JPH0721512A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0721512A JPH0721512A JP18213993A JP18213993A JPH0721512A JP H0721512 A JPH0721512 A JP H0721512A JP 18213993 A JP18213993 A JP 18213993A JP 18213993 A JP18213993 A JP 18213993A JP H0721512 A JPH0721512 A JP H0721512A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 磁性薄膜の形成された非磁性基板と、磁性薄
膜の形成されていない非磁性基板とを、予め一対ずつ接
合一体化し、この接合一体化された多数の短冊状コアブ
ロック１１をガラス板１２により接合して磁気コアブロ
ック４を作製する。 【効果】 磁気コアブロック作製時のゴミの影響による
接合不良が回避される。
膜の形成されていない非磁性基板とを、予め一対ずつ接
合一体化し、この接合一体化された多数の短冊状コアブ
ロック１１をガラス板１２により接合して磁気コアブロ
ック４を作製する。 【効果】 磁気コアブロック作製時のゴミの影響による
接合不良が回避される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、強磁性合金より成る磁
性薄膜を主なコアとして用いた磁気ヘッドの製造方法に
関する。
性薄膜を主なコアとして用いた磁気ヘッドの製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ＶＴＲ（ビデオテープレコー
ダ）等の磁気記録再生装置においては、記録信号の高密
度化や高周波数化等が進められており、高密度記録化に
対応して、磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ等の強磁性金属の粉末を用いたいわゆるメタルテープ
や、強磁性金属材料を蒸着によりベースフィルム上に被
着したいわゆる蒸着テープ等が使用されるようになって
いる。そして、この磁気記録媒体は高い残留磁束密度Ｂ
ｒと高い保磁力Ｈｃとを有するために、記録再生に用い
る磁気ヘッドのヘッド材料にも高い飽和磁束密度Ｂｓと
高い透磁率を有することが要求されている。一方、上記
高密度記録化に伴って、磁気記録媒体に記録される記録
トラック幅の狭小化も進められており、これに対応して
磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが要求されて
いる。
ダ）等の磁気記録再生装置においては、記録信号の高密
度化や高周波数化等が進められており、高密度記録化に
対応して、磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ等の強磁性金属の粉末を用いたいわゆるメタルテープ
や、強磁性金属材料を蒸着によりベースフィルム上に被
着したいわゆる蒸着テープ等が使用されるようになって
いる。そして、この磁気記録媒体は高い残留磁束密度Ｂ
ｒと高い保磁力Ｈｃとを有するために、記録再生に用い
る磁気ヘッドのヘッド材料にも高い飽和磁束密度Ｂｓと
高い透磁率を有することが要求されている。一方、上記
高密度記録化に伴って、磁気記録媒体に記録される記録
トラック幅の狭小化も進められており、これに対応して
磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが要求されて
いる。
【０００３】そこで、従来、セラミックス等の非磁性基
板上に磁気コアとなる磁性薄膜を被着形成し、これをト
ラック部分としたいわゆるラミネート型の磁気ヘッドが
提案されている。以下に、従来のラミネート型磁気ヘッ
ドの製造方法を説明する。
板上に磁気コアとなる磁性薄膜を被着形成し、これをト
ラック部分としたいわゆるラミネート型の磁気ヘッドが
提案されている。以下に、従来のラミネート型磁気ヘッ
ドの製造方法を説明する。
【０００４】ラミネート型磁気ヘッドを作製するには、
先ず、図１３に示すように、短冊状をなす非磁性体から
成る基板１０１の片面に磁気コアとなる磁性薄膜１０２
と接合膜１０３とをスパッタ等の真空薄膜形成法により
形成する。上記接合膜１０３は、後述の工程で、上記磁
性薄膜１０２が形成された非磁性基板１０１同士を接合
一体化させるためのもので、例えば融着用ガラス膜、あ
