JPH01300412A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPH01300412A JPH01300412A JP12844788A JP12844788A JPH01300412A JP H01300412 A JPH01300412 A JP H01300412A JP 12844788 A JP12844788 A JP 12844788A JP 12844788 A JP12844788 A JP 12844788A JP H01300412 A JPH01300412 A JP H01300412A
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- magnetic
- magnetic head
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- magnetic field
- head
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドに係わり、特に磁気異方性が誘起さ
れる磁性材料によって磁気回路の少なくとも一部を構成
する磁気ヘッドの製造方法に関する。
れる磁性材料によって磁気回路の少なくとも一部を構成
する磁気ヘッドの製造方法に関する。
磁気ヘッドの磁気回路を構成するヘッドコアの少なくと
も一部が、磁界中での熱処理によって磁気異方性が誘起
される磁性材料で形成されている磁気ヘッドは公知であ
る。この磁気ヘッドの製造過程で、前記磁性材料には一
般に複数個の磁区が発生し、各磁区内部や磁壁の磁化が
安定するような磁気異方性が生して、その部分の透磁率
が低下する。
も一部が、磁界中での熱処理によって磁気異方性が誘起
される磁性材料で形成されている磁気ヘッドは公知であ
る。この磁気ヘッドの製造過程で、前記磁性材料には一
般に複数個の磁区が発生し、各磁区内部や磁壁の磁化が
安定するような磁気異方性が生して、その部分の透磁率
が低下する。
そのため、磁気ヘッドの製造過程あるいは製造後に磁界
中において熱処理を行って、前述の弊害を緩和する方法
が通常採用されている。
中において熱処理を行って、前述の弊害を緩和する方法
が通常採用されている。
この磁界中での熱処理において、磁界の方向や強度、な
らびに熱処理の温度や時間などの処理条件については種
々の検討がなされている。特に高周波特性の良い磁気ヘ
ッドを得るためには、磁界中での熱処理によって生じる
磁気異方性の磁化容易軸方向を、磁気ヘッドの磁路内の
磁束の流れに対してほぼ垂直にするのが良いことが知ら
れている。
らびに熱処理の温度や時間などの処理条件については種
々の検討がなされている。特に高周波特性の良い磁気ヘ
ッドを得るためには、磁界中での熱処理によって生じる
磁気異方性の磁化容易軸方向を、磁気ヘッドの磁路内の
磁束の流れに対してほぼ垂直にするのが良いことが知ら
れている。
従って、例えば第7図に示すような作動ギャップ突き合
わせ部に前記磁性材料から成る磁性膜2a、2bを配置
した磁気ヘッドにおいて、第1の磁界中熱処理時の磁界
H,の印加方向を磁気ヘッドのコア幅W方向とし、それ
によって誘起された磁気異方性をほぼ打ち消すように磁
界■1□の印加方向を磁気ヘッドの作動ギャップ深さ方
向とした第2の磁界中熱処理を施す磁気ヘッドの製造方
法が提案されている(例えば特開昭62−46408号
公報)。
わせ部に前記磁性材料から成る磁性膜2a、2bを配置
した磁気ヘッドにおいて、第1の磁界中熱処理時の磁界
H,の印加方向を磁気ヘッドのコア幅W方向とし、それ
によって誘起された磁気異方性をほぼ打ち消すように磁
界■1□の印加方向を磁気ヘッドの作動ギャップ深さ方
向とした第2の磁界中熱処理を施す磁気ヘッドの製造方
法が提案されている(例えば特開昭62−46408号
公報)。
なお、図中のla、lbは磁性もしくは非磁性材からな
る基体、3は磁気コア接合用ガラス、4は作動ギャップ
、5はコイル巻線用窓である。
る基体、3は磁気コア接合用ガラス、4は作動ギャップ
、5はコイル巻線用窓である。
このような構造の磁気ヘッドでは磁性膜2a。
2bの幅W(この場合はコア幅と同し)より磁性膜2a
、2bの高さhの方が充分に大きいため、磁気ヘッドの
高さ方向、すなわち作動ギャップ深さ方向の異方性エネ
ルギーが非常に小さくなり、磁化容易方向が作動ギャッ
プ深さ方向となり易くなっている。
、2bの高さhの方が充分に大きいため、磁気ヘッドの
高さ方向、すなわち作動ギャップ深さ方向の異方性エネ
ルギーが非常に小さくなり、磁化容易方向が作動ギャッ
プ深さ方向となり易くなっている。
このような状態の磁性膜2a、 2bに第2の磁界中
熱処理時に作動ギャップ深さ方向へ磁界を印加すれば比
較的簡単に磁化容易方向は作動ギャップ深さ方向に変化
すると考えられる。
熱処理時に作動ギャップ深さ方向へ磁界を印加すれば比
較的簡単に磁化容易方向は作動ギャップ深さ方向に変化
すると考えられる。
以上のことから上記の磁気ヘッド製造プロセスでは良好
な性能の磁気ヘッドを得ることが出来なかった。
な性能の磁気ヘッドを得ることが出来なかった。
この発明は、上記従来技術が持っていた磁気異方性の変
化という欠点を解決し、以て歩留まりの良い量産性に優
