JP2000322705A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、磁気コアが単結晶フェライトから
なる磁気ヘッドであって磁気ギャップのアジマス角が大
きくかつそのトラック幅が狭い場合であっても、トラッ
ク幅部分を加工形成する際の欠落破壊や強度の脆弱化を
防止することが可能な磁気ヘッドを提供することを目的
とする。 【解決手段】 摺動面１１において、磁気ギャップｇを
挟む軟磁性膜１３ａ、１３ｂ及び基体１４ａ、１４ｂが
磁気テープの摺動方向に沿って直線状に機械加工され磁
気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規定するトラック端加
工溝が形成されている。ギャップ対接面は基体１４ａ、
１４ｂをなす単結晶フェライト（１００）面からアジマ
ス角θだけ傾いた面であり、摺動面１１は（１１０）面
であり、トラック端加工溝の加工方向は単結晶フェライ
トの劈開面をなす（１００）面に垂直な＜１００＞方向
に略一致し、そのズレが５度以内に抑えられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドに係り、
特に高い記録密度で情報の記録・再生を行うＶＴＲ（Vi
deo Tape Recorder ）やデータストレージ装置に用いら
れる磁気ヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の磁気ヘッドを、図１５を用いて説
明する。図１５に示されるように、一対の磁気コア半体
３０ａ、３０ｂが、磁気テープと摺動する摺動面３１の
略中央に位置する磁気ギャップｇを境として接合されて
いると共に、融着用ガラス３２によって接着され、一体
化されている。

【０００３】なお、この磁気ギャップｇは、一対の磁気
コア半体３０ａ、３０ｂのギャップ対接面に挟まれた非
磁性ギャップ膜（図示せず）から構成されていると共
に、磁気ヘッドに用いられる記録フォーマットにより決
定されるアジマス角θを有している。

【０００４】また、これら接合一体化されている一対の
磁気コア半体３０ａ、３０ｂは、それぞれ磁気ギャップ
ｇに隣接する主コア部としての軟磁性膜３３ａ、３３ｂ
と、これらの軟磁性膜３３ａ、３３ｂと共に閉磁路をな
す副コア部としてのフェライト系材料からなる基体３４
ａ、３４ｂとから構成されている。

【０００５】また、これら基体３４ａ、３４ｂには、磁
気ギャップｇのギャップデプスを規制すると共に、コイ
ル（図示せず）を巻装するために、巻線溝３５ａ、３５
ｂが略矩形の両側面形状となるように形成されている。

【０００６】また、摺動面３１においては、その両側に
磁気ギャップｇのトラック幅を規定するためのトラック
端加工溝が半円状に形成されている。そして、これら２
つの半円状のトラック端加工溝内には、非磁性材料とし
てのガラスが充填され、表面埋設ガラス層３６が形成さ
れている。

【０００７】次に、上記図１５に示される従来の磁気ヘ
ッドを用いたヘリカルスキャン方式のＶＴＲのヘッド走
査機構を、図１６を用いて説明する。図１６に示される
ように、アジマス角が異なる一組の磁気ヘッドＡ、Ｂ
が、ドラム３７に対し対向する位置関係で配置されてい
る。そして、これら一組の磁気ヘッドＡ、Ｂの内、一方
の磁気ヘッドＡが記録媒体としての磁気テープ３８上に
記録信号を書き残し、他方の磁気ヘッドＢが前の記録信
号の片側に隣接する位置に新たな磁気記録信号を記録す
る作用を順次繰り返し、磁気テープ３８上に高密度に記
録信号を記録する。そして、その際に、新たな磁気記録
信号が前の記録信号の片側の一部に重なって記録される
オーバーライト記録が行われる。

【０００８】ところで、磁気ヘッドＡ、Ｂによって磁気
テープ３８上に磁気記録信号を記録する際には、磁気ヘ
ッドＡ、Ｂのギャップ端に漏洩磁界が発生する。そし
て、例えば図１７に示されるように、半円状の表面埋設
ガラス層３６に挟まれた磁気ギャップｇ端部の形状が不
確定である場合、磁気ギャップｇ端近傍から磁界が漏洩
し、この漏洩磁界が既に記録してある磁気記録パターン
上を摺動するため、重畳した信号を書き込むことにな
る。なお、図中の矢印は磁束を表示したものであり、こ
の表示は以下に示す図１８及び図１９においても同様と
する。

【０００９】また、例えば図１８に示されるように、磁
気テープとの摺動面の両側面を直線状に機械加工して磁
気ギャップｇのトラック幅を規定し、上記図１７に示さ
れる半円状の表面埋設ガラス層３６に挟まれた磁気ギャ
ップｇ端部の形状的な不確定を解消しても、この摺動面
の機械加工方向が磁気テープの走行方向とずれている場
合には、磁気ギャップｇ端近傍から漏洩した磁界が既に
記録してある磁気記録パターン上を摺動することによ
り、重畳した信号を書き込むことになる。

