JPS5839320B2 - 照射窓冷却方法 - Google Patents
照射窓冷却方法Info
- Publication number
- JPS5839320B2 JPS5839320B2 JP6562776A JP6562776A JPS5839320B2 JP S5839320 B2 JPS5839320 B2 JP S5839320B2 JP 6562776 A JP6562776 A JP 6562776A JP 6562776 A JP6562776 A JP 6562776A JP S5839320 B2 JPS5839320 B2 JP S5839320B2
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- JP
- Japan
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- window
- cooling
- irradiation window
- air
- electron beam
- Prior art date
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- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子線照射装置等における照射窓の冷却方法
に関する。
に関する。
電子線照射装置において、腐食性ガスの照射や塗装のキ
ユアリング等を行なう場合、対象物を専用の容器内に収
納または流通させ、この容器に設けた照射窓を通して電
子線を入射し対象物を照射する。
ユアリング等を行なう場合、対象物を専用の容器内に収
納または流通させ、この容器に設けた照射窓を通して電
子線を入射し対象物を照射する。
この場合、電子線は走査管の照射窓(以下。−決意と称
する)から空中に射出され、さらに容器に設けた照射窓
(以下、二次窓と称する)を通して容器内に入射し、対
象物を照射する。
する)から空中に射出され、さらに容器に設けた照射窓
(以下、二次窓と称する)を通して容器内に入射し、対
象物を照射する。
これらの照射窓はアルミニウム、チタン等の金属薄膜で
密封されており、電子線が透過する際、そのエネルギー
の一部は金属薄膜に吸収されるため、金属薄膜は高温度
に加熱される。
密封されており、電子線が透過する際、そのエネルギー
の一部は金属薄膜に吸収されるため、金属薄膜は高温度
に加熱される。
よって、外部から金属薄膜に空気を吹付けて強制冷却を
行なう。
行なう。
第1図において、1は走査管、2は一決意、3はフラン
ジ4によって走査管1に気密に取付けられた金属薄膜で
ある。
ジ4によって走査管1に気密に取付けられた金属薄膜で
ある。
また5は容器、6は二次窓。7はフランジ8によって容
器5に気密に取付けた金属薄膜である。
器5に気密に取付けた金属薄膜である。
電子線9は、走査管1の上方に設けた加速管(図示せず
)から−決意2を通って空中に出て、さらに二次窓6よ
り容器5内に入射し、対象物(図示せず)を照射する。
)から−決意2を通って空中に出て、さらに二次窓6よ
り容器5内に入射し、対象物(図示せず)を照射する。
この場合、前述のように電子線9のエネルギーの一部は
一次窓および二次窓を通過する際、金属薄膜3および7
に吸収されるため、各金属薄膜は加熱されて高温度にな
る。
一次窓および二次窓を通過する際、金属薄膜3および7
に吸収されるため、各金属薄膜は加熱されて高温度にな
る。
ここで、−決意2に設けた金属薄膜3は、内面すなわち
走査管側は真空に保たれ、外面は大気圧になっているた
め、機械的に破壊されやすい。
走査管側は真空に保たれ、外面は大気圧になっているた
め、機械的に破壊されやすい。
これらの金属薄膜を冷却するため、従来は送風ダクト1
0および11を設け、送風ブロワ(図示せず)によって
矢印12.13に示すように金属薄膜3,7に沿って、
それぞれ冷却用の空気を流し、さらに排気ダクトおよび
排気ブロワ(いずれも図示せず)によって排気を吸引し
ていた。
0および11を設け、送風ブロワ(図示せず)によって
矢印12.13に示すように金属薄膜3,7に沿って、
それぞれ冷却用の空気を流し、さらに排気ダクトおよび
排気ブロワ(いずれも図示せず)によって排気を吸引し
ていた。
しかしこのように、それぞれ別個に冷却を行なうと必要
な風量が大きく、このため送風用および排気用の各ブロ
ワ、ダクト類、ならびに冷却途中で電子ビームにさらさ
れオゾン化された排気の処理装置、さらに残存オゾンの
着地濃度を規定値以下に保つための排気塔等の設備に多
額の費用を要する欠点があった。
な風量が大きく、このため送風用および排気用の各ブロ
ワ、ダクト類、ならびに冷却途中で電子ビームにさらさ
れオゾン化された排気の処理装置、さらに残存オゾンの
着地濃度を規定値以下に保つための排気塔等の設備に多
額の費用を要する欠点があった。
本発明はこの欠点を解決するため冷却方法を改良したも
ので、第2図にその実施例を示す。
ので、第2図にその実施例を示す。
同図において、ダクト14により一次窓2の金属薄膜3
に沿って矢印15の方向に吹付けられた冷却用空気は、
反射板16によって矢印17に示すように方向を変え、
二次窓6の金属薄膜7に沿って矢印18の方向に流れる
。
に沿って矢印15の方向に吹付けられた冷却用空気は、
