JPH01236410A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH01236410A JPH01236410A JP6196688A JP6196688A JPH01236410A JP H01236410 A JPH01236410 A JP H01236410A JP 6196688 A JP6196688 A JP 6196688A JP 6196688 A JP6196688 A JP 6196688A JP H01236410 A JPH01236410 A JP H01236410A
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、作動ギャップを介して対向する側の側面が略
山形の突出部とされたコア基体と、上記突出部で形づく
られる両傾斜面の少くとも一方に被着された、高透磁率
、高飽和磁束密度であって磁界中熱処理によって磁気異
方性が誘起される材料からなる磁性層と、からなる2つ
のコア半体を、作動ギャップにおいて上記磁性層同志を
突き合せるようにした磁気ヘッドの製造方法に係り、更
に詳しくは、前記磁性層に対する磁界中熱処理手法に関
する。
山形の突出部とされたコア基体と、上記突出部で形づく
られる両傾斜面の少くとも一方に被着された、高透磁率
、高飽和磁束密度であって磁界中熱処理によって磁気異
方性が誘起される材料からなる磁性層と、からなる2つ
のコア半体を、作動ギャップにおいて上記磁性層同志を
突き合せるようにした磁気ヘッドの製造方法に係り、更
に詳しくは、前記磁性層に対する磁界中熱処理手法に関
する。
磁気記録の高密度化に伴い、磁気記録媒体の保磁力が高
められ、この磁気記録媒体用の磁気ヘッドとして、少く
とも作動ギャップと対向する部位を高透磁率、高飽和磁
束密度の軟磁性材料で形成するべく、コア半体の略山形
の突出部の両傾斜面に上記軟磁性材料を被着した磁気ヘ
ッドが各種提案されている。
められ、この磁気記録媒体用の磁気ヘッドとして、少く
とも作動ギャップと対向する部位を高透磁率、高飽和磁
束密度の軟磁性材料で形成するべく、コア半体の略山形
の突出部の両傾斜面に上記軟磁性材料を被着した磁気ヘ
ッドが各種提案されている。
上記構成の磁気ヘッドのように、磁気ヘッドの磁気回路
を構成するヘッドコアの少くとも一部が、磁界中での熱
処理によって磁気異方性が誘起される、例えば前記した
軟磁性材料のような磁性材料で形成されている磁気ヘッ
ドにおいては、その製造過程で、上記した磁性材料中に
一般に複数個の磁区が発生し、各磁区内部や磁壁の磁化
が安定するような磁気異方性が生じて、その部分の透磁
率が低下する。
を構成するヘッドコアの少くとも一部が、磁界中での熱
処理によって磁気異方性が誘起される、例えば前記した
軟磁性材料のような磁性材料で形成されている磁気ヘッ
ドにおいては、その製造過程で、上記した磁性材料中に
一般に複数個の磁区が発生し、各磁区内部や磁壁の磁化
が安定するような磁気異方性が生じて、その部分の透磁
率が低下する。
そのため、磁気ヘッドの出荷前に、磁界中において熱処
理を行なって、上述した弊害を緩和することが試みられ
ている。
理を行なって、上述した弊害を緩和することが試みられ
ている。
この磁界中での熱処理において、外部磁界の強度、熱処
理の温度や時間等の条件については、種々の検討がなさ
れているが、特に高周波特性の良い磁気ヘッドを得るた
めには、磁界中での熱処理によって生じる磁気異方性の
磁化容易軸方向を、磁気ヘッドの磁路内の磁束の流れに
対して略垂直 ′にするのが良いことが知られて
いる。