るいは低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が用いられ
る。
先ず、図１３に示すように、短冊状をなす非磁性体から
成る基板１０１の片面に磁気コアとなる磁性薄膜１０２
と接合膜１０３とをスパッタ等の真空薄膜形成法により
形成する。上記接合膜１０３は、後述の工程で、上記磁
性薄膜１０２が形成された非磁性基板１０１同士を接合
一体化させるためのもので、例えば融着用ガラス膜、あ
るいは低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が用いられ
る。
【０００５】次に、図１４に示すように、上記磁性薄膜
１０２と接合膜１０３とが形成された非磁性基板１０１
を積み重ね、最後に上記非磁性基板１０１を重ねて加圧
加熱処理を行い、平面略長方形状をなす磁気コアブロッ
ク１０４を作製する。次いで、上記磁気コアブロック１
０４をＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の各線に沿って切
断する。これにより、図１５に示すように、互いに略対
称な一対の磁気コアハーフブロック１０５、１０６が形
成される。
１０２と接合膜１０３とが形成された非磁性基板１０１
を積み重ね、最後に上記非磁性基板１０１を重ねて加圧
加熱処理を行い、平面略長方形状をなす磁気コアブロッ
ク１０４を作製する。次いで、上記磁気コアブロック１
０４をＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の各線に沿って切
断する。これにより、図１５に示すように、互いに略対
称な一対の磁気コアハーフブロック１０５、１０６が形
成される。
【０００６】そして、図１６に示すように、一方の磁気
コアハーフブロック１０５に、その長手方向に沿って伸
びる巻線溝１０７を形成する。巻線溝１０７の形成され
ていない磁気コアハーフブロック１０６の片面と、巻線
溝１０７が形成された磁気コアハーフブロック１０５の
溝形成面とを平滑研磨する。
コアハーフブロック１０５に、その長手方向に沿って伸
びる巻線溝１０７を形成する。巻線溝１０７の形成され
ていない磁気コアハーフブロック１０６の片面と、巻線
溝１０７が形成された磁気コアハーフブロック１０５の
溝形成面とを平滑研磨する。
【０００７】次に、図１７に示すように、上記磁気コア
ハーフブロック１０５、１０６の突き合わせ面にギャッ
プスペーサ１０８をスパッタ等の真空薄膜形成法により
形成した後、各磁気コアハーフブロック１０５、１０６
にそれぞれ形成された磁性薄膜１０２同士を相対向する
ように突き合わせて加圧加熱を行い、磁気ヘッドブロッ
ク１０９を作製する。その後、所定のギャップ深さまで
ラップして曲率を持ったテープ摺動面１２０を形成し、
Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の各線に沿って磁性薄膜１０２と平
行にチップ切断することにより磁気ヘッドを完成する。
ハーフブロック１０５、１０６の突き合わせ面にギャッ
プスペーサ１０８をスパッタ等の真空薄膜形成法により
形成した後、各磁気コアハーフブロック１０５、１０６
にそれぞれ形成された磁性薄膜１０２同士を相対向する
ように突き合わせて加圧加熱を行い、磁気ヘッドブロッ
ク１０９を作製する。その後、所定のギャップ深さまで
ラップして曲率を持ったテープ摺動面１２０を形成し、
Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の各線に沿って磁性薄膜１０２と平
行にチップ切断することにより磁気ヘッドを完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の磁気
ヘッドの製造方法においては、一度に多数の非磁性基板
を薄い接合膜により接合一体化するため、上記接合膜よ
りも大きいゴミ等が接合面に付着した場合には、その部
分で接合不良となり、磁気ヘッドブロックの作製ができ
なくなる。
ヘッドの製造方法においては、一度に多数の非磁性基板
を薄い接合膜により接合一体化するため、上記接合膜よ
りも大きいゴミ等が接合面に付着した場合には、その部
分で接合不良となり、磁気ヘッドブロックの作製ができ
なくなる。
【０００９】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、接合膜の接合不良を改善
する磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
鑑みて提案されたものであり、接合膜の接合不良を改善
する磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、基板の少なく
とも一方の面に磁性薄膜を形成する工程と、上記磁性薄
膜の形成された基板と磁性薄膜の形成されていない基板
とを接合一体化して短冊状コアブロックを作製する工程
と、複数の短冊状コアブロックを短冊状ガラス板を介し
て交互に重ね合わせて接合し、磁気コアブロックを作製
する工程と、上記磁気コアブロックを上記磁性薄膜の膜
面と略直交する方向に切断して互いに略対称な一対の磁
気コアハーフブロックを形成する工程と、各磁気コアハ
ーフブロックの切断面を平面研磨するとともに、少なく
とも一方の磁気コアハーフブロックの切断面にその長手
方向に沿って巻線用の溝を形成する工程と、上記一対の
磁気コアハーフブロックを上記切断面間にギャップスペ
ーサを挟んで接合一体化して磁気ヘッドブロックを作製
する工程と、上記磁気ヘッドブロックを磁性薄膜と略平
行に切断し、各磁気ヘッドに切り出す工程とから成るこ
とを特徴とするものである。
めに、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、基板の少なく
とも一方の面に磁性薄膜を形成する工程と、上記磁性薄
膜の形成された基板と磁性薄膜の形成されていない基板
とを接合一体化して短冊状コアブロックを作製する工程
と、複数の短冊状コアブロックを短冊状ガラス板を介し
て交互に重ね合わせて接合し、磁気コアブロックを作製
する工程と、上記磁気コアブロックを上記磁性薄膜の膜
面と略直交する方向に切断して互いに略対称な一対の磁
気コアハーフブロックを形成する工程と、各磁気コアハ
ーフブロックの切断面を平面研磨するとともに、少なく
とも一方の磁気コアハーフブロックの切断面にその長手
方向に沿って巻線用の溝を形成する工程と、上記一対の
磁気コアハーフブロックを上記切断面間にギャップスペ
ーサを挟んで接合一体化して磁気ヘッドブロックを作製
する工程と、上記磁気ヘッドブロックを磁性薄膜と略平
行に切断し、各磁気ヘッドに切り出す工程とから成るこ
とを特徴とするものである。
【００１１】また、上記基板は非磁性体又は非磁性体と
磁性フェライトとから成ることを特徴とするものであ
る。
磁性フェライトとから成ることを特徴とするものであ
る。
【００１２】さらに、上記磁性薄膜は電気的絶縁膜を介
して積層された構造を有することを特徴とするものであ
る。
して積層された構造を有することを特徴とするものであ
る。
【００１３】
【作用】本発明においては、磁性薄膜の形成された非磁
性基板と磁性薄膜の形成されていない非磁性基板とを、
予め一対ずつ接合一体化し、上記接合一体化された多数
の基板をガラス板により接合して磁気コアブロックを作
製するため、上記磁気コアブロック作製時のゴミの影響
による接合不良が回避され、歩留りが向上する。
性基板と磁性薄膜の形成されていない非磁性基板とを、
予め一対ずつ接合一体化し、上記接合一体化された多数
の基板をガラス板により接合して磁気コアブロックを作
製するため、上記磁気コアブロック作製時のゴミの影響
による接合不良が回避され、歩留りが向上する。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。
いて、図面を参照しながら説明する。
【００１５】実施例１ 本実施例は、磁性薄膜をその膜厚方向より一対の非磁性
体から成る基板によって挟み込んで成る磁気コア半体同
士が、各磁気コア半体の突き合わせ面に呈する磁性薄膜
の端面同士を突き合わせて接合一体化され、その突き合
わせ面間に磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドを
作製する例である。
体から成る基板によって挟み込んで成る磁気コア半体同
士が、各磁気コア半体の突き合わせ面に呈する磁性薄膜
の端面同士を突き合わせて接合一体化され、その突き合
わせ面間に磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドを
作製する例である。
【００１６】上記磁気ヘッドを作製するには、先ず、図
１に示すように、セラミックス等の非磁性体から成る非
磁性基板１の片面に、磁気コアとなる磁性薄膜２と接合
膜３とをスパッタ等の真空薄膜形成法により形成する。
１に示すように、セラミックス等の非磁性体から成る非
磁性基板１の片面に、磁気コアとなる磁性薄膜２と接合
膜３とをスパッタ等の真空薄膜形成法により形成する。
【００１７】次に、磁性薄膜２と接合膜３とが形成され
