JPH04111206A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ビデオテープレコーダ、ハードディスク装置
等に装備される磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。

（従来の技術） 従来より、第１６図に示す如き薄膜磁気ヘッドが知られ
ている。該磁気ヘッドは、下部基板（８）上に、薄膜形
成技術によって下部磁性コア（８２）、コイル導体膜（
８５）、及び該導体膜（８５）を覆う絶縁膜（８６）を
形成し、更に下部磁性コア（８２）上には磁気ギャップ
（８４）を介して上部磁性コア（８３）を形成した後、
接合層（８７）を介して上部基板（８１）を固定したも
のである。尚、上部磁性コア（８３）は、コイル導体膜
（８５）及び絶縁膜（８６）を覆う全面に形成した後、
エツチングによって所定のパターンに整形し、これによ
ってトラック幅等を規定する。

薄膜磁気ヘッドは、高周波特性に優れ、然も急峻な磁界
分布によって高い分解能が得られるため、ハードディス
ク装置等に実用化されている。

（解決しようとする課題） 第１６図に示す従来の薄膜磁気ヘットにおいては、コイ
ル導体膜（８５）及び絶縁膜（８６）の膜厚Ｔによって
、フロントギャップ部Ｆ（上部磁性コア（８３））とパ
ックギャップ部Ｂの間に介在するインナーギャップ部Ｉ
の大きさが規定される。該インナーギャップ部は、漏洩
磁束を防止して所定の磁気回路を形成する上で十分な大
きさに形成する必要がある。しかし、薄膜磁気ヘッドに
おいては、インナーギャップ部の大きさがバルク型磁気
ヘッドに比べて小さくならざるを得ないため、両コア間
の磁束漏洩が大きく、再生効率が低い問題があった。

磁束漏洩を抑制するには、下部磁性コア（８２）及び上
部磁性コア（８３）の膜厚Ｔを出来るだけ大きく形成す
る必要がある。

ところが、下部磁性コア（８２）及び上部磁性コア（８
３）の膜厚Ｔの増大に伴って、絶縁膜（８６）に形成さ
れる斜面Ａの傾斜角度が大きくなり、この結果、上部磁
性コア（８３）を正確な形状に整形することが困難とな
る。即ち、上部磁性コア（８３）を形成する工程におい
ては、磁性膜の表面にレジストを所定パターンに正確に
塗布する必要があるが、傾斜角度の大きな斜面を有する
段差部に、レジストを正確なパターンに塗布することは
極めて困難であり、この結果、上部磁性コア（８３）の
形状寸法が不正確となるのである。

本発明の目的は、磁性コアとなる磁性膜をエッチングに
よって整形する際、レジスト塗布面を平面に形成出来、
これによって、インナーギヤ・ノブ部を拡大しても正確
な形状の磁性コアを得ることが出来る磁気ヘッドの製造
方法を提供することである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、一対のベースコ
ア（１）（１１）の突合せ部に、磁気ギヤ・ツブ（３）
と、該磁気ギャップ（３）を挟んで互いに対向する一対
の磁性コア（２）（２１）とを設けた磁気へ・ソドの製
造方法であって、 ベースコアとなる第１及び第２の基板（１２）（１３）
を作製する工程（第３図、第６図）と、第１基板（１２
）の突合せ面に磁性膜（２２）を形成した後、該磁性膜
（２２）にエツチングを施し、ヘット頭部側がトラック
幅に一致する細幅、ヘッド後部側が幅広の磁性コア（２
）を形成して、第１のベツド半体（９）を得る工程（第
４図、第５図）と、第２基板（１３）の突合せ面にコイ
ル溝（１４）を形成した後、該突合せ面に磁性膜（２５
）を形成し、該磁性膜（２５）の表面にガラス（４２）
を充填して、コイル溝（１４）によって形成された凹部
を前記ガラス（４２）で埋め、該ガラス充填面に平面研
磨を施し、磁性膜（２５）及びガラス（４２）を同一平
面に露出せしめる工程（第７図、第８図、第９図、第１
０図）と、第２基板（１３）の少なくとも磁性膜（２５
）にエツチングを施し、ヘッド頭部側がトラック幅に一
致する細幅、ヘッド後部側が幅広の磁性コア（２１）を
形成して、第２のヘッド半体（９１）を得る工程（第１
１図）と、 前記第１及び第２のヘッド半体（９）（９１）をギャッ
プスペーサを介して接合し、前記ガラス（４２）を溶融
せしめることによって両ヘッド半体（９）（９１）を一
体化し、ヘッドチップを作製する工程（第１図） とを有している。

