JP7267216B2 - 露光装置 - Google Patents

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Description

本発明は、露光装置に関する。
近年、半導体基板に描画されるパターンは、微細化、かつ、複雑化している。そのため、マスクブランクスに回路パターンを描画するための露光装置では、アクチュエーターなどで発生する微細なパーティクルであっても、マスクブランクスに付着してしまうと、不良となってしまうおそれがある。
例えば、特許文献1には、低発塵型のアクチュエーターとして、開口部を有する防塵ケースと、案内レールおよび可動スライダを有する直動ガイドと、直動ガイドに案内されて防塵ケースの開口部内において移動可能な可動部と、開口部を塞ぎながら可動部を駆動する駆動ベルトと、を備えた直動機構が開示されている。この直動機構では、駆動ベルトが発塵カバーを兼ねるため、簡単な構成で低発塵型の直動機構を実現できる。
特開2006-234003号公報
上記のように露光対象へのパーティクルの付着を低減できる露光装置が求められている。
本発明に係る露光装置の一態様は、
露光対象を移動させるアクチュエーターと、
前記アクチュエーターが収容されたチャンバーと、
を含み、
前記アクチュエーターは、
レール、および前記レールに沿って移動可能なブロックを備えたガイド装置と、
前記ブロックに固定され、前記ブロックの移動に伴って移動可能なアームと、
前記ガイド装置を収容し、前記アームを通す開口部を有する容器と、
前記容器内に配置され、前記開口部を塞ぎ、前記アームの移動に伴って移動する第1カバーと、
前記容器の外に配置され、前記開口部を塞ぎ、前記アームの移動に伴って移動する第2カバーと、
を有する。
このような露光装置は、容器内に配置された第1カバー、および容器の外に配置された第2カバーを含むため、ガイド装置で発生したパーティクルの露光対象への付着を低減できる。
第1実施形態に係る露光装置の構成を示す図。 第1実施形態に係る露光装置のチャンバーの構成を示す図。 アライメントチャンバーを模式的に示す平面図。 アクチュエーターを模式的に示す断面図。 第1実施形態に係る露光装置の動作を説明するための図。 第1実施形態に係る露光装置の容器の変形例を模式的に示す断面図。 第1実施形態に係る露光装置の容器の変形例を模式的に示す斜視図。 第2実施形態に係る露光装置を示す機能ブロック図。 第2実施形態に係る露光装置のアライメントチャンバーを模式的に示す図。 第2実施形態に係る露光装置の制御部の処理の一例を示すフローチャート。 第2実施形態に係る露光装置の制御部の処理の第1変形例を示すフローチャート。 第2実施形態に係る露光装置の制御部の処理の第2変形例を示すフローチャート。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1. 第1実施形態
1.1. 露光装置
まず、第1実施形態に係る露光装置について図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置100の構成を示す図である。図2は、第1実施形態に係る露光装置100のチャンバーの構成を示す図である。
露光装置100は、露光対象であるマスクブランクスに電子ビームを用いて回路パターンを描画するための電子ビーム描画装置である。
露光装置100は、図1および図2に示すように、描画部10と、メインチャンバー20と、搬送ロボット32が収容されたロボットチャンバー30と、エアロックチャンバー40と、アライメントチャンバー50と、排気装置60と、を含む。
描画部10は、電子ビームをマスクブランクスに照射する電子光学系を含む。電子光学系は、電子銃、ブランカー、照射レンズ、第1スリット、成形偏向器、成形レンズ、第2スリット、縮小レンズ、対物レンズ、位置決め偏向器などを含む。露光装置100では、第1スリット、成形偏向器、成形レンズ、および第2スリットによって、電子ビームを成形し、マスクブランクスに照射される電子ビームの断面形状、すなわち、ショット形状およびショットサイズを制御する。また、ブランカーによって、電子ビームがマスクブランクスに照射される時間、すなわち、ショット時間を制御する。また、位置決め偏向器によって、マスクブランクス上に照射される電子ビームの位置、すなわち、ショット位置を制御する。
露光装置100では、電子ビームの偏向と、マスクブランクスの移動と、を組み合わせて、マスクブランクスの表面に回路パターンを描画する。すなわち、露光装置100では、電子ビームの偏向範囲(フィールド)内の描画と、次のフィールドへのマスクブランクスの移動を繰り返すことによってマスクブランクスの表面に回路パターンを描画する。
