JPS584717B2 - ピリド〔３，２，１−ｊｋ〕カルバゾ−ル誘導体 - Google Patents
ピリド〔３，２，１−ｊｋ〕カルバゾ−ル誘導体Info
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- JPS584717B2 JPS584717B2 JP52137418A JP13741877A JPS584717B2 JP S584717 B2 JPS584717 B2 JP S584717B2 JP 52137418 A JP52137418 A JP 52137418A JP 13741877 A JP13741877 A JP 13741877A JP S584717 B2 JPS584717 B2 JP S584717B2
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- pyrido
- compound
- carbazole
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/06—Peri-condensed systems
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/12—Antivirals
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P35/00—Antineoplastic agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/88—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なピリド〔３・２・１−ｊｋ〕カルバゾー
ル誘導体及びその塩に関する。
ル誘導体及びその塩に関する。
本発明のビリド〔３・２・１−ｊｋｌカルバゾール誘導
体は下記一般式〔■〕で表わされる。
体は下記一般式〔■〕で表わされる。
式中Ｒは水素原子又は低級アルキル基，Ｙは低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子，ニトロ基、アミン基、低級アル
カノイルアミノ基、及び低級アルキル基から選ばれた基
、及びｎは０，１又は２を示す。
キシ基、ハロゲン原子，ニトロ基、アミン基、低級アル
カノイルアミノ基、及び低級アルキル基から選ばれた基
、及びｎは０，１又は２を示す。
上記において低級アルキル基には、炭素数１〜４の直鎖
もしくは分枝状のアルキル基例えば、メチル、エチル、
プロビル、イソプロビル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基
等が包含される。
もしくは分枝状のアルキル基例えば、メチル、エチル、
プロビル、イソプロビル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基
等が包含される。
また低級アルコキシ基には炭素数１〜４の直鎖状もしく
は分枝状のアルコキシ基例えばメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ，ｔｅｒｔ−ブト
キシ基等が、ハロゲン原子には塩素、臭素、沃素、弗素
原子等が夫々包含される。
は分枝状のアルコキシ基例えばメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ，ｔｅｒｔ−ブト
キシ基等が、ハロゲン原子には塩素、臭素、沃素、弗素
原子等が夫々包含される。
上記一般式ＣＩ）で表わされる本発明の新規なピリド〔
３・２・１−ｊｋ）カルバゾール誘導体及びその塩は、
抗菌作用、制ガン作用、抗ウイルス作用を有し、抗菌剤
、制ガン剤及びウイルス剤として有用である。
３・２・１−ｊｋ）カルバゾール誘導体及びその塩は、
抗菌作用、制ガン作用、抗ウイルス作用を有し、抗菌剤
、制ガン剤及びウイルス剤として有用である。
一般式（Ｉｌで表わされる本発明のピリド〔３・２・１
−ｊｋ）カルバゾール誘導体は各種方法により製造でき
る。
−ｊｋ）カルバゾール誘導体は各種方法により製造でき
る。
代表的方法としては例えば下記反応行程式−■に示す反
応を利用する方法が挙げられる。
応を利用する方法が挙げられる。
反応行程式−■
〔式中Ｙ．ｎ、及びＲは上記に同じ〕
上記において、出発原料とする一般式〔■〕で表わされ
る化合物は公知の化合物であるか又は公知の方法に準じ
て容易に製造できるものである。
る化合物は公知の化合物であるか又は公知の方法に準じ
て容易に製造できるものである。
該化合物〔■〕と一般式（Ｉ）で表わされる化合物との
反応は、無溶媒又はメタノール、エタノール，インプロ
パノール、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸アミド等の溶
媒中好ましくは無溶媒で行なわれる。
反応は、無溶媒又はメタノール、エタノール，インプロ
パノール、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸アミド等の溶
媒中好ましくは無溶媒で行なわれる。
化合物ＣＩＩ）に対する化合物ＩＩＩの使用割合は通常
等モル以上であればよく、無溶媒下の反応では好ましく