理の温度や時間等の条件については、種々の検討がなさ
れているが、特に高周波特性の良い磁気ヘッドを得るた
めには、磁界中での熱処理によって生じる磁気異方性の
磁化容易軸方向を、磁気ヘッドの磁路内の磁束の流れに
対して略垂直 ′にするのが良いことが知られて
いる。
第4図及び第5図は、従来の該種磁気ヘッドを示す斜視
図並びに平面図である。
図並びに平面図である。
同図において、IA、IBはコア半体で、磁性材料もし
くは非磁性材料よりなるコア基体2と、高透磁率、高飽
和磁束密度の例えばアモルファス磁性合金、或いはパー
マロイ等の磁性材料よりなる磁性層3とを、各々備えて
いる。上記コア基体は、その一側面に略山形の突出部4
をそれぞれ形成され、該突出部4で形づくられる両傾斜
面に、上記磁性層3が例えばスパッタリング法によって
被着されている。そして、両コア半体IA、IBは突出
部4の先端同志を突き合せるように組合ねされ、作動ギ
ャップ5を介して両コア半体IA。
くは非磁性材料よりなるコア基体2と、高透磁率、高飽
和磁束密度の例えばアモルファス磁性合金、或いはパー
マロイ等の磁性材料よりなる磁性層3とを、各々備えて
いる。上記コア基体は、その一側面に略山形の突出部4
をそれぞれ形成され、該突出部4で形づくられる両傾斜
面に、上記磁性層3が例えばスパッタリング法によって
被着されている。そして、両コア半体IA、IBは突出
部4の先端同志を突き合せるように組合ねされ、作動ギ
ャップ5を介して両コア半体IA。
1Bの前記磁性層3.3が相対向するように、例えば鉛
ガラス等の非磁性の接合剤6によって両コア半体IA、
IBは接合される。なお、7はコイル巻線窓である。
ガラス等の非磁性の接合剤6によって両コア半体IA、
IBは接合される。なお、7はコイル巻線窓である。
上記構成においては、前記磁性N3,3は磁界中熱処理
によって磁気異方性が誘起される材料からなっており、
前記した磁界中熱処理時の外部磁界の印加方向を、通常
作動ギャップ深さ方向りと直交する方向としている。即
ち、前記磁性N3の形状は、作動ギャップ深さ方向りの
長さに比して、トラック幅(Tw)方向T並びに磁気ヘ
ッドの記録媒体との相対摺動方向Sの長さが充分小さく
、形状異方性の影響でD方向の異方性エネルギーが一番
小さくなるため、磁気ヘッドの磁化容易軸方向はD方向
を向き易くなる。そこで、磁界中熱処理によって、より
強固な磁気異方性をD方向と直交する方向にもたせる必
要があるからである。
によって磁気異方性が誘起される材料からなっており、
前記した磁界中熱処理時の外部磁界の印加方向を、通常
作動ギャップ深さ方向りと直交する方向としている。即
ち、前記磁性N3の形状は、作動ギャップ深さ方向りの
長さに比して、トラック幅(Tw)方向T並びに磁気ヘ
ッドの記録媒体との相対摺動方向Sの長さが充分小さく
、形状異方性の影響でD方向の異方性エネルギーが一番
小さくなるため、磁気ヘッドの磁化容易軸方向はD方向
を向き易くなる。そこで、磁界中熱処理によって、より
強固な磁気異方性をD方向と直交する方向にもたせる必
要があるからである。
しかしながら、第4.5図に示したように、突出部4.
4に沿って磁性層3.3が形成されている磁気ヘッドに
おいては、磁性層3,3の形状が複雑となるので、前記
り方向と直交する方向の中から異方性エネルギーの大き
い方向を外部磁界の印加方向として磁界中熱処理を施し
た場合、その方向の異方性磁界は小さくなり、前述の形
状異方性の影響を受は易くなるため、磁気ヘッドの磁化
容易軸方向がD方向に傾くか、もしくは完全に向いてし
まい、磁気ヘッドの性能を劣化させるという問題があっ
た。
4に沿って磁性層3.3が形成されている磁気ヘッドに