【００１０】このため、従来の磁気ヘッドＡ、Ｂを用い
たヘリカルスキャン方式において、オーバーライト記録
が行われる際には、磁気ヘッドのギャップｇ端近傍から
漏洩する磁界によってオーバーライト端の記録情報が影
響を受ける結果、消去領域の増加や不要記録情報の重ね
書きが発生するという問題が生じる。

【００１１】このような問題に対処するために、例えば
図１９に示されるように、磁気テープとの摺動面の両側
面を磁気テープの走行方向に沿って直線状に機械加工
し、高い寸法精度の幅をもつトラック幅部分を形成する
ことが望ましい。

【００１２】この場合、磁気ギャップｇ端近傍から磁界
が漏洩するものの、磁気テープの走行方向に沿って連続
的に漏洩磁界が発生する位置構成となるため、この漏洩
磁界が既に記録してある磁気記録パターン上への磁気的
な影響は限定された幅、例えばサブミクロンの領域に留
まることになる。

【００１３】このようにして、新たな磁気記録信号を記
録する際に、磁気ギャップｇの両端近傍から発生する漏
洩磁界が隣接する磁気記録パターンに既に記録された信
号に対して影響を与えることを抑制して、好ましいオー
バーライト性能を示すようにしている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
フェライト系材料からなる磁気コアのギャップ部に軟磁
性膜が配置された構成の磁気ヘッドにおいては、磁気コ
アと軟磁性膜との間に残留する歪みが、磁気テープとの
摺動面やその両側面の加工時に解放されることにより磁
気コア部の破壊が起こり易くなる。

【００１５】通常、フェライト系材料からなる磁気コア
のギャップ対接面には単結晶フェライトの（１００）面
を用いるが、図２０に示されるように、磁気テープとの
摺動面の両側面を磁気テープの走行方向に沿って直線状
に機械加工する機械加工方向が、ギャップ対接面をなす
単結晶フェライトの（１００）面に垂直な＜１００＞方
向からアジマス角θ分だけずれることになる。

【００１６】このため、図中に太字の矢印で表す加工応
力Ｆ₁ が単結晶フェライトの劈開面をなす（１００）面
に垂直な＜１００＞方向からズレを生じるため、劈開面
へ発生する加工応力の方向余弦成分Ｆ₂ によって磁気コ
アのトラック幅部分の一部が欠落したりする。

【００１７】特に、アジマス角θが１５度以上の場合、
磁気テープの走行方向に沿った機械加工方向と単結晶フ
ェライトの劈開面をなす（１００）面に垂直な＜１００
＞方向との乖離が大きくなる結果、磁気コアの劈開面を
なす（１００）面への加工応力の方向余弦成分Ｆ₂ が大
きくなり、機械加工の際に磁気コアのトラック幅部分の
破壊が発生する場合が多い。

【００１８】更に、近年の記録信号の高密度化の進行に
伴って記録ヘッドのトラック幅が狭くなる傾向にある
が、例えばトラック幅が６μｍ以下となると、磁気テー
プとの摺動面の両側面を直線状に機械加工する際の砥石
のぶれや加工応力などにより、磁気コアの残存するトラ
ック幅部分がダメージを受けて欠落したり、その強度が
脆弱化したりする。

【００１９】このため、アジマス角が１５度以上で、ト
ラック幅が６μｍ以下の場合における磁気ヘッドの製造
歩留りは、通常の磁気ヘッドの大量生産に必要な６０％
を下回る値となった。

【００２０】そこで本発明は、上記事情を鑑みて発案さ
れたものであり、磁気コアが単結晶フェライトからなる
磁気ヘッドであって、磁気ギャップのアジマス角が大き
くかつそのトラック幅が狭い場合であっても、トラック
幅部分を加工形成する際の欠落破壊や強度の脆弱化を防
止することが可能な磁気ヘッドを提供することを目的と
する。

【００２１】

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の本発
明に係る磁気ヘッドによって達成される。即ち、請求項
１に係る磁気ヘッドは、単結晶フェライトからなる基体
を有する一対の磁気コア半体が磁気記録媒体との摺動面
の略中央に位置する磁気ギャップを介して接合され、磁
気ギャップのトラック幅が磁気記録媒体の摺動方向に沿
って直線状に機械加工されたトラック端加工溝により規
定される磁気ヘッドであって、摺動面が、基体をなす単
結晶フェライトの（１１０）面であり、一対の磁気コア
半体のギャップ対接面が、基体をなす単結晶フェライト
の（１００）面から所定のアジマス角だけ傾いた面であ
り、トラック端加工溝の機械加工方向が、基体をなす単
結晶フェライトの（１００）面に垂直な方向に略一致し
ていることを特徴とする。