は等モル量、溶媒下の反応では好ましくは１．１〜１．
５倍モル量とするのがよい。
等モル以上であればよく、無溶媒下の反応では好ましく
は等モル量、溶媒下の反応では好ましくは１．１〜１．
５倍モル量とするのがよい。
反応温度は通常室温〜１５０℃程度、好ましくは１００
〜１３０℃であり、反応は通常０．５〜６時間で完了し
、容易に一般式ＣＶ）で表わされる化合物を収得できる
。
〜１３０℃であり、反応は通常０．５〜６時間で完了し
、容易に一般式ＣＶ）で表わされる化合物を収得できる
。
かくして得られる化合物ＣＶ）の環化反応は従来公知の
各種環化反応に準じて行ない得る。
各種環化反応に準じて行ない得る。
例えば加熱による方法、オキシ塩化リン、五塩化リン、
三塩化リン、チオニルクロライド、濃硫酸、ポリリン酸
等の酸性物質を用いる環化法等を挙げることができる。
三塩化リン、チオニルクロライド、濃硫酸、ポリリン酸
等の酸性物質を用いる環化法等を挙げることができる。
加熱による環化法を採用する場合、高沸点炭化水素化合
物及び高沸点エーテル類例えばテトラリン酸ジフエニル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
溶媒を用い、通常１００〜２５０℃、好ましくは１５０
〜２００℃の加熱条件を採用するのが好ましい。
物及び高沸点エーテル類例えばテトラリン酸ジフエニル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
溶媒を用い、通常１００〜２５０℃、好ましくは１５０
〜２００℃の加熱条件を採用するのが好ましい。
又酸性物質を用いる環化法を採用する場合之を化介物Ｃ
Ｖ）に対して等モル乃至大過剰量好ましくは１０〜２０
倍量用い、通常１００〜１５０℃で０、５〜６時間程度
反応させればよい。
Ｖ）に対して等モル乃至大過剰量好ましくは１０〜２０
倍量用い、通常１００〜１５０℃で０、５〜６時間程度
反応させればよい。
かくして本発明の一般式ＣＩ）で表わされるピリド〔３
・２・１−ｊｋｌカルバゾール誘導体ＣＩ１を収得でき
る。
・２・１−ｊｋｌカルバゾール誘導体ＣＩ１を収得でき
る。
また上記により得られる化合物〔■〕は下記反応行程式
−■に示すように任意に加水分解又はエステル化するこ
とができる。
−■に示すように任意に加水分解又はエステル化するこ
とができる。
反応行程弐一■
〔式中Ｙ及びｎは上記に同じ、Ｒ／ぱ低級アルキル基を
示す〕 上記において加水分解反応は、常法に従い、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム，水酸化バリウム等の塩
基性化合物、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、芳香族
スルホン酸等の有機酸等の慣用の触媒の存在下に行なわ
れる。
示す〕 上記において加水分解反応は、常法に従い、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム，水酸化バリウム等の塩
基性化合物、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、芳香族
スルホン酸等の有機酸等の慣用の触媒の存在下に行なわ
れる。
該反応はまた一般には水、メタノール、エタノール、イ
ンプロパノール，アセトン、メチルエチルケトン、ジオ
キサン、エチレングリコール、酢酸等の通常の溶媒中で
実施される。
ンプロパノール，アセトン、メチルエチルケトン、ジオ
キサン、エチレングリコール、酢酸等の通常の溶媒中で
実施される。
反応温度は通常室温〜２００℃、好ましくは５０〜１５
０℃である。
０℃である。
またエステル化反応は、塩酸ガス、濃硫酸、リン酸，ポ
ＩＩン酸、三弗化硼素、過塩素酸等の無機酸，トリフル
オロ酢酸、一ノクロロメタンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸，Ｉ−トシル酸、ベンゼンスルホン酸、エタン
スルホン酸等の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無
水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等の酸無水
物、塩化チオニル等のエステル化反応に慣用の触媒の存
在下に行なわれる。
ＩＩン酸、三弗化硼素、過塩素酸等の無機酸，トリフル
オロ酢酸、一ノクロロメタンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸，Ｉ−トシル酸、ベンゼンスルホン酸、エタン
スルホン酸等の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無
水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等の酸無水
物、塩化チオニル等のエステル化反応に慣用の触媒の存
在下に行なわれる。
また該反応は無溶媒でも又はベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等の・ロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類等の溶媒中でも実施される。