尚、互いに接合されるべき一対のヘッド半体の両方を、
上記製造方法による第２ヘッド半体（９Ｉ）と同一構造
に作製した後、これらのヘッド半体（７）（７１）をギ
ャップスペーサを介して接合し、ガラス（４２）を溶融
せしめることによって両ヘッド半体（７）（７１）を一
体化し、ヘッドチップ（第１５図）を作製する製造方法
も可能である。

（作用） 第４図及び第１０図に示す如く、第１及び第２基板（１
２）（１３）の突合せ面に形成された磁性膜（２２）（
２５）の表面、即ちレジスト塗布面は平面であるから、
第５図及び第１１図の如く、磁性膜（２２）（２５）は
エツチングにより所定形状に整形され、正確な形状寸法
の磁性コア（２）（２１）が得られる。

（発明の効果） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法によれば、コイル溝
（１４）の深さに拘らず、磁性膜（２２）（，２５）の
レジスト塗布面は平面となるから、コイル溝（１４）を
深く形成してインナーギャップを拡大した場合において
も、磁性コア（２）（２１）の形状は正確である。これ
によって磁束漏洩を可及的に抑制することが出来る。

（実施例） 図面に沿って本発明の実施例について詳述する。

尚、実施例は本発明を説明するためのものであって、特
許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮す
る様に解すべきではない。

第１図及び第２図は、本発明に係る製造方法によって作
製された磁気へラドチップを示している。

一対のベースコア（１）（１１）の突合せ部に、磁気ギ
ャップ（３）と、該磁気ギャップ（３）を挟んで互いに
対向する一対の磁性コア（２）（２１）とが設けられ、
両磁性コア（２）（２１）のトラック幅方向の両側には
、両コア（１）（１１）を互いに接合固定すると共にト
ラック幅を規制するためのガラス部（４）（４）が設け
られている。又、両コア（１）（１１）の中央部にはコ
イル窓（５）が開設されている。

以下、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。

先ず、熱膨張係数が１３０Ｘ　１０−’／ｄｅｇ程度の
非磁性酸化物を資材として第３図に示す基板（１２）を
作製した後、該基板（１２）の表面に、第４図に示す如
くセンダストからなる磁性膜（２２）を形成する。磁性
膜（２２）の資材としてはセンダストに他の元素を添加
したものや、アモルファス磁性体等を用いることが出来
、薄膜形成法としてはスパッタリング、真空蒸着、イオ
ンビーム蒸着等の種々の方法が採用可能である。磁性膜
（２２）の厚さは数μｍ乃至２０μｍ１例えば略１０μ
ｍに形成される。

次に該磁性膜（２２）の全面にレジスト液を塗布し、露
光、現像等のフォトリソグラフィー工程を経て、第４図
に鎖線でしめす所定パターンのレジスト膜Ｒを形成する
。

その後、該レジスト膜及び磁性膜（２２）に対してイオ
ンビームエツチングを施して、第５図に示す様にヘッド
頭部（２３）がトラック幅Ｗに一致する細幅、ヘッド後
部（２４）が幅広の磁性コア（２）を形成して、第１の
ヘッド半体（９）を得る。

又、第６図に示す如く、前記同様の非磁性酸化物からな
る基板（１３）を作製し、該基板（１３）に第７図の如
くコイル溝（１４）を研削加工する。

次に第８図の如く前記基板（１３）の表面に、前記同様
のセインダストからなる磁性膜（２５）を所定厚さに形
成し、更に該磁性膜（２５）の上に第９図の如くガラス
（４２）を充填する。ガラスの充填は、例えば磁性膜（
２５）上にガラス板を載置し、該ガラス板を基板（１３
）に向って下圧しなからガラス板の軟化点よりも略１０
０℃高い温度まで昇温することによって行なわれる。

ガラス（４２）が固化した後、ガラス充填面に研磨を施
し、第１０図の如く磁性膜（２５）を−平面上に露出せ
しめる。この際、磁性膜（２５）は略１乃至２μｍの深
さで表層部が研削され、磁性膜（２５）とガラス（４２
）の研磨面が一平面に揃えられる。

