JP2589535Y2 - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JP2589535Y2 JP2589535Y2 JP1993041524U JP4152493U JP2589535Y2 JP 2589535 Y2 JP2589535 Y2 JP 2589535Y2 JP 1993041524 U JP1993041524 U JP 1993041524U JP 4152493 U JP4152493 U JP 4152493U JP 2589535 Y2 JP2589535 Y2 JP 2589535Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- inert gas
- electron beam
- flange
- beam irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は電子線照射装置に関す
る。
る。
【0002】
【従来の技術】電子線を照射して被照射物の表面に塗布
された塗料を硬化させる場合、その照射領域の酸素を不
活性ガスで置換することが必要である。そのため従来で
は電子線照射装置の照射室の内部に不活性ガスを吹き出
すノズルを配置し、これからの不活性ガスにより照射室
内の酸素を置換するようにしている。
された塗料を硬化させる場合、その照射領域の酸素を不
活性ガスで置換することが必要である。そのため従来で
は電子線照射装置の照射室の内部に不活性ガスを吹き出
すノズルを配置し、これからの不活性ガスにより照射室
内の酸素を置換するようにしている。
【0003】図3はその従来構成を示し、1は真空チャ
ンバ、2はその内部に配置されたフィラメント部、3は
真空チャンバ1の開口部、4は開口部3のフランジ、5
は照射窓、6は照射窓5に設けられている箔、7は箔6
を照射窓5に固定するように抑えつけるためのフラン
ジ、8は照射室である。
ンバ、2はその内部に配置されたフィラメント部、3は
真空チャンバ1の開口部、4は開口部3のフランジ、5
は照射窓、6は照射窓5に設けられている箔、7は箔6
を照射窓5に固定するように抑えつけるためのフラン
ジ、8は照射室である。
【0004】フィラメント部2からの電子線は、開口部
3、照射窓5および箔6を通って照射室8に放出され
る。被照射物9は照射室8内にあり、放出された電子線
がこの被照射物を照射する。10は被照射物9を搬送す
るコンベアである。照射室8内を不活性ガス雰囲気とす
るために、照射室8の内部に不活性ガス(たとえば窒素
ガス)を吹き出すノズル11を配置し、これからの不活
性ガスで酸素と置換するようにしている。
3、照射窓5および箔6を通って照射室8に放出され
る。被照射物9は照射室8内にあり、放出された電子線
がこの被照射物を照射する。10は被照射物9を搬送す
るコンベアである。照射室8内を不活性ガス雰囲気とす
るために、照射室8の内部に不活性ガス(たとえば窒素
ガス)を吹き出すノズル11を配置し、これからの不活
性ガスで酸素と置換するようにしている。
【0005】しかし被照射物9の外形が大きいような場
合、あるいは被照射物が立体的な構造物であることによ
り、電子線照射装置をロボットアームで移動させながら
電子線を照射するような場合、照射室8として、これら
の被照射物が収納でき、あるいは電子線照射装置が充分
に移動できる程度の広さが必要となる。
合、あるいは被照射物が立体的な構造物であることによ
り、電子線照射装置をロボットアームで移動させながら
電子線を照射するような場合、照射室8として、これら
の被照射物が収納でき、あるいは電子線照射装置が充分
に移動できる程度の広さが必要となる。
【0006】このように照射室8が広くなると、初期の
不活性ガスの置換に長時間を要するようになるし、また
不活性ガスも多量に必要となる。更に電子線照射過程に
おける低酸素濃度を保つためにも多量の不活性ガスが必
要となる。そのためランニングコストが高くつく欠点が
ある。
不活性ガスの置換に長時間を要するようになるし、また
不活性ガスも多量に必要となる。更に電子線照射過程に
おける低酸素濃度を保つためにも多量の不活性ガスが必
要となる。そのためランニングコストが高くつく欠点が
ある。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】本考案は、被照射物に
電子線を照射するにあたり、酸素を置換するために必要
な不活性ガスの使用量の減少を可能とし、ランニングコ
スト低減を図ることを目的とする。
電子線を照射するにあたり、酸素を置換するために必要
な不活性ガスの使用量の減少を可能とし、ランニングコ
スト低減を図ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本考案は、照射窓に取り
付けられる箔を固定するためのフランジの内部に、不活
性ガスが供給される流通路を形成し、この流通路に、照