た非磁性基板１と、接合膜３のみ形成された非磁性基板
１とを接合一体化して短冊状コアブロック１１を作製す
る。上記磁性薄膜２としては、（１）Ｆｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｇｅ等、及びそれらに８原子％以下のＣｏ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｎ、
Ｃ、Ｏ等を一種又は数種添加した結晶質材料、（２）Ｃ
ｏに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｎｂの一
種又は数種添加して構成されたアモルファス材料、
（３）Ｃｏ、Ｆｅに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、
Ｍｏ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂの一種又は数種とＮ、Ｃ、
Ｏの一種又は数種を添加して構成された微結晶材料等が
選択される。また、上記接合膜３としては、融着用ガラ
ス膜、あるいは低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が
用いられる。
た非磁性基板１と、接合膜３のみ形成された非磁性基板
１とを接合一体化して短冊状コアブロック１１を作製す
る。上記磁性薄膜２としては、（１）Ｆｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｇｅ等、及びそれらに８原子％以下のＣｏ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｎ、
Ｃ、Ｏ等を一種又は数種添加した結晶質材料、（２）Ｃ
ｏに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｎｂの一
種又は数種添加して構成されたアモルファス材料、
（３）Ｃｏ、Ｆｅに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、
Ｍｏ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂの一種又は数種とＮ、Ｃ、
Ｏの一種又は数種を添加して構成された微結晶材料等が
選択される。また、上記接合膜３としては、融着用ガラ
ス膜、あるいは低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が
用いられる。
【００１８】次に、図２に示すように、上記短冊状コア
ブロック１１を厚み３０〜２００μｍのガラス板１２を
介して積み重ね、加圧加熱処理を行い、図３に示すよう
に、平面略長方形状の磁気コアブロック４を作製する。
加圧加熱処理は窒素雰囲気中で、通常、３５０〜６００
℃の温度範囲で行われる。特に、上記短冊状コアブロッ
ク１１の接合にガラスを用いた場合は、これにより二度
ガラス融着が行われることになるので、上記磁気コアブ
ロック４の作製時のガラスとしては前者よりも５０〜１
００℃程度、作業温度の低いものを用いる必要がある。
ブロック１１を厚み３０〜２００μｍのガラス板１２を
介して積み重ね、加圧加熱処理を行い、図３に示すよう
に、平面略長方形状の磁気コアブロック４を作製する。
加圧加熱処理は窒素雰囲気中で、通常、３５０〜６００
℃の温度範囲で行われる。特に、上記短冊状コアブロッ
ク１１の接合にガラスを用いた場合は、これにより二度
ガラス融着が行われることになるので、上記磁気コアブ
ロック４の作製時のガラスとしては前者よりも５０〜１
００℃程度、作業温度の低いものを用いる必要がある。
【００１９】この磁気コアブロック４を、Ａ−Ａ’、Ｂ
−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の各線に沿って切断し、図４に示すよ
うな、互いに略対称な一対の磁気コアハーフブロック
５、６を形成する。
−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の各線に沿って切断し、図４に示すよ
うな、互いに略対称な一対の磁気コアハーフブロック
５、６を形成する。
【００２０】次いで、上記磁気コアハーフブロック５
に、その長手方向に沿って伸びる巻線溝７を形成し、次
に、上記磁気コアハーフブロック６の片面と、上記磁気
コアハーフブロック５の溝形成面を平滑研磨する。そし
て、上記研磨面にギャップスペーサ８をスパッタ等の真
空薄膜形成法により形成し、上記磁気コアハーフブロッ