レン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等の・ロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類等の溶媒中でも実施される。
該エステル化反応に用いるアルコールの使用割合は化合
物ＣＩｂ）に対し等モル以上であれば特に制限されない
が、無溶媒下では大過剰が、溶媒の存在下では１〜５倍
モル好ましくは１〜２倍モルとするのがよい。
物ＣＩｂ）に対し等モル以上であれば特に制限されない
が、無溶媒下では大過剰が、溶媒の存在下では１〜５倍
モル好ましくは１〜２倍モルとするのがよい。
反応温度としては通常−２０〜２００℃好ましくはＯ〜
１５０℃が採用される。
１５０℃が採用される。
更に本発明の目的化合物中Ｙが水素原子、ハロゲン原子
である化合物は、Ｙがニトロ基である化合物〔Ｉｃｌか
ら下記反応行程式一■に示す方法によって夫々製造でき
る。
である化合物は、Ｙがニトロ基である化合物〔Ｉｃｌか
ら下記反応行程式一■に示す方法によって夫々製造でき
る。
反応行程式一■
〔式中Ｒ及びｎは上記に同じ、Ｙ′ぱ水素原子又はハロ
ゲン原子を示す〕 サンドマイヤー反応は、水溶液中亜硝酸ソーダと塩酸又
は硫酸を用い、−３０℃〜室温下でジアゾ化し、次いで
エタノール、塩化第一銅、臭化第一銅、沃化カリ、臭素
又はテトラフルオロボロンヒドリドをＯ〜１００Ｃで反
応させることにより行なわれる。
ゲン原子を示す〕 サンドマイヤー反応は、水溶液中亜硝酸ソーダと塩酸又
は硫酸を用い、−３０℃〜室温下でジアゾ化し、次いで
エタノール、塩化第一銅、臭化第一銅、沃化カリ、臭素
又はテトラフルオロボロンヒドリドをＯ〜１００Ｃで反
応させることにより行なわれる。
かくして得られる本発明の一般式ＣＩ）で表われるピリ
ド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾール誘導体は、その薬
埋的に許容される酸付加塩とすることができ、本発明は
この酸付加塩をも包含する。
ド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾール誘導体は、その薬
埋的に許容される酸付加塩とすることができ、本発明は
この酸付加塩をも包含する。
酸付加塩の形成に用いられる酸は薬埋的に許容される各
種の有機酸又は無機酸でよく、これには例えば塩酸、硫
酸、硝酸，臭酸、リン酸等の無機酸及び酢酸、蓚酸、マ
ロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸
、マンデル酸、エタンスルホン酸、ｐ−トシル酸等の有
機酸を例示できる。
種の有機酸又は無機酸でよく、これには例えば塩酸、硫
酸、硝酸，臭酸、リン酸等の無機酸及び酢酸、蓚酸、マ
ロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸
、マンデル酸、エタンスルホン酸、ｐ−トシル酸等の有
機酸を例示できる。
また本発明の一般式ＣＩｌで表わされる化合物中Ｒが水
素原子を示す化合物は、之に薬埋的に許容される塩基性
化合物で処理してカルボン酸塩とすることができる。
素原子を示す化合物は、之に薬埋的に許容される塩基性
化合物で処理してカルボン酸塩とすることができる。
用いられる塩基性化合物としては例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミ
ニウム、炭酸水素ナトリウム等の無機の塩基性化合物及
びモクホリン，ピペラジン，ピリジン、ピペリジン，エ
チルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、アニ
リン等の有機の塩基性化合物を例示できる。
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミ
ニウム、炭酸水素ナトリウム等の無機の塩基性化合物及
びモクホリン，ピペラジン，ピリジン、ピペリジン，エ
チルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、アニ
リン等の有機の塩基性化合物を例示できる。
かくして得られる本発明の一般式ＣＩ）で表わされるビ
リド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾール誘導体及びその
塩は、上記した反応行程の終了後に慣用の分離手段によ
り容易に単離精製できる。
リド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾール誘導体及びその
塩は、上記した反応行程の終了後に慣用の分離手段によ
り容易に単離精製できる。
分離手段としては例えば溶媒抽出法、希釈法、沈殿法、
再結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレパラテイブ
薄層クロマトグラフイー等を例示できる。
再結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレパラテイブ
薄層クロマトグラフイー等を例示できる。
尚本発明化合物は光学異性体の形態をとり得るものであ
り、本発明にはこの光学異性体も亦包含される。
り、本発明にはこの光学異性体も亦包含される。
