JPH1074303A - 磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッドInfo
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- JPH1074303A JPH1074303A JP22955296A JP22955296A JPH1074303A JP H1074303 A JPH1074303 A JP H1074303A JP 22955296 A JP22955296 A JP 22955296A JP 22955296 A JP22955296 A JP 22955296A JP H1074303 A JPH1074303 A JP H1074303A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録用磁気ヘッドと再生用磁気ヘッドのディ
プス方向の位置関係を正確に合わせられるようにするた
めにインダクティブ磁気ヘッドのディプスエンドを正確
に決定する方法を提供する。 【解決手段】 ブロック１の開口内周面にコの字状薄膜
磁気コア２を形成し、このコの字状磁気コアの開口面側
の端面である磁気ギャップ形成部分９の後端部をフォト
リソグラフィで部分的に削除してギャップディプスエン
ド４ａを正確に決定し、開口面を非磁性材料６で橋絡し
て塞ぎ、平面研磨し、インダクティブ磁気ヘッドの閉磁
路としてＩ字状磁気コア１２を形成して、その上の非磁
性絶縁薄膜１３の上にフォトリソグラフィでＭＲヘッド
を形成する複合型磁気ヘッドの製造方法を提供する。
プス方向の位置関係を正確に合わせられるようにするた
めにインダクティブ磁気ヘッドのディプスエンドを正確
に決定する方法を提供する。 【解決手段】 ブロック１の開口内周面にコの字状薄膜
磁気コア２を形成し、このコの字状磁気コアの開口面側
の端面である磁気ギャップ形成部分９の後端部をフォト
リソグラフィで部分的に削除してギャップディプスエン
ド４ａを正確に決定し、開口面を非磁性材料６で橋絡し
て塞ぎ、平面研磨し、インダクティブ磁気ヘッドの閉磁
路としてＩ字状磁気コア１２を形成して、その上の非磁
性絶縁薄膜１３の上にフォトリソグラフィでＭＲヘッド
を形成する複合型磁気ヘッドの製造方法を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録再生装置に
使用されるインダクティブ磁気ヘッドと磁気抵抗効果型
（以下ＭＲと略す）再生用磁気ヘッドに関する。
使用されるインダクティブ磁気ヘッドと磁気抵抗効果型
（以下ＭＲと略す）再生用磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化に伴い複合型磁気ヘ
ッドを構成している夫々の磁気ヘッドには最適のものが
要求され、記録用磁気ヘッドにはインダクティブ型磁気
ヘッドが、再生用磁気ヘッドには再生感度の高い磁気抵
抗効果型磁気ヘッドが使われるようになっている。図４
はＨＤＤ用複合型磁気ヘッド６０の媒体摺動面側要部断
面図を示し、記録用インダクティブ磁気ヘッド７０はギ
ャップディプスエンド９０ａから媒体摺動面側端部まで
の距離を表すディプスＤが浅い程書込能力が向上する
し、磁気抵抗効果型磁気ヘッド８０では磁気抵抗効果素
子ハイトＨが小さい程高出力が得られることから、スラ
イダーに埋め込んだ両方の磁気ヘッドの媒体摺動面側を
研磨してインダクティブ磁気ヘッドのギャップディプス
とＭＲ磁気ヘッドのＭＲ素子ハイトを形成する製造方法
では両方の磁気ヘッドの位置決めが極めて大事になる。
すなわち、その位置関係の精度は複合型磁気ヘッドの製
造歩留まりに大きく影響するし、複合型磁気ヘッドの夫
々の磁気ヘッドの性能を決める重要なポイントとなって
いる。
ッドを構成している夫々の磁気ヘッドには最適のものが
要求され、記録用磁気ヘッドにはインダクティブ型磁気
ヘッドが、再生用磁気ヘッドには再生感度の高い磁気抵
抗効果型磁気ヘッドが使われるようになっている。図４
