JPH09180118A

JPH09180118A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH09180118A
Application number: JP33364895A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Kashiwa; 和郎柏
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-12-21
Filing date: 1995-12-21
Publication date: 1997-07-11

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気ヘッドのトラックの位置精度を向上する
と共に、磁気ヘッドの製造における生産性を向上させ
る。【解決手段】一方の主面に金属磁性層が形成された非
磁性基板を、複数枚重ね合わせて接合しコア基板ブロッ
クを形成する工程と、コア基板ブロックに、後に磁気ギ
ャップのデプス量を測定するための窓となる溝を形成す
る工程と、コア基板ブロックを切断してコア体ブロック
を形成する工程と、コア体ブロックにコイルを巻回する
巻線溝を形成する工程と、コア基板ブロックから切断さ
れた１枚のコア体ブロックを分割して対の磁気コア半体
ブロックを形成する工程と、この対の磁気コア半体ブロ
ックを、コア体ブロックの相反する面同士を突き合わせ
て磁気ギャップを形成する工程を有して磁気ヘッドを製
造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダ（ＶＴＲ）、デジタルデータレコーダ等の磁
気記録再生装置に用いて有用な磁気ヘッドに係わる。

【０００２】

【従来の技術】例えばＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）
などの磁気記録再生装置においては、高画質化などを目
的として情報信号の短波長記録化が進められており、こ
れに対応して磁性粉に強磁性粉末を用いたいわゆるメタ
ルテープや、ベースフィルム上に強磁性金属材料を直接
被着した蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用さ
れるようになってきている。

【０００３】一方、これに対処するために磁気ヘッドの
分野においても研究が進められ、高抗磁力磁気記録媒体
を実現するために、コア材料に金属磁性材料を用いると
ともに、狭トラック化および狭ギャップ化を図った磁気
ヘッドが開発されている。

【０００４】このような磁気ヘッドとしては、非磁性材
料からなる基板に、高透磁率かつ高飽和磁束密度を有す
る金属磁性層を挟み込んだ構造の、いわゆるラミネート
タイプの磁気ヘッドが知られている。

【０００５】図２０Ａおよび図２０Ｂは、このラミネー
トタイプの磁気ヘッドの例を示す。図２０Ａは磁気ヘッ
ドの斜視図、図２０Ｂは磁気ヘッドの磁気記録媒体と対
接ないしは対向させる面（以下摺動面という）の拡大平
面図である。

【０００６】この磁気ヘッド８０は、閉磁路を構成する
一対の磁気コア半体５１および５２を突き合わせて接合
一体化し、磁気記録媒体との摺動面５３に臨んでコア半
体５１および５２の前方の突き合わせ面間に磁気ギャッ
プｇを形成して構成している。

【０００７】磁気コア半体５１および５２は、金属磁性
層５４および５５が非磁性ガード材５７と５８、５９と
６０によってそれぞれ挟み込まれてなる。

【０００８】そして、磁気コア半体５１および５２同士
の突き合わせ端面においては、図２０Ａに示すように、
その金属磁性層５４および５５の端部が突き合わされる
ことによりその突き合わせ端面間に磁気ギャップｇが構
成されている。従って、この磁気ギャップｇのトラック
幅は、金属磁性層５４および５５の膜厚によって設定さ
れる。

【０００９】また、磁気コア半体５１および５２の突き
合わせ面には、磁気ギャップｇのデプスＤｐを規制する
とともにコイルを巻装するための巻線溝５６が形成さ
れ、巻線溝５６の摺動面５３側には補強ガラス７１が充
填されている。

【００１０】一方、磁気コア半体５１，５２の外側面
に、上述の巻線溝５６に巻装されるコイルの巻装状態を
確保するための例えば断面略コ字状の巻線ガイド溝６１
が設けられている。