以下原料化合物の製造例を参考例として、また本発明化
合物の製造例を挙げる。
合物の製造例を挙げる。
参考例 １
ｐ−フルオロアニリン１２．６ｆをエタノール１００ｍ
ｌに溶解し，触媒量のｐ−｝ルエンスルホン酸を加えた
のち、シクロヘキサノン９，８Ｎを室温下に滴下する。
ｌに溶解し，触媒量のｐ−｝ルエンスルホン酸を加えた
のち、シクロヘキサノン９，８Ｎを室温下に滴下する。
滴下後室温で１時間攪拌後減圧濃縮する。
続いて水１９０ｍｌに濃硫酸２０ｒｌを混和した希硫酸
を加え、油浴上１１０℃で１５分間加熱することによっ
て淡橙色の結晶を析出させる，該結晶を戸過し水で３度
洗浄し、乾燥して６−フルオロー１・２・３・４−テト
ラハイドロカルバゾール１７．４Ｐを得る。
を加え、油浴上１１０℃で１５分間加熱することによっ
て淡橙色の結晶を析出させる，該結晶を戸過し水で３度
洗浄し、乾燥して６−フルオロー１・２・３・４−テト
ラハイドロカルバゾール１７．４Ｐを得る。
目的物の生成はＮＭＲより確認された。
参考例 ２
６−フルオロ−１・２・３・４−テトラハイドロカルバ
ゾール１０１を氷酢酸７５ｒｌに溶解し、金属錫１５ｇ
を加え油浴上にて還流し、次いで濃塩酸５０ｍｌを分割
滴下する。
ゾール１０１を氷酢酸７５ｒｌに溶解し、金属錫１５ｇ
を加え油浴上にて還流し、次いで濃塩酸５０ｍｌを分割
滴下する。
激しい水素の発生に応じて系内は橙色から無色に変化す
る。
る。
３．５時間反応後過剰の金属錫をＰ別し、Ｐ液を濃縮す
る。
る。
水５０ｒｌを加え４Ｎ−ＮａＯＨでアルカリ性とした後
、エーテル抽出し、エーテル層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後Ｐ過、濃縮して白色結晶状の６一フルオロー１・
２・３・４・１０・１１−ヘキサハイドロカルバゾール
１０ｇを得る。
、エーテル抽出し、エーテル層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後Ｐ過、濃縮して白色結晶状の６一フルオロー１・
２・３・４・１０・１１−ヘキサハイドロカルバゾール
１０ｇを得る。
融点８０〜８３℃。
目的化合物の生成はＮＭＲより確認される。
製造例 １
６−フルオロ−１・２・３・４・１０・１１一ヘキサハ
イドロカルバゾール８グにエチルエトキシメチレンマロ
ネート９７を加え、油浴上１１０℃で加熱する。
イドロカルバゾール８グにエチルエトキシメチレンマロ
ネート９７を加え、油浴上１１０℃で加熱する。
エタノールの留出が観察される。３０分間同温度で加熱
後ポＩＩン酸１００７を加え更に３０分間１４０℃で加
熱する。
後ポＩＩン酸１００７を加え更に３０分間１４０℃で加
熱する。
反応後反応物を水５００ｍｌ中に注ぐことにより薄褐色
の結晶を得る。
の結晶を得る。
之をベンゼンーヘキサン（１：１）混液にて再結晶して
、１４グの白色板状晶のエチル２−フルオロー７ａ・８
・９・１０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロ−４−オキ
ンー４Ｈ−ピリド〔３・２・１−ｊｋ〕カルバゾールー
５−カルポキシレートを得る。
、１４グの白色板状晶のエチル２−フルオロー７ａ・８
・９・１０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロ−４−オキ
ンー４Ｈ−ピリド〔３・２・１−ｊｋ〕カルバゾールー
５−カルポキシレートを得る。
融点９７〜９８℃
製造例 ２
１・２・３−４・１０・１１−ヘキサハイドロカルバゾ
ール１７．５ｆにエチルエトキシメチレンマロネート２
１．６ｆを加え、攪拌下油浴上１１０℃にて３０分間加
熱する。
ール１７．５ｆにエチルエトキシメチレンマロネート２
１．６ｆを加え、攪拌下油浴上１１０℃にて３０分間加
熱する。
エタノールの留出が観察される。
加熱後リン酸１２０グと五酸化リン１２０グより調製し
たポリリン酸２４０グを加え、油浴上１４０℃にて４５
分間反応させる。
たポリリン酸２４０グを加え、油浴上１４０℃にて４５
分間反応させる。
反応後室温まで冷却し、水４００ｗｌ中に投じた後４０
％一苛性ソーダ水溶液で中和して淡紫色結晶を析出させ
る。
％一苛性ソーダ水溶液で中和して淡紫色結晶を析出させ
る。
これをベンゼンーヘキサン（１：１）混液から再結晶し
て無色板状晶のエチル７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌ
ａ−ヘキサハイドロ−４−オキソー４Ｈ−ピリド〔３・
２・１−ｊｋ）カルバノゾールー５−カルボキシレート
３２グを得る。
て無色板状晶のエチル７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌ
ａ−ヘキサハイドロ−４−オキソー４Ｈ−ピリド〔３・
２・１−ｊｋ）カルバノゾールー５−カルボキシレート
３２グを得る。
製造例 ３
６−メチル−１・２・３・４・１０・１１−ヘキザハイ
ドロ力ルバゾール７．２３２（０．０３８７モル）にエ
チルエトキシメチレンマロネート８．３６Ｐ（０．０３
８７モル）を加え、油浴上１１０℃にて加熱する。
ドロ力ルバゾール７．２３２（０．０３８７モル）にエ
チルエトキシメチレンマロネート８．３６Ｐ（０．０３
８７モル）を加え、油浴上１１０℃にて加熱する。
エタノールの留邑が観察される。