はＨＤＤ用複合型磁気ヘッド６０の媒体摺動面側要部断
面図を示し、記録用インダクティブ磁気ヘッド７０はギ
ャップディプスエンド９０ａから媒体摺動面側端部まで
の距離を表すディプスＤが浅い程書込能力が向上する
し、磁気抵抗効果型磁気ヘッド８０では磁気抵抗効果素
子ハイトＨが小さい程高出力が得られることから、スラ
イダーに埋め込んだ両方の磁気ヘッドの媒体摺動面側を
研磨してインダクティブ磁気ヘッドのギャップディプス
とＭＲ磁気ヘッドのＭＲ素子ハイトを形成する製造方法
では両方の磁気ヘッドの位置決めが極めて大事になる。
すなわち、その位置関係の精度は複合型磁気ヘッドの製
造歩留まりに大きく影響するし、複合型磁気ヘッドの夫
々の磁気ヘッドの性能を決める重要なポイントとなって
いる。
【０００３】従来の複合型磁気ヘッドの製造方法は図５
に示すように、先ず工程（ａ）に示すように基板を分割
した略コ字状断面を有するフェライト等の磁性体ブロッ
ク・バー１０の上端面に所定角度で傾斜面９０を砥石で
もって加工する。次に工程（ｂ）に示すように溝内面に
第一の磁性薄膜２０を被着させ、次に工程（ｃ）に示す
ように磁性薄膜２０を被着した側を研磨し、鏡面加工を
する。次に工程（ｄ）において磁性体ブロック・バー１
０を基台１４に無機接着剤で止め、基台１４を下にして
低融点ガラスの棒１５を開口穴に挿入し、工程（ｅ）に
おいて昇温し、溶融したガラスを基台１４上に展着させ
略コ字状の脚の両端を低融点ガラス１５でつなぎ巻線窓
スペース８を形成する。次に工程（ｆ）において基台１
４を除去し両脚をつなぐ低融点ガラス１５を平面上に露
出させ磁気ギャップ材料形成面６０を作成する。磁性体
ブロック・バー１０を加工した傾斜面９０に被着した磁
性薄膜２０の端部がギャップディプスエンド９０ａとな
るので最初加工した傾斜面９０の影響を受け、磁気ギャ
ップ材料形成面６０の加工量によってギャップディプス
エンド９０ａ位置がずれるという問題がある。次に、工
程（ｇ）に示すように非磁性薄膜４０を被着させ磁気ギ
ャップとする。次に工程（ｈ）に示すように第二の磁性
薄膜５０を被着させて閉磁路を形成する。
に示すように、先ず工程（ａ）に示すように基板を分割
した略コ字状断面を有するフェライト等の磁性体ブロッ
ク・バー１０の上端面に所定角度で傾斜面９０を砥石で
もって加工する。次に工程（ｂ）に示すように溝内面に
第一の磁性薄膜２０を被着させ、次に工程（ｃ）に示す
ように磁性薄膜２０を被着した側を研磨し、鏡面加工を
する。次に工程（ｄ）において磁性体ブロック・バー１
０を基台１４に無機接着剤で止め、基台１４を下にして
低融点ガラスの棒１５を開口穴に挿入し、工程（ｅ）に
おいて昇温し、溶融したガラスを基台１４上に展着させ
略コ字状の脚の両端を低融点ガラス１５でつなぎ巻線窓
スペース８を形成する。次に工程（ｆ）において基台１
４を除去し両脚をつなぐ低融点ガラス１５を平面上に露
出させ磁気ギャップ材料形成面６０を作成する。磁性体
ブロック・バー１０を加工した傾斜面９０に被着した磁
性薄膜２０の端部がギャップディプスエンド９０ａとな
るので最初加工した傾斜面９０の影響を受け、磁気ギャ
ップ材料形成面６０の加工量によってギャップディプス
エンド９０ａ位置がずれるという問題がある。次に、工
程（ｇ）に示すように非磁性薄膜４０を被着させ磁気ギ
ャップとする。次に工程（ｈ）に示すように第二の磁性
薄膜５０を被着させて閉磁路を形成する。
【０００４】次に工程（ｉ）に示すように第二の磁性薄
膜５０の上に非磁性絶縁薄膜１００を被着し、次にＭＲ
素子１６０及びリード１７０を被着させる。ここで、記
録用磁気ヘッドに夫々対になる再生用磁気ヘッドを位置
精度良く形成するためにＭＲ素子用マスクを利用して位
置合わせをしＭＲ素子を被着する。この場合、溝１本１
本ではマスクを所定の位置に合わせることができるが、
広い面積をもつ基板全体の複数の溝にマスクを合わせる
には夫々の溝間隔の精度が上がり、磁気ギャップ材料形
成面の加工量が一定しないと不可能であり、使用可能な
範囲の１本〜数本の溝毎に基板を切断し、それに合うマ
