JPS59132408A

JPS59132408A - 単磁極型磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS59132408A
Application number: JP593083A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Sumiya; 住谷　和彦; Nobuo Nishimura; 伸郎西村
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1983-01-19
Filing date: 1983-01-19
Publication date: 1984-07-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（利用分野）本発明は、＃−磁極型磁気ヘッドに関し、特に垂直磁気
記録再生用の単磁極型磁気ヘッドに関する。

垂直磁気記録再生用の磁気へ、ドとしては、周知の様に
、単磁極型磁気ヘッドが原理的に最も適している。

（従来技術）第１図及び第２図は、それぞれ単磁極型磁気ヘッドを用
いた、垂直磁気記録再生装置の要部の一例を示す模式図
である。

これらの図において、２ｆｉ例えはフロッピーディスク
等の記録媒体であや、１はその表面側に配設された単磁
極型磁気ヘッドの補助磁極、３は前記記録媒体２の裏面
偏傾配設された単磁極型磁気へラドの主磁極を示す。

なお、第１図は補助磁極励磁型であシ、第２図は主磁極
励磁型でおる。

又、第３図は、上記した主磁極３を有する単磁極型磁気
ヘッドの一例を示す斜視図である。第４図はそのＡ−Ａ
線断面図、第５図はそのＢ−′Ｂ線断面図である０これ
らの図において、第１．２図と同−個所及び同等部分は
同一符号で示す。

第３〜５図において、非磁性基体５は、例えばセラミッ
ク等からなり、前記主磁極３としての高透磁率材からな
る軟磁性膜を挾持固定している。

又、接着剤層６は、一対の前記非磁性基体５相互を接合
している。

従来の単磁極型磁気ヘッドでは、前記非磁性基体５相互
を接合するのに、エポキシ系の接着剤を使用していた。

すなわち、前記接着剤層６は、エポキシ系の接着剤から
なっていた０このエポキシ系の接着剤は、周知の様に、
その硬度が低い為に、その厚さが厚くなると摩耗し易い
という特性がある０したがって、これを用いた従来の磁気ヘッドは、これを
加工、整形する時に、又はその使用を〈シ返すうちに、
前記接着剤層６が摩耗し、例えば、第４図に示す様に、
ヘッド表面上に窪みが発生することがあった０この様な窪みの発生は、記録媒体２と磁気ヘッドとが接
触走行する上で好ましくないことは勿論、この様な窪み
が発生すると、軟磁性膜で形成された主磁極３の先端部
が、第５図に示す様に、前記窪みを埋める様に展延する
為、磁極厚が設定値以上に厚くなる虞れがあった。

この様な事態が発生した場合には、装置の高密度記録特
性が著しく劣化し、再生出力が低下したりするという欠
点があった。

（目　的）本発明の目的は、前記した従来技術の欠点をなくし、ヘ
ッド表面上に窪みが発生することなく、しかも長期にわ
たりて装置の高密度記録特性が得られる垂直磁気記録再
生用の単磁極型磁気ヘッドを提供するにある。

（概　要）本発明の特徴は、従来のエポキシ系の接着剤に代えて、
低融点ガラスを用いて接着剤層を構成した点にある。

（実施例）以下、本発明の磁気ヘッドの製造過程を図面を用いて説
明し、かつ本発明の単磁極型磁気ヘッドについて説明す
る。

第６図（ａ）〜（ｄ）は、本発明の単磁極型磁気ヘッド
の製造工程の一例を説明する為の工程図である。

また、同図（ｄ）は、その完成した状態を示す平面図、
すなわち、本発明の単磁極型磁気ヘッドの一実施例を示
す平面図も兼ねている。

単磁極型磁気ヘッドの製造は、まずセラミック等からな
る非磁性基体５ａの鏡面研磨した側面に、スパッタリン
グ法又は蒸着法等によシ、第６図（ａ）に示す様に１高
透磁率材からなる軟磁性膜９を形成する。

前記軟磁性膜９は、工、チングによυ、第６図（ｂ）に
示す様に、予定のトラック輻ｔを有する磁極（主磁極又
は補助磁極）としての軟磁性膜９ａに形成される。

次に、非磁性基体５ａの軟磁性膜９ａの形成面（磁極形
成面）に、有機バインダと混合した粉末状の低融点ガラ
スを均一に塗布する。この塗布の厚さは、前記軟磁性膜
９ａの厚さと１４ぼ等しいか、やや厚くなる程度とする
のが望ましい。

