JPS5895338A - 熱現像性感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱現像性感光材料に関するものであり、特に脂
肪酸のす）　ＩＪウム塩或いはカリウム塩及びホモフタ
ル酸等の安息香酸類を含有することにより最大濃度を増
し、熱現像寛容度（加熱現像時の加熱条件の広さ）を増
し、また高温高湿下の保存による経時安定性を向上させ
た熱現像性感光材料に関するものである。

従来より用いられているハロゲン化銀写真法は感光性、
階調性等に於いて他の写真法に比して勝るものであるが
、定着、漂白等の処理工程が湿式であるが為に、その取
扱いが煩雑であり、又処理工程を機械化する為にも不都
合な面が多い。かかるハロゲン化銀写真法に代り乾式処
理による画像形成が数多く試みられている。従来の画像
形成法に比較して特に勝れているものとして、現像工程
を熱処理で行う熱現像性感光材料を用いた画像形成法が
提案されている。

例えば、特公昭４３−４９２４号公報には、有機鋼塊及
び有機銀イオンに対して触媒的に接触しているハロゲン
化銀から成る熱現像性感光材料が記載されている。又こ
れに類するものとして特公昭４４−２６５８２号及び特
開昭４６−６０７４号に記載がある。父上記の他に像露
光前に加熱処理を施して活性化させて感光性となしてか
ら、像露光後、現像画像を形成する為に全体的に加熱す
る熱現像性感光材料及びそれらの調製方法が提案されて
いる。この熱現像性感光材料は、ハロゲン化銀を含有し
ていないか、或いはハロゲン化銀を含有しても感光性を
全く有していない熱現像性感光要素から成り、具体的に
は特公昭５］−２９８１９号、特公昭５３−４１９６７
号、特公昭５４−５６８７号各公報に記述されている。

熱現像性感光材料は、画像形成を湿式の工程によらない
という利点を有するが、一方感度及びかぶり濃度等の画
像特性は、従来より用いられているハロゲン化銀写真法
に比べ未だ充分とはいえない。そして最大の欠点は、高
温高湿下で保存すると画像特性が変化し、感度の低下、
最大濃度の低下及びカブリの発生等が生ずることである
。

かかる欠点を改善する為に種々の方法が提案されている
。特公昭５４−４４２１２号公報のチオスルホン酸塩を
用いる方法は、高温高湿下での経時による減感に対し成
る程度効果があるが、最大濃度の低下には効果が少ない
。特開昭５１−５４４２８号公報のスルフィン酸類とフ
タル酸類の併用は、高温高湿下の保存によるカブリの発
生を防止することには有効であるが、しかし高温高湿下
の保存による感度の低下の防止及び画像形成後の光に対
する安定性は不充分である。

従って本発明の目的は、熱現像寛容度が広く高温高湿下
で保存されてもカブリの増加が少なく、また最大濃度の
低下が少ない熱現像性感光材料を提供することである。

本発明のかかる目的は、支持体上に少なくとも（ａ）被
還元性有機銀塩及び還元剤からなる酸化−還元画像形成
成分及び（ｂ）感光性・・ロゲン化銀又は（及び）感光
性・・ロゲン化銀形成成分及び（Ｃ）バインダーからな
る熱現像性感光要素を単層若しくは多層に形成した熱現
像性感光要素に於て、（ｄ）下記一般式（■）、（■）
及び（Ｔ［ｌ）で表わされる化合物の少なくとも一種及
び（ｅ）下記一般式（ｒＶ）で表わされる化合物の少な
くとも一種を含有することにより達成された。

一般式（１） ％式％ 式中Ｒ１は直鎖又は分岐したアルキル基、アルケニル基
又はアラルキル基を表わし、Ｍｌはナトリウム又はカリ
ウムを表わす。

一般式（ＴＩ） Ｍ２Ｏ０Ｃ−Ｒ２−ＣＯＯＭ３ 一般式（ｍ） Ｍ２Ｏ０Ｃ−Ｃ００Ｍ３ 式中Ｒ２は直鎖又は分岐したアルキレン基又はアルケニ
レン基を表わし、Ｍ２及びＭ３は水素、ナトリウム又は
カリウムを表わす（但しＭ２とＭ３が同時に水素である
ことはない）。

