JPS59143297A - 交流駆動薄膜電場発光素子 - Google Patents

交流駆動薄膜電場発光素子

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JPS59143297A
JPS59143297A JP58016505A JP1650583A JPS59143297A JP S59143297 A JPS59143297 A JP S59143297A JP 58016505 A JP58016505 A JP 58016505A JP 1650583 A JP1650583 A JP 1650583A JP S59143297 A JPS59143297 A JP S59143297A
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JP
Japan
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fluorine
terbium
thin film
emitting element
fluoride
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JP58016505A
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JPS6252438B2 (ja
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富造 松岡
任田 隆夫
阿部 惇
洋介 藤田
雅博 西川
新田 恒治
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は平板型キャラクタ−およびグラフィックディプ
レイとして、高い輝度、見易さおよび長寿命という特徴
を持つ交流駆動薄膜電場発光素子(以下、交流薄膜EL
素子と記す)に関す゛るものである。
従来例の構成とその問題点 コンピューターやワードプロセッサーの表示装置におい
ては、CRTが多く用いられているが、そこで見易いと
いう人間工学的見地から緑色の表示がもっばら用いられ
てきた。
したがって、EL表示素子を上記表示装置として応用す
る場合も当然緑色の発光素子が望捷れる。
ところで、EL表示素子としては、はぼ実用的輝度レベ
ルの黄色発光素子があるが、より望ましい緑色発光素子
は最も輝度の高いフッ化テルビウム付活硫化亜鉛螢光薄
膜を用いたEL素子で、前記黄色発光素子の約%の輝度
で、実用にはいま一歩の輝度改善が必要である。
発明の目的 本発明は1.もっとも実用価値の高い発光色である緑色
のEL素子の輝度の向上を目的とする。
発明の構成 本発明はフン化テルビウム付活硫化亜鉛螢光膜の化学組
成に検討を加え、EL素子の緑色発光輝度を向上させる
ことができだものである。
EL発光素子は一般にガラス基板にコートされた透明電
極と金属背面電極の間に、絶縁層、螢光体層、絶縁層の
順にはさみ積層した構造を持つ。
かかる螢光体層には、緑色発光の場合、硫化亜鉛の中に
フッ化テルビウムをドープした(のが用いられる。従来
は、テルビウムとフッ素とは1:3のフッ化テルビウム
の化学量論比で導入されていたが、本発明においては、
フッ素イオンを上記、1:3の化学量論比以上に硫化亜
鉛中に導入して、緑色発光の輝度向上を図ったものであ
る。
実施例の説明 EL発光素子は、通常、透明電極をコートしたガラス基
板上に絶縁体層、螢光体層、絶縁体層および金属電極層
の順に積み重ねて作製し、透明電極と金属電極間に交流
電界を印加して発光させるものである。
上記螢光体層を形成するには、フッ化テルビウムと硫化
亜鉛の混合物ターゲットをスパッターする方法がよく用
いられる。スパッターターゲット中のフッ化テルビウム
の含量は、硫化亜鉛1モルに対して0.02モル付近が
最適である。スパッターで形成された直後、螢光膜の発
光性能を向上させるだめに、真空あるいは不活性ガス中
でその熱処理が行なわれる。本発明において、まずその
熱処理温度条件がEL発光特性および螢光膜の化学組成
に及ぼす効果をオージェ電子スペクトロスコピーで調べ
た。その結果、350°Cまで輝度へ向上が認められ、
そこで最高輝度を示し、さらに熱処理温度を高くすると
輝度が低下した。
同時にオージェ電子分光分析でフッ素とテルビウムの強
度比を求めた。360°Cまではフッ素とテルビウム元
素のオージェ電子強度比が純粋な化学量論比のフッ化テ
ルビウムのそれと同じく、それ以上の温度では化学量論
比よりフッ素が減少し始め、5oo′Cでは化学量論比
の約%になって熱処理中に失なわれることが判った。
以上の結果からフッ素の硫化亜鉛膜中の含量が輝度に大
きく影響するものと考えられ、添加されたフッ化テルビ
ウムの化学量論比のフッ素以上にフッ素を含む方がよい
と考えて輝度向上を検討した。
そのだめに、本発明では、あらかじめ螢光膜をスパッタ
ー法にて形成するさいに、フッ化テルビウムと硫化亜鉛
混合ターゲットにさらに7ツ化亜鉛を混合させ、螢光膜
中に添加したフッ化テルビウムによって導入される置板
上にフッ素を含有させた。その結果、フッ化テルビウム
の化学量論比のフッ素以上にフッ素が硫化亜鉛螢光膜中
に含有される時、EL素子は高い輝度を示すことがわか
った。
以下具体的データを用いて説明する。
スパッターターゲットとして下表に示す組成の混合物(
モル比)を作製した。
各化合物を組成に従い秤量し、アセトン媒体中で湿式混
合し、アセトンを飛ばして乾燥した後、石英製ボートに
入れて焼成を行なった。400°C/時の速度で昇温し
、500′Cまでは含まれている未発を除去する目的で
真空中で、それ以上の温度ではアルゴンガスに切換えて
、昇温した。フッ化亜鉛は872℃に融点を持ち、比較
的蒸発しゃすい化学物であるので、750℃で2時間保