１時間同温度で加熱後ポＩＩン酸１００グを加え、１４
０℃で４０分間加熱する。
０℃で４０分間加熱する。
反応後水２００ｍｌ中にあげ、冷却下２０％苛性ソーダ
水溶液にて中和して薄褐色の結晶を析出させる。
水溶液にて中和して薄褐色の結晶を析出させる。
之をベンゼンーヘキサン（１：１）混液にて再結晶して
，無色板状晶のエチル２−メチル−７ａ・８・９・１０
・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロー４−オキソー４Ｈ−
ピリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾールー５−カルボ
キシレート１２グを得る。
，無色板状晶のエチル２−メチル−７ａ・８・９・１０
・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロー４−オキソー４Ｈ−
ピリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾールー５−カルボ
キシレート１２グを得る。
融点１０７〜１０９℃
製造例 ４〜１３
上記各製造例と同様にして下記第１表に示す各化合物を
得る。
得る。
第１表中各化合物は下記一般式に示す各記号で表わす。
又第１表には得られた化合物の融点（Ｃ）及び結晶形を
併記する。
併記する。
製造例 １４
エチル ２−フルオロ−７ａ・８・９・１０・１１・ｌ
ｌａ−ヘキサハイドロー４−オキンー４Ｈ−ピリド〔３
・２・１−ｊｋｌカルバゾールー５−カルボキシレート
１０グに１０％苛性ソーダ水溶液１４０ｒｌ加え、４０
分間還流する。
ｌａ−ヘキサハイドロー４−オキンー４Ｈ−ピリド〔３
・２・１−ｊｋｌカルバゾールー５−カルボキシレート
１０グに１０％苛性ソーダ水溶液１４０ｒｌ加え、４０
分間還流する。
結晶は上記加熱により溶解し、均一溶液が得られる。
熱時に活性炭処理し、沢過する。
沢液を冷却し、濃塩酸にてｐＨ２として白色の結晶８ｆ
を得る。
を得る。
エタノールより再結晶して白色針状晶の２−フルオロ−
７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロ−
４−オキンー４Ｈ−ピリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバ
ゾール−５−カルボン酸を得る。
７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロ−
４−オキンー４Ｈ−ピリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバ
ゾール−５−カルボン酸を得る。
融点２８１〜２８２Ｃ
製造例 １５
エチル ７ａ・８・９・１０・１１・１１ａ一ヘキサハ
イドロー４−オキソー４Ｈ−ピリド〔３・２・１−ｊｋ
）カルバゾールー５−カルボキシレート２８グに１０％
苛性ソーダ水溶液２５０ｍｌを加え２時間還流する。
イドロー４−オキソー４Ｈ−ピリド〔３・２・１−ｊｋ
）カルバゾールー５−カルボキシレート２８グに１０％
苛性ソーダ水溶液２５０ｍｌを加え２時間還流する。
反応の進行に伴い反応系内は懸濁状態から均一溶液状態
に変化する。
に変化する。
水２００ｍｌを加え、沢過し．Ｐ液に濃塩酸を加え、酸
性とすることにより淡黄色結晶を析出させる。
性とすることにより淡黄色結晶を析出させる。
沢過後水洗し次いで少量のエタノールで洗浄後乾燥し、
クロロホルムーヘキサン（１：１）混液から再結晶して
、淡黄色無定形晶の７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ
−ヘキサハイドロ−４−オキンー４Ｈ−ビリド〔３・２
・１−ｊｋ）カルバゾール−５−カルボン酸１６２を得
る。
クロロホルムーヘキサン（１：１）混液から再結晶して
、淡黄色無定形晶の７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ
−ヘキサハイドロ−４−オキンー４Ｈ−ビリド〔３・２
・１−ｊｋ）カルバゾール−５−カルボン酸１６２を得
る。
融点２３８〜２４１℃
製造例 １６
エチル２−メチル−７ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ
−ヘキサハイドロー４−オキソー４Ｈ−ピリド〔３・２
・１−ｊｋ）カルバゾールー５−カルボキシレート４ｇ
に１０％苛性ソーダ水溶液７０ｒｌを加え、１．５時間
還流後、室温に戻し、沢過後Ｐ液を冷却し濃塩酸でｐＨ
を２として淡黄色の結晶３．２１を得る。
−ヘキサハイドロー４−オキソー４Ｈ−ピリド〔３・２
・１−ｊｋ）カルバゾールー５−カルボキシレート４ｇ
に１０％苛性ソーダ水溶液７０ｒｌを加え、１．５時間
還流後、室温に戻し、沢過後Ｐ液を冷却し濃塩酸でｐＨ
を２として淡黄色の結晶３．２１を得る。
之をエタノールより再結晶して針状晶の２−メチル−７
ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロ−４
−オキソー４Ｈ−ビリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾ
ールー５−カルボン酸を得る。