おいては、磁性層3,3の形状が複雑となるので、前記
り方向と直交する方向の中から異方性エネルギーの大き
い方向を外部磁界の印加方向として磁界中熱処理を施し
た場合、その方向の異方性磁界は小さくなり、前述の形
状異方性の影響を受は易くなるため、磁気ヘッドの磁化
容易軸方向がD方向に傾くか、もしくは完全に向いてし
まい、磁気ヘッドの性能を劣化させるという問題があっ
た。
従って、本発明の解決すべき技術的課題は上記従来技術
のもつ問題点の解消にあり、その目的とするところは、
磁性層の形状異方性の影響を低減できる確実な磁界中熱
処理を施こし、性能良好な磁気ヘッドを歩留り良く提供
しうる磁気ヘッドの製造方法を提供するにある。
のもつ問題点の解消にあり、その目的とするところは、
磁性層の形状異方性の影響を低減できる確実な磁界中熱
処理を施こし、性能良好な磁気ヘッドを歩留り良く提供
しうる磁気ヘッドの製造方法を提供するにある。
本発明は上記目的を達成するため、その一側面を略山形
の突出部とした磁性材料もしくは非磁性材料よりなるコ
ア基体と、該コア基体の突出部の両傾斜面の少くとも一
方に被着された、磁界中での熱処理によって磁気異方性
が誘起される磁性材料からなる磁性層と、からなる2個
のコア半体を、前記突出部の先端部で作動ギャップを介
して前記磁性層が相対向するように接合してなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記磁性層に対し、前記作動
ギャップ深さ方向と直交する方向の中から選択される、
前記磁性層の異方性エネルギーがなるべく小さくなる方
向へ外部磁界を印加する磁界中熱処理を施すようにされ
る。
の突出部とした磁性材料もしくは非磁性材料よりなるコ
ア基体と、該コア基体の突出部の両傾斜面の少くとも一
方に被着された、磁界中での熱処理によって磁気異方性
が誘起される磁性材料からなる磁性層と、からなる2個
のコア半体を、前記突出部の先端部で作動ギャップを介
して前記磁性層が相対向するように接合してなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記磁性層に対し、前記作動
ギャップ深さ方向と直交する方向の中から選択される、
前記磁性層の異方性エネルギーがなるべく小さくなる方
向へ外部磁界を印加する磁界中熱処理を施すようにされ
る。
上記のように、磁界中熱処理時における外部磁界の印加
方向を、作動ギャップ深さ方向と直交する方向の中から
選択される磁気異方性エネルギーのなるべく小さくなる
方向とし、より強固な磁気異方性を誘起させることによ
り、磁性層の形状に起因する作動ギャップ深さ方向へ磁
気異方性を誘起させようとする形状異方性の影響を確実
に低減できる。
方向を、作動ギャップ深さ方向と直交する方向の中から
選択される磁気異方性エネルギーのなるべく小さくなる
方向とし、より強固な磁気異方性を誘起させることによ
り、磁性層の形状に起因する作動ギャップ深さ方向へ磁
気異方性を誘起させようとする形状異方性の影響を確実
に低減できる。
以下、本発明を図示した実施例を参照して説明する。
第1図は本発明の1実施例に係り、同図の構成は前記し
た第4.5図の従来構成と同等構造をとっており、第4
.5図と均等な部材、部位、方向には同一符号を付し、
その説明は重複を避けるため省略する。(なお、該実施
例においては、前記コア半体IA、IBは、例えばMn
−Znフェライト単結晶からなる磁性基体よりなってい
るが、他の磁性コア基体、或いは、非磁性のコア基体で
あっても良い、) 第1図示の構造の磁気ヘッドにおける前記磁性層3.3
の、前記作動ギャップ深さ方向りと直交する方向におけ
