JPH10124811A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易に曲率研磨を行う際のマーカー部を形成
することができる磁気ヘッドの製造方法を提供する。 【解決手段】 非磁性基板１１の表面に金属磁性層１２
を形成してなるコア基板１３を複数枚重ね合わせ、接合
一体化してコア基板ブロック１４を形成する工程と、コ
ア基板ブロック１４を切断して、一対の磁気コア半体ブ
ロック１５，１６を形成する工程と、磁気コア半体ブロ
ック１５，１６に巻線溝６を形成し、磁気コア半体ブロ
ック１６の磁気記録媒体との摺動面となる側に、磁気コ
ア半体ブロック１６の長手方向に沿って溝２１を形成す
る工程とを有して磁気ヘッド１０を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばＶＴＲ（ビ
デオテープレコーダ）、デジタルデータレコーダ等の高
密度記録可能な磁気記録再生装置に搭載して有用な磁気
ヘッドに係わる。

【０００２】

【従来の技術】例えばＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）
などの磁気記録再生装置においては、高画質化などを目
的として情報信号の短波長記録化が進められており、こ
れに対応して磁性粉に強磁性粉末を用いたいわゆるメタ
ルテープや、ベースフィルム上に強磁性金属材料を直接
被着した蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用さ
れるようになってきている。

【０００３】一方、これに対処するために磁気ヘッドの
分野においても研究が進められ、高抗磁力磁気記録媒体
を実現するために、コア材料に金属磁性材料を用いると
ともに、狭トラック化を図った磁気ヘッドが開発されて
いる。

【０００４】このような磁気ヘッドとしては、非磁性材
料からなる基板により、高透磁率かつ高飽和磁束密度を
有する金属磁性層を挟み込んだ構造の、いわゆる積層型
（ラミネートタイプ）の磁気ヘッドが知られている。

【０００５】図２５にこの積層型の磁気ヘッドの例の斜
視図を示す。この磁気ヘッド６０を構成する磁気コア
は、閉磁路を構成する一対の磁気コア半体５１及び５２
が突き合わされて接合一体化され、磁気記録媒体との摺
動面５３に臨んでコア半体５１及び５２の前方の突き合
わせ面間に磁気ギャップｇを構成している。磁気コア半
体５１及び５２は、金属磁性層５５がその両側を２つの
非磁性ガード材５４によってそれぞれ挟み込まれてな
る。

【０００６】そして、磁気コア半体５１及び５２同士の
突き合わせ端面においては、その金属磁性層５５の端部
が突き合わされることによりその突き合わせ端面間に磁
気ギャップｇが構成されている。従って、この磁気ギャ
ップｇのトラック幅は、ガード材５４が非磁性体である
ため、金属磁性層５５の膜厚によって規制される。

【０００７】また、磁気コア半体５１及び５２の突き合
わせ面には、磁気ギャップｇのデプスＤｐを規制すると
ともにコイルを巻回させるための巻線溝５６が形成さ
れ、巻線溝５６の摺動面５３側には補強ガラス５７が充
填されている。

【０００８】この磁気ヘッドにおいては、金属磁性層５
５の膜厚が磁気ギャップｇのトラック幅となるものであ
るため、金属磁性層５５の膜厚を制御することで簡単に
狭トラック化が図れること、また構造的に疑似ギャップ
が発生しないことの利点があり、さらにこの金属磁性層
５５を、複数の金属磁性薄膜とＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃、
Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の酸化物や窒化物のような電気絶縁膜とが
交互に積層された積層膜構造とすることで渦電流損失を
回避でき高周波帯域での高出力化が望めること等、様々
な利点を有するものである。

【０００９】この磁気ヘッド６０の製造は、例えば次の
ようにして行う。図１３に示すような両主面が鏡面加工
された、非磁性ガード材からなる短冊状の非磁性基板６
１を用意する。

【００１０】次に、図１４に斜視図を示すように、この
非磁性基板６１の一方の主面上にスパッタ法等の真空薄
膜形成法により、金属磁性層６２を積層形成した、短冊
状のコア基板６３を構成する。

【００１１】この場合の金属磁性層６２としては、例え
ば次のような材料を用いる。 （１）Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ等、及びそれらに８
原子％以下のＣｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒ
ｕ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｎ，Ｃ，Ｏ等を１種または数種添加し
た結晶質材料。 （２）Ｃｏに主としてＺｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，
Ｎｂ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕ等を１種または数種添加して構
成したアモルファス材料。 （３）Ｃｏ，Ｆｅに主としてＮｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｃ
ｕ，Ｓｎ，Ｒｕ，Ｂ等の１種または数種と、Ｎ，Ｃ，Ｏ
の１種または数種を添加して構成した微結晶材料。

