JPS584588B2 - 粘性剤塗布装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は密閉回転式フォトレジスト塗布装置（以下密閉
式スピンナーと略す）に関し、多数の試料に対してフォ
トレジスト等の粘性剤が順次塗布でき、かつ蓋の着脱に
フォトレジストが支障をきたさないような構造とし、ま
た試料の真空吸着蒔、真空漏れを完全に防止することに
よって生産性、操作性等を向上させることを目的とする
。

１本出願人は、たとえば薄膜のサーマルヘッドの製造に
用いるフォトレジストの塗布装置として第１図に示す装
置を昭和５２年６月１４日提出の特許願（１６）にて提
案した。

この装置は、半導体ＩＣ用の円形状シリコンウエハーで
はなく、主にサーマルヘッド等に用いられる角形のセラ
ミック基板上にフォトレジストを均一に塗布する際して
考慮されたものであって、密閉容器内に試料基板を固定
し、密閉容器と試料基板をともに回転させそフオトレジ
ストを基板上に塗布することを特徴とするものである。

この装置を第１図とともに説明する。

第１図は本出願人の提案した密閉式スピンナーの正面断
面図を示す。

第１図において、１は回転軸で中央に真空吸引孔１−ａ
を有している。

回転軸１にはディスク３が最付けられており、回転軸１
の上端に装着された○リング２によって真空漏れ防止を
行なっている。

ターンテーブル４は押工板５で押えてデイスゲ３に取付
けられている。

ディスク３の上面は真空吸着部３−ａになっており、フ
ォトレジストを塗廂すべき試料基板６はディスク上面に
載置され真空吸着されている。

７は試料位置決め板で回転吊試料が移動しないように規
制している。

８は密閉用ゴムであり蓋９はロックネジ１１によってタ
ーンテーブル４に固定される。

１０は取手である。この装置において、試料基板６にフ
オトレジストを滴下して、第１図の様な状態で装置を回
転させると、フォトレジストは遠心力により試料基板全
面に均一に塗布される。

しかし、この場合の問題点として、 （１） 余分なフォトレジストは周囲に飛散するが、
更に遠心力の作用によってターンテーブル４と蓋９との
間隙１２にフォトレジストが浸入し、密閉用ゴム８に付
着し硬化するのでフォトレジスト塗布後蓋９の取外しが
困難となる。

（２）飛散したフォトレジストを貯留し、排出できない
ので、多数の試料に一次塗布することは不可能であり、
数枚の試料に塗布した後、ターンテーブル４をディスク
３から取外してターンテーブル内に溜ったフォトレジス
トを排出する必要があり生産性が乏しい。

（３）通常試料基板６にソリがあるため真空吸着しても
ディスク上面との間に間隙が生じ真空漏れが発生する。

これは真空吸着力を低下させ、更に装置申を真空にする
ためフォトレジスト膜厚に影響を及ぼす。

本発明はこのような問題点に鑑みさらに改良さ
れた密閉回転式粘性剤塗布装置を提案するもので、以下
本発明を麦施例とともに説明する。

第２図は本発明の一実施例にかかる密閉式スピンナーの
正面甲、第３図は同平面図を示す。

第２図、第３図において、２１は回転軸で中央に真
空吸引孔２１−ａを有ている。

この回転軸２１の上端には○リング２２が装置されてお
り、回転軸２１に取付けられたディスク２３との間の真
空漏れを防止している。

ターンテーブル（回転盤）２４は中央部２４−ａ、フォ
トレジスト貯留部２４−ｂ、外周部２４−ｃより構成さ
れ各々一体に組立てられている。

ターンテーブル２４は押え板２５で押えてディスク２３
に取付けられている。

ディスク２３上面は真空吸着部２３−ａになっており、
その外側には真空漏れ防止の為に○リング２６が一着さ
れている。

この○リング２６の装着は通常の○リングの装着とは異
なり、ディスク２３と試料基板２７との間に働く力はあ
まり大きくないことからつぶし代を微小にして装着して
いる。

すなわち○リングの変形量は比較的少ない構造であう。

フォトレジストを塗布すべき試料基板２７をディスク２
３上に載置した時、○リング２６は真空の負圧により弾
性限度内で弾性変形し試料基板２７と密着するため、試
料基板２７のソリに起因して試料基板２７とディスク上
面との間に生ずる微小な間隙からの真空漏れを防止して
、真空吸着力を増している。