【００１１】この磁気ヘッド８０においては、金属磁性
層５４および５５の膜厚が磁気ギャップｇのトラック幅
となるものであるため、金属磁性層の膜厚を制御するこ
とで簡単に狭トラック化が図れること、また構造的に疑
似ギャップが発生しないことの利点があり、さらに例え
ば図２０Ｃに示すように、この金属磁性層５４および５
５を複数の金属磁性薄膜をＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ
₃Ｎ₄等の酸化物や窒化物のような電気絶縁膜５４′お
よび５５′と交互に積層した積層膜構造とすることで渦
電流損失を回避でき高周波帯域での高出力化が望めるこ
と等、様々な利点を有するものである。

【００１２】この磁気ヘッド８０の製造は、例えば次の
ようにして行う。

【００１３】図２１に示すような両主面が鏡面加工され
た、非磁性ガード材からなる短冊状の非磁性基板６２を
用意する。

【００１４】次に、図２２に斜視図を示すように、この
非磁性基板６２の一方の主面上にスパッタ法などの真空
薄膜形成法により、金属磁性層６４を積層形成した、コ
ア基板６５を構成する。

【００１５】次に、図２３に示すように、複数のコア基
板６５を重ね合わせて、これらを加圧固定し熱処理を施
し接合一体化してコア体ブロック６６を構成する。

【００１６】次に、このコア体ブロック６６を、図２３
中のＡ−Ａ′，Ｂ−Ｂ′，Ｃ−Ｃ′で示す面に沿って切
断し、図２４に示すように互いに略対称な一対の磁気コ
ア半体ブロック６７および６８を作製する。

【００１７】次に、この磁気コア半体ブロック６７およ
び６８に対し、図２５に示すようにその長手方向に沿っ
て伸びる巻線溝５６を略コ字状の断面形状となるように
形成する。

【００１８】この後、磁気コア半体ブロック６７，６８
の巻線溝５６が形成された側の面を鏡面加工する。この
鏡面加工をした研磨面に、ギャップ材兼接合層として融
着ガラス膜、あるいは金，白金，パラジウム等の貴金属
膜をスパッタ法等の真空薄膜形成法により被着形成す
る。

【００１９】そして、図２６に示すように、磁気コア半
体ブロック６７および６８を、それぞれの金属磁性層６
４同士が相対向するように突き合わせ、ガラス融着法あ
るいは低温金属接合法により接合一体化させる。

【００２０】尚、このときの熱処理工程において、図２
７に示すように、巻線溝５６内にガラス棒を挿入配置
し、このガラス棒を溶融させて、巻線溝５６内の上部に
充填させ補強ガラス７１とする。この結果、各磁気コア
半体ブロック６７および６８にそれぞれ形成された金属
磁性層６４の突き合わせ端面間に、記録再生ギャップと
して動作する磁気ギャップｇが形成された磁気コアブロ
ック６９が形成される。

【００２１】そして、図示しないが一方の磁気コア半体
ブロック６７の端部の磁気コア半体の一部を除去する工
程を経た後に、図２８に示すように、磁気コアブロック
６９の外面にそれぞれ所要曲率をもった磁気記録媒体と
の摺動面５３を円筒研磨等により形成する。このとき、
磁気コア半体ブロック６７の一部を除去した箇所から磁
気ギャップのデプスＤｐを測定し円筒研磨の調整を行
う。

【００２２】さらに、磁気コアブロック６９の外面の巻
線を回装する部分に巻線ガイド溝６１を形成する。

【００２３】次に、図２９に示すように、摺動面５３に
磁気記録媒体への当たり幅規制溝７０を形成する。

【００２４】その後、図３０に示すように、点線で示す
Ｄ−Ｄ′，Ｅ−Ｅ′，Ｆ−Ｆ′，Ｇ−Ｇ′，Ｈ−Ｈ′の
各線に沿う面において磁気コアブロック６９を切断し
て、図２０Ａおよび図２０Ｂに示すような非磁性ガード
材５７，５８，５９，６０で金属磁性層５４，５５を挟
み込んだ磁気コア半体５１および５２が突き合わされ、
突き合わせ端面間に磁気ギャップｇが形成された構造の
磁気ヘッド８０が形成される。