メインチャンバー20には、ステージ22が収容されている。ステージ22は、マスクブランクスを保持する。メインチャンバー20において、ステージ22に配置されたマスクブランクスに電子光学系から電子線が照射される。ステージ22は、マスクブランクスを移動させる移動機構を備えている。次のフィールドへ移動させるためのマスクブランク
スの移動は、ステージ22によって行われる。
ロボットチャンバー30には、マスクブランクスを搬送する搬送ロボット32が収容されている。搬送ロボット32は、メインチャンバー20、エアロックチャンバー40、およびアライメントチャンバー50に、マスクブランクスを搬送できる。
例えば、エアロックチャンバー40に収容されたマスクブランクスをメインチャンバー20に搬送する際には、搬送ロボット32は、まず、エアロックチャンバー40に収容されたマスクブランクスを、アライメントチャンバー50に移動させる。アライメントチャンバー50では、マスクブランクスの位置決めが行われる。次に、搬送ロボット32は、位置決めされたマスクブランクスを、アライメントチャンバー50からメインチャンバー20に搬送し、ステージ22に配置する。
エアロックチャンバー40は、マスクブランクスを外部から露光装置100内に導入するためのチャンバーである。エアロックチャンバー40は、第1仕切り弁42と、第2仕切り弁44と、を有している。
第1仕切り弁42は、外部とエアロックチャンバー40内の空間を仕切っている。第2仕切り弁44は、エアロックチャンバー40内の空間とメインチャンバー20内の空間とを仕切っている。図2に示す例では、第2仕切り弁44は、エアロックチャンバー40内の空間と、メインチャンバー20内の空間と連続するロボットチャンバー30内の空間とを仕切っている。第1仕切り弁42および第2仕切り弁44を用いることによって、メインチャンバー20の真空度の低下を防ぎつつ、外部から露光装置100内にマスクブランクスを導入できる。
アライメントチャンバー50には、マスクブランクスを位置決めするための3つの位置決めピン52、およびアクチュエーター54が収容されている。なお、位置決めピン52の数は、マスクブランクスを位置決めできれば特に限定されない。アクチュエーター54は、搬送ロボット32で搬送されたマスクブランクスを3つの位置決めピン52に押し当てる。これにより、マスクブランクスを位置決めできる。
図2に示す例では、メインチャンバー20内の空間と、ロボットチャンバー30内の空間と、アライメントチャンバー50内の空間とは、連続している。また、第2仕切り弁44を開くことで、メインチャンバー20内の空間と、ロボットチャンバー30内の空間と、エアロックチャンバー40内の空間と、アライメントチャンバー50内の空間とが連続する。
排気装置60は、例えば、ターボ分子ポンプなどの真空ポンプ、および排気経路を切り替えるバルブ等を含む。
排気装置60は、電子光学系が収容された鏡筒内、メインチャンバー20内、ロボットチャンバー30内、およびアライメントチャンバー50内を排気する。これにより、鏡筒内、メインチャンバー20内、ロボットチャンバー30内、およびアライメントチャンバー50内は、真空状態に維持される。また、排気装置60の排気経路を切り替えることによって、エアロックチャンバー40内の空間を、大気圧としたり、真空状態としたりすることができる。また、排気装置60は、後述する図4に示すアライメントチャンバー50内の排気ポート53に接続されており、排気経路を切り替えることによって、排気ポート53からアライメントチャンバー50内の空間を排気することができる。
1.2. アクチュエーター
図3は、アライメントチャンバー50を模式的に示す平面図である。図4は、アクチュエーター54を模式的に示す断面図である。なお、図4は、図3のIV-IV線断面図である。
アクチュエーター54は、図3に示すように、アーム装置56と、駆動部58と、を含む。なお、図3では、便宜上、アーム装置56および駆動部58を簡略化して図示している。
アーム装置56は、図4に示すように、ガイド装置510と、台座520と、アーム530と、容器540と、第1カバー550と、第2カバー560と、を含む。アーム装置56は、マスクブランクス2を移動させるアーム530を備えた装置である。
ガイド装置510は、レール512と、ブロック514と、を有している。レール512は、チャンバーベース51に配置されている。チャンバーベース51は、アライメントチャンバー50を構成する部材である。レール512は、ブロック514を案内するレールである。ブロック514は、レール512に沿って移動可能である。