スクを使ってＭＲ素子を被着し、個々の複合磁気ヘッド
を製作していた。更に非磁性絶縁薄膜１１０を被着さ
せ、磁性薄膜１９０をシールドとして被着させ、保護層
２００を被着する。次に工程（ｉ）の一点鎖線部分で切
断して磁性体ブロックの長手方向にスライスし、工程
（ｊ）の如く複合型磁気ヘッドを完成する。
膜５０の上に非磁性絶縁薄膜１００を被着し、次にＭＲ
素子１６０及びリード１７０を被着させる。ここで、記
録用磁気ヘッドに夫々対になる再生用磁気ヘッドを位置
精度良く形成するためにＭＲ素子用マスクを利用して位
置合わせをしＭＲ素子を被着する。この場合、溝１本１
本ではマスクを所定の位置に合わせることができるが、
広い面積をもつ基板全体の複数の溝にマスクを合わせる
には夫々の溝間隔の精度が上がり、磁気ギャップ材料形
成面の加工量が一定しないと不可能であり、使用可能な
範囲の１本〜数本の溝毎に基板を切断し、それに合うマ
スクを使ってＭＲ素子を被着し、個々の複合磁気ヘッド
を製作していた。更に非磁性絶縁薄膜１１０を被着さ
せ、磁性薄膜１９０をシールドとして被着させ、保護層
２００を被着する。次に工程（ｉ）の一点鎖線部分で切
断して磁性体ブロックの長手方向にスライスし、工程
（ｊ）の如く複合型磁気ヘッドを完成する。
【０００５】しかし、最近のように小型の磁気ヘッドに
なると溝数本を単位としてブロック・バーとマスクと合
わせＭＲ素子を被着する方法は非常に非能率なものにな
っていた。ＭＲ素子用マスクと記録用磁気ヘッド用溝の
ピッチを合わせれば基板全体を一括して処理でき能率的
であるが、従来の方法では加工機のダイサーが精度不足
であり、磁気ギャップ材料形成面の加工量も一定にする
ことは難しく、最初の溝から最後の溝までのピッチ差が
累積で２〜５μｍ位発生するため、半導体技術を受け継
いだマスクのピッチ精度がサブミクロンと良いレベルに
あっても、どこかで溝のピッチとずれが発生し基板全体
にマスクを合わせることは不可能であり、ギャップディ
プスとＭＲハイトを所定寸法で合わせることは出来なか
った。
なると溝数本を単位としてブロック・バーとマスクと合
わせＭＲ素子を被着する方法は非常に非能率なものにな
っていた。ＭＲ素子用マスクと記録用磁気ヘッド用溝の
ピッチを合わせれば基板全体を一括して処理でき能率的
であるが、従来の方法では加工機のダイサーが精度不足
であり、磁気ギャップ材料形成面の加工量も一定にする
ことは難しく、最初の溝から最後の溝までのピッチ差が
累積で２〜５μｍ位発生するため、半導体技術を受け継
いだマスクのピッチ精度がサブミクロンと良いレベルに
あっても、どこかで溝のピッチとずれが発生し基板全体
にマスクを合わせることは不可能であり、ギャップディ
プスとＭＲハイトを所定寸法で合わせることは出来なか
った。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】記録用磁気ヘッドと再
生用磁気ヘッドの位置関係を正確に合わせられるように
するために基板上全体で記録用磁気ヘッドのギャップデ
ィプスエンドを正確に決定する方法を提供する。
生用磁気ヘッドの位置関係を正確に合わせられるように
するために基板上全体で記録用磁気ヘッドのギャップデ
ィプスエンドを正確に決定する方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】コの字状薄膜磁気コアと
Ｉ字状磁気コアとをコの字状薄膜磁気コアの開口側端面
に形成される磁気ギャップ材料を介して接合一体化して
なるインダクティブ磁気ヘッドの製造方法であって溝を
形成したブロックの溝の内周面に沿って磁気コアとなる
磁性薄膜をコの字状に形成する工程と、このコの字状薄
膜磁気コアの開口側端部の磁気ギャップ材料形成部の溝
内周側端面が後に形成される磁気ギャップ材料形成面に
対して垂直な端面となるように部分的に削除して後にＩ
字状磁気コアとで形成される磁気ギャップのギャップデ
ィプスエンドを確定する工程と、上記開口面を非磁性材
料を橋絡して塞ぐ工程と、この非磁性材料を研磨して平