【００２５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、短冊状の非
磁性基板６２上に被着された金属磁性層６４の膜厚は、
真空薄膜形成機に依存する膜厚分布や金属磁性層６４の
材料の投入量によりばらつきが出る。

【００２６】さらに金属磁性層６４の応力により非磁性
基板６２に反りが生じる。例えばコバルトを主成分とす
るアモルファス材料により金属磁性層６４を３０μｍの
厚さに形成した場合には、非磁性基板６２に２０μｍ程
度の反りが生じる。

【００２７】このように金属磁性層６４の厚さにばらつ
きが出ている非磁性基板６２を多数枚接合して、これを
切断して磁気コア半体ブロックを形成した場合には、図
２６に示した対の磁気コア半体ブロック６７，６８を、
それぞれの金属磁性層６４を相対向させて、突き合わせ
て接合一体化する工程において、金属磁性層６４により
構成されるトラックの位置がずれて形成されることがあ
り、不良品の発生率が多くなってしまう。

【００２８】従って、ずれをなるべく少なくするため
に、従来ではコア体ブロック６６内で互いに隣接した状
態にあった２つの磁気コア半体ブロック、すなわち図２
３中Ａ−Ａ′とＢ−Ｂ′とにより切断した磁気コア半体
ブロックとＢ−Ｂ′とＣ−Ｃ′とにより切断した磁気コ
ア半体ブロックとを一対として限定して使用している。
このようにすれば、コア体ブロック６６内で互いに隣接
していなかった２つの磁気コア半体ブロックを用いた場
合に比して不良品の発生が少なくなる。

【００２９】この結果、コア体ブロック６６から磁気コ
ア半体ブロック６７および６８を切り出す毎に、接合す
る一対（２個）の磁気コア半体ブロックに組み合わせ
て、これを他の対の磁気コア半体ブロックと取り違えな
いように仕分けする必要が生じる。また、例えば図２５
に示した摺動面を形成する円筒研磨の工程において、磁
気ギャップのデプスＤｐの量を計測するために、円筒研
磨の工程に先立ち、磁気コア半体ブロック６７に計測用
の窓を開ける工程を必要する。

【００３０】このように作業工数が増加することから、
１個当たり２０〜２５分の加工時間を必要とする。この
ために、大量生産に対応できなくなっている。

【００３１】また上述の製法では、短冊状の非磁性基板
６２が小さいため、生産性が低くなっている。

【００３２】上述した問題の解決のために、本発明製法
においては、磁気ヘッドのトラックの位置精度を向上す
ると共に、磁気ヘッドの製造における生産性を向上させ
るものである。

【００３３】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの製
造方法は、一方の主面に金属磁性層が形成された非磁性
基板を、複数枚重ね合わせて接合しコア基板ブロックを
形成する工程と、コア基板ブロックに、後に磁気ギャッ
プのデプス量を測定するための窓となる溝を形成する工
程と、コア基板ブロックを切断してコア体ブロックを形
成する工程と、コア体ブロックにコイルを巻回する巻線
溝を形成する工程と、コア基板ブロックから切断された
１枚のコア体ブロックを分割して対の磁気コア半体ブロ
ックを形成する工程と、この対の磁気コア半体ブロック
を、コア体ブロックの相反する面同士を突き合わせて磁
気ギャップを形成する工程を有して磁気ヘッドを製造す
るものである。

【００３４】上述の本発明製法によれば、コア基板ブロ
ックを切断してコア体ブロックを形成する工程に先立っ
て、磁気ギャップのデプス量を測定する窓となる溝を形
成する工程を採り、またコア体ブロックを分割して対の
磁気コア半体ブロックを形成する工程に先立って巻線溝
を形成する工程とを採ることにより、これらの溝を形成
する工程を製造工程中に一貫して組み込むことができ、
多数の磁気ヘッドを一貫して製造することができる。