ク５、６をそれぞれの磁性薄膜２同士が相対向するよう
に突き合わせる。
に、その長手方向に沿って伸びる巻線溝７を形成し、次
に、上記磁気コアハーフブロック６の片面と、上記磁気
コアハーフブロック５の溝形成面を平滑研磨する。そし
て、上記研磨面にギャップスペーサ８をスパッタ等の真
空薄膜形成法により形成し、上記磁気コアハーフブロッ
ク５、６をそれぞれの磁性薄膜２同士が相対向するよう
に突き合わせる。
【００２１】この後、上記突き合わせ方向より上記磁気
コアハーフブロック５、６を加圧しながら加熱を行う。
その結果、上記磁気コアハーフブロック５、６は接合一
体化され、図５に示すように、磁気ヘッドブロック９が
形成される。
コアハーフブロック５、６を加圧しながら加熱を行う。
その結果、上記磁気コアハーフブロック５、６は接合一
体化され、図５に示すように、磁気ヘッドブロック９が
形成される。
【００２２】また、図６に示すように、上記磁気コアハ
ーフブロック５、６にそれぞれ形成された磁性薄膜２の
突き合わせ面間に、記録再生ギャップとして動作する磁
気ギャップｇが形成される。そして、上記接合一体化さ
れた磁気ヘッドブロック９に対して所定のギャップ深さ
までラップ処理を施して曲率を持ったテープ摺動面２０
を形成し、Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の各線に沿って切断する
ことで磁気ヘッドコアを完成する。磁気コアブロック４
の作製時に用いられたガラス板１２は、この切断時に取
り除かれる。
ーフブロック５、６にそれぞれ形成された磁性薄膜２の
突き合わせ面間に、記録再生ギャップとして動作する磁
気ギャップｇが形成される。そして、上記接合一体化さ
れた磁気ヘッドブロック９に対して所定のギャップ深さ
までラップ処理を施して曲率を持ったテープ摺動面２０
を形成し、Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の各線に沿って切断する
ことで磁気ヘッドコアを完成する。磁気コアブロック４
の作製時に用いられたガラス板１２は、この切断時に取
り除かれる。
【００２３】このようにして作製された磁気ヘッドにお
いては、上記非磁性基板１によって、その膜厚方向より
挟み込まれて成る磁性薄膜２の膜厚が、上記磁気ギャッ
プｇのトラック幅Ｔｗとなっている。従って、上記磁性
薄膜２の膜厚を制御することにより、簡単に狭トラック
化を図ることができ、高密度記録化に容易に対処するこ
とができる。
いては、上記非磁性基板１によって、その膜厚方向より
挟み込まれて成る磁性薄膜２の膜厚が、上記磁気ギャッ
プｇのトラック幅Ｔｗとなっている。従って、上記磁性
薄膜２の膜厚を制御することにより、簡単に狭トラック
化を図ることができ、高密度記録化に容易に対処するこ
とができる。
【００２４】なお、上述の実施例では、非磁性基板１上
に形成した磁性薄膜２は単層の膜としたが、ＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 、Ｓｉ3 Ｎ4 等の酸化物や窒化物等のような
電気的絶縁膜を介して膜厚の薄い磁性薄膜２を何層にも
積み重ねた積層膜とすることで、高周波帯域での渦電流
損失を大幅に低減させることができる。
に形成した磁性薄膜２は単層の膜としたが、ＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 、Ｓｉ3 Ｎ4 等の酸化物や窒化物等のような
電気的絶縁膜を介して膜厚の薄い磁性薄膜２を何層にも
積み重ねた積層膜とすることで、高周波帯域での渦電流
損失を大幅に低減させることができる。
【００２５】実施例２ 本実施例は、磁性薄膜を、その膜厚方向より非磁性体と
磁性フェライトとから成る一対の複合基板によって挟み
込んで成る磁気コア半体同士が、各磁気コア半体の突き
合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士を突き合わせて接
合一体化され、その突き合わせ面間に磁気ギャップが形
成されて成る磁気ヘッドを作製する例である。
磁性フェライトとから成る一対の複合基板によって挟み
込んで成る磁気コア半体同士が、各磁気コア半体の突き
合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士を突き合わせて接
合一体化され、その突き合わせ面間に磁気ギャップが形
成されて成る磁気ヘッドを作製する例である。
【００２６】上記磁気ヘッドは、第７図に示すように、
磁性薄膜２をその膜厚方向より挟み込んで成る基板が非