坦化するとともに前記コの字状薄膜磁気コアの開口側端
面を露出して磁気ギャップ材料形成面を形成する工程
と、磁気ギャップ材料となる非磁性材料を磁気ギャップ
材料形成面に形成し、この磁気ギャップ材料を介してＩ
字状磁気コアをコの字状薄膜磁気コアを橋絡し、接合一
体化して閉磁気回路を形成する工程と、からなる磁気ヘ
ッドの製造方法を提供する。
Ｉ字状磁気コアとをコの字状薄膜磁気コアの開口側端面
に形成される磁気ギャップ材料を介して接合一体化して
なるインダクティブ磁気ヘッドの製造方法であって溝を
形成したブロックの溝の内周面に沿って磁気コアとなる
磁性薄膜をコの字状に形成する工程と、このコの字状薄
膜磁気コアの開口側端部の磁気ギャップ材料形成部の溝
内周側端面が後に形成される磁気ギャップ材料形成面に
対して垂直な端面となるように部分的に削除して後にＩ
字状磁気コアとで形成される磁気ギャップのギャップデ
ィプスエンドを確定する工程と、上記開口面を非磁性材
料を橋絡して塞ぐ工程と、この非磁性材料を研磨して平
坦化するとともに前記コの字状薄膜磁気コアの開口側端
面を露出して磁気ギャップ材料形成面を形成する工程
と、磁気ギャップ材料となる非磁性材料を磁気ギャップ
材料形成面に形成し、この磁気ギャップ材料を介してＩ
字状磁気コアをコの字状薄膜磁気コアを橋絡し、接合一
体化して閉磁気回路を形成する工程と、からなる磁気ヘ
ッドの製造方法を提供する。
【０００８】また、前記コの字状薄膜磁気コアの開口側
端部の磁気ギャップ材料形成部の溝内周側端面が後に形
成される磁気ギャップ材料形成面に対して垂直な端面と
なるように部分的に削除してＩ字状磁気コアとで形成さ
れる磁気ギャップのギャップディプスエンドを確定する
工程は、フォトリソグラフィーを用いた精密加工工程で
ある磁気ヘッドの製造方法を提供する。
端部の磁気ギャップ材料形成部の溝内周側端面が後に形
成される磁気ギャップ材料形成面に対して垂直な端面と
なるように部分的に削除してＩ字状磁気コアとで形成さ
れる磁気ギャップのギャップディプスエンドを確定する
工程は、フォトリソグラフィーを用いた精密加工工程で
ある磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【０００９】また、上記製造方法により製造したインダ
クティブ磁気ヘッドと磁気抵抗効果型再生用磁気ヘッド
との複合型の磁気ヘッドであって磁気抵抗効果型再生用
磁気ヘッドの磁気抵抗効果型素子の媒体摺動側と反対側
の端面は、前記インダクティブ磁気ヘッドのギャップデ
ィプスエンドと面一である磁気ヘッドを提供する。
クティブ磁気ヘッドと磁気抵抗効果型再生用磁気ヘッド
との複合型の磁気ヘッドであって磁気抵抗効果型再生用
磁気ヘッドの磁気抵抗効果型素子の媒体摺動側と反対側
の端面は、前記インダクティブ磁気ヘッドのギャップデ
ィプスエンドと面一である磁気ヘッドを提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の複合型磁気ヘッドの製造
方法を図面を参照して説明する。図１は本発明の複合型
磁気ヘッドの製造工程中の下基板の斜視図であり、図２
はその下基板の断面からみた図である。図１、図２の工
程（ａ）に示すような平行な複数の溝を有し、溝の上端
面は砥石でもって所定角度に加工した磁性体ブロック１
を準備し、次に、同図工程（ｂ）に示すようにこの溝内
面にＦｅＴａＮ合金などからなる第一の磁性薄膜２をス
パッタ等にて被着させ、次に同図工程（ｃ）に示すよう
に磁性薄膜を被着した側を平面研磨機にて所定寸法まで
研磨し、磁性体ブロックの開口内周面に略コの字状の磁
性薄膜を形成し、ラッピング装置にて鏡面加工をする。
方法を図面を参照して説明する。図１は本発明の複合型
磁気ヘッドの製造工程中の下基板の斜視図であり、図２
はその下基板の断面からみた図である。図１、図２の工
程（ａ）に示すような平行な複数の溝を有し、溝の上端
面は砥石でもって所定角度に加工した磁性体ブロック１
を準備し、次に、同図工程（ｂ）に示すようにこの溝内