【００３５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る磁気ヘッドの製造方法の実施例を説明する。

【００３６】図１〜図１４は、本発明の磁気ヘッドの製
造方法の一例を示すもので、両磁気コア半体にそれぞれ
巻線溝を有するラミネートタイプの磁気ヘッドに適用し
たものである。

【００３７】まず、図１３および図１４を用いて本実施
例で得られる磁気ヘッドについて説明する。

【００３８】この磁気ヘッド３０は、閉磁路を構成する
一対の磁気コア半体１および２を突き合わして接合一体
化し、磁気記録媒体との摺動面３に臨む磁気ギャップｇ
を形成して構成される。

【００３９】磁気コア半体１および２は、例えばチタン
酸カリウムやチタン酸カルシウム（ＮｉＯを添加する場
合もある）からなる非磁性ガード材７，８および９，１
０と、金属磁性層４および５とを有し、この金属磁性層
４および５は非磁性基板としての非磁性ガード材７，８
および９，１０によって挟み込まれている。

【００４０】この金属磁性層４，５は、例えば次のよう
な材料により構成する。（１）Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ等、およびそれらに
８原子％以下のＣｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，
Ｒｕ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｎ，Ｃ，Ｏ等を１種または数種添加
した結晶質材料。（２）Ｃｏに主としてＺｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，
Ｎｂ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕ等を１種または数種添加して構
成したアモルファス材料。（３）Ｃｏ，Ｆｅに主としてＮｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｃ
ｕ，Ｓｎ，Ｒｕ，Ｂ等の１種または数種と、Ｎ，Ｃ，Ｏ
の１種または数種を添加して構成した微結晶材料。

【００４１】この金属磁性層４，５は、図１４に示すよ
うに、高周波帯域での渦電流発生を回避させるために、
金属磁性層４，５とＳｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｓｉ₃Ｎ₄
等の酸化物や窒化物などの電気的絶縁膜４′，５′とを
交互に積層させた積層膜からなる。

【００４２】尚、本発明製法に適用する磁気ヘッドの金
属磁性層４，５は、図２０Ｂに示した従来の例と同様
に、金属磁性層４，５を単層とした構成も採ることがで
きる。

【００４３】また、磁気コア半体１および２の突き合わ
せ端面には、磁気ギャップｇのデプスＤｐを規制すると
ともにコイルを巻装するための巻線溝６が断面略コ字状
をなす溝としてコアの厚み方向に貫通して形成されてい
る。そして、巻線溝６上部には補強ガラス１１が充填さ
れている。

【００４４】一方、少なくとも一方の磁気コア半体、本
例では両磁気コア半体１，２の外側面に、上述の巻線溝
６に巻装されるコイルの巻装状態を確保するための例え
ば断面略コ字状の巻線ガイド溝１２が設けられている。

【００４５】そして、磁気コア半体１および２の突き合
わせ端面においては、金属磁性層４および５の端部同士
が突き合わされることにより前述の磁気ギャップｇが構
成されている。磁気ギャップｇのトラック幅は、非磁性
ガード材７，８，９，１０が非磁性体であることから、
金属磁性層４および５の膜厚によって設定される。

【００４６】次に、この磁気ヘッド３０の製造方法を説
明する。

【００４７】まず図１に示すように、主面が鏡面加工さ
れた、短冊状の非磁性基板１３を用意する。この短冊状
の非磁性基板１３は、図２１に示した従来の製法におけ
る非磁性基板６２と比較して、長手方向に垂直な方向の
幅をほぼ２倍として形成する。

【００４８】次に、図２Ａに斜視図を示し、図２Ｂに更
に一部を拡大した断面図を示すように、この非磁性基板
１３の一方の主面上にスパッタ法などの真空薄膜形成法
により、それぞれ絶縁膜１４′を介して複数の金属磁性
層１４を順次積層形成した、短冊状のコア基板１５を構
成する。