射領域に向かって開口する吹出口を設けたことを特徴と
する。
付けられる箔を固定するためのフランジの内部に、不活
性ガスが供給される流通路を形成し、この流通路に、照
射領域に向かって開口する吹出口を設けたことを特徴と
する。
【0009】
【作用】流通路に不活性ガスを供給すると、流通路に設
けた吹出口から照射領域に向かって不活性ガスが吹き出
す。この不活性ガスにより照射領域にある被照射物の周
辺が局部的に不活性ガスと置換される。これにより照射
室全体を不活性ガスにより置換する必要はなくなり、不
活性ガスの使用量は少なくてすむし、またこの置換に要
する時間も短くてすむようになる。
けた吹出口から照射領域に向かって不活性ガスが吹き出
す。この不活性ガスにより照射領域にある被照射物の周
辺が局部的に不活性ガスと置換される。これにより照射
室全体を不活性ガスにより置換する必要はなくなり、不
活性ガスの使用量は少なくてすむし、またこの置換に要
する時間も短くてすむようになる。
【0010】
【実施例】本考案の実施例を図1、図2によって説明す
る。なお図3と同じ符号を付した部分は、同一または対
応する部分を示す。本考案にしたがい、箔6を照射窓5
に固定するためのフランジ7の内部に、不活性ガスが供
給される流通路12を設ける。フランジ7は照射窓5に
その周囲に沿って設けられているので、流通路12も照
射窓5の周囲に沿って設けられる。そして図示しない供
給口から不活性ガスが供給されるようにしてある。
る。なお図3と同じ符号を付した部分は、同一または対
応する部分を示す。本考案にしたがい、箔6を照射窓5
に固定するためのフランジ7の内部に、不活性ガスが供
給される流通路12を設ける。フランジ7は照射窓5に
その周囲に沿って設けられているので、流通路12も照
射窓5の周囲に沿って設けられる。そして図示しない供
給口から不活性ガスが供給されるようにしてある。
【0011】流通路12には、照射領域に向かって、す
なわち図の例では照射窓5の下方に向かって開口する吹
出口13が、流通路12の延長方向に沿って多数形成さ
れてある。また必要によりフランジ7の周囲から被照射
物9の近辺にまで延長するカバー14を設ける。15は
フランジ7を照射窓5に固定するためのボルト、16は
その固定個所をシールするOリングである。
なわち図の例では照射窓5の下方に向かって開口する吹
出口13が、流通路12の延長方向に沿って多数形成さ
れてある。また必要によりフランジ7の周囲から被照射
物9の近辺にまで延長するカバー14を設ける。15は
フランジ7を照射窓5に固定するためのボルト、16は
その固定個所をシールするOリングである。
【0012】以上の構成において、流通路12に不活性
ガスを供給すると、その不活性ガスは吹出口13より下
方に向かって吹き出される。照射窓5の下方には被照射
物9が存在しているので、被照射物9の周辺は吹き出さ
れた不活性ガスにより、局部的に置換されるようにな
る。カバー14が設けてある場合は、この置換は効率よ
く行なわれる。
ガスを供給すると、その不活性ガスは吹出口13より下
方に向かって吹き出される。照射窓5の下方には被照射
物9が存在しているので、被照射物9の周辺は吹き出さ
れた不活性ガスにより、局部的に置換されるようにな
る。カバー14が設けてある場合は、この置換は効率よ
く行なわれる。
【0013】
【考案の効果】以上説明したように本考案によれば、照
射窓に箔を取り付けるためのフランジに不活性ガスが供
給される流通路を設け、この流通路に照射領域に向かっ
て開口する吹出口を設けて、この吹出口より不活性ガス
を吹き出すようにしたので、照射領域にある被照射物の
周辺はこの不活性ガスにより置換されるようになり、そ
のため初期並びに運転時における置換に必要な不活性ガ
スの量は、照射室全体を置換するのに必要な量に較べて
少なくてすむし、また置換に要する時間も短縮できると
いった効果を奏する。
射窓に箔を取り付けるためのフランジに不活性ガスが供
給される流通路を設け、この流通路に照射領域に向かっ
て開口する吹出口を設けて、この吹出口より不活性ガス
を吹き出すようにしたので、照射領域にある被照射物の
周辺はこの不活性ガスにより置換されるようになり、そ
のため初期並びに運転時における置換に必要な不活性ガ
スの量は、照射室全体を置換するのに必要な量に較べて
少なくてすむし、また置換に要する時間も短縮できると
いった効果を奏する。
【図1】本考案の実施例を示す断面図である。
【図2】図1の一部の拡大断面図である。
【図3】従来例の断面図である。
5 照射窓 6 箔 7 フランジ 8 照射室 9 被照射物 12 流通路 13 吹出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−41799(JP,A) 特開 昭50−122440(JP,A) 特開 平1−178363(JP,A) 実開 平4−127597(JP,U) 実開 昭64−8699(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 37/30 G21K 5/04