磁性体１０Ａと磁性フェライト１０Ｂとを接合一体化し
た複合基板１０とされている。上記非磁性体１０Ａは媒
体との摺接による耐摩耗性を考慮してヘッド摺動面部に
設けられ、磁性フェライト１０Ｂはヘッド摺動面部を除
く後部磁気回路を構成するバック部に設けられている。
磁性薄膜２をその膜厚方向より挟み込んで成る基板が非
磁性体１０Ａと磁性フェライト１０Ｂとを接合一体化し
た複合基板１０とされている。上記非磁性体１０Ａは媒
体との摺接による耐摩耗性を考慮してヘッド摺動面部に
設けられ、磁性フェライト１０Ｂはヘッド摺動面部を除
く後部磁気回路を構成するバック部に設けられている。
【００２７】上記磁気ヘッドを作製するには、先ず、図
８に示すように、非磁性体１０Ａと磁性フェライト１０
Ｂとから成る複合基板１０の片面に、磁気コアとなる磁
性薄膜２と接合膜３とをスパッタ等の真空薄膜形成法に
より形成する。次に、磁性薄膜２と接合膜３とが形成さ
れた複合基板１０と、接合膜３のみ形成された複合基板
１０とを接合一体化して短冊状コアブロック１１を作製
する。
８に示すように、非磁性体１０Ａと磁性フェライト１０
Ｂとから成る複合基板１０の片面に、磁気コアとなる磁
性薄膜２と接合膜３とをスパッタ等の真空薄膜形成法に
より形成する。次に、磁性薄膜２と接合膜３とが形成さ
れた複合基板１０と、接合膜３のみ形成された複合基板
１０とを接合一体化して短冊状コアブロック１１を作製
する。
【００２８】次に、図９に示すように、上記短冊状コア
ブロック１１を厚み３０〜２００μｍのガラス板１２を
介して積み重ね、加圧加熱処理を行い、図１０に示すよ
うに、平面略長方形状の磁気コアブロック４を作製す
る。
ブロック１１を厚み３０〜２００μｍのガラス板１２を
介して積み重ね、加圧加熱処理を行い、図１０に示すよ
うに、平面略長方形状の磁気コアブロック４を作製す
る。
【００２９】この磁気コアブロック４を、Ａ−Ａ’、Ｂ
−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の各線に沿って切断し、図１１に示す
ような、互いに略対称な一対の磁気コアハーフブロック
５、６を形成する。
−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の各線に沿って切断し、図１１に示す
ような、互いに略対称な一対の磁気コアハーフブロック
５、６を形成する。
【００３０】次いで、上記磁気コアハーフブロック５
に、その長手方向に沿って伸びる巻線溝７を形成し、次
に、上記磁気コアハーフブロック６の片面と、上記磁気
コアハーフブロック５の溝形成面を平滑研磨する。そし
て、図１２に示すように、上記研磨面にギャップスペー
サ８をスパッタ等の真空薄膜形成法により形成し、上記
磁気コアハーフブロック５、６をそれぞれの磁性薄膜２
同士が相対向するように突き合わせる。
に、その長手方向に沿って伸びる巻線溝７を形成し、次
に、上記磁気コアハーフブロック６の片面と、上記磁気
コアハーフブロック５の溝形成面を平滑研磨する。そし
て、図１２に示すように、上記研磨面にギャップスペー
サ８をスパッタ等の真空薄膜形成法により形成し、上記
磁気コアハーフブロック５、６をそれぞれの磁性薄膜２
同士が相対向するように突き合わせる。
【００３１】この後、上記突き合わせ方向より上記磁気
コアハーフブロック５、６を加圧しながら加熱を行う。
その結果、上記磁気コアハーフブロック５、６は接合一
体化され、図１２に示すように、磁気ヘッドブロック９
が形成される。
コアハーフブロック５、６を加圧しながら加熱を行う。
その結果、上記磁気コアハーフブロック５、６は接合一
体化され、図１２に示すように、磁気ヘッドブロック９
が形成される。
【００３２】また、図７に示すように、上記磁気コアハ
ーフブロック５、６にそれぞれ形成された磁性薄膜２の
突き合わせ面間に、記録再生ギャップとして動作する磁
気ギャップｇが形成される。そして、上記接合一体化さ
れた磁気ヘッドブロック９に対して所定のギャップ深さ
までラップ処理を施して曲率を持ったテープ摺動面２０
を形成し、Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の各線に沿って切断する
ことで磁気ヘッドコアを完成する。磁気コアブロック４
の作製時に用いられたガラス板１２は、この切断時に取
り除かれる。
ーフブロック５、６にそれぞれ形成された磁性薄膜２の
突き合わせ面間に、記録再生ギャップとして動作する磁
気ギャップｇが形成される。そして、上記接合一体化さ
れた磁気ヘッドブロック９に対して所定のギャップ深さ