れた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
化という欠点を解決し、以て歩留まりの良い量産性に優
れた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
この目的のために本発明は、磁界中での熱処理によって
磁気異方性が誘起される磁性材料によって磁気回路の少
なくとも一部を構成する磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッ
ドの作動ギャップ深さ方向に対してほぼ直交する方向へ
磁界を印加しなから熱処理を行う磁界中熱処理を少なく
とも1回施し、前記磁性材料に作動ギャップ深さ方向に
対してほぼ直交する方向へ強固な磁気異方性を誘起させ
、磁気ヘッドの作動ギャップ深さ方向へ形状により誘起
される形状磁気異方性によっての磁気異方性の変化を防
ぎ、安定した性能の磁気ヘッドを得る。
磁気異方性が誘起される磁性材料によって磁気回路の少
なくとも一部を構成する磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッ
ドの作動ギャップ深さ方向に対してほぼ直交する方向へ
磁界を印加しなから熱処理を行う磁界中熱処理を少なく
とも1回施し、前記磁性材料に作動ギャップ深さ方向に
対してほぼ直交する方向へ強固な磁気異方性を誘起させ
、磁気ヘッドの作動ギャップ深さ方向へ形状により誘起
される形状磁気異方性によっての磁気異方性の変化を防
ぎ、安定した性能の磁気ヘッドを得る。
本発明の一実施例について図を以て説明する。
第1図は本発明の実施例に係る磁気ヘッドの斜視図であ
る。
る。
図中のla、lbは例えばMn−Znフェライト単結晶
から成る磁性基体、2a、 2bはその磁性基体1a
、Ibの作動ギャップ4を介して対向する側面にスパッ
タリング法によって形成される例えばコバルト系の非晶
質磁性合金からなる磁性膜、3は磁気ヘッドコア半体6
a、6bを接合する低融点の例えば鉛ガラスである。
から成る磁性基体、2a、 2bはその磁性基体1a
、Ibの作動ギャップ4を介して対向する側面にスパッ
タリング法によって形成される例えばコバルト系の非晶
質磁性合金からなる磁性膜、3は磁気ヘッドコア半体6
a、6bを接合する低融点の例えば鉛ガラスである。
次に第1図に示した磁気ヘットを得るための製造方法の
一実施例を第2図、第3図、第4図、第5図を用いて説
明する。
一実施例を第2図、第3図、第4図、第5図を用いて説
明する。
まず、磁性基体1に巻線窓用溝5′およびW字状溝7を
形成した後、磁性膜2を均一の厚さにスパッタリング法
により成膜する。この時、磁気ヘッドのコア幅方向に相
当する方向(第2図中矢印で示す)へ磁界H8を印加し
、最初の磁気異方性制御を施す。この際、必ずしも熱処
理を必要とはしない(第2図参照)。
形成した後、磁性膜2を均一の厚さにスパッタリング法
により成膜する。この時、磁気ヘッドのコア幅方向に相
当する方向(第2図中矢印で示す)へ磁界H8を印加し
、最初の磁気異方性制御を施す。この際、必ずしも熱処
理を必要とはしない(第2図参照)。
次に、磁気ヘッドのコア幅方向に相当する方向(第3図
中、矢印で示す)に例えば3KOe〜14KOeの外部
磁界H0を印加しながら熱処理を施す。この時、同時に
接合用鉛ガラス3を充填する(第3図参照)。次に上面
をフラットに所定のトラック幅TWが露出するまで研磨
した後、巻線窓用溝5′に充填されている鉛ガラス3を
取り除く (第4図参照)。次に、磁気ヘッドコア幅方
向に外部磁界H2を印加しなから熱処理を施す。この時
、同時にギャップ材4′を介して磁気コア6a、5bを
接合する。次に、所定のコア幅Wに切断し、第1図に示
した磁気ヘッドを得る。
中、矢印で示す)に例えば3KOe〜14KOeの外部
磁界H0を印加しながら熱処理を施す。この時、同時に
接合用鉛ガラス3を充填する(第3図参照)。次に上面
をフラットに所定のトラック幅TWが露出するまで研磨
した後、巻線窓用溝5′に充填されている鉛ガラス3を
取り除く (第4図参照)。次に、磁気ヘッドコア幅方
向に外部磁界H2を印加しなから熱処理を施す。この時
、同時にギャップ材4′を介して磁気コア6a、5bを
接合する。次に、所定のコア幅Wに切断し、第1図に示
した磁気ヘッドを得る。
なお、磁気ヘッドの磁気異方性はほぼ磁気コアボンディ
ングと同時に行う磁界中熱処理で決定されるので、磁性
膜作成時および鉛ガラス充填時に磁界を印加しなくても
よいが、より強固なコア幅方向の磁気異方性を得るため
には、鉛ガラス充填および磁気コア接合時の磁界中熱処
理を施すのが望ましい。
ングと同時に行う磁界中熱処理で決定されるので、磁性
膜作成時および鉛ガラス充填時に磁界を印加しなくても
よいが、より強固なコア幅方向の磁気異方性を得るため
には、鉛ガラス充填および磁気コア接合時の磁界中熱処
理を施すのが望ましい。
本実施例で施した磁界中熱処理の条件は次の通りである
。
。
本発明の効果について回を用いて説明する。
第6図に種々の磁界中熱処理を施した磁気ヘッドの相対
再生出力の分布を示した。ここで■は本発明によるもの
で磁気ヘッドコア幅方向に磁界を印加する磁界中熱処理
を2回路した磁気ヘッド、■、■、■は1回目の磁界印
加方向を磁気ヘッドコア幅方向とし、2回目の磁界印加
方向を磁気ヘッドの作動ギャップ深さ方向とした磁気ヘ