【００４９】次に、図示しないが短冊状のコア基板１５
の両主面に融着ガラスあるいは金、銀、パラジウム等の
貴金属薄膜からなる接合層をスパッタ法などにより形成
する。

【００５０】その後、図３に示すように、複数枚の短冊
状コア基板１５を重ね合わせて、これらを加圧固定し熱
処理を施し接合一体化してコア基板ブロック１６を構成
する。

【００５１】次に、図４に示すように、このコア基板ブ
ロック１６に、後に磁気ギャップのデプスＤｐの量を測
定するデプス管理用窓２８を形成する。この図４におい
ては、デプス管理用窓２８をコア基板１５の１枚分にお
いて形成したが、コア基板１５の１枚分を超えて形成し
てもよい。

【００５２】その後、このコア基板ブロック１６を、図
４中のＩ−Ｉ′，Ｊ−Ｊ′で示す面に沿って切断し、図
５に示すようなコア体ブロック２０を得る。

【００５３】次に、図６Ａに示すように、このコア体ブ
ロック２０の側面２０ａの上半分の上部に長手方向に貫
通して巻線溝２９を形成し、この側面２０ａに鏡面加工
を施す。さらに、図６Ｂに示すように、コア体ブロック
２０の巻線溝２９が形成された側面２０ａと反対側の側
面２０ｂの下半分の上部に、長手方向に貫通して巻線溝
３０を形成し、この側面２０ｂに鏡面加工を施す。

【００５４】そして、側面２０ａ，２０ｂへの鏡面加工
をした１枚のコア体ブロック２０を、図６Ｂの図中Ｋ−
Ｋ′で示す面、すなわち上下２分割する位置で切断する
ことにより、図７に示すように、互いに略対称な一対の
磁気コア半体ブロック１７および１８を作製する。

【００５５】次に、磁気コア半体ブロック１７，１８の
鏡面加工をした側面に、ギャップ材兼接合層として融着
ガラス膜、あるいは金，白金，パラジウム等の貴金属膜
をスパッタ法等の真空薄膜形成法により被着形成する。

【００５６】そして、図８に示すように、磁気コア半体
ブロック１７および１８を、それぞれの金属磁性層１４
同士が相対向するように突き合わせ、ガラス融着法ある
いは低温金属接合法により接合一体化させる。このと
き、磁気コア半体ブロック１７および１８は、上述のコ
ア体ブロック２０の状態において、相反する面同士が対
接するようにして接合させる。

【００５７】尚、このときの熱処理工程において、図９
に示すように巻線溝２９内にガラス棒を挿入配置し、こ
のガラス棒を溶融させて、巻線溝２９内の上部に充填さ
せ補強ガラス１１とする。

【００５８】この結果、各磁気コア半体ブロック１７お
よび１８にそれぞれ形成された金属磁性層１４の突き合
わせ端面間に、記録再生ギャップとして動作する磁気ギ
ャップｇが形成された磁気コアブロック２２が形成され
る。

【００５９】そして、図１０に示すように、磁気コアブ
ロック２２の外面にそれぞれ所要曲率をもった磁気記録
媒体との摺動面３を円筒研磨等により形成する。このと
き先に形成したデプス管理用窓２８から磁気ギャップの
デプスＤｐを測定しながら研磨を行い、所定のデプス量
が得られるようにする。また、磁気コアブロック２２の
外面の巻線を回装する部分に巻線ガイド溝１２を形成す
る。

【００６０】さらに、図１１に示すように、摺動面２３
の磁気記録媒体との当たり幅を規制する当たり幅規制溝
２５を形成する。

【００６１】その後、図１２に示すように点線で示すＤ
−Ｄ′，Ｅ−Ｅ′，Ｆ−Ｆ′，Ｇ−Ｇ′，Ｈ−Ｈ′の各
線に沿う面において磁気コアブロック２２を切断して、
図１３および図１４に示すような非磁性ガード材７，８
および９，１０で金属磁性層４および５を挟み込んだ磁
気コア半体１および２が突き合わされ、突き合わせ端面
間に磁気ギャップｇが形成された構造の磁気ヘッド３０
が形成される。