面にＦｅＴａＮ合金などからなる第一の磁性薄膜２をス
パッタ等にて被着させ、次に同図工程（ｃ）に示すよう
に磁性薄膜を被着した側を平面研磨機にて所定寸法まで
研磨し、磁性体ブロックの開口内周面に略コの字状の磁
性薄膜を形成し、ラッピング装置にて鏡面加工をする。
【００１１】次にこの加工面に図２（ｄ）に示すように
エッジのピッチＰが正確に加工されたマスク３を下基板
に重ねフォトリソグラフィ技術を使って図２工程（ｅ）
に示すように略コ字状磁気コアの開口面側の端面である
ギャップ材料形成部分の媒体摺動面から見て後端部を、
ミリングあるいはエッチング等で一部削除し、図１の拡
大図（ｅ）に示すようにトラック幅Ｔの加工と同時に加
工面と略９０度をなす磁気ギャップ材料形成部の溝内周
側端面４を成形する。この端面４が記録用磁気ヘッドの
ギャップディプスエンド４ａになる。正確に加工された
端面成形用マスク３でフォトグラフィ技術を使っている
のでダイサーで加工された溝のピッチが累積で多少ずれ
ていても、その上に被着された磁性薄膜２上に形成され
た夫々の端面４のピッチは下基板全面に渡って正確に加
工されることになり、後工程のＭＲ素子用マスク５のピ
ッチＰもこれと同様に製作されているのでＭＲ素子の被
着位置の正確な位置出しが可能になる。
エッジのピッチＰが正確に加工されたマスク３を下基板
に重ねフォトリソグラフィ技術を使って図２工程（ｅ）
に示すように略コ字状磁気コアの開口面側の端面である
ギャップ材料形成部分の媒体摺動面から見て後端部を、
ミリングあるいはエッチング等で一部削除し、図１の拡
大図（ｅ）に示すようにトラック幅Ｔの加工と同時に加
工面と略９０度をなす磁気ギャップ材料形成部の溝内周
側端面４を成形する。この端面４が記録用磁気ヘッドの
ギャップディプスエンド４ａになる。正確に加工された
端面成形用マスク３でフォトグラフィ技術を使っている
のでダイサーで加工された溝のピッチが累積で多少ずれ
ていても、その上に被着された磁性薄膜２上に形成され
た夫々の端面４のピッチは下基板全面に渡って正確に加
工されることになり、後工程のＭＲ素子用マスク５のピ
ッチＰもこれと同様に製作されているのでＭＲ素子の被
着位置の正確な位置出しが可能になる。
【００１２】次に図１、図２の工程（ｆ）に示すように
下基板と同じ材質かあるいは略同じ膨張係数の材料に低
融点ガラス６を接合した上基板７を重ねて図１工程
（ｇ）に示すように炉内で昇温押圧して巻線窓８を残し
て磁性薄膜２の開口端部を低融点ガラス６で橋絡し、図
１、図２の工程（ｈ）に示すようにこの上基板をダイサ
ー等にて研削除去して、ラッピング装置で鏡面研磨をし
てギャップ材料形成面９を形成する。次に図２工程
（ｉ）に示すようにＳｉＯ２などギャップ用非磁性薄膜
１１をギャップ材料形成面９の少なくとも媒体摺動面側
の第一の磁性薄膜２と低融点ガラス６にかけて所定厚さ
に被着させ磁気ギャップとする。その上にＦｅＴａＮ合
金等からなる第二の磁性薄膜１２を非磁性薄膜１１を含
む磁気ギャップ材料形成面９全体にスパッタで被着させ
て第一の磁性薄膜２とともに（図の点線内で）閉磁気回
路を形成する。
下基板と同じ材質かあるいは略同じ膨張係数の材料に低
融点ガラス６を接合した上基板７を重ねて図１工程
（ｇ）に示すように炉内で昇温押圧して巻線窓８を残し
て磁性薄膜２の開口端部を低融点ガラス６で橋絡し、図
１、図２の工程（ｈ）に示すようにこの上基板をダイサ
ー等にて研削除去して、ラッピング装置で鏡面研磨をし
てギャップ材料形成面９を形成する。次に図２工程
（ｉ）に示すようにＳｉＯ２などギャップ用非磁性薄膜
１１をギャップ材料形成面９の少なくとも媒体摺動面側
の第一の磁性薄膜２と低融点ガラス６にかけて所定厚さ
に被着させ磁気ギャップとする。その上にＦｅＴａＮ合
金等からなる第二の磁性薄膜１２を非磁性薄膜１１を含
む磁気ギャップ材料形成面９全体にスパッタで被着させ
て第一の磁性薄膜２とともに（図の点線内で）閉磁気回
路を形成する。
【００１３】次に図２工程（ｊ）に示すように第二の磁
性薄膜１２の上にＳｉＯ２など第一の非磁性絶縁薄膜１