【００１２】尚、非磁性基板６１に成膜する金属磁性層
６２は、高周波帯域での渦電流損失を回避させるために
複数の金属磁性薄膜をＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｓｉ₃ Ｎ
₄ 等の酸化物や窒化物のような電気絶縁膜と交互に積層
したいわゆる積層膜としてもよい。

【００１３】次に、図１５に示すように、複数のコア基
板６３を重ね合わせて、これらを加圧固定し接合一体化
してコア基板ブロック６４を構成する。

【００１４】次に、このコア基板ブロック６４を、図１
５中のＰ−Ｐ′，Ｑ−Ｑ′，Ｒ−Ｒ′で示す面に沿って
切断し、図１６に示すように互いに略対称な一対の磁気
コア半体ブロック６５及び６６を作製する。

【００１５】続いて、図１７に示すように、一方の磁気
コア半体ブロック６５の端部を図中Ｓ−Ｓ′及びＴ−
Ｔ′で示す面により切断して、図１８に示すように他方
の磁気コア半体ブロック６６より短くする。

【００１６】次に、図１９に示すように、この磁気コア
半体ブロック６５及び６６の対向面に、その長手方向に
沿って伸びる巻線溝５６を略コ字状の断面形状となるよ
うに形成する。尚、図１９以降は磁気コア半体ブロック
６５，６６の一部を省略して示す。この後、磁気コア半
体ブロック６５，６６の巻線溝５６が形成された側の面
を鏡面研磨し、図示しないがギャップ材兼接合材となる
非磁性材を鏡面加工面にスパッタ法等の真空薄膜形成法
により成膜する。ここでの非磁性材としては、融着ガラ
ス膜、あるいは金，銀，白金，パラジウム等の貴金属膜
から選択することができる。

【００１７】そして、図２０に示すように、磁気コア半
体ブロック６５，６６を、それぞれの金属磁性層６２同
士が相対向するように突き合わせて熱処理を行い接合一
体化させる。

【００１８】尚、このときの熱処理工程において、図２
１に示すように、巻線溝５６内にガラス棒６８を挿入配
置し、磁気記録媒体との摺動面側を下になるように配置
して熱処理しこのガラス棒６８を溶融させて、巻線溝５
６内の上部に充填させ補強ガラス５７とする（図２２参
照）。この補強ガラス５７は、磁気コア半体ブロック６
５，６６の接合補強及び磁気記録媒体との摺動により磁
気ヘッドが摩耗した際の強度低下を防止する役割を有す
る。この結果、各磁気コア半体ブロック６５，６６にそ
れぞれ形成された金属磁性層６２の突き合わせ端面間
に、記録再生ギャップとして動作する磁気ギャップｇが
形成された磁気コアブロック６７が形成される。

【００１９】そして、図２２に示すように、磁気コアブ
ロック６７の外面にそれぞれ所要曲率をもった磁気記録
媒体との摺動面５３を形成する。この際の研磨は、磁気
ギャップのデプスＤｐの値をある一定の値とするため
に、デプスＤｐの寸法をチェックしながら行う。即ち、
接合一体化された磁気コア半体ブロック６５，６６の内
の長い方の磁気コア半体ブロック６６の端部の摺動面５
３側の部分が曲率を有する摺動面を加工する際のマーカ
ー部（デプスＤｐを測定する部分）Ｍとなる。さらに、
磁気コアブロック６７の外面の巻線を回装する部分に巻
線ガイド溝５８を形成する。

【００２０】次に、図２３に示すように、磁気記録媒体
との接触状態を良好なものとするために、摺動面５３に
磁気記録媒体への当たり幅規制溝５９を形成する。

【００２１】その後、図２４に示すように、点線で示す
Ｖ−Ｖ′，Ｗ−Ｗ′，Ｘ−Ｘ′，Ｙ−Ｙ′，Ｚ−Ｚ′の
各線に沿う面において磁気コアブロック６７を切断し
て、図２５に示すような非磁性ガード材５４で金属磁性
層５５を挟み込んだ磁気コア半体５１及び５２が突き合
わされ、突き合わせ端面間に磁気ギャップｇが形成され
た構造の磁気ヘッド６０が形成される。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の磁気ヘ
ッドの製造方法においては、曲率を有する摺動面を形成
する研磨を行う際のマーカー部を形成するために、図１
７に示したコア基板ブロック６４から切り出した磁気コ
ア半体ブロック６５，６６の一方の磁気コア半体ブロッ
ク６５の端部を切断し短くするための加工を必要として
いた。この加工は、一方の磁気コア半体ブロック６５だ
けをワックス等により固定台に貼り付けて、両端部を切
断し、また固定台からワックスを加温溶解させて磁気半
体コアブロック６５を取り外し洗浄するという多くの行
程を必要としていた。