一般式（ＩＶ） 式中２は−０−１−Ｓ−１−ＮＨ−１−（ＣＨ）ｎ−１
Ｒ４は水素原子、又はアルキル基（例えばメチル基、エ
チル基）、ｎはＯ又は１１２、Ｘ及びＹは水素原子又は
クロル原子、ブロム原子、メチル基、エチル基、メトキ
シ基、エトキン基、シアノ基、二１・口塞、カルボギン
基、メトキンカルボニル基、エトキンカルボニル基、フ
ェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、
アセトアミノ基、アミノ基、Ｒ３は水素原子、アルキル
基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
）、置換又は未置換のアリル基（例えばフェニル基、り
０　／ｌ／　原子、ブロム原子、ニトロ基、シアノ基、
アミン基、アセトアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、
メチル基、メトキンカルボニル基、エトキンカルボニル
基などで置換されたフェニル基でそれらの置換基は同−
又は異っても良い基が２つ以上置換されていてもよい）
）：！−表わす（但し、ｎ二〇の時Ｒ３は水素原子であ
ることはない。）。

次に具体的な化学物を列挙するが、必ずしもこれらに限
定されるものではない。

一般式（ＩＬ　（Ｉ［）又は（■）で表わされる化合物
（１）　　ＣＨ３ＣＯ０Ｎａ （２）ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＮａ （３）　　ＣＨｓ　ＣＲ２ＣＯＯＮａ （４）　　ＣＲ３（ＣＲ２）２　ＣＯＯＮａ（５）　　
（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２ＣＯＯＮａ（６）　　ＣＨ３Ｃ
Ｈ＝　ＣＨＣＨ＝　ＣＨＣＯＯＮ　ａ（７１ＣＲ３（Ｃ
Ｒ２）４　ＣＯＯＮａ（８）　　ＣＨ３（ＣＨ２）３Ｃ
Ｈ（ＣＨ３）ＣＯＯＮａ（９）　　ＣＲ３（ＣＲ２）６
ＣＯＯＮａα＊　　ＣＲ３（ＣＲ２）８　ＣＯＯＮａα
ｆ＋　　ＣＨ３（ＣＨ２）１ｏＣＯＯＮａ’ＩＩ　　Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）＋□Ｃ００Ｎａ（Ｊ：４　　ＣＲ３（Ｃ
Ｒ２）１４　ＣＯＯＮａｗ　　ＣＨ３（ＣＨ２）４ＣＨ
＝ＣＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯＮａＱｆｅ
　　ＣＨｓ　（ＣＲ２）＋６　ＣＯＯＮａα７１１　　
ＣＲ３（ＣＲ２）１８　ＣＯＯＮａα＄　　ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）２ｏｃＯＯＮａ（１１Ｎａ０ＯＣＣ０ＯＮａ ｋ）　　　Ｎａ００ＣＣＨ２ＣＯＯＮａ＠ｆ）　　　Ｈ
ＯＯＣＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ＠　　　ＨＯＯＣ（ＣＨ
２）ａｃＯＯＮａ翰　　ＣＨ３ＣＯ０Ｋ （ハ）　　ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ００Ｋ（ハ）　　Ｃ
Ｈ３（ＣＩ（２）３ＣＯＯＫ（ハ）　　（ＣＨ，、）、
ＣＣ００Ｋ ＠　　　ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨＣ００Ｋ（ハ）　
　ＣＨ３（ＣＨ２）４Ｃ００Ｋ翰　　ＣＨ３（ＣＨ２）
８ＣＯＯＫ （ト）　　ＣＲ３（ＣＲ２）。Ｃ００ＫＯ■　　ＣＨｓ
　（ＣＲ２ＣＨ＝　ＣＨ）ｓ　（ＣＨ２）？　ＣＯＯＫ
（イ）　　ＣＲ３（ＣＲ２）７　ＣＨ＝　（ＣＲ２）７
　ＣＯＯＲ０３ＣＨ３（ＣＨ２）１８ＣＯＯＫ ０４）　　　ＣＨ３（ＣＨ２）２０ＣＯＯＫＣ３０ＫＯ
ＯＣＣＨ＝ＣＨＣＯＯＫ （ト）　　ＫＯＯＣＣＨ，、Ｃ００Ｋ ０７）　　ＨＯＯＣＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＫ（ト）　　Ｈ
ＯＯＣＣＨ２Ｃ（＝ＣＨ２）ＣＯＯＫ（３１ＫＯＯＣ（
ＣＨ２）、Ｃ００Ｋ ＩＩ　　　ＫＯＯＣ（ＣＨ２）７ＣＯＯＫθ１）　　　
ＨＯＯＣ（ＣＨ２）８ＣＯＯＫ一般式（ＴＶ）で表わさ
れる化合物 ＣＨ３ 一般式（ＴＶ）の化合物は通常の方法で製造することが
できる。例えば酸無水物とアルコール類又はフェノール
類との反応、カルボン酸類と塩酸又は硫酸等の触媒の存
在下、アルコール類又はフェノール類のエステル化反応
、カルボン酸ジエステル類の加水分解、酸クロライドと
アルコール類又はフェノール類との反応により容易に製
造することができる。