３を被着し、ＭＲ素子用マスク５を所定位置に重ね、こ
の非磁性絶縁薄膜１３上の所定位置にスパッタにてＭＲ
素子１４とリード１５を被着させる。次に同図工程
（ｋ）に示すようにＭＲ素子１４とリード１５を含む面
にリード１５の端部を残してＳｉＯ２など第二の非磁性
絶縁薄膜１６を被着させる。次にＦｅＴａＮ合金等第三
の磁性薄膜１７をシールドとして非磁性薄膜１６上に被
着させる。さらに、この第三の磁性薄膜１７上に保護層
１８としてアルミナあるいはＳｉＯ２等を被着する。２
図の工程（ｌ）の一点鎖線部分まで平面研磨機で研削加
工してから個々にダイサーなどで分割して磁気ヘッドの
ディプスＤ及びＭＲハイトＨを加工して複合型磁気ヘッ
ドとして完成する。本実施例ではブロックにフェライト
磁性体を使用したがセラミックやガラス等の非磁性体ブ
ロックを使用すれば磁性薄膜だけの磁路が形成されるの
でインピーダンスの小さな高密度記録に適した磁気ヘッ
ドを得ることができる。
性薄膜１２の上にＳｉＯ２など第一の非磁性絶縁薄膜１
３を被着し、ＭＲ素子用マスク５を所定位置に重ね、こ
の非磁性絶縁薄膜１３上の所定位置にスパッタにてＭＲ
素子１４とリード１５を被着させる。次に同図工程
（ｋ）に示すようにＭＲ素子１４とリード１５を含む面
にリード１５の端部を残してＳｉＯ２など第二の非磁性
絶縁薄膜１６を被着させる。次にＦｅＴａＮ合金等第三
の磁性薄膜１７をシールドとして非磁性薄膜１６上に被
着させる。さらに、この第三の磁性薄膜１７上に保護層
１８としてアルミナあるいはＳｉＯ２等を被着する。２
図の工程（ｌ）の一点鎖線部分まで平面研磨機で研削加
工してから個々にダイサーなどで分割して磁気ヘッドの
ディプスＤ及びＭＲハイトＨを加工して複合型磁気ヘッ
ドとして完成する。本実施例ではブロックにフェライト
磁性体を使用したがセラミックやガラス等の非磁性体ブ
ロックを使用すれば磁性薄膜だけの磁路が形成されるの
でインピーダンスの小さな高密度記録に適した磁気ヘッ
ドを得ることができる。
【００１４】
【発明の効果】累積ピッチ差を生じるダイサーによって
形成された溝を加工基準とする従来の複合型磁気ヘッド
の製造方法と違って記録用磁気ヘッドのギャップディプ
スエンドをフォトリソグラフィ技術で正確に決定し、そ
れを基準に再生用磁気ヘッドのＭＲ素子の位置を正確に
決められる製造方法を提供するので、完成した複合型磁
気ヘッドの夫々の磁気ヘッドの相対位置は設計通りのも
のができ、ギャップディプスエンドのバラツキや不良の
少ない高性能な複合磁気ヘッドを製造することができ
た。
形成された溝を加工基準とする従来の複合型磁気ヘッド
の製造方法と違って記録用磁気ヘッドのギャップディプ
スエンドをフォトリソグラフィ技術で正確に決定し、そ
れを基準に再生用磁気ヘッドのＭＲ素子の位置を正確に
決められる製造方法を提供するので、完成した複合型磁
気ヘッドの夫々の磁気ヘッドの相対位置は設計通りのも
のができ、ギャップディプスエンドのバラツキや不良の
少ない高性能な複合磁気ヘッドを製造することができ
た。
【図１】 本発明のインダクティブ磁気ヘッドの製造工
程の主な工程を示す図
程の主な工程を示す図
【図２】 図１の製造工程における断面図
【図３】 本発明の複合型磁気ヘッドの要部断面図
【図４】 従来の複合型磁気ヘッドの要部断面図
【図５】 従来の複合型磁気ヘッドの製造工程
１ ブロック ２ コの字状薄膜磁気コア ４ 磁気ギャップ材料形成部の溝内周側端面 ４ａ ギャップディプスエンド ６ 非磁性材料 ９ 磁気ギャップ材料形成面 １１ 磁気ギャップ材料 １２ Ｉ字状磁気コア １４ 磁気抵抗効果素子 １４ａ 磁気抵抗効果素子の媒体摺動側と反対側の端面
Claims (3)
- 【請求項１】コの字状薄膜磁気コアとＩ字状磁気コアと
をコの字状薄膜磁気コアの開口側端面に形成される磁気
ギャップ材料を介して接合一体化してなるインダクティ
ブ磁気ヘッドの製造方法であって、溝を形成したブロッ
クの溝の内周面に沿って磁気コアとなる磁性薄膜をコの
字状に形成する工程と、このコの字状薄膜磁気コアの開