なお、前記有機バインダは、はけ塗シの場合には、例え
ば酢酸イソアミル及びニトロセルローズを混合したもの
を用い、又スプレーコートする場合には、イングロビル
アルコールを用いればよい。

上記の様に、塗布して形成された、第６図（ｃ）に示す
様な接着剤層ｌＯは、予定時間乾燥された後、同材質及
び同形状からなる非磁性基体５ｂの鏡面研磨した側面と
突き合せられる。

その後、前記非磁性基体５ａ及び５ｂ相互は、その背後
から加圧されながら、焼成され、その結果、第６図（ｄ
）に示す様な単磁極型磁気ヘッドが完成される。

なお、前記焼成時における焼成温度は、４００°ト５０
０℃、焼成時間は３０分〜６０分必要であυ、又前記焼
成温度の昇温、降温は、毎分１０°Ｃ〜５０″Ｃである
ことが望ましい。

以上の説明は、本発明の単磁極型磁気ヘッドを製造する
のに、前記磁極形成面に、予め接着剤層１０を形成し、
他の非磁性基体５ｂと突き合せを行なった場合であるが
、本発明の単磁極型磁気へラドの製造方法は、これのみ
に限られるものではない。例えば、次の様にして行なう
こともできる０まず、第７図（ａ）に示す様に、その下
部にテーパ部２０を有する非磁性基体５ａの前記磁極形
成面と、同じくその下部にテーパ部を有する他の非磁性
基体５ｂの銚面研磨した側面とを位置合せを行ないなが
ら突き合せる。

次°に、これらを、前記位置合せを損わない様に、裏返
しにして、前記テーパ部間に、第７図（ｂ）に示す様に
、低融点ガラス１２を載せる。

その後、高温炉の中で、前記低融点ガラスを熔融さｉて
、非磁性基体５ａ及び５ｂ相互の間隙に、前記低融点ガ
ラスを充填する。この様にしても第６図（ｄ）に示すと
ほぼ同一の単磁極型磁気ヘッドを完成させることができ
る。

（効　果）以上の説明から明らかな様に１本発明によれは、従来の
エポキシ系接着剤に代えて、低融点ガラスを接着剤とし
て用い、接着剤層を形成するという簡単な構成にょシ、
従来以上に非磁性基体相互を強固に接合できると共に、
前記ガラスの硬度が大きくＩＩＩｔ摩耗性がよいので、
ヘッド表面上にｔｌとんど窪みが発生することがなくな
った。その結果、本発明によれば、長期にわたって装置
の高密度記録特性を保持できる効果がある。

又、前述した様にして形成される本発明の単磁極型磁気
ヘッドの磁極としての軟磁性膜に、パーマロイ（商標）
を用いる場合には、前述した方法で焼成又は熔融を行な
うことによシ、前記軟磁性膜がアニールされて磁気特性
が改善される。

【図面の簡単な説明】

第１図は補助磁極励磁型の垂直磁気記録再生装置の要部
の一例を示す模式図、第２図は主磁極励磁型の垂直磁気
記録再生装置の要部の一例を示す模式図、第３図は従来
の単磁極型磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第４図は第
３図のＡ−Ａ線断面図、第５図は第３図のＢ−Ｂ線断面
図、第６図（ａ）〜（ｄ）は本発明の単磁極型磁気ヘッ
ドの製造工程の一例を説明する為の工程図でおり、同図
（ｄ）は本発明の単磁極型磁気へ、ドの一実施例を示す
平面図も兼ねている。又、第７図（ａ）、　（ｂ）は本発明の他の単磁極型磁
気ヘッドの製造工程の一例を説明する為の工程図である
０５ａ、５ｂ・・・非磁性基体、９ａ　・軟磁性膜、１０
・・・接着剤層代理人弁理士　平　木　道　人外１名ズｒ　　１　　図　　　　　　　　　　オｒ　２　　固
片　　３　　図牙　　４　　図　　　　　　　　才　　５　　図第６図（ａ）　　　　　　（ｂ）Ｑ第７図（ａ）　　　　　　（ｂ）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）磁極としての高透磁率材からなる軟磁性膜と、前
記軟磁性膜をその両面から挾持固定する一対の非磁性基
体と、前記非磁性基体相互を接合する様に、少なくとも
前記非磁性基体相互の間隙に充填された接着剤層とを有
する単磁極型磁気ヘッドにおいて、前記接着剤層を低融
点ガラスで構成したことを特徴とする単磁極型磁気ヘッ
ド。