第８図の磁性膜（２５）の形成時には、磁性膜（２５）
は、基板（１３）の表面からコイル溝（１４）の斜面へ
屈曲する箇所で丸みを帯びているが、第１０図の研磨工
程を経ることによって、上記磁性膜（２５）の丸みを帯
びた屈曲部が、シャープな屈曲角度を有する形状に整形
され、これによってディブス長が正確に規定されること
になる。

第１０図に示す磁性膜（２５）及びガラス（４２）の研
磨面に、上記同様にレジスト液を塗布し、フ第１、リソ
グラフィー工程を経て所定パターンのレジスト膜Ｒを形
成する。そして、該レジスト膜Ｒ１カラス（４２）及び
磁性膜（２５）に対してイオンビームエツチングを施し
、第１１図の如くヘット頭部（２６）がトラック幅Ｗに
一致する細幅、ヘット後部（２７）が幅広の磁性コア（
２１）を形成すると共に、カラス（４２）の一部を切除
して、第２のヘット半体（９１）を得る。ここで、ガラ
ス（４２）の一部を切除するのは、後述のガラス接合工
程にて、溶融したガラスの大部分をコイル溝（１４）か
ら排出し、十分な大きさのコイル窓（５）を開設するた
めである。

最後に、上記第１及び第２ヘット半体（９）（９１）を
ギャップスペーサ（図示省略）を介して接合し、加熱炉
内にてガラス（４２）を溶融せしめる。溶融したガラス
は磁性コア（２）（２１）の頭部（２３）　（２６）の
両側に形成された隙間へ流れ込み、第１図に示すガラス
部（４）が形成されると共に、コイル窓（５）か開設さ
れることになる。この結果、第１図に示すヘッドチップ
が得られる。そして、コイル窓（５）にコイル導線を巻
回することによて、磁気へ・ソドか完成する。

尚、第１２図及び第１３図に示す如く基板（１２）（１
３）の両側部に、ガラス溝（２８）（２９）を凹設すれ
ば、ヘッド後部側にも溶融ガラスを供給して、へ・ンド
頭部からヘッド後部へ至る接合ガラス部を形成出来、こ
れによって両ヘッド半体（９）（９１）の接合強度を上
げることが出来る。

第１４図は他の実施例に係る磁気へ・ソトを示しており
、上記へソドチツプと同様、一対のベースコア（６）（
６１）の突合せ部に、磁気ギヤ・ノブ（６４）と、該磁
気ギャップを挟んで互いに対向する一対の磁性コア（６
２）（６３）とが設けられ、両へ・ンド半体は接合ガラ
ス（６６）によって互いに接合固定されて（する。

コイル窓（６５）には、周知の薄膜形成工程によってコ
イル導体膜（６７）が所定パターンに形成されると共に
、該コイル導体膜を包囲して絶縁膜（６８）か形成され
る。

第１５図は更に他の実施例に係るヘッドチップを示して
おり、ベースコア（７）（７１）及び磁性コア（７２）
（７３）からなる一対のヘッド半体（９４）（９５）か
、夫々コイル窓（７５）（７６）を有する同一の構造を
有しており、両ヘッド半体は接合ガラス部（７７）によ
って互いに接合固定されている。

各ヘッド半体（９４）（９５）は第６図乃至第１１図に
示す工程と同一工程を経て製造される。そして、両ヘッ
ド半体をギャップスペーサを介して接合した状態で、両
ヘット半体のコイル窓（７５）（７６）に充填されたガ
ラスを溶融、固化せしめることにより、第１５図に示す
一体のへソトチップか得られる。

本発明に係る磁気ヘッドの製造方法に於ては、第７図に
示すコイル溝（１４）を深く凹設することによって、第
２図に示すインナーギャップＩを太きく形成し、これに
よって磁束漏洩を抑制することが出来る。この場合にお
いても、第４図及び第１０図に示すレジスト塗布面は平
面であるから、レジスト膜Ｒを所定形状にパターニング
出来、この結果、正確な形状寸法の磁性コア（２）（２
１）か得られる。