る磁気異方性エネルギーは、磁性層3の前記突出部4の
各傾斜面に沿った長さlが、磁性層3の厚みtよりも充
分大きいことから考えて、突出部4の傾斜面長さlに沿
った方向が最小となる。しかし、この場合図に示すよう
に、突出部4.4の4つの傾斜面に磁気記録に関与すべ
き磁性層3,3が形成されているので、突出部4の両側
の傾斜面のなす角度をθとし、この角度θによって磁性
層3.3のD方向と直交する方向中での総合的に磁気異
方性エネルギーがなるべく小さくなる方向を定義する。
た第4.5図の従来構成と同等構造をとっており、第4
.5図と均等な部材、部位、方向には同一符号を付し、
その説明は重複を避けるため省略する。(なお、該実施
例においては、前記コア半体IA、IBは、例えばMn
−Znフェライト単結晶からなる磁性基体よりなってい
るが、他の磁性コア基体、或いは、非磁性のコア基体で
あっても良い、) 第1図示の構造の磁気ヘッドにおける前記磁性層3.3
の、前記作動ギャップ深さ方向りと直交する方向におけ
る磁気異方性エネルギーは、磁性層3の前記突出部4の
各傾斜面に沿った長さlが、磁性層3の厚みtよりも充
分大きいことから考えて、突出部4の傾斜面長さlに沿
った方向が最小となる。しかし、この場合図に示すよう
に、突出部4.4の4つの傾斜面に磁気記録に関与すべ
き磁性層3,3が形成されているので、突出部4の両側
の傾斜面のなす角度をθとし、この角度θによって磁性
層3.3のD方向と直交する方向中での総合的に磁気異
方性エネルギーがなるべく小さくなる方向を定義する。
即ち、0°くθ≦90″の時には、上記総合的磁気異方
性エネルギーは、磁気ヘッドの前記相対摺動方向Sが小
さくなるので、磁界中熱処理時の磁界印加方向を略S方
向とする。また、90°≦θ<180”の時には、総合
的磁気異方性エネルギーは、磁気ヘッドの前記トラック
幅方向Tが小さくなるので、磁界中熱処理時の磁界印加
方向を略T方向とするようにしている。なお、θ=90
’のときは、S方向、T方向のどちらからの磁界印加方
向であっても良い。
性エネルギーは、磁気ヘッドの前記相対摺動方向Sが小
さくなるので、磁界中熱処理時の磁界印加方向を略S方
向とする。また、90°≦θ<180”の時には、総合
的磁気異方性エネルギーは、磁気ヘッドの前記トラック
幅方向Tが小さくなるので、磁界中熱処理時の磁界印加
方向を略T方向とするようにしている。なお、θ=90
’のときは、S方向、T方向のどちらからの磁界印加方
向であっても良い。
斯様にして、磁界中熱処理時における外部磁界の印加方
向を、作動ギャップ深さ方向りと直交する方向の中から
選択される磁界異方性エネルギーのなるべく小さい方向
とし、この外部磁界によってより強固な磁気異方性を誘
起させることにより、磁性層3.3の形状に起因する作
動ギャップ深さ方向りへ磁気異方性を誘起させようとす
る前記した形状異方性の影響を軽減でき、よって、性能
の良い、且つ性能のバラツキの少い磁気ヘッドが歩留り
良(提供できる。
向を、作動ギャップ深さ方向りと直交する方向の中から
選択される磁界異方性エネルギーのなるべく小さい方向
とし、この外部磁界によってより強固な磁気異方性を誘
起させることにより、磁性層3.3の形状に起因する作
動ギャップ深さ方向りへ磁気異方性を誘起させようとす
る前記した形状異方性の影響を軽減でき、よって、性能
の良い、且つ性能のバラツキの少い磁気ヘッドが歩留り
良(提供できる。
第2図は本発明の他の実施例による磁気ヘッドを示して
おり、同図においては前記両コア半体IA。
おり、同図においては前記両コア半体IA。
IBの磁性層3.3を、各コア基体2.2の突出部4.