【００２２】このように請求項１に係る磁気ヘッドにお
いては、磁気ギャップのトラック幅自体とその両端部の
形状的不確定性をなくすと共に、磁気ギャップの両端近
傍の漏洩磁界による隣接トラックへの影響を軽減するた
め、磁気記録媒体との摺動面をその摺動方向に沿って直
線状に機械加工してトラック端加工溝が形成され、この
トラック端加工溝によって磁気ギャップのトラック幅が
規定される場合、トラック端加工溝の機械加工方向が一
対の磁気コア半体の基体をなす単結晶フェライトの（１
００）面に垂直な方向、即ち＜１００＞方向に略一致し
ていることにより、トラック端加工溝を形成する際の機
械加工が単結晶フェライトの劈開面となる（１００）面
に垂直に行われ、劈開面に対する加工応力の方向余弦成
分が殆どなくなるため、従来のトラック端加工溝を形成
する際の機械加工において多発していた、残留すべきト
ラック幅部分に発生する磁気コアの欠落する割合が大幅
に改善され、磁気ヘッドの製造歩留りの大幅な改善が達
成される。

【００２３】なお、上記請求項１に係る磁気ヘッドにお
いて、トラック端加工溝の機械加工方向が基体をなす単
結晶フェライトの（１００）面に垂直な方向に略一致し
ているとあるが、このことは、望ましくはトラック端加
工溝の機械加工方向と基体をなす単結晶フェライトの
（１００）面に垂直な方向、即ち＜１００＞方向とのズ
レが５度以内であることを意味する。

【００２４】この場合、トラック端加工溝を形成する際
の機械加工方向を基体をなす単結晶フェライトの（１０
０）面に垂直な＜１００＞方向に常に完全に一致させな
くとも、そのズレが５度以内であれば、単結晶フェライ
トの劈開面となる（１００）面に対する加工応力成分が
十分に低く抑えられる結果、磁気ヘッドの製造歩留りの
大幅な改善が達成される。

【００２５】また、トラック端加工溝を形成する際の機
械加工方向について、基体をなす単結晶フェライトの
（１００）面に垂直な＜１００＞方向から５度以内の加
工誤差が許容されるため、磁気ヘッドの大量生産が容易
に可能になる。

【００２６】また、上記請求項１に係る磁気ヘッドにお
いて、一対の磁気コア半体のギャップ対接面に磁性膜が
形成されていることが好適である。即ち、従来の場合に
は、一対の磁気コア半体のフェライト系材料からなる基
体のギャップ対接面と磁性膜との間に残留する歪みが、
磁気記録媒体との摺動面の両側面にトラック端加工溝を
形成する機械加工時に解放されて、磁気コアのトラック
幅部の破壊が起こり易くなる傾向にあったが、このトラ
ック端加工溝を形成する際の機械加工が単結晶フェライ
トの劈開面となる（１００）面に垂直に行われることか
ら、磁気コアのトラック幅部の欠落する割合を大幅に改
善する作用が効果的に発揮される。

【００２７】また、上記請求項１に係る磁気ヘッドにお
いて、磁気ギャップのトラック幅が６μｍ以下であるこ
とが好適である。即ち、近年の記録信号の高密度化の進
行に伴って磁気ギャップのトラック幅が狭くなって６μ
ｍ以下となると、従来の場合には、磁気記録媒体との摺
動面の両側面のトラック端加工溝を形成する機械加工の
際の砥石のぶれや加工応力などによって、残存するトラ
ック幅部分がダメージを受けて欠落したりその強度が脆
弱化したりする傾向にあったが、このトラック端加工溝
を形成する際の機械加工が単結晶フェライトの劈開面と
なる（１００）面に垂直に行われることから、磁気コア
のトラック幅部分の欠落やその強度の脆弱化を大幅に改
善する作用が効果的に発揮される。

【００２８】また、上記請求項１に係る磁気ヘッドにお
いて、所定のアジマス角が１５度以上である場合に好適
である。即ち、従来の場合には、アジマス角が１５度以
上に大きくなると、磁気記録媒体の摺動方向に沿ったト
ラック端加工溝を形成する際の機械加工方向と基体の単
結晶フェライトの＜１００＞方向との乖離が大きく、単
結晶フェライトの劈開面をなす（１００）面への加工応
力の余弦成分により、機械加工の際に破壊が発生し易い
傾向にあったが、このトラック端加工溝を形成する際の
機械加工が単結晶フェライトの劈開面となる（１００）
面に垂直に行われることから、磁気コアのトラック幅部
分の欠落等の破壊を大幅に改善する作用が効果的に発揮
される。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の実施の形態を説明する。図１は本発明の一実施
形態に係る磁気ヘッドを示す概略斜視図であり、図２は
図１に示す磁気ヘッドの磁気テープとの摺動面を示す平
面図であり、図３〜図１３はそれぞれ図１に示す磁気ヘ
ッドの製造方法を説明するための工程斜視図であり、図
１４は図１に示す磁気ヘッドのトラック端加工溝を形成
する機械加工の際の加工応力を示す概略図である。

