JPH06259722A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH06259722A JPH06259722A JP4892293A JP4892293A JPH06259722A JP H06259722 A JPH06259722 A JP H06259722A JP 4892293 A JP4892293 A JP 4892293A JP 4892293 A JP4892293 A JP 4892293A JP H06259722 A JPH06259722 A JP H06259722A
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- core block
- head chip
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ギャップデプスの寸法を高精度に読み取るこ
とにより、最終ギャップデプスのばらつきを5μm以下
に規制した信頼性の高い磁気ヘッドの製造方法を提供す
る。 【構成】 巻線溝16を設けると共にバックギャップデ
プスFの部分に続けて溝15を45度の角度で形成した
第1のコアブロック13と第2のコアブロック19とを
接合することによりコアブロック21を形成し、整形し
たコアブロック22を切断して磁気ヘッドチップ12に
加工し、加工した磁気ヘッドチップ12を非磁性スライ
ダに組み込んで最終ギャップデプスを規制する際に、磁
気ヘッドチップ12の溝15の残滓を斜辺とする直角二
等辺三角形の底辺Eの長さを測定することにより高さ
E′を計り最終ギャップデプスを規制する。
とにより、最終ギャップデプスのばらつきを5μm以下
に規制した信頼性の高い磁気ヘッドの製造方法を提供す
る。 【構成】 巻線溝16を設けると共にバックギャップデ
プスFの部分に続けて溝15を45度の角度で形成した
第1のコアブロック13と第2のコアブロック19とを
接合することによりコアブロック21を形成し、整形し
たコアブロック22を切断して磁気ヘッドチップ12に
加工し、加工した磁気ヘッドチップ12を非磁性スライ
ダに組み込んで最終ギャップデプスを規制する際に、磁
気ヘッドチップ12の溝15の残滓を斜辺とする直角二
等辺三角形の底辺Eの長さを測定することにより高さ
E′を計り最終ギャップデプスを規制する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータの補助記
憶装置である磁気ディスク装置やビデオテープレコーダ
ーなどに用いられる磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。
憶装置である磁気ディスク装置やビデオテープレコーダ
ーなどに用いられる磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】画像や情報などの保存を目的に磁気記録
再生装置が広い分野にわたって利用されているが、近年
は小型化および高記録密度化の進歩が著しく、これらを
実現するために磁気記録媒体および磁気ヘッドは様々の
改良がなされている。
再生装置が広い分野にわたって利用されているが、近年
は小型化および高記録密度化の進歩が著しく、これらを
実現するために磁気記録媒体および磁気ヘッドは様々の
改良がなされている。
【0003】磁気記録媒体においては、高保持力化や薄
膜化の技術が進み、Co、Cr、Ta等の強磁性金属材
料をスパッタリング等の真空薄膜形成技術により製作し
た薄膜磁気記録媒体や、Fe、Co、Ni等の強磁性粉
末を塗布した金属塗布磁気記録媒体が実用化されてい
る。これらの磁気記録媒体の保磁力は、従来主に用いら
れている酸化物塗布記録媒体の2〜4倍と高く、短波長
域での信号の記録再生を可能にしている。
膜化の技術が進み、Co、Cr、Ta等の強磁性金属材
料をスパッタリング等の真空薄膜形成技術により製作し
た薄膜磁気記録媒体や、Fe、Co、Ni等の強磁性粉