4の一方の傾斜面のみに形成すると共に、両コア半体I
A、IBの磁性層3.3を上面から見て一直線上に位置
付けている。この場合、−直線の磁性層3.3に沿った
図示矢印U方向が、前述した理由により、作動ギャップ
深さ方向りと直交する方向の中で磁性層3.3の磁気異
方性エネルギーが最小となる。よって、この第2図の構
成の磁気ヘッドの場合、磁界中熱処理時の磁界印加方向
はU方向とすることが望ましい、しかし、U方向への磁
界印加が装置の都合上困難な場合は、第1図の構成と同
様にθの関係で磁界印加方向を決定すれば良い。
4の一方の傾斜面のみに形成すると共に、両コア半体I
A、IBの磁性層3.3を上面から見て一直線上に位置
付けている。この場合、−直線の磁性層3.3に沿った
図示矢印U方向が、前述した理由により、作動ギャップ
深さ方向りと直交する方向の中で磁性層3.3の磁気異
方性エネルギーが最小となる。よって、この第2図の構
成の磁気ヘッドの場合、磁界中熱処理時の磁界印加方向
はU方向とすることが望ましい、しかし、U方向への磁
界印加が装置の都合上困難な場合は、第1図の構成と同
様にθの関係で磁界印加方向を決定すれば良い。
第3図は本発明の更に他の実施例による磁気ヘッドを示
しており、同図においては前記コア半体IA、IBの磁
性層を、各コア基体2.2の突出部4.4の一方の傾斜
面にのみ形成すると共に、両コア半体IA、lBの磁性
M3.3が平面から見て略く字形となるようにしている
。この場合は、前記第1図の構成と全く同様に、前記θ
の大きさで磁界印加方向を決定すれば良い。
しており、同図においては前記コア半体IA、IBの磁
性層を、各コア基体2.2の突出部4.4の一方の傾斜
面にのみ形成すると共に、両コア半体IA、lBの磁性
M3.3が平面から見て略く字形となるようにしている
。この場合は、前記第1図の構成と全く同様に、前記θ
の大きさで磁界印加方向を決定すれば良い。
なお、必要に応じ、磁界中熱処理は複数回繰返して施こ
すこともある。
すこともある。
以上のように本発明によれば、磁性層の形状異方性の影
響を確実に低減しうる磁界中熱処理を施こすことが出来
、性能良好な磁気ヘッドを歩留り良く提供しうる磁気ヘ
ッドの製造方法を提供でき、その産業的価値は大きい。
響を確実に低減しうる磁界中熱処理を施こすことが出来
、性能良好な磁気ヘッドを歩留り良く提供しうる磁気ヘ
ッドの製造方法を提供でき、その産業的価値は大きい。
第1図は本発明の1実施例による磁気ヘッドを示す平面
図、第2図は本発明の他の実施例による磁気ヘッドを示
す平面図、第3図は本発明の更に他の実施例による磁気
ヘッドを示す平面図、第4図及び第5図は従来例に係り
、第4図は磁気ヘッドの斜視図、第5図は同平面図であ
る。 IA、IB・・・・・・コア半体、2・旧・・コア基体
、3・・・・・・磁性層、4・・・・・・突出部、5・
・・・・・作動ギャップ、6・・・・・・接合剤。 第1図 第2図 第3図
図、第2図は本発明の他の実施例による磁気ヘッドを示
す平面図、第3図は本発明の更に他の実施例による磁気
ヘッドを示す平面図、第4図及び第5図は従来例に係り
、第4図は磁気ヘッドの斜視図、第5図は同平面図であ
る。 IA、IB・・・・・・コア半体、2・旧・・コア基体
、3・・・・・・磁性層、4・・・・・・突出部、5・
・・・・・作動ギャップ、6・・・・・・接合剤。 第1図 第2図 第3図
Claims (3)
- (1)その一側面を略山形の突出部とした磁性材料もし
くは非磁性材料よりなるコア基体と、該コア基体の突出
部の両傾斜面の少くとも一方に被着された、磁界中での
熱処理によつて磁気異方性が誘起される磁性材料からな
る磁性層と、からなる2個のコア半体を、前記突出部の
先端部で作動ギャップを介して前記磁性層が相対向する
ように接合してなる磁気ヘッドの製造方法において、前
記磁性層に対し、前記作動ギャップ深さ方向と直交する
方向の中から選択される、前記磁性層の異方性エネルギ
ーがなるべく小さくなる方向へ外部磁界を印加する磁界
中熱処理を施すことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法
。 - (2)請求項(1)記載において、前記突出部の両傾斜
面のなす角度をθとした時、0°<θ≦90°の場合は
外部磁界の印加方向が前記磁気ヘッドの相対摺動方向と
なる磁界中熱処理を施こし、90°≦θ<180°の場
合は外部磁界の印加方向が磁気ヘッドのトラック幅方向
となる磁界中熱処理を施すことを特徴とする磁気ヘッド
の製造方法。 - (3)請求項(1)記載において、前記磁界中熱処理を
2回以上施すことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6196688A JPH01236410A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6196688A JPH01236410A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01236410A true JPH01236410A (ja) | 1989-09-21 |
Family
ID=13186430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6196688A Pending JPH01236410A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01236410A (ja) |
-
1988
- 1988-03-17 JP JP6196688A patent/JPH01236410A/ja active Pending
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