次に一般式（ｒｖ）の化合物の合成例を示す。

合成例１（例示化合物ＸＸＴＩ） Ｏ−アミノ安息香酸１３．７！！をピリジン６〇−に溶
解し、この溶液を水浴中で冷却しているところへクロル
ギ酸エチル１３９を加えた。添加後室温で１時間攪拌し
、反応溶液を塩酸酸性にした氷水中に注入した。析出物
を濾別し、乾燥した後リグロインを用いて再結晶し、融
点１２３℃の結晶１４ｇを得た。

合成例２（例示化合物罰） ホモフタル酸無水物１６　ｇをエタノール２０〇−に混
合し、５時間加熱還流した後、エタノールを溜去した。

残渣を水を用いて再結晶し、融点１０６〜１０７℃の結
晶を得た。

本発明の化合物の添加方法及び添加時期は特に限定され
るものではなく、例えば適当な溶媒に溶解した状態で熱
現像性感光材料塗布液中に型持添加する方法、又は熱現
像性感光材料塗布液を支持体上に塗布乾燥した後に該表
面を本発明の化合物を含有する溶液で浸漬処理する方法
などを採用することが出来る。本発明の化合物の好適な
る添加量範囲は、被還元性有機銀塩１モル当り成分（ｄ
）は０．００１モル〜０．２モル、特に好ましくは０．
０１〜０１モルの範囲であり、成分（ｅｌは０．０００
１モル−１，０モル、特に好ましくは０．０１モル〜０
．１モルの範囲である。

本発明に用いる熱現像性感光要素は、被還元性有機銀塩
および還元剤から成る酸化−還元画像形成成分、および
バインダーを少なくとも含有しており、このものを単一
層に含有させることができるが被還元性有機銀塩および
還元剤を別個の層にして多層とするか若しくは上記の単
一層の上又は下に更に被還元性有機銀塩又は還元剤を含
有する層を設けた多層とすることもできる。この被還元
性有機銀塩は、特公昭４３−４９２４号および特開昭４
６−６０７４号各公報に記載の有機酸の銀塩、或いはイ
ミノ基又はメルカプト基を有する有機化合物の銀塩であ
り、特に炭素数１２個〜２４個の長鎖脂肪酸銀塩は室温
、室内光下で暗着色化等の不都合な変化を受は難いため
好ましいものである。

具体的にはベヘン酸銀、ステアリン酸銀、バルミチン酸
銀、ミリスチン酸銀、ラウリン酸銀、オレイン酸銀、又
はヒドロキンステアリン酸銀等を挙けることができ、そ
のうち特にベヘン酸銀が最も有効である。

更に本発明による熱現像性感光材料は、画像の色調性、
画像形成後の安定性を改善する為に有機酸を用いること
が好ましく、特に脂肪酸銀を被還元性有機銀塩として用
いる場合、それらと同一か又は近傍の脂肪酸を単独或い
は組合せて含有せしめることが望ましい。それらの脂肪
酸の使用量は被還元性有機銀塩に対し２５モル％〜２０
０モル係であり好適には３０モル％〜１２０モル係が好
ましい。