までラップ処理を施して曲率を持ったテープ摺動面２０
を形成し、Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の各線に沿って切断する
ことで磁気ヘッドコアを完成する。磁気コアブロック４
の作製時に用いられたガラス板１２は、この切断時に取
り除かれる。
【００３３】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドの製造方法は、基板の少なくとも一方の
面に磁性薄膜を形成する工程と、上記磁性薄膜の形成さ
れた基板と磁性薄膜の形成されていない基板とを接合一
体化して短冊状コアブロックを作製する工程と、複数の
短冊状コアブロックを短冊状ガラス板を介して交互に重
ね合わせて接合し、磁気コアブロックを作製する工程
と、上記磁気コアブロックを上記磁性薄膜の膜面と略直
交する方向に切断して互いに略対称な一対の磁気コアハ
ーフブロックを形成する工程と、各磁気コアハーフブロ
ックの切断面を平面研磨するとともに、少なくとも一方
の磁気コアハーフブロックの切断面にその長手方向に沿
って巻線用の溝を形成する工程と、上記一対の磁気コア
ハーフブロックを上記切断面間にギャップスペーサを挟
んで接合一体化して磁気ヘッドブロックを作製する工程
と、上記磁気ヘッドブロックを磁性薄膜と略平行に切断
し、各磁気ヘッドに切り出す工程とから成ることによ
り、磁性薄膜を主なコアとする複合型磁気ヘッドの生産
性を改善することができる。
明の磁気ヘッドの製造方法は、基板の少なくとも一方の
面に磁性薄膜を形成する工程と、上記磁性薄膜の形成さ
れた基板と磁性薄膜の形成されていない基板とを接合一
体化して短冊状コアブロックを作製する工程と、複数の
短冊状コアブロックを短冊状ガラス板を介して交互に重
ね合わせて接合し、磁気コアブロックを作製する工程
と、上記磁気コアブロックを上記磁性薄膜の膜面と略直
交する方向に切断して互いに略対称な一対の磁気コアハ
ーフブロックを形成する工程と、各磁気コアハーフブロ
ックの切断面を平面研磨するとともに、少なくとも一方
の磁気コアハーフブロックの切断面にその長手方向に沿
って巻線用の溝を形成する工程と、上記一対の磁気コア
ハーフブロックを上記切断面間にギャップスペーサを挟
んで接合一体化して磁気ヘッドブロックを作製する工程
と、上記磁気ヘッドブロックを磁性薄膜と略平行に切断
し、各磁気ヘッドに切り出す工程とから成ることによ
り、磁性薄膜を主なコアとする複合型磁気ヘッドの生産
性を改善することができる。
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の第１の実
施例を工程順に示すものであり、成膜工程及び短冊状コ
アブロックを作製する工程を示す斜視図である。
施例を工程順に示すものであり、成膜工程及び短冊状コ
アブロックを作製する工程を示す斜視図である。
【図２】磁気コアブロックの作製工程を示す斜視図であ
る。
る。
【図３】磁気コアブロックを作製し、磁気コアハーフブ
ロックを切り出す工程を示す斜視図である。
ロックを切り出す工程を示す斜視図である。
【図４】磁気コアハーフブロックに巻線溝加工を施す工
程を示す斜視図である。
程を示す斜視図である。
【図５】磁気ヘッドブロックから磁気ヘッドコアを切り
出す工程を示す斜視図である。
出す工程を示す斜視図である。
【図６】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の第１の実
施例において作製された磁気ヘッドの斜視図である。
施例において作製された磁気ヘッドの斜視図である。
【図７】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の第２の実
施例において作製された磁気ヘッドの斜視図である。
施例において作製された磁気ヘッドの斜視図である。
【図８】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の第２の実
施例を工程順に示すものであり、成膜工程及び短冊状コ
アブロックを作製する工程を示す斜視図である。
施例を工程順に示すものであり、成膜工程及び短冊状コ
アブロックを作製する工程を示す斜視図である。
【図９】磁気コアブロックの作製工程を示す斜視図であ
る。
る。
【図１０】磁気コアブロックを作製し、磁気コアハーフ
ブロックを切り出す工程を示す斜視図である。
ブロックを切り出す工程を示す斜視図である。
【図１１】磁気コアハーフブロックに巻線溝加工を施す
工程を示す斜視図である。