末を塗布した金属塗布磁気記録媒体が実用化されてい
る。これらの磁気記録媒体の保磁力は、従来主に用いら
れている酸化物塗布記録媒体の2〜4倍と高く、短波長
域での信号の記録再生を可能にしている。
【0004】一方、磁気ヘッドは、高い保持力を有する
磁気記録媒体を飽和記録するため、高い飽和磁束密度を
有する金属磁性材料で磁気ギャップ近傍を形成する技術
や、狭トラック幅化およびギャップデプス(GD)の寸
法精度の向上への技術開発が進んでいる。特にギャップ
デプスについては、磁気ヘッドの狭トラック幅化に伴な
う電磁変換出力の低下を補うため、従来20μm程あっ
たものが最近では5μm程度となり、今後はさらに小さ
くなるものと考えられるため、より一層の寸法精度の向
上が求められる。
磁気記録媒体を飽和記録するため、高い飽和磁束密度を
有する金属磁性材料で磁気ギャップ近傍を形成する技術
や、狭トラック幅化およびギャップデプス(GD)の寸
法精度の向上への技術開発が進んでいる。特にギャップ
デプスについては、磁気ヘッドの狭トラック幅化に伴な
う電磁変換出力の低下を補うため、従来20μm程あっ
たものが最近では5μm程度となり、今後はさらに小さ
くなるものと考えられるため、より一層の寸法精度の向
上が求められる。
【0005】このようにギャップデプスが小さくなる
と、最終ギャップデプスを規制する工程で、フロッピー
ディスクドライブに用いられる磁気ヘッドや非磁性スラ
イダに挿入するタイプのハードディスクドライブに用い
られる浮動型磁気ヘッドにおいては、磁気ヘッドチップ
のギャップデプスを測定する手段がないため、歩留りの
低下につながりコストアップの要因となっている。
と、最終ギャップデプスを規制する工程で、フロッピー
ディスクドライブに用いられる磁気ヘッドや非磁性スラ
イダに挿入するタイプのハードディスクドライブに用い
られる浮動型磁気ヘッドにおいては、磁気ヘッドチップ
のギャップデプスを測定する手段がないため、歩留りの
低下につながりコストアップの要因となっている。
【0006】以下、従来のギャップデプスの規制方法
を、図3および図4を参照しながら説明する。
を、図3および図4を参照しながら説明する。
【0007】図3は従来の磁気ヘッドの製造方法を用い
た浮動型磁気ヘッドの分解斜視図であり、このタイプは
コンピュータの補助記憶装置であるハードディスクドラ
イブ装置に用いられる。図3において、1は非磁性スラ
イダ、2は磁気ヘッドチップであり、非磁性スライダ1
に磁気ヘッドチップ2を挿入後、ガラス等により接着し
た後、スキー面3を加工して最終ギャップデプスを規制
する。
た浮動型磁気ヘッドの分解斜視図であり、このタイプは
コンピュータの補助記憶装置であるハードディスクドラ
イブ装置に用いられる。図3において、1は非磁性スラ
イダ、2は磁気ヘッドチップであり、非磁性スライダ1
に磁気ヘッドチップ2を挿入後、ガラス等により接着し
た後、スキー面3を加工して最終ギャップデプスを規制
する。
【0008】以下、従来の磁気ヘッドチップ2の製造方
法を図4に示す。図4(a)、(b)は従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を用いた磁気ヘッドチップの製造工程図で
ある。図4(a)において、第1のコアブロック6の第
2のコアブロック8との対向面4に巻線溝5を設けた
後、その対向面4を鏡面に加工する。次に、この第1の
コアブロック6に対向する第2のコアブロック8の対向
面7を鏡面に加工した後、第2のコアブロック8を非磁
性膜9を介して第1のコアブロック6と接着して磁気ギ
ャップを形成し、図4(b)に示すコアブロック10と
する。図4(b)において、コアブロック10の後側の
ギャップデプスGD−Aと手前側のギャップデプスGD
−Bとのばらつきを最小に抑えるため、コアブロック1
0の外形研削加工を行なった後、X−X′線に沿って切
断し、磁気ヘッドチップ2に加工する。