前述の酸化−還元画像形成成分に用いる還元剤は種々の
ものを挙けることができる。一般的には通常のハロゲン
化銀感光材料に用いられる現像薬、具体的にはハイドロ
キノン、メチルハイドロキノノ、クロロハイドロキノン
、メチルヒドロキシナフタレン、Ｎ、Ｎ’−ジエチル−
Ｐ−フェニレンジアミン、アミンフェノール、アスコル
ビン酸、］−］フェニルー３−ピラゾリドンを挙けるこ
とができ、又これらの他に２，２′−メチレンビス（６
−ターシャリ−ブチル−４−メチルフェノール）、４１
４′−ブチリデンビス（６−ターシャリ−ブチル−３−
メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−ターシ
ャリ−ブチル−３−メチルフェノール）等、更には特開
昭４６−６０７４号公報に記載のビスナフトール系還元
性化合物、或いはベルギー特許第８０２５１９号１１４
ｉ１ｔに記載の４−ベンゼンスルポンアミドフェノール
等のスルボンアミドフェノール系化合物等を挙けること
ができる。

本発明による熱現像性感光要素は、バインダーを単独若
しくは組合せて層中に含有することができる。バインダ
ーの適当な材料は疎水性あるいは親水性であることがで
き、又透明若しくは半透明であることができる。具体的
には、ポリビニルブチラール、セルロースアセテートブ
チレート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルピ
ロリドン、エチルセルローズ、酢酸セルローズ、ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カナダ特
許第７７４０５４号明細書に記載のスルホベタイン繰り
返し単位を有するもの等を挙けることができる。バイン
ダーの使用量は被還元性有機銀塩に対し、重量比て１ｏ
：１乃至１：１ｏが好ましく、更に好ましくは４：１乃
至ｌ：２の範囲である。

この熱現像性感光要素には、特に感光性を付与するため
にハロゲン化銀、例えば塩化鋼、臭化銀、沃化銀、沃臭
化銀、沃塩化銀、沃塩臭化鋼を含有せしめる必要がある
。このハロゲン化銀は、特に微細な粒子状のものが有効
であり、これを調製する方法上して被還元性有機銀塩の
一部をハロゲン化銀形成成分例えば臭化アンモニウム、
臭化リチウム、塩化すトリウム、Ｎ−ブロムコハク酸イ
ミド、等によりハロゲン化して微細なハロゲン化銀を調
製する方法が挙けられる。又、いイっゆる系外ハロゲン
化銀を含有させる方法も用いることができる。

この系外・・ロゲン化銀を含有する熱現像性感光要素は
、ｆｌｌえばベルギー特許第７７４４３６号明細書に記
載されている。即ち熱現像性感光要素とは別のところで
換言すると、酸化−還元画像形成成分の外で感光性ハロ
ゲン化銀を調整し、次いで調製後そのハロゲン化銀を上
記画像形成成分に添加して混合することによって調製さ
れる。ハロゲン化銀（又はハロゲン化銀形成成分）の好
適な含有量は被還元性有機銀塩１モル当り好ましくは０
．００１モル〜０．０３モル更ニ好マしくは０．０１モ
ル〜０．１５モルである。

また、適当な色調剤を含有することができる。

この目的のための色調剤は、米国特許第３０８０２５４
号明細書に記載のフタラジノン又はその誘導体、特開昭
４６−６０７４号公報に記載の環式イミド類、特開昭５
０−３２９２７号公報に記載のフタラジンジオン化合物
等を包含する。

本発明の熱現像性感光要素は、本発明以外の熱カブリ防
止剤と併用することができる（熱カブリとは、加熱現像
により生ずる未露光部の白地カブリを意味する）。熱カ
ブリ防止剤としては、特公昭４７−１１１１３号公報記
載の水銀化合物、特公昭５５−４２３７５号公報記載の
１．２．４−１−リアゾール化合物、特願昭５５−１０
５２７０号記載のテトラゾール化合物及び特願昭５６−
３３４８３号記載のスルホニルチオ基を有する化合物等
を挙げることができる。