工程を示す斜視図である。
【図１２】磁気ヘッドブロックから磁気ヘッドコアを切
り出す工程を示す斜視図である。
り出す工程を示す斜視図である。
【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
ものであり、成膜工程を示す斜視図である。
ものであり、成膜工程を示す斜視図である。
【図１４】磁気コアブロックを作製し、磁気コアハーフ
ブロックを切り出す工程を示す斜視図である。
ブロックを切り出す工程を示す斜視図である。
【図１５】作製された磁気コアハーフブロックを示す斜
視図である。
視図である。
【図１６】磁気コアハーフブロックに巻線溝加工を施す
工程を示す斜視図である。
工程を示す斜視図である。
【図１７】磁気ヘッドブロックから磁気ヘッドコアを切
り出す工程を示す斜視図である。
り出す工程を示す斜視図である。
１・・・・・・・・・・非磁性基板 ２・・・・・・・・・・磁性薄膜 ３・・・・・・・・・・接合膜 ４・・・・・・・・・・磁気コアブロック ５、６・・・・・・・・磁気コアハーフブロック ７・・・・・・・・・・巻線溝 ８・・・・・・・・・・ギャップスペーサ ９・・・・・・・・・・磁気ヘッドブロック １０・・・・・・・・・複合基板 １０Ａ・・・・・・・・非磁性体 １０Ｂ・・・・・・・・磁性フェライト １１・・・・・・・・・短冊状コアブロック １２・・・・・・・・・ガラス板 ２０・・・・・・・・・テープ摺動面
Claims (4)
- 【請求項１】 磁性薄膜をその膜厚方法より基板によっ
て挟み込んでなる磁気コア半体同士が、各磁気ヘッドコ
ア半体の突き合わせ面に呈する磁気薄膜の端面同士を突
き合わせて接合一体化され、その突き合わせ面間に磁気
ギャップが形成されて成る磁気ヘッドの製造方法におい
て、 基板の少なくとも一方の面に磁性薄膜を形成する工程
と、 上記磁性薄膜の形成された基板と磁性薄膜の形成されて
いない基板とを接合一体化して短冊状コアブロックを作
製する工程と、 複数の短冊状コアブロックを短冊状ガラス板を介して交
互に重ね合わせて接合し、磁気コアブロックを作製する
工程と、 上記磁気コアブロックを上記磁性薄膜の膜面と略直交す
る方向に切断して互いに略対称な一対の磁気コアハーフ
ブロックを形成する工程と、 各磁気コアハーフブロックの切断面を平面研磨するとと
もに、少なくとも一方の磁気コアハーフブロックの切断
面にその長手方向に沿って巻線用の溝を形成する工程
と、 上記一対の磁気コアハーフブロックを上記切断面間にギ
ャップスペーサを挟んで接合一体化して磁気ヘッドブロ
ックを作製する工程と、 上記磁気ヘッドブロックを磁性薄膜と略平行に切断し、
各磁気ヘッドに切り出す工程とから成ることを特徴とす
る磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 上記基板は非磁性体から成ることを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 上記基板は非磁性体と磁性フェライトと
から成ることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの
製造方法。 - 【請求項４】 上記磁性薄膜は電気的絶縁膜を介して積
層された構造を有することを特徴とする請求項１記載の
磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18213993A JPH0721512A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18213993A JPH0721512A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721512A true JPH0721512A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=16113034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18213993A Withdrawn JPH0721512A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721512A (ja) |
-
1993
- 1993-06-29 JP JP18213993A patent/JPH0721512A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000905 |