【００２３】上述した従来の製造方法の欠点を解消する
ために、本発明においては、容易に曲率研磨を行う際の
マーカー部を形成することができる磁気ヘッドの製造方
法を提供するものである。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの製
造方法は、一対の磁気コア半体ブロックを形成し、磁気
コア半体ブロックに巻線溝を形成し、磁気コア半体ブロ
ックの磁気記録媒体との摺動面となる側に、この磁気コ
ア半体ブロックの長手方向に沿って溝を形成するように
した工程を有するものである。

【００２５】上述の本発明によれば、磁気コア半体ブロ
ックの磁気記録媒体との摺動面となる側に形成した溝に
より、摺動面を形成するための曲面研磨を行う際に、こ
の溝をマーカーとして、所定の磁気ギャップのデプスと
するように研磨を行うことができる。従って、従来製法
のように、一方の磁気コア半体ブロックの端部を切断す
る工程を必要としない。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明は、非磁性基板の表面に金
属磁性層を形成してなるコア基板を複数枚重ね合わせ、
接合一体化してコア基板ブロックを形成する工程と、コ
ア基板ブロックを切断して、一対の磁気コア半体ブロッ
クを形成する工程と、磁気コア半体ブロックに巻線溝を
形成し、磁気コア半体ブロックの磁気記録媒体との摺動
面となる側に、磁気コア半体ブロックの長手方向に沿っ
て溝を形成する工程とを有する磁気ヘッドの製造方法で
ある。

【００２７】本発明は、上記磁気ヘッドの製造方法にお
いて、摺動面となる側に形成する溝が深さ方向に向かっ
て角度を有しているものである。

【００２８】以下、図面を参照して本発明の磁気ヘッド
の製造方法の実施例を説明する。図１〜図１２は、本発
明の磁気ヘッドの製造方法の一例を示すもので、両磁気
コア半体にそれぞれ巻線溝を有する積層型の磁気ヘッド
に適用したものである。

【００２９】まず、図１２を用いて本実施例で得られる
磁気ヘッドについて説明する。この磁気ヘッド１０は、
閉磁路を構成する一対の磁気コア半体１及び２を突き合
わして接合一体化し、磁気記録媒体との摺動面３に臨む
磁気ギャップｇを形成して構成される。磁気コア半体１
及び２は、例えばチタン酸カリウムやチタン酸カルシウ
ム（ＮｉＯを添加する場合もある）等からなる非磁性ガ
ード材４と、金属磁性層５とを有し、この金属磁性層５
は非磁性基板としての非磁性ガード材４によって挟み込
まれている。

【００３０】この金属磁性層５は、前述の例と同様に、
例えば次のような材料により構成する。 （１）Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ等、及びそれらに８
原子％以下のＣｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒ
ｕ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｎ，Ｃ，Ｏ等を１種または数種添加し
た結晶質材料。 （２）Ｃｏに主としてＺｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，
Ｎｂ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕ等を１種または数種添加して構
成したアモルファス材料。 （３）Ｃｏ，Ｆｅに主としてＮｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｃ
ｕ，Ｓｎ，Ｒｕ，Ｂ等の１種または数種と、Ｎ，Ｃ，Ｏ
の１種または数種を添加して構成した微結晶材料。

【００３１】尚、この金属磁性層５は、図１２Ｂに磁気
記録媒体との摺動面の平面図を示すように、高周波帯域
での渦電流発生を回避させるために、金属磁性層５とＳ
ｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の酸化物や窒化物な
どの電気的絶縁膜５′とを交互に積層させたいわゆる積
層膜としてもよい。

【００３２】また、磁気コア半体１及び２の突き合わせ
端面には、磁気ギャップｇのデプスＤｐを規制するとと
もにコイルを巻装するための巻線溝６が断面略コ字状を
なす溝としてコアの厚み方向に貫通して形成されてい
る。そして、巻線溝６上部には補強ガラス７が充填され
ている。

【００３３】一方、少なくとも一方の磁気コア半体、本
例では両磁気コア半体１，２の外側面に、上述の巻線溝
６に巻装されるコイルの巻装状態を確保するための例え
ば断面略コ字状の巻線ガイド溝８が設けられている。