ａ・８・９・１０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロ−４
−オキソー４Ｈ−ビリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾ
ールー５−カルボン酸を得る。
融点１８８〜１９０℃製造例 １７〜２０
製造例１４〜１６と同様にして下記第２表記載の化合物
を得る。
を得る。
化合物は下記一般式における各記号で示す。
また第２表には得られた化合物の融点（Ｃ）及び結晶形
を併記する。
を併記する。
上記製造例１０で得た２−フルオロ−７ａ・８・９・１
０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロー４−オキソー４Ｈ
−ピリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾールー５−カル
ボン酸につき、その種々の微生物に対する抗菌作用を寒
天希釈平板法により求めた。
０・１１・ｌｌａ−ヘキサハイドロー４−オキソー４Ｈ
−ピリド〔３・２・１−ｊｋ）カルバゾールー５−カル
ボン酸につき、その種々の微生物に対する抗菌作用を寒
天希釈平板法により求めた。
得られた最少増殖阻止濃度（ｍｃｇ／ｍｌ）を第３表に
示す。
示す。
尚第３表には対照化合物としてナリジクス酸（１−エチ
ル−１・４−ジヒドロ−７−メチル−４−オキンー１・
８−ナフチリデンー３−カルボン酸）を用いた同様の試
験結果を併記する。
ル−１・４−ジヒドロ−７−メチル−４−オキンー１・
８−ナフチリデンー３−カルボン酸）を用いた同様の試
験結果を併記する。
供試微生物
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中Ｒぱ水素原子又は低級アルキル基、Ｙは低級アル
コキシ基、ハロゲン原子、及び低級アルキル基から選ば
れた基、及びｎは０、１又は２を示す〕 で表わされるピリド〔３・２・１−ｊｋｌカルバゾール
誘導体及びその塩。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52137418A JPS584717B2 (ja) | 1977-11-15 | 1977-11-15 | ピリド〔３，２，１−ｊｋ〕カルバゾ−ル誘導体 |
| CA315,257A CA1122984A (en) | 1977-11-15 | 1978-10-31 | Pyrido (3,2,1-jk) carbazol derivatives |
| GB7843756A GB2009731B (en) | 1977-11-15 | 1978-11-08 | Pyrido(3,2,1-jk)carbazol derivatives |
| CH1159478A CH638808A5 (de) | 1977-11-15 | 1978-11-10 | Pyrido(3,2,1-jk)carbazol-derivate. |
| IT51875/78A IT1111363B (it) | 1977-11-15 | 1978-11-13 | Derivati di pirido(3/2/1-jk)carbazolo e procedimento per prepararli |
| DE19782849158 DE2849158A1 (de) | 1977-11-15 | 1978-11-13 | Pyrido eckige klammer auf 3,2,1-jk eckige klammer zu carbazol-derivate |
| BE191720A BE872000A (fr) | 1977-11-15 | 1978-11-14 | Derives de pyrido(3,2,1-jk) carbazole |
| SE7811762A SE437519B (sv) | 1977-11-15 | 1978-11-14 | Pyrido/3,2,1-jk/karbazolderivat |
| NL7811239A NL7811239A (nl) | 1977-11-15 | 1978-11-14 | Pyrido/3,2,1 -jk/carbazoolderivaten. |
| FR7832269A FR2408606A1 (fr) | 1977-11-15 | 1978-11-15 | Derives du pyrido(3,2,1-jk)carbazole, leur preparation et leurs utilisations therapeutiques |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52137418A JPS584717B2 (ja) | 1977-11-15 | 1977-11-15 | ピリド〔３，２，１−ｊｋ〕カルバゾ−ル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5473797A JPS5473797A (en) | 1979-06-13 |
| JPS584717B2 true JPS584717B2 (ja) | 1983-01-27 |
Family