本発明の熱現像性感光要素は、更に現像促進剤、硬化剤
、帯電防止剤（層）、紫外線吸収剤、螢光増白剤、フィ
ルター染料（層）等を含有することができる。

本発明による要素には、適当な分光増感剤を含有するこ
とができる。有用な増感舎素は、シアニン色素、メロシ
アニン色素、キサンチン色素、特に［プロダクト　ライ
センソング　インデックス」Ｖｏ１９２、第１０７〜１
１０頁（１，９７１年１２月発行）あるいはベルギー特
許第７７２３７］号明細書に記載されたものが有用であ
る。

本発明による熱現像性感光要素は適当な支持体上に被覆
を形成して熱現像性感光材料を得ることができる。代表
的な支持体としてポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、酢酸セル
ロースなどの合成樹脂フィルム、合成紙、ポリエチレン
などの樹脂フィルムで被覆された紙、アート紙、写真用
バライタ紙などの紙類、又はアルミニウムなどの金属板
（箔）類、通常の方法により金属蒸着膜を有する合成樹
脂フィルム又はガラス板などを挙けることができる。

以下、本発明を実施例に従って説明するが、勿論本発明
はこれらに限定されるものではない。

実施例１ ベヘン酸鋼２ｓ、９．ベヘン酸２０ｇ、キシレノ２００
記及びｎ−ブタノール２００　ｍｌをホモミキザーを用
いて分散し分散液を調製した。この分散液にポリビニル
ブチラール１０９を加へ攪拌溶解させた後６５℃に加熱
調温し、２５−のアセＩ・ンに溶解したＮ−ブロムコハ
ク酸イミド１．０．ｊｉ’を添加し２時間攪拌した。次
いでこの分散液を３０°Ｃに調温し、２１２′−メチレ
ンビス（６−１−ブチル−４−メチルフェノール）の８
重量％及びポリビニルブチラールの２０重量−のキシレ
ン／ｎ−ブタノール（容積比で１／１）の溶液２５０−
１例示化合物（７）の１０重量％メタノール溶液３．９
ｍｌ及び３−エチル−５−（（３−メチル−２−テアシ
リリチン）エチリデン〕ローダニンの０．１重量％ＤＭ
Ｆ溶液１０　ｍｌを順次添加し第１塗布液を調製した。

この第１塗布液をロールコータ−を用い写真用原紙」二
に塗布した。この際乾燥時の塗布量は＋０．０．ｊｉｌ
／７７１”であった。次いで第１塗布液を塗布して形成
された被覆上に、下記構成成分から成る第２塗布液を乾
燥時の塗布量が２．５ｇ／ｍ”となるように重ねて塗布
し、熱現像性感光材料（Ａ）を調整した。

第２塗布液 フタラジノン　　　　　　　　　　　　２５．９セルロ
ースアセテート　　　　　　　　５０ｇ例示化合物（Ｘ
ＴＶ）の１０重量％メタノール溶液　５．４−アセトン
　　　　　　　　　　　　１，０００ｍ１又、例示化合
物（７）を除いた以外は熱現像性感光材料（Ａ）と同様
な方法で熱現像性感光材料（Ｂ）を作成した。又更に熱
現像性感光材料（Ａ）より例示化合物（７）及び例示化
合物（ＸＩＶ）を除いた以外は、熱現像性感光材料（Ａ
）と同様な方法で熱現像性感光材料（Ｃ）を作成した。

経時による画像特性の変化を見る為に、熱現像性感光感
光材料（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を温度３５℃、相対温
度８０％の条件下に１２０時間保存し試料を作成した。

以上の試料について１５０Ｗ引き伸し用タングステンラ
ンプを光源として４００ルクスで１０秒開光１１１！（
コダックステップタブレットＡ２）を用い露光を与え、
１３０℃、７秒間又は１３０°Ｃ１１２秒間で加熱ロー
ラーを用い熱現像を施し画像を作成した。得られた画像
の最大濃度及びカブリ濃度を測定し、表−１に示す結果
を得た。

