消費されるため製法としてはコスト的に高
いものになり大量生産に適さない。

また、Ｃ）のセンダ法は、不斉源は回収されるが、−１
００℃という低温を必要とし、大量生産法に移行時に大
きな問題となりやはり適さない。

このセンダ法を改善し、すなわち−１００℃という低温
を避け、−６０〜−７０℃程度（ドライアイス・アセト
ン）の温度で不斉還元を行なおうとする試みもあるが、
この試案法では光学純度が大幅に低下した合成物しか得
られず好ましくない。

またこのセンダ法で溶媒にテトラヒドロキシフランを用
いると−６０〜−７０℃で光学純度が５０％ｅ、ｅ。

程度の目的合成物が得られるが溶媒の後処理がしにくい
。

（発明の解決課題）そこでこの発明者らは、光学活性（Ｒ）４−ヒドロキシ
−５−テトラデシン酸メチルの製造において、光学純度
が高く、しかも比較的高い温度で製造でき、更に後処理
が容易で即ち大量生産に適した製法を創出せんとした。

（発明の解決手段）即ち、この発明は４−オキソ−５−テトラデシン酸メチ
ルを出発物質とし、この出発物質を（２Ｓ、３Ｒ）−（
＋）−４−ジメチルアミノ−１，２−ジフェニル−３−
メチル−２−ブタノールと水素化リチウムアルミニウム
により不斉還元する際、エチルエーテル／テトラヒドロ
キシフランが９７１〜１／９の混合比をもつエチルエー
テル系混合溶媒を用いることを特徴とする光学活性（Ｒ
）４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方
法を提供することにより、−２０〜−６０℃という比較
的高温で即ち大量生産に通した温度で、６０〜８０％ｅ
、ｅ、と極めて高い光学純度の光学活性（Ｒ）−４−ヒ
ドロキシ−５−テトラデシン酸メチルを得ることに成功
し、この発明に至ったものである。

（発明の構成）この発明に係る光学活性（Ｒ）４−ヒドロキシ−５−テ
トラデシン酸メチルの製造方法を以下詳細に説明する。

この発明法においては、先ず、不斉還元剤としての水素
化リチウムアルミニウムを調製し、この不斉還元剤に次
の溶媒を加える。

この発明反応に用いる溶媒としては、エチルエーテル／
テトラヒドロキシフラン混合液が望ましい。

この比率は１７９〜９／１、より好ましくは１７９〜１
／１がよい。

その理由は、テトラヒドロキシフランがエチルエーテル
の９倍よりも多く混合されれば反応生成後の後処理が困
難となり、逆に１７９未満となると反応生成物の光学純
度が低くなり、結局いずれの場合も好ましくないからで
ある。

この混合溶媒の混合方法としては、別々に反応系に加え
てもよいし、予め混合して同時に反応系に加えてもよい
。

前記不斉還元剤としての水素化リチウムアルミニウムの
この発明における使用量としては、この後に反応系に加
える４−オキソ−５−テトラデシン酸メチルに対して０
．８〜２当量、より好ましくは１．０〜１．２当量とな
る様に用いるのが好ましい。

その理由は、２当量を超えて多量に用いるとそれに伴い
（２Ｓ、　３Ｒ）　−（＋）−４−ジメチルアミノ−１
，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタノールも多量
必要となりコスト的に高くなり工業的製法として望まし
くな（、逆に０．８当量より少ないと十分に反応が進行
しないため、結局いずれの場合も好ましくないからであ
る。

この反応系に、（２Ｓ、　３Ｒ）　−（＋）−４−ジメ
チルアミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブ
タノールを加える。

このアルコールの添加量としては、先に加えた不斉還元
剤である水素化リチウムアルミニウムに対して１〜２．
５当量、より好ましくは１．５〜２．０当量用いるのが
望ましい。

その理由は、このアルコールを２．５当量を超えて多量
用いるとコスト的に高くなり反応性もおち、また、逆に
１当量未満とするとエステル部分も還元され、結局いず
れの場合も好ましくないからである。