法を図4に示す。図4(a)、(b)は従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を用いた磁気ヘッドチップの製造工程図で
ある。図4(a)において、第1のコアブロック6の第
2のコアブロック8との対向面4に巻線溝5を設けた
後、その対向面4を鏡面に加工する。次に、この第1の
コアブロック6に対向する第2のコアブロック8の対向
面7を鏡面に加工した後、第2のコアブロック8を非磁
性膜9を介して第1のコアブロック6と接着して磁気ギ
ャップを形成し、図4(b)に示すコアブロック10と
する。図4(b)において、コアブロック10の後側の
ギャップデプスGD−Aと手前側のギャップデプスGD
−Bとのばらつきを最小に抑えるため、コアブロック1
0の外形研削加工を行なった後、X−X′線に沿って切
断し、磁気ヘッドチップ2に加工する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら図3、図
4に示す従来の磁気ヘッドの製造方法では、第1のコア
ブロック6と第2のコアブロック8とを非磁性膜9を介
して接着する際に、後側のギャップデプスGD−Aと手
前側のギャップデプスGD−Bとの間でばらつきが発生
する。外形研削加工によりばらつきを最小に抑えはする
ものの、量産時のコアブロック10自体のばらつきもあ
るため、磁気ヘッドチップ2のギャップデプスのばらつ
きは最大20μmにも達する。さらに非磁性スライダ1
に磁気ヘッドチップ2を挿入するが、その時点で非磁性
スライダ1の基準面を位置合せして高温で接着する。こ
の工程で非磁性スライダ1と磁気ヘッドチップ2の熱膨
張係数の違いや接着治具の精度により5〜10μm程度
のばらつきが発生する。上述したギャップデプスのばら
つきは非磁性スライダ1に接着した後は読み取れないの
で、図3に示す磁気ヘッドチップ2の時点で一旦バック
ギャップデプス(BD)を測定し、誤差1〜2μm毎に
振り分けを行なっていた。
4に示す従来の磁気ヘッドの製造方法では、第1のコア
ブロック6と第2のコアブロック8とを非磁性膜9を介
して接着する際に、後側のギャップデプスGD−Aと手
前側のギャップデプスGD−Bとの間でばらつきが発生
する。外形研削加工によりばらつきを最小に抑えはする
ものの、量産時のコアブロック10自体のばらつきもあ
るため、磁気ヘッドチップ2のギャップデプスのばらつ
きは最大20μmにも達する。さらに非磁性スライダ1
に磁気ヘッドチップ2を挿入するが、その時点で非磁性
スライダ1の基準面を位置合せして高温で接着する。こ
の工程で非磁性スライダ1と磁気ヘッドチップ2の熱膨
張係数の違いや接着治具の精度により5〜10μm程度
のばらつきが発生する。上述したギャップデプスのばら
つきは非磁性スライダ1に接着した後は読み取れないの
で、図3に示す磁気ヘッドチップ2の時点で一旦バック
ギャップデプス(BD)を測定し、誤差1〜2μm毎に
振り分けを行なっていた。
【0010】さらに磁気ヘッドチップ2を非磁性スライ
ダ1に接着する際に、磁気ヘッドチップ2は非磁性スラ
イダ1の基準面に対し上下に位置ズレが発生するため、
非磁性スライダ1の基準面をラップ加工等で研磨を行な
う。この時、磁気ヘッドチップ2と非磁性スライダ1を
研磨するため、一旦計測したバックギャップデプスの寸
法に再びばらつきが発生し正確なバックギャップデプス
の寸法が読めず、最終ギャップデプスの規制加工でのば
らつきが発生し、ギャップデプスのばらつきが許容限度
を超えた15μm程度となり問題となっていた。さらに
今後の高記録密度化を実現するためには、狭トラックで
の電磁変換出力の向上が必要であり、最終ギャップデプ
スのばらつきを5μm以下に規制する新しい製造方法が
必要となっていた。
ダ1に接着する際に、磁気ヘッドチップ2は非磁性スラ
イダ1の基準面に対し上下に位置ズレが発生するため、
非磁性スライダ1の基準面をラップ加工等で研磨を行な
う。この時、磁気ヘッドチップ2と非磁性スライダ1を