【００３０】図１に示されるように、本実施形態に係る
磁気ヘッドにおいては、一対の磁気コア半体１０ａ、１
０ｂが、磁気テープと摺動する摺動面１１の略中央に位
置する磁気ギャップｇを境として接合されていると共
に、融着用ガラス１２によって接着され、一体化されて
いる。

【００３１】なお、この磁気ギャップｇは、一対の磁気
コア半体１０ａ、１０ｂのギャップ対接面に挟まれた非
磁性ギャップ膜（図示せず）から構成されていると共
に、磁気ヘッドに用いられる記録フォーマットにより決
定される所定のアジマス角θを有している。即ち、磁気
ギャップｇに沿った線ａと磁気テープの摺動方向に対す
る垂線ｂとがアジマス角θをなしている。

【００３２】また、これら接合一体化されている一対の
磁気コア半体１０ａ、１０ｂは、それぞれ、磁気ギャッ
プｇに隣接する主コア部としての厚さ４μｍ程度の軟磁
性膜１３ａ、１３ｂと、これらの軟磁性膜１３ａ、１３
ｂと共に閉磁路をなす副コア部としての基体１４ａ、１
４ｂとから構成されている。

【００３３】また、これら基体１４ａ、１４ｂには、磁
気ギャップｇのギャップデプスを規制すると共にコイル
（図示せず）を巻装するために、巻線溝１５ａ、１５ｂ
がそれぞれ略矩形の両側面形状となるように形成されて
いる。なお、これらの巻線溝１５ａ、１５ｂは基体１４
ａ、１４ｂにそれぞれ形成されなくとも、いずれか一方
にだけ形成されていてもよい。

【００３４】また、図１及び図２に示されるように、摺
動幅調整用溝によって幅Ｗが例えば８０〜１３０μｍ程
度に規定されている摺動面１１においては、磁気ギャッ
プｇを挟む軟磁性膜１３ａ、１３ｂ及び基体１４ａ、１
４ｂが磁気テープの摺動方向に沿って直線状に溝加工さ
れ、所定の間隔をおいて２つの並行するトラック端加工
溝が形成されている。こうして、２つの直線状に並行す
るトラック端加工溝により、磁気ギャップｇのトラック
幅Ｔｗが例えば６μｍ以下に規定されている。そして、
これら２つの並行するトラック端加工溝内には、磁気テ
ープと当たって特性を確保すると共に磁気テープの摺動
による偏磨耗を防止するため、非磁性材料としてガラス
が充填され、表面埋設ガラス層１６が形成されている。

【００３５】このように、図１に示される磁気ヘッドに
おいては、磁気テープとの摺動面１１の両側面が磁気テ
ープの走行方向に沿って直線状に溝加工されて、６μｍ
以下の幅をもつトラック幅部分が形成されていることか
ら、磁気ギャップｇ端近傍から磁界が漏洩する場合にお
いても、上記図１９に示されるように、磁気テープの走
行方向に沿って連続的に漏洩磁界が発生する位置構成と
なるため、この漏洩磁界が既に記録してある磁気記録パ
ターン上への磁気的な影響は限定された幅、例えばサブ
ミクロンの領域に留まることになる。

【００３６】次に、図１及び図２の磁気ヘッドの各構成
要素の材料について説明する。磁気ギャップｇを構成す
る非磁性ギャップ膜の材料としては、例えばギャップ長
の約半分の膜厚となる約０．１μｍのＳｉＯ₂ 膜（シリ
コン酸化膜）が使用されている。

【００３７】また、一対の磁気コア半体１０ａ、１０ｂ
の主コア部をなす軟磁性膜１３ａ、１３ｂの材料として
は、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ、又はＦｅ−Ｇａ−
Ｓｉ−Ｒｕなどを基本とする結晶質軟磁性材や、例えば
ＦｅＴａ合金をターゲットとして窒素を含むアルゴン中
でスパックしたＦｅＴａＮ等の軟磁性材や、このＦｅＴ
ａＮのＴａの一部若しくは全てをＮｂ、Ｈｆに置換した
組成やＮの一部若しくは全部をＯ、Ｃ、Ｂなどに置換し
た組成からなる軟磁性材や、これらに類似の軟磁性材
や、アモルファス軟磁性材などが使用されている。