【００６２】上述のようにラミネートタイプの磁気ヘッ
ド３０を製造することにより、突き合わせられた対の磁
気コア半体が、１枚のコア体ブロック２０を上下２分割
して形成されるので、金属磁性層の膜厚や非磁性ガード
材からなる基板の厚さや基板の反り等の影響をなくすこ
とができ、トラックの位置合わせにおける不良品の発生
を防止することができる。

【００６３】また、上述の本発明製法により大量生産に
適した一貫した製造工程を提供できる。これにより、１
個当たりの加工時間を６〜７分程度まで短縮することが
でき、生産性を従来製法の３〜４倍に向上させることが
できる。

【００６４】さらにコア基板等を大型化することもでき
る。その場合の製造工程の例を次に示す。図１５に示す
ように、非磁性基板１３の一方の主面上にスパッタ法な
どの真空薄膜形成法により金属磁性層１４が形成された
平板状コア基板３１を用意する。

【００６５】その後、図１６に示すように、複数枚の平
板状コア基板３１を重ね合わせて、これらを加圧固定し
熱処理を施し接合一体化してコア基板ブロック３２を構
成し、このコア基板ブロック３２に、後に磁気ギャップ
のデプスＤｐの量を測定するデプス管理用窓２８を形成
する。

【００６６】図１６に示すこのコア基板ブロック３２
は、図３に示したコア基板ブロック１６の３個分の大き
さに形成した例である。

【００６７】その後、このコア基板ブロック３２を、図
１６中のＬ−Ｌ′，Ｍ−Ｍ′で示す面に沿って切断し、
図１７に示す形状のコア体ブロック３３を得る。

【００６８】次に、図示しないが、図６Ａおよび図６Ｂ
に示したと同様にように、このコア体ブロック３３の側
面３３ａ，３３ｂにそれぞれ長手方向に貫通して巻線溝
２９，３０を形成し、これら側面３３ａ，３３ｂに鏡面
加工を施す。

【００６９】そして、このコア基板ブロック３３を切断
することにより、図７に示したものと同様の互いに略対
称でトラックの位置のずれのない対の磁気コア半体ブロ
ック１７，１８を三対作製することができる。

【００７０】以後は、図８〜図１２に示したと同様にし
て、図１３および図１４に示した磁気ヘッド３０を製造
することができる。

【００７１】従って本発明製法により、上述のように最
初のコア基板３１を大きく形成すればさらに生産性を向
上させることができる。

【００７２】図１８および図１９は、本発明の磁気ヘッ
ドの製造方法の他の実施例を示す。この磁気ヘッド４０
は、図１３で示した磁気ヘッド３０と比較して、巻線溝
６が一方の磁気コア半体２の側のみに形成されたもので
ある。その他の構成は前述の磁気ヘッドと同じであるの
で同一の符号を付して重複説明を省略する。

【００７３】本実施例においては、前述の図１〜図５に
示した工程を経た後に、図１８Ａに示すように、コア体
ブロック２０の一方の側面２０ａに巻線溝２９を形成し
た後、この一方の側面２０ａの上半分の上部のみに巻線
溝２９を形成した状態で、図中Ｎ−Ｎ′で示す面、すな
わち上下２分割する位置で、コア体ブロック２０を切断
する。

【００７４】そして、図１８Ｂに示すように、コア体ブ
ロック２０を切断して対の磁気コア半体ブロック、すな
わちデプス管理窓２８が形成された磁気コア半体ブロッ
ク３７と巻線溝２９が形成された磁気コア半体ブロック
３８とが得られる。

【００７５】次に、これら磁気コア半体ブロック３７，
３８を、図７で示した前述の例の磁気ヘッドの場合と同
様に、接合一体化して磁気コアブロックを得る。この場
合も、磁気コア半体ブロック３７，３８は、コア体ブロ
ック２０の状態において相反する面同士が対接するよう
にして接合される。