研磨するため、一旦計測したバックギャップデプスの寸
法に再びばらつきが発生し正確なバックギャップデプス
の寸法が読めず、最終ギャップデプスの規制加工でのば
らつきが発生し、ギャップデプスのばらつきが許容限度
を超えた15μm程度となり問題となっていた。さらに
今後の高記録密度化を実現するためには、狭トラックで
の電磁変換出力の向上が必要であり、最終ギャップデプ
スのばらつきを5μm以下に規制する新しい製造方法が
必要となっていた。
【0011】本発明はこのような従来の問題点を解決
し、ギャップデプスの寸法を高精度に読み取ることによ
り、最終ギャップデプスのばらつきを5μm以下に規制
した磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
し、ギャップデプスの寸法を高精度に読み取ることによ
り、最終ギャップデプスのばらつきを5μm以下に規制
した磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに本発明は、巻線溝を設けると共にバックギャップデ
プス部分に続けて溝を45度の角度で形成した第1のコ
アブロックと第2のコアブロックとを接合することによ
りコアブロックを形成し、整形したコアブロックを切断
して磁気ヘッドチップに加工し、加工した磁気ヘッドチ
ップを非磁性スライダに組み込んで最終ギャップデプス
を規制する際に、磁気ヘッドチップの溝の残滓を斜辺と
する直角二等辺三角形の底辺の長さを測定することによ
り高さを計り最終ギャップデプスを規制する。
めに本発明は、巻線溝を設けると共にバックギャップデ
プス部分に続けて溝を45度の角度で形成した第1のコ
アブロックと第2のコアブロックとを接合することによ
りコアブロックを形成し、整形したコアブロックを切断
して磁気ヘッドチップに加工し、加工した磁気ヘッドチ
ップを非磁性スライダに組み込んで最終ギャップデプス
を規制する際に、磁気ヘッドチップの溝の残滓を斜辺と
する直角二等辺三角形の底辺の長さを測定することによ
り高さを計り最終ギャップデプスを規制する。
【0013】
【作用】この構成により、非磁性スライダに磁気ヘッド
チップを組み込んだ後でも直角二等辺三角形の底辺の長
さを測定することによりバックギャップデプス部分まで
の高さが判明し、ギャップデプスが高精度に測定可能と
なる。
チップを組み込んだ後でも直角二等辺三角形の底辺の長
さを測定することによりバックギャップデプス部分まで
の高さが判明し、ギャップデプスが高精度に測定可能と
なる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。
説明する。
【0015】図1(a)は本発明の一実施例における磁
気ヘッドの製造方法を用いた浮動型磁気ヘッドの分解斜
視図であり、図1(b)は本発明の一実施例における磁
気ヘッドの製造方法を用いた磁気ヘッドチップの正面図
である。図1(a)、(b)において11は非磁性スラ
イダ、12は磁気ヘッドチップである。
気ヘッドの製造方法を用いた浮動型磁気ヘッドの分解斜
視図であり、図1(b)は本発明の一実施例における磁
気ヘッドの製造方法を用いた磁気ヘッドチップの正面図
である。図1(a)、(b)において11は非磁性スラ
イダ、12は磁気ヘッドチップである。
【0016】まず磁気ヘッドチップ12の製造工程を図
2を参照しながら説明する。図2は本発明の一実施例に
おける磁気ヘッドの製造方法を用いた磁気ヘッドチップ
の製造工程図である。
2を参照しながら説明する。図2は本発明の一実施例に
おける磁気ヘッドの製造方法を用いた磁気ヘッドチップ
の製造工程図である。
【0017】図2の(a)に示すように、第1のコアブ
ロック13の対向面14に溝15を設けレジンボンド系
ダイヤモンド砥石により鏡面に仕上げた後、この溝15
に700℃前後でガラスを流し込み、その後に対向面1
4を鏡面に加工する。
ロック13の対向面14に溝15を設けレジンボンド系
ダイヤモンド砥石により鏡面に仕上げた後、この溝15