ID=15198157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52137418A Expired JPS584717B2 (ja) | 1977-11-15 | 1977-11-15 | ピリド〔３，２，１−ｊｋ〕カルバゾ−ル誘導体 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584717B2 (ja) |
| BE (1) | BE872000A (ja) |
| CA (1) | CA1122984A (ja) |
| CH (1) | CH638808A5 (ja) |
| DE (1) | DE2849158A1 (ja) |
| FR (1) | FR2408606A1 (ja) |
| GB (1) | GB2009731B (ja) |
| IT (1) | IT1111363B (ja) |
| NL (1) | NL7811239A (ja) |
| SE (1) | SE437519B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS588396B2 (ja) * | 1978-08-11 | 1983-02-15 | 大塚製薬株式会社 | ピリド〔３，２，１↓−ｊｋ〕カルバゾ−ル誘導体 |
| US4380543A (en) * | 1981-11-06 | 1983-04-19 | Riker Laboratories, Inc. | Antimicrobial 8-cyano-6,7-dihydro-5-methyl-1-oxo-1H,5H-benzo[ij]quinolizine-2-carboxylic acids |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE793524A (fr) * | 1971-12-30 | 1973-06-29 | Riker Laboratories Inc | Acides benzoquinolizine-carboxyliques et leurs derives |
| US3917609A (en) * | 1973-06-27 | 1975-11-04 | Minnesota Mining & Mfg | Pyrroloquinoline carboxylic acids and derivatives |
-
1977
- 1977-11-15 JP JP52137418A patent/JPS584717B2/ja not_active Expired
-
1978
- 1978-10-31 CA CA315,257A patent/CA1122984A/en not_active Expired
- 1978-11-08 GB GB7843756A patent/GB2009731B/en not_active Expired
- 1978-11-10 CH CH1159478A patent/CH638808A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-11-13 DE DE19782849158 patent/DE2849158A1/de not_active Ceased
- 1978-11-13 IT IT51875/78A patent/IT1111363B/it active
- 1978-11-14 SE SE7811762A patent/SE437519B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-11-14 NL NL7811239A patent/NL7811239A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-11-14 BE BE191720A patent/BE872000A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-11-15 FR FR7832269A patent/FR2408606A1/fr active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2849158A1 (de) | 1979-05-17 |
| FR2408606B1 (ja) | 1981-07-03 |
| CA1122984A (en) | 1982-05-04 |
| IT1111363B (it) | 1986-01-13 |
| FR2408606A1 (fr) | 1979-06-08 |
| IT7851875A0 (it) | 1978-11-13 |
| SE7811762L (sv) | 1979-05-16 |
| JPS5473797A (en) | 1979-06-13 |
| GB2009731B (en) | 1982-05-12 |
| GB2009731A (en) | 1979-06-20 |
| BE872000A (fr) | 1979-05-14 |
| NL7811239A (nl) | 1979-05-17 |
| SE437519B (sv) | 1985-03-04 |
| CH638808A5 (de) | 1983-10-14 |
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