【００７６】この後は、先に図８〜図１２に示した製造
工程と同様の製造工程を採って、図１８に示す磁気ヘッ
ド４０を製造することができる。

【００７７】この場合も、前述の場合と同様に、高精度
の磁気ヘッドを生産性よく製造することができる本発明
製法の効果を得ることができる。

【００７８】本発明の磁気ヘッドは、上述の例に限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でそ
の他様々な構成が取り得る。

【００７９】

【発明の効果】上述の本発明製法により、金属磁性層の
膜厚のばらつきやコア基板の反りや寸法精度の影響をな
くして、対の磁気コア半体を接合一体化する際のトラッ
クの位置合わせの精度を向上させることができる。

【００８０】また、本発明製法によれば、各製造工程を
一貫して行うことができるため、従来製法に比して工程
数の削減をすることができる。

【００８１】さらにコア基板やコア体ブロックを大型基
板化することもできるので、生産性を大幅に向上させる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図２】Ａ本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造
工程を示す斜視図である。Ｂ図２Ａの一部の拡大正面図である。

【図３】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図４】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図５】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図６】Ａ、Ｂ本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一
製造工程を示す斜視図である。

【図７】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図８】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図９】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す斜視図である。

【図１０】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工
程を示す斜視図である。

【図１１】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工
程を示す斜視図である。

【図１２】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工
程を示す斜視図である。

【図１３】本発明製法を適用するラミネートタイプの磁
気ヘッドの一例の斜視図である。

【図１４】図１３の磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動
面の正面図である。

【図１５】本発明の磁気ヘッドの製法の他の例の一製造
工程を示す斜視図である。

【図１６】本発明の磁気ヘッドの製法の他の例の一製造
工程を示す斜視図である。

【図１７】本発明の磁気ヘッドの製法の他の例の一製造
工程を示す斜視図である。

【図１８】Ａ、Ｂ本発明の磁気ヘッドの製法のさらに
他の例の一製造工程を示す斜視図である。

【図１９】本発明製法を適用するラミネートタイプの磁
気ヘッドの他の一例の斜視図である。

【図２０】従来の磁気ヘッドの例である。Ａ磁気ヘッドの斜視図である。Ｂ、Ｃ磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面の拡大正
面図である。

【図２１】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２２】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２３】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２４】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２５】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２６】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２７】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２８】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図２９】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【図３０】従来の磁気ヘッドの一製造工程を示す斜視図
である。

【符号の説明】

１、２、５１、５２磁気コア半体３、５３摺動面４、５、１４、５４、５５、６４金属磁性層４′、５′、１４′、５４′、５５′ 電気絶縁膜６、２９、３０、５６巻線溝７、８、９、１０、５７、５８、５９、６０非磁性ガ
ード材１１、７１補強ガラス１２、６１巻線ガイド溝１３、６２非磁性基板１５、６５コア基板１６、３２コア基板ブロック１７、１８、３７、３８、６７、６８磁気コア半体ブ
ロック２０、３３、６６コア体ブロック２２、６９磁気コアブロック２５、７０当たり幅規制溝２８デプス管理用窓３０、４０、８０磁気ヘッド３１平板状コア基板ｇ磁気ギャップＤｐデプス

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一方の主面に金属磁性層が形成された非
磁性基板を、複数枚重ね合わせて接合し、コア基板ブロ
ックを形成する工程と、上記コア基板ブロックに、後に磁気ギャップのデプス量
を測定するための窓となる溝を形成する工程と、上記コア基板ブロックを切断してコア体ブロックを形成
する工程と、上記コア体ブロックにコイルを巻回する巻線溝を形成す
る工程と、上記コア基板ブロックから切断された１枚の上記コア体
ブロックを分割して対の磁気コア半体ブロックを形成す
る工程と、上記対の磁気コア半体ブロックを、上記コア体ブロック
の相反する面同士を突き合わせて磁気ギャップを形成す
る工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。