に700℃前後でガラスを流し込み、その後に対向面1
4を鏡面に加工する。
【0018】次に図2の(b)に示すように、第1のコ
アブロック13の対向面14に巻線溝16を形成する。
巻線溝16は加工能力を考慮してメタルボンド系ダイヤ
モンド砥石で鏡面に仕上げる。この時、巻線溝16のフ
ロントの傾斜面17と溝15は平行して加工し、バック
ギャップデプスの誤差を1μm以内に収める。
アブロック13の対向面14に巻線溝16を形成する。
巻線溝16は加工能力を考慮してメタルボンド系ダイヤ
モンド砥石で鏡面に仕上げる。この時、巻線溝16のフ
ロントの傾斜面17と溝15は平行して加工し、バック
ギャップデプスの誤差を1μm以内に収める。
【0019】次に図2の(c)に示すように、第2のコ
アブロック19の対向面18を鏡面に仕上げ、かつ第1
のコアブロック13の対向面14と第2のコアブロック
19の対向面18とを対向させ、非磁性膜20を介して
700℃程度の高温で加圧接合し、ギャップ形成を行な
って図2の(d−1)に示すコアブロック21とする。
アブロック19の対向面18を鏡面に仕上げ、かつ第1
のコアブロック13の対向面14と第2のコアブロック
19の対向面18とを対向させ、非磁性膜20を介して
700℃程度の高温で加圧接合し、ギャップ形成を行な
って図2の(d−1)に示すコアブロック21とする。
【0020】次に図2の(d−1)に示すように、コア
ブロック21の傾斜面17のアペックス(先端C点)を
基準にバックギャップデプス側を研削加工して整形し図
2の(d−2)に示すコアブロック22とする。その後
図2の(d−2)に示すようにメタル系ダイヤモンド砥
石を用いてY−Y′線に沿って切断し、図2の(e)に
示す磁気ヘッドチップ12を得る。
ブロック21の傾斜面17のアペックス(先端C点)を
基準にバックギャップデプス側を研削加工して整形し図
2の(d−2)に示すコアブロック22とする。その後
図2の(d−2)に示すようにメタル系ダイヤモンド砥
石を用いてY−Y′線に沿って切断し、図2の(e)に
示す磁気ヘッドチップ12を得る。
【0021】図2の(e)において、溝15の残滓であ
る傾斜面を斜辺とする直角三角形の底辺と高さとの関係
を1:1あるいは2:1等にしておくと、底辺を測定す
ることにより高さを容易に知ることができる。例えば
1:1の関係にしておくと、換言すれば磁気ヘッドチッ
プ12の溝15の角度を45°にしておけば、磁気ヘッ
ドチップ12を非磁性スライダ11に埋め込んだ後も、
非磁性スライダ11の底面より傾斜面17のアペックス
迄の寸法を簡単に測定することができる。この時の磁気
ヘッドチップ12の底面からアペックス迄の寸法は、バ
ックギャップデプスFプラスE′となる。磁気ヘッドチ
ップ12はバックギャップデプスFの寸法によりあらか
じめ1μm単位に振り分けられており、またE′は溝1
5の角度を45°に加工されているため、E=E′とな
り、前述した通り、磁気ヘッドチップ12を非磁性スラ
イダ11に埋め込んだ後も正確に非磁性スライダ11の
底面から磁気ヘッドチップ12のアペックス迄の寸法を
読み取ることができる。なお角度は厳密な45°に限ら
ず、略45°でも実質的に目的を達成できるものであ
り、したがって本発明で45°とは、略45°も含むも
のである。又、図2の(a)の工程で、溝15の傾斜面
(図面上左側)を延長して切り欠き部としておき、図2
(c)の工程で切り欠き部にガラスを流し込んでも良
い。
る傾斜面を斜辺とする直角三角形の底辺と高さとの関係
を1:1あるいは2:1等にしておくと、底辺を測定す
ることにより高さを容易に知ることができる。例えば
1:1の関係にしておくと、換言すれば磁気ヘッドチッ
プ12の溝15の角度を45°にしておけば、磁気ヘッ
ドチップ12を非磁性スライダ11に埋め込んだ後も、
非磁性スライダ11の底面より傾斜面17のアペックス
迄の寸法を簡単に測定することができる。この時の磁気
ヘッドチップ12の底面からアペックス迄の寸法は、バ