【００３４】そして、磁気コア半体１及び２の突き合わ
せ端面においては、金属磁性層５の端部同士が突き合わ
されることにより前述の磁気ギャップｇが構成されてい
る。磁気ギャップｇのトラック幅は、非磁性ガード材４
が非磁性体であることから、金属磁性層５の膜厚によっ
て設定される。

【００３５】次に、この磁気ヘッド１０の製造方法を説
明する。まず、図１に示すように、両主面が鏡面加工さ
れた、短冊状の非磁性基板１１を用意する。

【００３６】次に、図２に示すように、この非磁性基板
１１の一方の主面上にスパッタ法などの真空薄膜形成法
により、金属磁性層１２を形成した、短冊状のコア基板
１３を構成する。そして、図示しないが短冊状のコア基
板１３の両主面に融着ガラスあるいは金、銀、パラジウ
ム、白金等の貴金属薄膜からなる接合層をスパッタ法な
どにより形成する。この接合層としては、貴金属薄膜を
用いるのが好ましい。

【００３７】接合層に融着ガラスを用いる場合には、後
の工程における熱処理により接合層が溶融することがな
いように、高融点のガラスを用いる必要がある。このと
き、次の接合一体化工程において、高融点のガラスを溶
融するために高温で接合一体化させなければならず、金
属磁性膜１２の材料をガラスの融点以上の熱処理に耐え
うる材料とする必要があり、金属磁性膜１２の材料選択
が限定される。

【００３８】接合層に上述の貴金属薄膜を用いることに
より、接合層を高温で溶融させなくともコア基板１３を
接合一体化することができ、金属磁性膜１２の材料選択
が限定されない。また、このように貴金属薄膜を用いて
接合一体化したことにより、この後の工程における熱処
理によっても溶融することはない。

【００３９】その後、図３に示すように、複数枚の短冊
状のコア基板１３を整列させ、重ね合わせて加圧固定し
接合一体化してコア基板ブロック１４を構成する。

【００４０】次に、このコア基板ブロック１４を、図３
中のＡ−Ａ′，Ｂ−Ｂ′，Ｃ−Ｃ′で示す面に沿って切
断し、図４に示すように、一対の磁気コア半体ブロック
１５，１６を得る。

【００４１】次に、図５に示すように、磁気コア半体ブ
ロック１５及び１６の対向面に、その長手方向に沿って
伸びる巻線溝６を略コ字状の断面形状となるように形成
し、さらに一方の磁気コア半体ブロック１６の、後に磁
気記録媒体との摺動面が形成される側、即ち図中巻線溝
６の上方に、長手方向に沿って伸び深さ方向に向かって
角度を有したマーカー溝２１を形成する。図５の状態を
側面から見た図を図６に示す。図５及び図６に示すよう
に、このマーカー溝２１の端点２１ａと巻線溝６の頂点
６ａにより、磁気ギャップのデプスＤｐが規定される。
このデプスＤｐの量は、好ましくは１５μｍ〜４０μｍ
程度とする。

【００４２】この後、磁気コア半体ブロック１５，１６
の巻線溝６が形成された側の面を鏡面研磨し、図示しな
いがギャップ材兼接合材となる非磁性材を鏡面加工面に
スパッタ法等の真空薄膜形成法により成膜する。ここで
の非磁性材としては、融着ガラス膜、あるいは金，銀，
パラジウム等の貴金属膜から選択することができる。

【００４３】次に、図７に示すように、２つの磁気コア
半体ブロック１５，１６を接合一体化し、各磁気コア半
体ブロック４及び５にそれぞれ形成された金属磁性層１
２の突き合わせ端面間に、記録再生ギャップとして動作
する磁気ギャップｇが形成された磁気コアブロック１７
を形成する。このとき、図示しないが巻線溝６内にガラ
ス棒１８を挿入配置し、このガラス棒１８を溶融させ
て、巻線溝６内の下部に充填させ補強ガラス７とする。
尚、図７以降は磁気コア半体ブロック１５，１６の一部
を省略して示す。