表　　−１ 表−１より明らかなように、例示化合物（７）及び（Ｘ
ＴＶ）を用いた本発明の熱現像性感光材料（Ａ）は、比
較的温和な現像条件である１３０°Ｃ１７秒に於て、熱
現像性感光材料（Ｂ）及び（Ｃ）に比べ、高い最大濃度
を有している。又本発明の熱現像性感光材料体）は、他
の熱現像性感光材料（Ｂ）、（Ｃ）と比べ現像時間の延
長による最大濃度及びカブリ濃度の変化が少ない。

これは本発明の熱現像性感光材料が広い熱現像寛容度を
有していることを示している。更に本発明の熱現像性感
光材料（Ａ）は、高温高湿下での経時保存による最大濃
度の減少及びカブリの増加も極めて少ないことも知るこ
とができる。

実施例２ 実施例１の熱現像性感光材料（Ａ）の例示化合物（７）
の代わりに、例示化合物０４７５０　ｍ、を用い熱現像
性感光材料（Ｄ）を、例示化合物（ｌｉｅ　８２０　ｍ
９を用い熱現像性感光材料（Ｅ）を、例示化合物（（Ｉ
）　６５０　ｍ９を用い熱現像性感光材料（Ｆ）を、例
示化合物（３９５９（１１９を用い熱現像性感光材料（
Ｇ）をそれぞれ調製し、実施例１の記載に従って経時保
存及び露光、熱現像を施し下記表−２に示す結果を得た
。尚比較試料として実施例１の熱現像性感光材料（Ｂ）
を用いた。

表　　−２ 表−２より明らかなように、本発明の化合物を使用する
ことにより、熱現像寛容度が広く、高温高湿下での保存
性に優れた熱現像性感光材料が得られることが分かる。

実施例３ 実施例１の熱現像性感光材料（Ａｌの例示化合物（ＸＴ
Ｖ）の代わりに、例示化合物（Ｔ）１．８ｇを用い熱現
像性感光材料（［（）を、例示化合物（ＸＶ）　Ｉ　、
９　、？を用い熱現像性感光材料（Ｔ）を、例示化合物
（ＸＩＸ）　２．１　ｇを用い熱現像性感光材料（Ｊ）
を、例示化合物（ＸＸ■）２．１ｇを用い熱現像性感光
材料（Ｋ）を調製した。

又例示化合物（ＸＩＶ）を除いた以外は、熱現像性感光
材料（Ａ）と同様な方法で比較試料として熱現像性感光
材料（Ｌ）を調製した。実施例１の記載に従って経時保
存及び露光、熱現像を施し、下記表−３に示す結果を得
た。

表　−３ 表−３より明らかなように、本発明の化合物を使用する
ことにより、熱現像寛容度が広く、高温高湿下での保存
性に秀れ、更にカブリの少ない熱現像性感光材料が得ら
れることが分かる。

実施例４ ベヘン酸銀２５．９、ベヘン酸２０．９）　　キンレン
３２５ｒｎ１．及びｎ−ブタノール３２５　ｍｌをホモ
ミキサーを用いて分散し、分散液を調整した。この分散
液にポリビニルブチラール４０．９を加えて攪拌溶解し
た。その後５０℃に加熱調温し、メタノール５０　ｍｌ
に溶解した臭化リチウム０．２５．９を加工２時間攪拌
を続けた。後３０℃に調潟し例示化合物（１υの１０重
量係メタノール溶液５．４ｒｎｌ加え、第１塗布液とし
た。次いでロールコーク−によりこの第１塗布液を乾燥
時の塗布量が７．０ｇ／ｒｒｊになるように写真用原紙
上に塗布した。更に下記の第２塗布液を乾燥時の塗布量
がｓ　、　３　ｆｌ／ｒｒｊ　ｉこなるように塗布し、
熱現像性感光材料（Ｍ）を調製した。

第２塗布液 ２１２′−メチレンビス（６−１−ブチル−４−メチル
フェノール）　　　　　　　　　　　５０ｇフタラジノ
ン　　　　　　　　　　　１５ｇ例示化合物（Ｔｌ）　
　　　　　　　　　　０，６ｇ米 増感舎素　　　　　　　　　　　０．０１ｇポリビニル
ブチラール　　　　　　　４０．ｊ９キルン　　　　　
　　　　　　　５００ｔｎ！。