ックギャップデプスFプラスE′となる。磁気ヘッドチ
ップ12はバックギャップデプスFの寸法によりあらか
じめ1μm単位に振り分けられており、またE′は溝1
5の角度を45°に加工されているため、E=E′とな
り、前述した通り、磁気ヘッドチップ12を非磁性スラ
イダ11に埋め込んだ後も正確に非磁性スライダ11の
底面から磁気ヘッドチップ12のアペックス迄の寸法を
読み取ることができる。なお角度は厳密な45°に限ら
ず、略45°でも実質的に目的を達成できるものであ
り、したがって本発明で45°とは、略45°も含むも
のである。又、図2の(a)の工程で、溝15の傾斜面
(図面上左側)を延長して切り欠き部としておき、図2
(c)の工程で切り欠き部にガラスを流し込んでも良
い。
【0022】次に磁気ヘッドチップ12を図1(a)に
示すように非磁性スライダ11に挿入し、バネ性を持っ
た金属等で磁気ヘッドチップ12を仮固定する。次にギ
ャップ形成時の温度(700℃前後)よりも低い温度で
ガラス等の接着剤により磁気ヘッドチップ12を非磁性
スライダ11に接着する。この時磁気ヘッドチップ12
は非磁性スライダ11の底面より5μm程度突き出して
接着する。
示すように非磁性スライダ11に挿入し、バネ性を持っ
た金属等で磁気ヘッドチップ12を仮固定する。次にギ
ャップ形成時の温度(700℃前後)よりも低い温度で
ガラス等の接着剤により磁気ヘッドチップ12を非磁性
スライダ11に接着する。この時磁気ヘッドチップ12
は非磁性スライダ11の底面より5μm程度突き出して
接着する。
【0023】次に非磁性スライダ11の底面をラッピン
グシート等によりラップ加工を実施し、磁気ヘッドチッ
プ12の底面部と共に鏡面に加工する。この時磁気ヘッ
ドチップ12のバックギャップデプスFの部分はラップ
加工されず一定である。次にラップ加工した非磁性スラ
イダ11の磁気ヘッドチップ12の底面側の溝15の寸
法をμm単位で顕微鏡等を用いて測定し誤差の程度によ
り振り分ける。次に振り分けられた寸法に磁気ヘッドチ
ップ12のバックギャップデプスFの寸法を加えること
により、磁気ヘッドチップ12が埋め込まれた非磁性ス
ライダ11の底面から磁気ヘッドチップ12のアペック
ス迄の寸法が測定できるので、この数値を基に非磁性ス
ライダ11を1μm単位でランクを振り分ける。この時
1μm単位で振り分けられたランクの非磁性スライダ1
1は、その底面から磁気ヘッドチップ12のアペックス
迄の寸法が振り分けたランク毎に全て同一となる。
グシート等によりラップ加工を実施し、磁気ヘッドチッ
プ12の底面部と共に鏡面に加工する。この時磁気ヘッ
ドチップ12のバックギャップデプスFの部分はラップ
加工されず一定である。次にラップ加工した非磁性スラ
イダ11の磁気ヘッドチップ12の底面側の溝15の寸
法をμm単位で顕微鏡等を用いて測定し誤差の程度によ
り振り分ける。次に振り分けられた寸法に磁気ヘッドチ
ップ12のバックギャップデプスFの寸法を加えること
により、磁気ヘッドチップ12が埋め込まれた非磁性ス
ライダ11の底面から磁気ヘッドチップ12のアペック
ス迄の寸法が測定できるので、この数値を基に非磁性ス
ライダ11を1μm単位でランクを振り分ける。この時
1μm単位で振り分けられたランクの非磁性スライダ1
1は、その底面から磁気ヘッドチップ12のアペックス
迄の寸法が振り分けたランク毎に全て同一となる。
【0024】次にランク分けされた非磁性スライダ11
の底面を基準にラップ治具に接着剤で接着し、図1のス
キー面22を研削及びラップ加工等の方法を用いて最終
ギャップデプスの許容寸法まで加工する。スキー面22
を仕上げた後、磁気記録媒体の高速回転で発生する空気
流により浮上力を発生させるためのスキー面22のテー
パ22aを形成して浮動型磁気ヘッドを完成する。
の底面を基準にラップ治具に接着剤で接着し、図1のス
キー面22を研削及びラップ加工等の方法を用いて最終
ギャップデプスの許容寸法まで加工する。スキー面22
を仕上げた後、磁気記録媒体の高速回転で発生する空気