２８は試料位置決め板で回転中試料基板２７が移動しな
いようにしている。

２９は蓋、３０は取手、３１は密閉用ゴムである。

密閉用ゴム３１はターンテーブル外周部２４−ｃに装着
されている。

蓋２９の固定は周辺部に設けられたロックボルト３２、
ナット３３で行なう。

第３図から明らかなごとく、ターンテーブル外周部２４
−ｃ，及び蓋２９の一部には各々Ｕ字形切欠部２４−ｆ
，２９−ｂが設けられており、ターンテーブルのＵ字形
切欠部２４−ｆには支点ピン３４を有する支点板３５が
取付けられている。

ロックボルト３２は支点ピン３４を中心にして旋回する
ので容易に蓋２９の固定、取外しが！易にで今る。

この蓋２９の固定、取外しの容易さはこの装置の一つの
特長となるところである。

さて、回転により飛散したフォトレジストはフオトレジ
スト貯留部２４−ｂに溜められる。

フォトレジスト貯留部側面には閉孔可能な小孔２４−ｄ
が数ケ所に設けられており、閉孔した場合、貯留部にフ
ォトレジストが充満するまで順次試料基板に塗布するこ
とができる。

また開孔した場合回転による遠心力でフォトレジストは
小孔２４−ｄより外部に排出されるので１畝次塗布でき
る枚数には制限がない。

またターンテーブル外周部２４−ｃに設けられた突起部
２４−ｅ及び蓋２９に設けられた突起部２９−ａによっ
て、飛散あるいは貯留部に溜ったフォトレジストがター
ンテーブル外周部２４−ｃと蓋２９との間隙に浸入する
ことがないので、間隙に浸入したフォトレジストが硬化
し下蓋が取外せないという問題は解決した。

とくに率２９の突起部２９−ａはターンテーブル外周部
２４−ｃよりも下に突出し、これらの隙間にフォトレジ
ストが入り込むことをほぼ阻止している。

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、 （１）フォトレジスト等の粘性剤の貯留部を設けること
により試料基板への順次塗布が可能となり、かつ蓋とタ
ーンテ−ブルとの間隙へのフォトレジストや浸入がなく
なったので生産性、操作性が向上した。

（２）密閉空間を形成する回転盤と憲との間隙部に粘性
剤が侵入するのを防止すべく突起を設けることにより、
粘性剤が回転盤と蓋との間隙に侵入し、更に硬化するこ
とにより蓋の離脱の困難を防止したり、蓋を取外す際、
回転盤との間で糸ひき現象を生ずることを防止し、操作
性が向上した。

等の作用効果を発揮することができ、粘性剤の塗布に大
きく寄与するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本出願人の提案にかかる密閉式スピンナーの正
面断面図、第２図は本発明の一実施例にかかる密閉式ス
ピンナーの正面図、第３図は本発明の密閉式スピンナー
の平面図である。 ２４……ターンテーブル（回転盤）、２４−ｂ……フォ
トレジスト貯留部、２３ａ……真空吸着部、２６……○
リング、２７……試料基板、２９……蓋、２９−ａ……
突起部。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 回転盤と７転盤に取付けられた蓋とにより形成され
   た密閉空間内に試料基板を固定し、前記密閉空間を形成
   する部材と共に回転せしめて前記試料基板に粘性剤を塗
   布する装置であって、前記密閉空間の外周部に前記粘性
   剤の貯留部を設け、さらに前記密閉空間内に、前記蓋と
   回転盤との間隙部に前記粘性剤の侵入を防止する突起部
   を設けたことを特徴とする粘性剤塗布装置。 ２ 貯留部に排液孔を設けて、前記貯留部に溜った粘性
   剤を前記排液孔を介して遂次外部に排出することを特徴
   とする特許請求の範囲第１項に記載の粘性剤塗布装置。 ３ 前記試料基板を真空吸着により固定し、その吸着部
   に○リングを装着したことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項に記載の粘性剤塗布装置。 ４ 粘性剤がフォトレジストであることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項に記載の粘性剤塗布装置。