口側端部の磁気ギャップ材料形成部の溝内周側端面が後
に形成される磁気ギャップ材料形成面に対して垂直な端
面となるように部分的に削除して後にＩ字状磁気コアと
で形成される磁気ギャップのギャップディプスエンドを
確定する工程と、上記開口面を非磁性材料を橋絡して塞
ぐ工程と、この非磁性材料を研磨して平坦化するととも
に前記コの字状薄膜磁気コアの開口側端面を露出して磁
気ギャップ材料形成面を形成する工程と、磁気ギャップ
材料となる非磁性材料を磁気ギャップ材料形成面に形成
し、この磁気ギャップ材料を介してＩ字状磁気コアによ
りコの字状薄膜磁気コアを橋絡し、接合一体化して閉磁
気回路を形成する工程と、からなる磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】前記コの字状薄膜磁気コアの開口側端部の
磁気ギャップ材料形成部の溝内周側端面が後に形成され
る磁気ギャップ材料形成面に対して垂直な端面となるよ
うに部分的に削除してＩ字状磁気コアとで形成される磁
気ギャップのギャップディプスエンドを確定する工程
は、フォトリソグラフィーを用いた精密加工工程である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項３】請求項１記載の製造方法で製造したインダ
クティブ磁気ヘッドと磁気抵抗効果型再生用磁気ヘッド
との複合型の磁気ヘッドであって、磁気抵抗効果型再生
用磁気ヘッドの磁気抵抗効果型素子の媒体摺動側と反対
側の端面は、前記インダクティブ磁気ヘッドのギャップ
ディプスエンドと面一であることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22955296A JPH1074303A (ja) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | 磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22955296A JPH1074303A (ja) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | 磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1074303A true JPH1074303A (ja) | 1998-03-17 |
Family
ID=16893962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22955296A Pending JPH1074303A (ja) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | 磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1074303A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002069329A1 (en) * | 2001-02-28 | 2002-09-06 | Lafe Technology Limited | Thin film magnetic tape head and method of manufacturing therefor |
-
1996
- 1996-08-30 JP JP22955296A patent/JPH1074303A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002069329A1 (en) * | 2001-02-28 | 2002-09-06 | Lafe Technology Limited | Thin film magnetic tape head and method of manufacturing therefor |
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