【００３８】また、一対の磁気コア半体１０ａ、１０ｂ
の副コア部をなす基体１４ａ、１４ｂは、例えばＭｎ−
Ｚｎ系フェライトやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の少なく
とも酸化物軟磁性材料からなり、磁気テープとの摺動面
１１近傍部は単結晶フェライトから構成されている。

【００３９】次に、摺動面１１近傍部の単結晶フェライ
トの結晶方位について説明する。磁気ギャップｇに対向
する基体１４ａ、１４ｂのギャップ対接面は、単結晶フ
ェライトの（１００）面からアジマス角θだけ傾いた面
をなしている。

【００４０】また、磁気テープが摺動する摺動面１１
は、基体１４ａ、１４ｂをなす単結晶フェライトの（１
１０）面であり、この摺動面１１における磁気テープの
摺動方向は、摺動面１１の（１１０）面内に含まれる＜
１００＞方向に略一致するよう構成されている。

【００４１】また、磁気テープの摺動方向に沿って直線
状に形成されているトラック端加工溝の垂直な両側面
は、基体１４ａ、１４ｂをなす単結晶フェライトの（１
００）面をなしており、その加工方向は、この単結晶フ
ェライトの（１００）面に垂直な＜１００＞方向に略一
致している。なお、ここで、「＜１００＞方向に略一致
する」とは、具体的には＜１００＞方向からのズレが５
度以内であることを意味する。

【００４２】次に、図１及び図２に示す磁気ヘッドの製
造方法を、図３〜図１３を用いて説明する。先ず、図３
に示されるように、例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト単結
晶からなる長さ３４．５ｍｍ程度、幅２．５ｍｍ程度、
厚み１ｍｍ程度の平板状の基体１４ａを形成する。

【００４３】このとき、後の加工により摺動面となる端
面Ｌは、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト単結晶の（１１０）面
からなるようにし、ギャップ対接面となる主面Ｍは、Ｍ
ｎ−Ｚｎ系フェライト単結晶の（１００）面からアジマ
ス角θだけ傾斜した方位に切断された結晶面となるよう
にする。即ち、この主面Ｍに立てた垂線ｃからアジマス
角θの分だけ傾斜した線ｄが、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト
単結晶の＜１００＞方向となる。

【００４４】次いで、図４に示されるように、基体１４
ａの主面Ｍの幅方向に、例えば幅３０μｍ程度、深さ１
００μｍ程度の応力緩和溝２０を一定の間隔をおいて複
数列に形成する。これら複数列の応力緩和溝２０は、後
の工程における磁性膜形成時の応力緩和を目的とすると
共に、後の工程においてコア接合強度を保つためにトラ
ック端加工溝内にガラスを充填する際のガラスの流れる
溝としても使用されるものである。

【００４５】なお、これらの応力緩和溝２０の両側面と
基体１４ａの主面Ｍとのなす角度は通常４５°〜８２°
程度とするが、例えば９０°にしてもよい。また、その
深さも、例えば２００〜３００μｍにしてもよい。ま
た、後の工程においてガラスを流さずに金属接合などで
トラック端加工溝を形成する場合には、図４に示す応力
緩和溝２０を形成しなくても構わない。

【００４６】次いで、図５に示されるように、磁気ギャ
ップｇのギャップデプスを規制すると共にコイル（図示
せず）を巻装するために、巻線溝１５ａを両側面形状が
略矩形となるように形成する。そして、基体１４ａの主
面Ｍ表面をその表面粗度が２〜１０ｎｍ程度になるよう
に研磨する。

【００４７】次いで、図６に示されるように、基体１４
ａの主面Ｍ上に、厚さ４μｍ程度の軟磁性膜１３ａを形
成する。こうして、主コア部としての軟磁性膜１３ａと
副コア部としての基体１４ａとから構成される磁気コア
半体１０ａを形成する。

【００４８】次いで、図７に示されるように、磁気コア
半体１０ａの軟磁性膜１３ａ上に、磁気ギャップｇを構
成する例えばＳｉＯ₂ 膜からなる非磁性ギャップ膜２１
を所定のギャップ長の約半分の膜厚となる約０．１μｍ
の厚さに成膜する。

【００４９】次いで、上記図３〜図７に示される工程と
同様にして、磁気コア半体１０ａと対をなす磁気コア半
体１０ｂを形成すると共に、その軟磁性膜１３ｂ上に非
磁性ギャップ膜を形成する。

【００５０】次いで、図８に示されるように、一対をな
す磁気コア半体１０ａ、１０ｂを、それぞれの軟磁性膜
１３ａ、１３ｂ上に形成した非磁性ギャップ膜（図示せ
ず）が接合すると共に、それぞれの端面Ｌ及び応力緩和
溝２０がほぼ一致するように突き合わせる。こうして、
一対の磁気コア半体１０ａ、１０ｂの軟磁性膜１３ａ、
１３ｂに挟まれた非磁性ギャップ膜からなる磁気ギャッ
プｇを形成する。