流により浮上力を発生させるためのスキー面22のテー
パ22aを形成して浮動型磁気ヘッドを完成する。
【0025】この方法で完成した浮動型磁気ヘッドの磁
気ヘッドチップ12は、非磁性スライダ11に接着され
た後も簡単に非磁性スライダ11の底面から磁気ヘッド
チップ12のアペックス迄の寸法を正確に読み取ること
ができる。このため、この寸法を磁気ヘッドチップ12
の全高から差し引いてギャップデプスの寸法を弾き出
し、それをμm単位で振り分けて、各ランク毎に所定量
加工することにより、最終ギャップデプスを5μm以内
に抑制できる。
気ヘッドチップ12は、非磁性スライダ11に接着され
た後も簡単に非磁性スライダ11の底面から磁気ヘッド
チップ12のアペックス迄の寸法を正確に読み取ること
ができる。このため、この寸法を磁気ヘッドチップ12
の全高から差し引いてギャップデプスの寸法を弾き出
し、それをμm単位で振り分けて、各ランク毎に所定量
加工することにより、最終ギャップデプスを5μm以内
に抑制できる。
【0026】以上の説明においては磁気ヘッドチップ1
2を浮動型磁気ヘッド用として利用する場合について触
れた。しかし磁気ヘッドチップ12は複合型磁気ヘッド
用としても利用できる。
2を浮動型磁気ヘッド用として利用する場合について触
れた。しかし磁気ヘッドチップ12は複合型磁気ヘッド
用としても利用できる。
【0027】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、巻線
溝を設けると共にバックギャップデプス部分に続けて溝
を45度の角度で形成した第1のコアブロックと第2の
コアブロックとを接合することによりコアブロックを形
成し、形成したコアブロックを切断して磁気ヘッドチッ
プに加工し、加工した磁気ヘッドチップを非磁性スライ
ダに組み込んで最終ギャップデプスを規制する際に、磁
気ヘッドチップの溝の残滓を斜辺とする直角二等辺三角
形の底辺の長さを測定することにより高さを計り最終ギ
ャップデプスを規制する。
溝を設けると共にバックギャップデプス部分に続けて溝
を45度の角度で形成した第1のコアブロックと第2の
コアブロックとを接合することによりコアブロックを形
成し、形成したコアブロックを切断して磁気ヘッドチッ
プに加工し、加工した磁気ヘッドチップを非磁性スライ
ダに組み込んで最終ギャップデプスを規制する際に、磁
気ヘッドチップの溝の残滓を斜辺とする直角二等辺三角
形の底辺の長さを測定することにより高さを計り最終ギ
ャップデプスを規制する。
【0028】この構成により、非磁性スライダに磁気ヘ
ッドチップを組み込んだ後でも直角二等辺三角形の底辺
の長さを測定することによりバックギャップデプス部分
までの高さが判明し、ギャップデプスが高精度に測定可
能となる。
ッドチップを組み込んだ後でも直角二等辺三角形の底辺
の長さを測定することによりバックギャップデプス部分
までの高さが判明し、ギャップデプスが高精度に測定可
能となる。
【0029】このため、磁気ヘッドをギャップデプスの
ばらつきの程度毎に簡単に振り分けることが可能とな
り、振り分けた磁気ヘッドのギャップデプスを高精度に
加工して最終ギャップデプスを許容範囲の5μm以下に
収めることができる。このことにより、ギャップデプス
のばらつきによる電磁変換出力の劣化が著しく改善さ
れ、高信頼性の磁気ヘッドが得られる。
ばらつきの程度毎に簡単に振り分けることが可能とな
り、振り分けた磁気ヘッドのギャップデプスを高精度に
加工して最終ギャップデプスを許容範囲の5μm以下に
収めることができる。このことにより、ギャップデプス
のばらつきによる電磁変換出力の劣化が著しく改善さ
れ、高信頼性の磁気ヘッドが得られる。
【図1】(a)は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の製造方法を用いた浮動型磁気ヘッドの分解斜視図 (b)は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造方