ッドであり、それぞれ2回目の磁界中熱処理時の最高温
度を350℃、360℃、370℃と変化させている。
再生出力の分布を示した。ここで■は本発明によるもの
で磁気ヘッドコア幅方向に磁界を印加する磁界中熱処理
を2回路した磁気ヘッド、■、■、■は1回目の磁界印
加方向を磁気ヘッドコア幅方向とし、2回目の磁界印加
方向を磁気ヘッドの作動ギャップ深さ方向とした磁気ヘ
ッドであり、それぞれ2回目の磁界中熱処理時の最高温
度を350℃、360℃、370℃と変化させている。
この図かられかるように■、■、■では若干の温度差に
おいて、特性がハラついている。■では最高の出力を得
ているが全体的にハラつきが大きく、■、■は出力が低
く、磁性膜の磁化容易方向が作動ギャップ深さ方向を向
いていると考えられる。これに対して2回の磁界中熱処
理を共に磁気ヘッドコア幅方向に磁界を印加して行った
■の磁気ヘッドでは、安定な出力を得ている。
おいて、特性がハラついている。■では最高の出力を得
ているが全体的にハラつきが大きく、■、■は出力が低
く、磁性膜の磁化容易方向が作動ギャップ深さ方向を向
いていると考えられる。これに対して2回の磁界中熱処
理を共に磁気ヘッドコア幅方向に磁界を印加して行った
■の磁気ヘッドでは、安定な出力を得ている。
以上のことから本発明によれば、磁気ヘッドの磁気異方
性を確実に制御することができ、歩留まり良く、良好な
性能の磁気ヘッドを得ることが出来る。
性を確実に制御することができ、歩留まり良く、良好な
性能の磁気ヘッドを得ることが出来る。
第1図は本発明に係る磁気ヘッドの斜視図、第2図、第
3図、第4図、第5図は本発明の磁気ヘッドの製造方法
の一実施例を示す工程図、第6図は本発明の効果を示す
説明図、第7図は従来の磁気ヘッドの斜視図である。 la、lb・・・磁性基体、2a、2b・・・磁性膜、
3・・・鉛ガラス、4・・・作動ギャップ、5・・・巻
線窓。 第1図 、3 第2図 第4図 w 第3図 第5図
3図、第4図、第5図は本発明の磁気ヘッドの製造方法
の一実施例を示す工程図、第6図は本発明の効果を示す
説明図、第7図は従来の磁気ヘッドの斜視図である。 la、lb・・・磁性基体、2a、2b・・・磁性膜、
3・・・鉛ガラス、4・・・作動ギャップ、5・・・巻
線窓。 第1図 、3 第2図 第4図 w 第3図 第5図
Claims (6)
- (1)磁界中での熱処理によつて磁気異方性が誘起され
る磁性材料によつて磁気回路の少なくとも一部を構成す
る磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッドの作動ギャップ深さ
方向に対してほぼ直交する方向へ磁界を印加しながら熱
処理を行う磁界中熱処理を少なくとも1回施して構成し
たことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - (2)磁界中熱処理時の磁界印加方向をほぼ磁気ヘッド
摺動方向として構成したことを特徴とする請求項(1)
記載の磁気ヘッドの製造方法。 - (3)磁界中熱処理時の磁界印加方向をほぼ磁気ヘッド
コア幅方向として構成したことを特徴とする請求項(1
)記載の磁気ヘッドの製造方法。 - (4)磁界中熱処理と同時に接合用ガラス充填を行うこ
とによつて構成したことを特徴とする請求項(1)記載
の磁気ヘッドの製造方法。 - (5)磁界中熱処理と同時に磁気ヘッドのギャップ接合
を行うことによつて構成したことを特徴とする請求項(
2)記載の磁気ヘッドの製造方法。 - (6)磁界印加方向をほぼ同じくした磁界中熱処理を2
回以上行うことによつて構成したことを特徴とする請求
項(1)記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12844788A JPH01300412A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12844788A JPH01300412A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01300412A true JPH01300412A (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=14984943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12844788A Pending JPH01300412A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01300412A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02101612A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP12844788A patent/JPH01300412A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02101612A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
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