ローブタノール　　　　　　　　　５０〇−米３−エチ
ル−５−（（３−メチル−２−チアゾリリデン）エチリ
デンコロ−、ダニン又例示化合物Ｏｆｆを除いた以外は
、熱現像性感光材料（財）と同様な方法を用い熱現像性
感光材料（間を作製した。更に熱現像性感光材料（財）
より例示化合物（ＩＧ及び例示化合物（ＴＩ）を除いた
以外は、熱現像性感光材料（財）と同様な方法を用い熱
現像性感光材料（０）を作成した。経時による画像特性
の変化を見る為（こ熱現像性感光材料（財）、（Ｎ）及
び（０）を温度３５℃、相対温度８０％の条件下に１２
０時間保存し試料を作成した。

以上の試料について１５０Ｗ引き伸し用タングステンラ
ンプを光源として４００ルツクスで１０秒間光櫟（コダ
ックステップタブレット＆２）を用い露光を与え、１２
５℃、７秒又は１２５℃、１２秒間加熱ローラーを用い
熱現像を施し画像を作成した。得られた画像の最大濃度
及びカブリ濃度を測定し、表−４に示す結果を得た。

表　　−４ 性感光　最大濃度　カブリ濃度　最大濃度　カブリ濃度
材料　　当時経時当時経時当時経時当時経時Ｉｙｆ）　
　　１，７３　１，７０　０，１３　０，１５　１，７
８　１，７８　０．１５．０．１７（団　　１．ｉｔｓ
　　１．３Ｇ　　Ｏ，１３（１，１５１，６０１，５５
０，１５’０．１８：Ｏ）　　　１，３０　１，００　
０．３０　　ｏ、ｓｏ　　１，５０　１．２０　　ｏ、
ｓｏ　　ｏ、ｓ５表−４の結果より、本発明の熱現像性
感光材料に）は、比較の熱現像性感光材料（Ｎ及び（０
）に比べ、熱現像寛容度が広く、更（こ経時保存の最大
濃度の減少が極めて少ないことが分かる。

特許出願人 オリエンタル写真工業株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも（ａ）被還元性有機銀塩及び還元
   剤からなる酸化−還元画像形成成分、（ｂ）感光性ハロ
   ゲン化銀又は（及び）感光性ハロゲン化銀形成成分及び
   ＦＣ＋バインダーからなる熱現像性感光要素を単層若し
   くは多層に形成した熱現像性感光材料に於て、前記熱現
   像性感光要素が（ｄ）下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）又は
   （Ｉ［ｌ）で表わされる化合物の少なくとも一種及び（
   ｅ）下記一般式（ＩＶ）で表わされる化合物の少なくと
   も一種を含有することを特徴とする熱現像性感光材料。 一般式（Ｉ） Ｒ，−ＣＯＯＭ。 式中Ｒ１は直鎖又は分岐したアルキル基、アルケニル基
   又はアラルキル基を表わし、Ｍ、はナトリウム又はカリ
   ウムを表わす。 一般式（■） Ｍ２Ｏ０Ｃ−Ｒ２−ＣＯＯＭ３ 一般式（ｍ） Ｍ２Ｏ０ＣＣ００Ｍ３ 式中Ｒ２は直鎖又は分岐したアルキレン基又はアルケニ
   レン基を表わし、Ｍ２及びＭ３は水素、ナトリウム又は
   カリウムを表わす（但しＭ２とＭ３が同時に水素である
   ことはない）。 一般式（ＩＶ） ４ Ｒ４は水素原子又はアルキル基を表わし、ｎは０又は１
   ．２、Ｘ及びＹは各々水素原子、ハロゲン原子、アルキ
   ル基、アルコキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボ
   ニル基、ニトロ基、アミノ基又はアンルアミノ基、Ｒ３
   は水素原子、アルキル基、置換又は非置換のアリル基を
   表わす（但しｎが０のときＲ３が水素原子であることは
   ない）。