JPS5843917B2 - バイアホ−ルの形成方法 - Google Patents

バイアホ−ルの形成方法

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JPS5843917B2
JPS5843917B2 JP11900179A JP11900179A JPS5843917B2 JP S5843917 B2 JPS5843917 B2 JP S5843917B2 JP 11900179 A JP11900179 A JP 11900179A JP 11900179 A JP11900179 A JP 11900179A JP S5843917 B2 JPS5843917 B2 JP S5843917B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
via hole
via holes
metal
printed wiring
Prior art date
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Expired
Application number
JP11900179A
Other languages
English (en)
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JPS5643796A (en
Inventor
博三 横山
伸男 亀原
恭平 村川
紘一 丹羽
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5843917B2 publication Critical patent/JPS5843917B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はセラミック等よりなるプリント配線板(以後P
WBと略称す)の表面及び裏面に夫々形成した信号線回
路同士を相互lこ接続するバイアホールの形成方法に関
し、特(こ微細化に適したバイアホールの形成方法lこ
関する。
エレクトロニクス用素子特(こトランジスタから発展し
たSSI、MSI、LSIを経てvLS■に到るディジ
タルIC及びオペアンプ等の能動素子類の技術進歩に伴
ない、これらの小型、高性能の素子類および他の必要な
回路素子をコンパクト(こ高信頼度を保ち、経済的Eこ
実装することが大きな課題となっている。
この課題に対して、多層印刷配線板を中心とした実装技
術がその要請に応えるべく開発されている。
この印刷配線板の多層化は現在23層に及ぶものもあり
、近い将来には30層を超えると予測されている。
こうした多層化に加えて10crrL角乃至8crfL
角の一板の印刷配線板に40oO〜5000個ものバイ
アホールを設けることが要求されている。
なお、バイアホールとは、スルーホールト同様に印刷配
線板にあけられた各層導体接続用の孔のことをさしてい
るが、このバイアホールは多層構造の印刷配線板におい
ては必ずしも全層を貫通せず、何層かづつを貫通するた
めにスルーホールと称されず、バイアホールと称される
従って、1枚(一層)の印刷配線板について考えれば、
スルーホールもバイアホールも同じものである。
ところで、最近の厚膜印刷技術(こよれば、厚み15〜
20μm1巾100μmのAg、 Au、、 P d
P t、 W、 Mo、 Cu等の金属材料及びこれら
の金属よりなる導体材料をPWB(印刷配線板)表裏に
形成することができる。
また、バイアホール作成技術としては、パンチ、金型、
レーザ加工等があり、その中では加工精度加工工数等の
面で金型が有利である。
しかし、金型を用いる場合あけることができる孔の直径
は現在の技術水準では250μm程度が限界であり、上
記厚膜印刷技術により形威し得る導体の巾が100μm
であるの(こ対し大きな差がある。
そのため、折角導体巾を狭くできたメリットが生かされ
ない。
本発明は上記の如き困難を克服せんとするもので、その
目的は、グリーンシートを加工焼成して電子部品を高密
度実装するための多層プリント配線板を製作する方式(
こおいて予め焼成前]こ金属型板上にグリーンシートを
載置し、射出装置を用いて金属ボールを押し込んでグリ
ーンシートEこ埋め込む手段1こよりバイアホール形成
と、バイアホール用導体配置を行う2工程作業を一工程
で行うことを特徴とするバイアホールの形成力法にまり
達成できる。
PWBを製作する場合に用いられる素材の一つであるグ
リーンシートと呼ばれる軟かな材料に対して、従来バイ
アホールの穿設作業とこのバイアホールに導体を埋設す
る作業を別々に行っていたが本発明ではこれを複合工程
として工数削減を図ると共に精度を高めたものである。
なお、本発明に係るバイアホール形成工程を経たグリー
ンシートはその後所定の焼成温度(AgAu導体の場合
約900°C位)で熱処理して素子の実装が可能なPW
Bとして完成される。
また、こ\で用いられるグリーンシートの材料としては
、アルミナホーケイ酸ガラス系のガラスセラミックのほ
か、アルミナ、ムライト、マグネシア等のセラミック材
料がある。
以下、図面を用いて本発明の方法の1実施例について説
明する。
第1図〜第3図は本発明の一実施例の断面図であり、第
1図は金属ボール打込み前、第2図は打込み後、第3図
は焼成後に対応する。
まず、第1図図示のようにグリーンシート1は多数の微
細な凹部2を有する金属型板3上(こ載置される。
次いで、射出装置4に装填された金属ボール5の打込み
を行う。
こうして、第2図に示すようにグリーンシート中に金属
ボール5が埋込まれ、シート両面間の導通を可能(こし
ている。
しかる後、グリーンシートを約900°Cで焼成して第
3図tこ示すセラミックガラスのPWB 1’を得る。
このPWBでは信号線回路(以後の工程で形成される)
と接続できるように金属ボール5が両面lこ頭を出して
いる。
本実施例においては、グリーンシートはアルミナ−ボロ
シリケイト系のガラス−セラミック粉末をドクターブレ
ード法により底形して作成したがガラス−セラミックの
外lこアルミナ、ムライト等の材料Iこも本発明の方法
を実施することが出来る。
本実施例においては、グリーンシート1の厚さを0.1
2山とし、0.1關φAuボール5を打込んだ。
金属型板3にはMo板を使用して、孔径100μmの凹
部2をフォトエツチングにより形成した。
しかし、本発明の方法は上記の材料寸法にその適用範囲
が制限されるものではない。
以上述べた如く本発明lこよれば、従来の技術で達成で
きなかった数10乃至100μmの大きさのバイアホー
ルを正確に作成でき、また、バイアホールに対する導体
充填も同時に行なえるので、工程を短縮すること、およ
び導線中100μmの信号線回路形成技術を充分有効に
生かす事ができて、PWHの高密度実装化、信頼性向上
及びコストダウンに大いに貢献する。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明の一実施例を示す断面図であり
、第1図は金属ボール打込み前、第2図は金属ボール打
込終了、第3図はPWB焼成後に夫々対応する。 図中、1はグリーンシート、2は金属型板の凹部、3は
金属型板、4は射出装置、5は金属ボールである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 金属型板上にグリーンシートを載置し、次いで射出
    装置に装填された金属ボールを該グリーンシートに打込
    み、グリーンシート両面間の導通を行ったことを特徴と
    するバイアホールの形成方法。
JP11900179A 1979-09-17 1979-09-17 バイアホ−ルの形成方法 Expired JPS5843917B2 (ja)

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JPS5643796A JPS5643796A (en) 1981-04-22
JPS5843917B2 true JPS5843917B2 (ja) 1983-09-29

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59231890A (ja) * 1983-06-14 1984-12-26 日立化成工業株式会社 スルホ−ル導体の形成方法
JPH0818065A (ja) * 1995-07-03 1996-01-19 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 絶縁ゲイト型半導体装置の作製方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3541222A (en) * 1969-01-13 1970-11-17 Bunker Ramo Connector screen for interconnecting adjacent surfaces of laminar circuits and method of making
JPS49121172A (ja) * 1973-03-28 1974-11-19
JPS49121967A (ja) * 1973-03-31 1974-11-21

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