【００５１】次いで、図９に示されるように、一対の磁
気コア半体１０ａ、１０ｂの間の所定の箇所に融着用ガ
ラス１２を充填し、５００℃程度において加熱溶融させ
て、これら一対の磁気コア半体１０ａ、１０ｂを完全に
接着し、一体化する。なお、このとき、融着用ガラス１
２を用いる代わりに、金属接合などを用いたコア接着手
法で代用することも可能である。

【００５２】更に、次の工程におけるトラック端加工溝
形成に際して余分なフロントデプスがあると、加工負荷
が増えたり加工精度の低下を引き起こしたりするため、
磁気テープと摺動する摺動面のフロントデプスが４０μ
ｍ程度になるように加工を行う。

【００５３】次いで、図１０に示されるように、一対の
磁気コア半体１０ａ、１０ｂの端面Ｌに対して機械加工
を行い、磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを例えば６μ
ｍ以下に規定するためのトラック端加工溝２２を直線状
に複数列形成する。

【００５４】そして、このときのトラック端加工溝２２
を形成する機械加工方向を、基体１４ａ、１４ｂの主面
Ｍに立てた垂線ｃからアジマス角θの分だけ傾斜した線
ｄの方向、即ちＭｎ−Ｚｎ系結晶フェライトの（１０
０）面に垂直な＜１００＞方向に略一致させる。更に、
具体的にいえば、加工誤差を見込んでも、機械加工方向
の単Ｍｎ−Ｚｎ系結晶フェライトの＜１００＞方向から
のズレを５度以内に抑える。

【００５５】また、この機械加工における切り込み深さ
は、磁気ギャップｇの摩耗するデプス領域に対応するよ
う例えば４０〜７０μｍ程度になるように加工し、フロ
ントデプスが消失する零点よりも更に０〜３０μｍ程度
深くなることが望ましい。

【００５６】これは、磁気ヘッドが初期のフロントデプ
スからデプス消失まで磨耗した際、トラック端加工溝２
２の深さをフロントデプスの消失点よりも深くして、大
きなトラック幅変動が起こらないようにするためであ
る。また、トラック端加工溝２２の深さがフロントデプ
スの消失点よりも３０μｍを越える程に深くなると、磁
気ギャップｇのギャップ対接面への磁束の集中効果が低
くなり、ヘッド効率の低下が起こるからである。

【００５７】また、このトラック端加工溝２２を形成す
る機械加工の際には、砥石の端部の丸まり部を避け、十
分な砥石の両側面の垂直性を利用して、トラック端加工
溝２２側面が垂直になるようにする。このため、トラッ
ク端加工溝２２側面の垂直面は、基体１４ａ、１４ｂを
なす単結晶フェライトの（１００）面をなす。

【００５８】次いで、図１１に示されるように、一対の
磁気コア半体１０ａ、１０ｂの端面Ｌに形成したトラッ
ク端加工溝２２内に非磁性材料としてのガラスを充填
し、その表面を滑らかにして、磁気テープと当たって特
性を確保すると共に磁気テープの摺動による偏磨耗を防
止するための表面埋設ガラス層１６を形成する。

【００５９】次いで、図１２に示されるように、一対の
磁気コア半体１０ａ、１０ｂの端面Ｌに対して機械加工
を行い、摺動幅規定溝２３を直線状に複数列形成する。
そして、この摺動幅規定溝２３に挟まれた、トラック端
加工溝２２によってトラック幅Ｔｗが規定された磁気ギ
ャップｇ、この磁気ギャップｇに隣接する軟磁性膜１３
ａ、１３ｂ、基体１４ａ、１４ｂ、及びトラック端加工
溝２２内を充填する表面埋設ガラス層１６を含んでいる
摺動面１１を形成すると共に、その摺接幅を例えば８０
〜１３０μｍ程度に規定する。

【００６０】ここで、摺動幅規定溝２３によって摺動面
１１の摺接幅を８０〜１３０μｍ程度に規定するのは、
この摺接幅が１３０μｍを越えて余りに広くなると、磁
気テープと接触する際の面圧が低くなり、磁気テープと
摺動面１１との間に発生するエアフィルムの厚みが増
し、スペーシングロスにより磁気ヘッドの記録再生能力
が劣化するからである。

【００６１】また、摺接幅が８０μｍよりも狭くなる
と、磁気テープの面圧の上昇により磁気ヘッドの摩耗が
加速され、磁気記録装置として保守を必要とする期間が
短くなるからである。なお、摺動幅規定溝２３を形成す
る方向は、アジマス角θを考慮して、その機械加工方向
が磁気テープの摺接方向に沿った方向となるようにす
る。