持した。
このようにして作製した混合物をステンレススチール製
の皿に2rrrInの厚みにつめてターゲットとした0 透明電極がコートされたガラス基板上に、初めに電子ビ
ーム蒸着法で酸化イン) IJウム絶縁体層を0.05
μmの厚みに活性蒸着した。さらにその上傾上表に示し
だ各々のターゲットを用いて、以下の条件でマグネトロ
ンスパッター法にて。、30/1mの厚さの螢光体層を
形成した。
スパッターガス圧 : アルゴン6 X 1O−3to
rrパワ一密度   :  0.80 W/c、4基板
−ターゲット距離:   55m+n基板温度    
: 250°C レイト      : 約200八/分上表のすべての
ターゲットについて、0.30/1m厚の螢光体薄膜を
形成した後、それらを同時に360℃の温度で1時間、
IQ   torrオーダーの真空中で熱処理した。ひ
きつづき、まだ同時[EB活性蒸着法で酸化イツトリウ
ム0.40μm1酸化アルミニウム0.10pmおよび
アルミニウム電極0.10μmと順次形成し、EL素子
を完成さの正弦波電圧を印加し、電圧−輝度特性を測定
した。同時に、電圧−電流特性も測定した。EL素子は
低電圧ではなんら発光せず、コンデンサと同じ構造であ
るので単に変位電流が流れるのみであるが、ある特定の
電圧から発光し始め、同時に螢光体層の中に電圧と同位
相の電荷が流れだす。
この電圧と同位相の電荷が1.26X10  ’クーロ
ン(素子電極面積0 、070crl )のときの輝度
を基準として素子間の輝度を比較した。このチャージ量
はほぼ実用駆動領域の値である。交流薄膜EL素子の特
質から、発光し始め、同位相の電荷が螢光体層の中を流
れると、その層内の電界強度は一定にクランプされる。
したがって、上記電荷一定のもとて輝度を測定すると、
それがほぼ螢光体層の発光効率に比例するものとなるの
で、相対的に螢光膜の性能を比較できる。
輝度測定の後、各EL素子についてオージェ電子分光分
析を行い、テルビウム/亜鉛およびフッ素/テルビウム
のオージェ電子強度比を求めた。
その結果、テルビウム/亜鉛 比はすべての素子でほと
んど同じで、同じ含量のテルビウムが含まれていること
がわかった。しかし、フッ素/テルビウム比は、ターゲ
ットの中に種々の量のフン化亜鉛を添加しているので、
素子間で異なっていた。純粋なフッ化テルビウムについ
てあらかじめフッ素/テルビウム比を求めておいた。
上表の爲1のターゲットを用いて形成した螢光体薄膜で
は、上記純粋なフン化テルビウムの7ノ素/テルビウム
比にはζんど近く、わずかに低い値を示す程度で誤差範
囲といえる。したがって硫化亜鉛中にはフッ化テルビウ
ムの化学量論比でフッ素とテルビウムが導入されている
。しかし、上表の爲2以降のターゲットを用いて形成し
た螢光体薄膜においては、フッ素/テルビウム 比が純
粋なフッ化テルビウムのそれより大きくなっており、明
らかにターゲット中に混入したフッ化テルビウムによっ
て化学量論比で導入される量販上にフッ素が入っている
そこで各組成について、フッ素/テルビウムオージェ電
子強度比から過剰のフッ素がフッ化テルビウムによって
導入された化学量論組成のフッ素の何倍かを求めた。
1だ最後に結晶相をチェックする目的でX線回折を行な
ったが、螢光体層は硫化亜鉛の結晶相以外については観
察されなかった。
上記過剰のフッ素量とそれに対応するEL素子の輝度全
関係を図に示す。図の符号は上表のターゲット番号に相
当する。
図から明らかなように、過剰フッ素量が0.5〜3倍の
とき輝度が改善されていることがわかる。
過剰量が1.5〜1.8倍であるとき、従来の輝度(0
゜30 /J mの螢光体膜厚で2607ツトランバー
ト)の30%増しの値が得られた。
以上螢光体薄膜の製造方法として、スパッター法につい
て述べてきたが、EB法によっても同じ効果が実現され
得ることを確認した。
すなわち、硫化亜鉛をEB法で、フッ化亜鉛とフッ化テ
ルビウムを同時に他のソースから飛ばすことにより、過
剰のフッ素を螢光体膜中に導入できる。フッ化亜鉛のみ
レートを変えることによ−)でフッ素含量のいろいろ異
なった螢光膜が作製できる。この後、前に述べた同じ手
法でEL素子を作製し、輝度とフッ素過剰量との関係を
求めると、入ハソタ〜法で作製した螢光膜と同様な結果
が得られた。
寸だ上表の各ターゲットで螢光体薄膜を作製した後、そ
れらのを同時に350°C以外の熱処理温度で処理した
場合、全体の輝度レベルが上下するのみで、輝度の過剰
フッ素に対する傾向は同じであった。
発明の効果 本発明の交流EL素子を適用することによシ、コンビュ
′−ターの端末ディスプレイやワードプロセッザーにお
いて、望まれる緑色発光のフラットディスプレイをより
実用的なものとなし得る。
【図面の簡単な説明】
図は硫化亜鉛中にフッ化テルビウムにより導入される化
学量論組成のフッ素以上の過剰フッ素量と、そのEL素
子の輝度との関係を示すものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  フッ化テルビウム付活硫化亜鉛螢光体薄膜に
    おいて、導入されたフッ化テルビウムの化学量論組成以
    上に、過剰のフッ素を硫化亜鉛螢光体中に含むことを特
    徴とする交流駆動薄膜電場発光素子。
  2. (2)過剰のフッ素が導入された7ノ化テルビウムの化
    学量論組成に対する量の0.5〜3.0倍であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の交流駆動薄膜電
    場発光素子。
JP58016505A 1983-02-03 1983-02-03 交流駆動薄膜電場発光素子 Granted JPS59143297A (ja)

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