又、従来の磁気ヘッドでは、上部磁性コアの屈曲部が薄
肉部となって磁気飽和を生じ易い問題があったが、本発
明においては、第８図に示す磁性膜（２５）の斜面上で
の厚さを大きく形成することにより、磁性コアの屈曲部
における磁気飽和を防止出来る。この場合も、第１０図
及び１１図に示す工程を経ることによって、磁性コア（
２１）の頭部（２６）の幅及び厚さを所定寸法に正確に
規定することが可能である。

上記実施例の説明は、本発明を説明するためのものであ
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲
を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形か可能である
ことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法によって得
られるヘッドチップを示す斜視図、第２図は第１図ｎ−
ｎ線に沿う断面図、第３図乃至第５図は第１のヘッド半
体の製造工程を示す一連の斜視図、第６図乃至第１１図
は第２のヘット半体の製造工程を示す一連の斜視図、第
１２図及び第１３図はガラス溝を凹設した一対のヘッド
半体を示す斜視図、第１４図は他の実施例に係る磁気ヘ
ッドの断面図、第１５図は更に他の実施例に係るヘッド
チップの断面図、第１６図は従来の薄膜磁気ヘッドの断
面図である。 （１）（１１）・・・ベースコア　（２）（２１）・・
磁性コア（４）・・・ガラス部 （５）・・・コイル窓 （９）（９１）・・・ヘッド半体　Ｒ・・・レジスト膜
第５図 す 茶７図 第９図 察１１図 茶１４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］一対のベースコア（１）（１１）の突合せ部に、
   磁気ギャップ（３）と、該磁気ギャップ（３）を挟んで
   互いに対向する一対の磁性コア（２）（２１）とを設け
   た磁気ヘッドの製造方法において、 ベースコアとなる第１及び第２基板（１２）（１３）を
   作製する工程と、 第１基板（１２）の突合せ面に磁性膜（２２）を形成し
   た後、該磁性膜（２２）にエッチングを施し、ヘッド頭
   部側がトラック幅に一致する細幅、ヘッド後部側が幅広
   の磁性コア（２）を形成して、第１のヘッド半体（９）
   を得る工程と、 第２基板（１３）の突合せ面にコイル溝（１４）を形成
   した後、該突合せ面に磁性膜（２５）を形成し、該磁性
   膜（２５）上にガラス（４２）を充填して、コイル溝（
   １４）によって形成された凹部を前記ガラス（４２）で
   埋め、該ガラス充填面に平面研磨を施し、磁性膜（２５
   ）及びガラス（４２）を同一平面に露出せしめる工程と
   、 第２基板（１３）の少なくとも磁性膜（２５）にエッチ
   ングを施し、ヘッド頭部側がトラック幅に一致する細幅
   、ヘッド後部側が幅広の磁性コア（２１）を形成して、
   第２のヘッド半体（９１）を得る工程と、 前記第１及び第２ヘッド半体（９）（９１）をギャップ
   スペーサを介して接合し、前記ガラス（４２）を溶融せ
   しめることによって両ヘッド半体（９）（９１）を一体
   化し、ヘッドチップを作製する工程とを有することを特
   徴とする磁気ヘッドの製造方法。 ［２］一対のベースコア（１）（１１）の突合せ部に、
   磁気ギャップ（３）と、該磁気ギャップ（３）を挟んで
   互いに対向する一対の磁性コア（２）（２１）とを設け
   た磁気ヘッドの製造方法において、 ベースコアとなる基板（１２）を作製する工程と、基板
   （１２）の突合せ面にコイル溝（１４）を形成した後、
   該突合せ面に磁性膜（２２）を形成し、該磁性膜（２２
   ）上にガラス（４２）を充填して、コイル溝（１４）に
   よって形成された凹部を前記ガラス（４２）で埋め、該
   ガラス充填面に平面研磨を施し、磁性膜（２２）及びガ
   ラス（４２）を同一平面に露出せしめる工程と、 上記基板（１２）の少なくとも磁性膜（２２）にエッチ
   ングを施し、ヘッド頭部側がトラック幅に一致する細幅
   、ヘッド後部側が幅広の磁性コア（２）を形成して、ヘ
   ッド半体（７）を得る工程と、上記工程を経て作製され
   た一対のヘッド半体（７）（７１）をギャップスペーサ
   を介して接合し、前記ガラス（４２）を溶融せしめるこ
   とによって両ヘッド半体（７）（７１）を一体化し、ヘ
   ッドチップを作製する工程 とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。