Claims (1)
- 【請求項1】 照射窓にフランジによって取り付けた箔
を介して電子線を外部の照射室に放出するようにした電
子線照射装置において、前記フランジの内部に、不活性
ガスが供給される流通路を設けるとともに、前記流通路
に、照射領域に向かって開口する吹出口を設けてなる電
子線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993041524U JP2589535Y2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993041524U JP2589535Y2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH075248U JPH075248U (ja) | 1995-01-24 |
JP2589535Y2 true JP2589535Y2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=12610785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1993041524U Expired - Lifetime JP2589535Y2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2589535Y2 (ja) |
-
1993
- 1993-06-17 JP JP1993041524U patent/JP2589535Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH075248U (ja) | 1995-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2589033B2 (ja) | レーザ補助による化学蒸着法 | |
US6207117B1 (en) | Charged particle beam apparatus and gas supply and exhaustion method employed in the apparatus | |
US3585348A (en) | Method and apparatus for welding metallic and nonmetallic materials by an electron beam under normal pressure | |
JP2589535Y2 (ja) | 電子線照射装置 | |
US6724003B1 (en) | Electron beam-irradiating reaction apparatus | |
JP2598363B2 (ja) | 静電気除去装置 | |
JP2537154Y2 (ja) | 電子線照射装置 | |
JPS6325660B2 (ja) | ||
JP3097429B2 (ja) | レ−ザ加工装置 | |
JPH06953B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP2004014960A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JPH033552B2 (ja) | ||
JPH032700A (ja) | 電子線照射装置 | |
JP7267216B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4336025B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP3211438B2 (ja) | 電子線照射装置用排気装置 | |
JPH0648480Y2 (ja) | 電子線照射装置の二次窓箔固定装置 | |
JPH0794137A (ja) | 電子線照射装置 | |
JPS5839320B2 (ja) | 照射窓冷却方法 | |
JP2005144526A (ja) | レーザ加工物の製造方法およびレーザ加工装置 | |
JPH11260298A (ja) | 電子線測長装置 | |
JPH0629884Y2 (ja) | 電子線照射装置 | |
JP2000231897A (ja) | 光学鏡筒及びそのクリーニング方法 | |
JP2000214299A (ja) | 電子ビ―ム照射装置 | |
JP2799861B2 (ja) | パターン膜修正方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081120 Year of fee payment: 10 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081120 Year of fee payment: 10 |