この添加時の反応系雰囲気温度としてはＯ〜−６０℃と
するのが好ましい。

その理由は、添加時に大きな発熱が見られるためである
。

最後にこの反応系に４−オキソ−５−テトラデシン酸メ
チルを加える。

この反応時の温度はＯ〜−７０℃、より好ましくは−２
０〜−６０℃とするのが望ましい。

その理由は、工業的生産に移行し大量に冷却する時−６
０〜−７０℃（冷媒をドライアイス−アセトンペースト
またはドライアイス−メタノールペーストを用いて）以
下にするのは生産技術的に難しく、更にコスト的にも非
常に高くなり工業的生産に適さず、また、逆に０℃以上
では反応生成物の光学純度が大きく低下し、いずれの場
合も好ましくない。

この反応の後、有機層をとり、酸洗い、水洗い等を行い
、これを凝縮し、蒸留することにより光学活性（Ｒ）−
４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルを単離する
ことができる。

収率は８０〜９８％程度である。

以上のようにして、この発明法で光学活性（Ｒ）−４−
ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルを得ることがで
きる。

（発明の効果）以上詳述した如く、この発明に係る光学活性４−ヒドロ
キシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法は、４−オ
キソ−５−テトラデシン酸メチルを出発物質とし、この
出発物質を（２Ｓ、３Ｒ）−（＋）−４−ジメチルアミ
ノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタノール
を水素化リチウムアルミニウムにより不斉還元する際、
エチルエーテル／テトラヒドロキシフランが９／１〜１
／９の混合比をもつエチルエーテル系混合溶媒を用いる
ことを特徴とする光学活性４−ヒドロキシ−５−テトラ
デシン酸メチルの製造方法であるから、比較的高温で処
理でき従って大量生産に適し、後処理も容易な製法であ
るという効果を奏する。

以下に実施例及び比較例を示すことによりこの発明の効
果をより一層明確にする。

（実施例１）水素化リチウムアルミニウム１５０ｇを（テトラヒドロ
キシフラン２１十エチルエーテル３１）に懸濁し、−２
０℃にて（２Ｓ、　３Ｒ）　−（＋）−４−ジメチルア
ミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２−ブタノー
ル２．２５ｋｇをエチルエーテル４１にとかして滴下し
た。

これを−５０℃まで冷却した後、４−オキソ−５−テト
ラデシン酸メチル１　ｋｇをエチルエーテル１１にとか
して滴下した。

この温度で４５分間攪拌した後、水１１を加え反応を停
止した。

固体を濾過した後、濾液を２ＮＨｉＳＯ４水溶液で洗浄
し、水洗、乾燥した後、濃縮し、１　ｋｇの（Ｒ）−４
−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルを得た。

（収率９９％）この光学純度は、サンプル１０■にＥｕ　（ｔｆｃ）　
ｓ１５■をＣＤＣｌ３０．７５１１１１にとかして、Ｎ
ＭＲにより測定することにより７０％ｅ、ｅ、であるこ
とがわかった。

ＮＭＲ条件４００ＭＨ，’ＨＮＭＲにより通常条件にて
測定−０ＣＨ３のピーク（Ｒ）体：４．１〜３．９ｐｐ
ｍ（Ｓ）体：４．０〜３．８ｐｐｍ（実施例２〜７及び比較例１．２）テトラヒドロキシフランとエチルエーテルの混合割合を
第１表の如く変化した以外は実施例１と全く同様に処理
した光学活性（Ｒ）−４−ヒドロキシ−５−テトラデシ
ン酸メチルの光学純度を第１表に併せて記す。

第　　　１　　　表 ※比較例２は後処理の際、特にテトラヒドロキシフラン
が水溶性のため生成物が水層に入り、収率が低下するた
め、高収率を得るのが大変困難であった。

以上の結果から明らかな如く、この発明法に係る光学活
性（Ｒ）４−ヒドロキシ−５−テトラデシン酸メチルの
製造方法は優れた方法であることが判る。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）４−オキソ−５−テトラデシン酸メチルを出発物
質とし、この出発物質を（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−４−
ジメチルアミノ−１，２−ジフェニル−３−メチル−２
−ブタノールと水素化リチウムアルミニウムにより不斉
還元する際、エチルエーテル／テトラヒドロキシフラン
が９／１〜１／９の混合比をもつエチルエーテル系混合
溶媒を用いることを特徴とする光学活性（Ｒ）４−ヒド
ロキシ−５−テトラデシン酸メチルの製造方法。