【００４４】そして、磁気コアブロック１７の外面にそ
れぞれ所要曲率をもった磁気記録媒体との摺動面３をラ
ッピング等により形成する。このとき、図８に示すよう
に、曲率加工がＲ１まで進んだときのマーカー溝２１の
幅Ｗ１が、曲率加工がさらにＲ２まで進むと、それに従
って小さくなる。即ち、マーカー溝２１の幅Ｗ１が曲率
を有する摺動面３を形成する研磨を行う際のマーカーと
なる。最終的には、マーカー溝２１が消失する（Ｗ１＝
０）まで加工を行うことにより、図６の時点で規定した
所定のデプスＤｐを有するように摺動面３を形成するこ
とができる。従って、従来製法において、図１７に示し
た、一方の磁気コア半体ブロック６５の端部を切断する
工程を必要としない。

【００４５】また、図９に示すように、磁気コアブロッ
ク１７の外面の巻線を施す部分に巻線ガイド溝８を形成
する。さらに、図１０に示すように、摺動面３に磁気記
録媒体への当たり幅規制溝９を形成する。

【００４６】その後、図１１に示すように、図中点線で
示すＦ−Ｆ′，Ｇ−Ｇ′，Ｈ−Ｈ′，Ｉ−Ｉ′，Ｊ−
Ｊ′の各線に沿う面において磁気コアブロック１７を切
断して、図１２Ａに示すような非磁性ガード材４で金属
磁性層５を挟み込んだ磁気コア半体１，２が突き合わさ
れ、突き合わせ端面間に磁気ギャップｇが形成された目
的の積層型の磁気ヘッド１０を得る。

【００４７】上述した実施例によれば、前述の図１７に
示した磁気コア半体ブロック６５の端部の切断工程を省
略することができ、そして、マーカー溝２１の加工は、
磁気ヘッドの巻線溝６の加工と同一の工程において行う
ことができるので、従来製法と比較して工程数を削減す
ることができ、積層型磁気ヘッドの製造コストの低減が
図られる。

【００４８】各工程における接合方法には、例えば金、
銀、パラジウム、白金等の貴金属層同士の熱拡散による
低温熱拡散接合やガラス融着等を用いることができる。

【００４９】本発明の磁気ヘッドは、上述の例に限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でそ
の他様々な構成が取り得る。

【００５０】

【発明の効果】上述の本発明による磁気ヘッドの製造方
法によれば、所定の曲率を有する摺動面を、所定のデプ
スまでラッピングする際に、デプスを測定できるように
両端の磁気コア半体ブロックの端部を切断する前工程を
設けなくとも、一方の磁気コア半体ブロックの磁気記録
媒体との摺動面となる側に形成した溝を利用してデプス
を規定することができることにより、作業性を向上し、
工程数の削減及び製造コストの低減を図って磁気ヘッド
を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図２】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図３】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図４】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図５】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図６】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図７】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図８】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図９】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工程
を示す工程図である。

【図１０】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工
程を示す工程図である。

【図１１】本発明の磁気ヘッドの製法の一例の一製造工
程を示す工程図である。

【図１２】Ａ 本発明製法を適用する積層型磁気ヘッド
の一例の斜視図である。 Ｂ 図１２Ａの磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面の
拡大正面図である。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図１８】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図１９】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図２０】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図２１】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図２２】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図２３】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図２４】従来の磁気ヘッドの製法の一製造工程を示す
工程図である。

【図２５】積層型磁気ヘッドの一例の斜視図である。

【符号の説明】

１，２，５１，５２ 磁気コア半体、３，５３ 摺動
面、４，５４ 非磁性ガード材、５，１２，５５，６２
金属磁性層、５′ 電気絶縁膜、６，５６ 巻線溝、
７，５７ 補強ガラス、８，５８ 巻線ガイド溝、９，
５９ 当たり幅規制溝、１０，６０ 磁気ヘッド、１
１，６１ 非磁性基板、１３，６３ コア基板、１４，
６４ コア基板ブロック、１５，１６，６５，６６ 磁
気コア半体ブロック、１７，６７ 磁気コアブロック、
１８，６８ ガラス棒、２１ マーカー溝、ｇ 磁気ギ
ャップ、Ｄｐ デプス

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板の表面に金属磁性層を形成し
   てなるコア基板を複数枚重ね合わせ、接合一体化してコ
   ア基板ブロックを形成する工程と、 上記コア基板ブロックを切断して、一対の磁気コア半体
   ブロックを形成する工程と、 上記磁気コア半体ブロックに巻線溝を形成し、上記磁気
   コア半体ブロックの磁気記録媒体との摺動面となる側
   に、該磁気コア半体ブロックの長手方向に沿って溝を形
   成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製
   造方法。
2. 【請求項２】 上記摺動面となる側に形成する溝が深さ
   方向に向かって角度を有していることを特徴とする請求
   項１記載の磁気ヘッドの製造方法。