【００６２】次いで、図１３に示されるように、アジマ
ス角θを考慮して、摺動幅規定溝２３内において、アジ
マス角θを考慮した方向に機械加工を行って切断溝２４
を形成し、各磁気ヘッドを切り離す。このようにして、
上記図１及び図２に示す磁気ヘッドを作製する。

【００６３】以上のように本実施形態によれば、図１及
び図２に示されるように、磁気テープと摺動する磁気ヘ
ッドの摺動面１１において磁気ギャップｇのトラック幅
Ｔｗを規定するトラック端加工溝が磁気テープの摺動方
向に沿って直線状に形成されており、その機械加工方向
は一対の磁気コア半体１０ａ、１０ｂの基体１４ａ、１
４ｂをなすＭｎ−Ｚｎ系フェライト単結晶の（１００）
面に垂直な＜１００＞方向に略一致し、そのズレが５度
以内に抑えられている点に特徴がある。

【００６４】即ち、図３に示されるように、基体１４
ａ、１４ｂとして平板状のＭｎ−Ｚｎ系フェライト単結
晶を用い、後の加工により摺動面となる端面ＬがＭｎ−
Ｚｎ系フェライト単結晶の（１１０）面からなるように
し、ギャップ対接面となる主面ＭがＭｎ−Ｚｎ系フェラ
イト単結晶の（１００）面からアジマス角θだけ傾斜し
た方位に切断された結晶面となるようにした後、図１０
に示されるように、このＭｎ−Ｚｎ系フェライト単結晶
の（１１０）面からなる端面Ｌに対して機械加工を行っ
て磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規定するトラック
端加工溝２２を直線状に形成する際に、その機械加工方
向を基体１４ａ、１４ｂをなすＭｎ−Ｚｎ系フェライト
単結晶の（１００）面に垂直な＜１００＞方向に略一致
させ、そのズレを５度以内に抑えている点に特徴があ
る。

【００６５】このことにより、図１４に示されるよう
に、磁気ギャップｇを挟む軟磁性膜１３ａ、１３ｂ及び
基体１４ａ、１４ｂを磁気テープの摺動方向に沿って直
線状に溝加工してトラック端加工溝２２を形成する際、
その機械加工が、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト単結晶の劈開
面となる（１００）面に垂直に行われる。このため、上
記図２０に示されるように、加工応力Ｆ₁ の方向余弦成
分Ｆ₂ が単結晶フェライトの劈開面に発生する従来の場
合と異なり、図１４中に太字の矢印で表す加工応力Ｆの
劈開面に対する方向余弦成分が殆どなくなる。

【００６６】従って、磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗ
が微細になり、このトラック端加工溝２２に挟まれた微
細なトラック幅Ｔｗの残留部分の強度が低下する場合で
あっても、従来のトラック端加工溝２２を形成する際の
機械加工において多発していた、残留すべきトラック幅
部分に発生する磁気コアの欠落する割合を大幅に改善す
ることができた。

【００６７】具体的には、アジマス角θが１５度以上
で、トラック幅Ｔｗが６μｍ以下の場合における磁気ヘ
ッドの製造歩留りは、従来の６０％を下回る状態から大
幅に改善されて、８０％程度を確保することが可能にな
った。従って、高記録密度に対応した磁気記録に好適な
磁気ヘッドの製造歩留まりを向上させることが可能にな
った。

【００６８】また、トラック端加工溝２２を形成する際
の機械加工方向を基体１４ａ、１４ｂをなすＭｎ−Ｚｎ
系フェライト単結晶の（１００）面に垂直な＜１００＞
方向に常に完全に一致させることは、試作段階ではとも
かく、大量生産の場合は実際上不可能であるが、そのズ
レを５度以内に抑えることは比較的容易である。

【００６９】そして、その場合であっても、Ｍｎ−Ｚｎ
系フェライト単結晶の劈開面となる（１００）面に対す
る加工応力成分が十分に低く抑えられる結果、磁気ヘッ
ドの製造歩留りの大幅な改善が達成され、殆ど問題がな
いことが判明した。従って、高記録密度に対応した磁気
記録に好適な磁気ヘッドを大量生産する際の製造歩留ま
りを向上させることが可能になった。