反射板16によって矢印17に示すように方向を変え、
二次窓6の金属薄膜7に沿って矢印18の方向に流れる
。
かくして−決意と二次窓の金属薄膜3と7を冷却した空
気は、排気ダクト19より排気ブロワ(図示せず)によ
り吸引、排出される。
気は、排気ダクト19より排気ブロワ(図示せず)によ
り吸引、排出される。
なお冷却空気は流通方向を反対にし。まず二次窓6を冷
却したのち一次窓2を冷却することもできる。
却したのち一次窓2を冷却することもできる。
このように本発明によるときは、冷却空気は一次窓2お
よび二次窓6の一方を冷却したのち、反射板等の誘導装
置によって方向を転換され他方を冷却するため、従来の
冷却方法に比べて送風量をはるかに減少することができ
る。
よび二次窓6の一方を冷却したのち、反射板等の誘導装
置によって方向を転換され他方を冷却するため、従来の
冷却方法に比べて送風量をはるかに減少することができ
る。
なおこれによって排気量も同様に減少され、送風ならび
に排気用の各ブロワ、ダクトおよび排気のオゾン処理装
置等の容量をいずれも減少し、そのための費用を大幅に
低下することができる。
に排気用の各ブロワ、ダクトおよび排気のオゾン処理装
置等の容量をいずれも減少し、そのための費用を大幅に
低下することができる。
この場合、一方の照射窓を冷却した空気は他方を冷却す
るに際し、既にある程度温度が高くなっているが、実測
結果によれば、従来のほぼ半分の送風量で従来と全く同
一の冷却効果を得ることができた。
るに際し、既にある程度温度が高くなっているが、実測
結果によれば、従来のほぼ半分の送風量で従来と全く同
一の冷却効果を得ることができた。
以上説明したように1本発明によるときは一次窓および
二次窓の冷却に要する送風量および排気量を減少し、こ
れによって設備費を大幅に低下させることができ、その
効果は大きいものである。
二次窓の冷却に要する送風量および排気量を減少し、こ
れによって設備費を大幅に低下させることができ、その
効果は大きいものである。
第1図は従来の冷却方法を示す断面図、第2図は本発明
の実施例を示す断面図である。 1:走査管、2ニ一次窓(電子線射出窓)、5:容器、
6:二次窓(電子線入射窓)、9:電子線。 16二反射板。
の実施例を示す断面図である。 1:走査管、2ニ一次窓(電子線射出窓)、5:容器、
6:二次窓(電子線入射窓)、9:電子線。 16二反射板。
Claims (1)
- 1 冷却用空気流により、走査管に設けた電子ビーム射
出用の照射窓ならびに被照射物を収納または通過させる
容器に設けた電子ビーム入射用の照射窓のいずれか一方
を冷却し1次いで誘導装置により前記空気流の方向を転
換し他方の照射窓に誘導して冷却させることを特徴とす
る照射窓冷却方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6562776A JPS5839320B2 (ja) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | 照射窓冷却方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6562776A JPS5839320B2 (ja) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | 照射窓冷却方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52149596A JPS52149596A (en) | 1977-12-12 |
JPS5839320B2 true JPS5839320B2 (ja) | 1983-08-29 |
Family
ID=13292436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6562776A Expired JPS5839320B2 (ja) | 1976-06-07 | 1976-06-07 | 照射窓冷却方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5839320B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6343143Y2 (ja) * | 1983-03-31 | 1988-11-10 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR0007813A (pt) | 1999-01-11 | 2001-11-06 | Ebara Corp | Aparelho de reação de irradiação com feixe de elétrons |
-
1976
- 1976-06-07 JP JP6562776A patent/JPS5839320B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6343143Y2 (ja) * | 1983-03-31 | 1988-11-10 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52149596A (en) | 1977-12-12 |
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