図4に示す例では、ガイド装置510は、ブロック514を直線的に移動させるリニアガイドであり、ブロック514は、第1方向Aおよび第1方向Aとは反対方向の第2方向Bに移動可能である。なお、ガイド装置510は、ブロック514を直線軌道で運動させるリニアガイドに限定されない。例えば、ガイド装置510は、ブロック514を曲線軌道で運動させてもよいし、直線と曲線を組み合わせた軌道で運動させてもよい。
図3に示す駆動部58は、ブロック514を移動させる。駆動部58は、例えば、モーターの回転をシャフトの直線運動に変換して、シャフトでブロック514を移動させる装置であってもよい。駆動部58は、例えば、アライメントチャンバー50の外に配置されていてもよい。なお、駆動部58の機構は、ブロック514をレール512に沿って移動させることができれば、特に限定されない。
アーム530は、台座520を介して、ブロック514に固定されている。なお、図示はしないが、アーム530は、ブロック514に直接固定されていてもよい。
アーム530は、ブロック514の移動に伴って移動可能である。すなわち、アーム530は、第1方向Aおよび第2方向Bに移動可能である。アーム530は、開口部542内を移動する。
アーム530は、基部532と、突出部534と、を有している。基部532は、台座520に固定されている。基部532は、開口部542を通って容器540の外に突き出ている。突出部534は、基部532から第1方向Aに突出している。突出部534は、容器540の外に位置している。アーム530でマスクブランクス2を押す際には、突出部534の先端が、マスクブランクス2に接触する。
容器540は、ガイド装置510を収容している。容器540は、チャンバーベース51に固定されている。容器540は、アーム530を通す開口部542を有している。開口部542は、容器540を貫通している。
容器540は、側壁部543と、天井部546と、を有している。チャンバーベース51の上面に垂直な方向から見て、側壁部543は、アーム装置56を囲んでいる。天井部546は、側壁部543で囲まれた空間の上部を塞いでいる。開口部542は、天井部546に設けられている。
容器540の側壁部543には、容器540内を排気するための孔544が設けられている。孔544は、ブロック514よりも下側に位置している。すなわち、孔544とチャンバーベース51との間の距離D2は、ブロック514とチャンバーベース51との間の距離D4よりも小さい(D2<D4)。図4に示す例では、孔544は、容器540とチャンバーベース51との間の隙間であり、D2=0である。なお、孔544は、容器540の側壁部543の任意の位置に設けられてもよい。
第1カバー550は、容器540の開口部542を塞いでいる。第1カバー550は、容器540の内側に配置されている。第1カバー550は、ブロック514の移動に伴って移動する。すなわち、第1カバー550は、第1方向Aおよび第2方向Bに移動可能である。第1カバー550は、アーム530に固定されている。なお、第1カバー550は、ブロック514に固定されていてもよいし、台座520に固定されていてもよい。
第1カバー550は、天井部546に平行な第1部分552と、側壁部543に平行な第2部分554と、を有している。すなわち、第1カバー550は、板状の部材を折り曲げた形状を有している。
第1方向Aにおいて、第1カバー550の長さは、開口部542の長さとアーム530の移動可能距離の和よりも大きい。そのため、アーム530を移動させても、第1カバー550によって、開口部542を塞ぐことができる。第1カバー550の幅は、開口部542の幅よりも大きい。第1カバー550の開口部542を向く面の面積は、開口部542の開口の面積よりも大きい。
第2カバー560は、容器540の開口部542を塞いでいる。第2カバー560は、容器540の外側に配置されている。すなわち、容器540の開口部542は、第1カバー550および第2カバー560によって、容器540の内側と外側から塞がれている。第2カバー560は、ブロック514の移動に伴って移動する。すなわち、第2カバー560は、第1方向Aおよび第2方向Bに移動可能である。第2カバー560は、アーム530に固定されている。
第2カバー560は、マスクブランクス2の上面2aに垂直な方向から見て、マスクブランクス2と重なっている。マスクブランクス2の上面2aに垂直な方向において、第2カバー560は、容器540の天井部546とマスクブランクス2の間に位置している。なお、マスクブランクス2の上面2aは、露光対象の露光面である。