【００７０】

【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明に係
る磁気ヘッドによれば、次のような効果を奏することが
できる。即ち、請求項１に係る磁気ヘッドによれば、ト
ラック端加工溝の機械加工方向が、一対の磁気コア半体
の基体をなす単結晶フェライトの（１００）面に垂直な
方向、即ち＜１００＞方向に略一致していることによ
り、トラック端加工溝を形成する際の機械加工が、単結
晶フェライトの劈開面となる（１００）面に垂直に行わ
れ、劈開面に対する加工応力の方向余弦成分が殆どなく
なるため、一対の磁気コア半体のギャップ対接面に磁性
膜が形成されている場合であっても、近年の記録信号の
高密度化の進行に伴って磁気ギャップのトラック幅が６
μｍ以下に狭くなる場合であっても、アジマス角が１５
度以上に大きくなる場合であっても、従来のトラック端
加工溝を形成する際の機械加工において多発していた、
残留すべきトラック幅部分に発生する磁気コアの欠落す
る割合を大幅に改善し、高記録密度に対応した磁気記録
に好適な磁気ヘッドを大量生産する際の製造歩留まりを
向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る磁気ヘッドを示す概
略斜視図である。

【図２】図１に示す磁気ヘッドの磁気テープとの摺動面
を示す平面図である。

【図３】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その１）である。

【図４】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その２）である。

【図５】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その３）である。

【図６】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その４）である。

【図７】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その５）である。

【図８】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その６）である。

【図９】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの工程斜視図（その７）である。

【図１０】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための工程斜視図（その８）である。

【図１１】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための工程斜視図（その９）である。

【図１２】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための工程斜視図（その１０）である。

【図１３】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための工程斜視図（その１１）である。

【図１４】図１に示す磁気ヘッドのトラック端加工溝を
形成する機械加工の際の加工応力を示す概略図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドを示す概略斜視図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドを用いたヘリカルスキャン
方式のＶＴＲのヘッド走査機構を説明するための概略図
である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの磁気ギャップ端近傍から
漏洩磁界が発生する様子を示す概略図である。

【図１８】従来の磁気ヘッドの磁気ギャップ端近傍から
漏洩磁界が発生する様子を示す概略図である。

【図１９】磁気ヘッドの磁気ギャップ端近傍から漏洩磁
界が発生する様子を示す概略図である。

【図２０】従来の磁気ヘッドのトラック端加工溝を形成
する機械加工の際の加工応力を示す概略図である。

【符号の説明】

１０ａ、１０ｂ……磁気コア半体、１１……磁気テープ
と摺動する摺動面、１２……融着用ガラス、１３ａ、１
３ｂ……軟磁性膜、１４ａ、１４ｂ……基体、１５ａ、
１５ｂ……巻線溝、１６……表面埋設ガラス層、２０…
…応力緩和溝、２１……非磁性ギャップ膜、２２……ト
ラック端加工溝、２３……摺動幅規定溝、２４……切断
溝、３０ａ、３０ｂ……磁気コア半体、３１……磁気テ
ープと摺動する摺動面、３２……融着用ガラス、３３
ａ、３３ｂ……軟磁性膜、３４ａ、３４ｂ……基体、３
５ａ、３５ｂ……巻線溝、３６……表面埋設ガラス層、
３７……ドラム、３８……磁気テープ、ｇ……磁気ギャ
ップ、θ……アジマス角、Ｌ……基体の端面、Ｍ……基
体の主面、Ｆ……加工応力、ａ……磁気ギャップに沿っ
た線、ｂ……磁気テープの摺動方向に対する垂線、ｃ…
…基体の主面に立てた垂線、ｄ……基体の主面に立てた
垂線からアジマス角θの分だけ傾斜した線、Ａ、Ｂ……
磁気ヘッド、Ｆ₁ ……加工応力、Ｆ₂ ……加工応力の劈
開面への方向余弦成分

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 単結晶フェライトからなる基体を有する
   一対の磁気コア半体が磁気記録媒体との摺動面の略中央
   に位置する磁気ギャップを介して接合され、前記磁気ギ
   ャップのトラック幅が磁気記録媒体の摺動方向に沿って
   直線状に機械加工されたトラック端加工溝によって規定
   される磁気ヘッドであって、 前記摺動面が、前記基体をなす単結晶フェライトの（１
   １０）面であり、 前記一対の磁気コア半体のギャップ対接面が、前記基体
   をなす単結晶フェライトの（１００）面から所定のアジ
   マス角だけ傾いた面であり、 前記トラック端加工溝の機械加工方向が、前記基体をな
   す単結晶フェライトの（１００）面に垂直な方向に略一
   致していることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、 前記トラック端加工溝の機械加工方向と前記基体をなす
   単結晶フェライトの（１００）面に垂直な方向とのズレ
   が、５度以内であることを特徴とする磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、 前記一対の磁気コア半体のギャップ対接面に、前記磁気
   ギャップを挟む磁性膜が形成されていることを特徴とす
   る磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、 前記磁気ギャップのトラック幅が、６μｍ以下であるこ
   とを特徴とする磁気ヘッド。
5. 【請求項５】 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、 前記磁気ギャップの所定のアジマス角が、１５度以上で
   あることを特徴とする磁気ヘッド。