法を用いた磁気ヘッドチップの正面図
の製造方法を用いた浮動型磁気ヘッドの分解斜視図 (b)は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造方
法を用いた磁気ヘッドチップの正面図
【図2】本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造方
法を用いた磁気ヘッドチップの製造工程図 (a)は第1のコアブロックの溝の製造工程図 (b)は第1のコアブロックの巻線溝の製造工程図 (c)は第1のコアブロックと第2のコアブロックとを
接着するコアブロックの製造工程図 (d−1)はコアブロックの製造工程図 (d−2)は磁気ヘッドチップの製造工程図 (e)は切断した磁気ヘッドチップの拡大図
法を用いた磁気ヘッドチップの製造工程図 (a)は第1のコアブロックの溝の製造工程図 (b)は第1のコアブロックの巻線溝の製造工程図 (c)は第1のコアブロックと第2のコアブロックとを
接着するコアブロックの製造工程図 (d−1)はコアブロックの製造工程図 (d−2)は磁気ヘッドチップの製造工程図 (e)は切断した磁気ヘッドチップの拡大図
【図3】従来の磁気ヘッドの製造方法を用いた浮動型磁
気ヘッドの分解斜視図
気ヘッドの分解斜視図
【図4】(a)は従来の磁気ヘッドの製造方法を用いた
磁気ヘッドチップの製造工程図 (b)は従来の磁気ヘッドの製造方法を用いた磁気ヘッ
ドチップの製造工程図
磁気ヘッドチップの製造工程図 (b)は従来の磁気ヘッドの製造方法を用いた磁気ヘッ
ドチップの製造工程図
11 非磁性スライダ 12 磁気ヘッドチップ 13 第1のコアブロック 15 溝 16 巻線溝 17 傾斜面 19 第2のコアブロック
Claims (3)
- 【請求項1】巻線溝を設けた第1のコアブロックと第2
のコアブロックとを接合することによりコアブロックを
形成し、形成したコアブロックを切断して磁気ヘッドチ
ップに加工し、加工した磁気ヘッドチップを組み込んで
最終ギャップデプスを規制する磁気ヘッドの製造方法で
あって、第1のコアブロックにバックギャップデプス部
分に続けて傾斜面を所定の角度で所定の長さ形成し、加
工した磁気ヘッドチップの傾斜面の残滓を斜辺とする直
角三角形の底辺の長さを勘案して最終ギャップデプスを
規制することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項2】所定の角度が45度であることを特徴とす
る請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項3】傾斜面が溝の一部であることを特徴とする
請求項1あるいは請求項2記載の磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4892293A JPH06259722A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4892293A JPH06259722A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06259722A true JPH06259722A (ja) | 1994-09-16 |
Family
ID=12816753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4892293A Pending JPH06259722A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06259722A (ja) |
-
1993
- 1993-03-10 JP JP4892293A patent/JPH06259722A/ja active Pending
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