第2カバー560の先端と基部532との間の距離D6は、突出部534の先端と基部532との間の距離D8よりも大きい(D6>D8)。そのため、上述したように、マスクブランクス2の上面2aに垂直な方向から見て、第2カバー560を、マスクブランクス2と重ねることができる。
第1方向Aにおいて、第2カバー560の長さは、開口部542の長さとアーム530の移動可能距離の和よりも大きい。そのため、アーム530を移動させても、第2カバー560によって、開口部542を塞ぐことができる。第2カバー560の幅は、開口部542の幅よりも大きい。第2カバー560の開口部542を向く面の面積は、開口部542の開口の面積よりも大きい。
アライメントチャンバー50には、排気ポート53が設けられている。図示の例では、チャンバーベース51に、排気ポート53が設けられている。排気ポート53は、アライメントチャンバー50内の空間を排気するためのポートである。排気ポート53は、排気
装置60に接続されている。排気ポート53は、容器540の孔544の近傍に設けられている。
1.3. 露光装置の動作
次に、露光装置100の動作について説明する。ここでは、マスクブランクス2を外部から導入されたマスクブランクス2をステージ22に配置する動作について説明する。
まず、第2仕切り弁44を閉じて、エアロックチャンバー40内を大気圧とし、第1仕切り弁42を開く。この状態で、エアロックチャンバー40内にマスクブランクス2を搬入する。次に、第1仕切り弁42を閉じて、エアロックチャンバー40に接続された排気装置60によって、エアロックチャンバー40内を真空状態にする。エアロックチャンバー40内の真空度が、メインチャンバー20内の真空度と同程度になったら、第2仕切り弁44を開く。
次に、搬送ロボット32が、エアロックチャンバー40内のマスクブランクス2をアライメントチャンバー50に搬送する。アライメントチャンバー50に搬送されたマスクブランクス2は、アクチュエーター54によって、3つの位置決めピン52に押し当てられる。これにより、マスクブランクス2の位置が調整される。このマスクブランクス2を位置決めする際の露光装置100の動作の詳細については、後述する「1.4. マスクブランクスの位置決め」で説明する。
このようにして位置決めされたマスクブランクス2は、搬送ロボット32によってメインチャンバー20に搬送され、ステージ22に配置される。
1.4. マスクブランクスの位置決め
図5は、マスクブランクス2を位置決めするときの露光装置100の動作を説明するための図である。
駆動部58によって、ブロック514をレール512に沿って第1方向Aに移動させることで、アーム530を第1方向Aに移動させることができる。これにより、アーム530の突出部534の先端でマスクブランクス2を押すことができる。この結果、マスクブランクス2が移動し、3つの位置決めピン52に押し当てられる。このとき、第1カバー550および第2カバー560は、アーム530とともに第1方向Aに移動する。
ここで、駆動部58によって、ブロック514をレール512に沿って移動させることによって、ブロック514がレール512を摺動し、パーティクルPが発生する。アクチュエーター54では、容器540、第1カバー550、および第2カバー560によって、マスクブランクス2の上面2aへのパーティクルPの付着を低減できる。
また、アライメントチャンバー50には、排気ポート53が設けられており、アクチュエーター54が動作する間、アライメントチャンバー50内は排気ポート53から排気されている。また、容器540には、容器540内を排気するための孔544が設けられているため、容器540内も排気できる。したがって、アライメントチャンバー50内および容器540内に飛散したパーティクルを除去することができ、マスクブランクス2の上面2aへのパーティクルPの付着を低減できる。
1.5. 作用効果
露光装置100は、アクチュエーター54を含み、アクチュエーター54は、容器540内に配置され、開口部542を塞ぎ、アーム530の移動に伴って移動する第1カバー550と、容器540の外に配置され、開口部542を塞ぎ、アーム530の移動に伴っ
て移動する第2カバー560と、を有する。このように、露光装置100では、容器540内に配置された第1カバー550、および容器540の外に配置された第2カバー560を含むため、ガイド装置510で発生したパーティクルの、マスクブランクス2の上面2aへの付着を低減できる。
また、第1カバー550および第2カバー560は、ブロック514の移動に伴って移動するため、アーム530の移動を妨げたり、アーム530と摺動してパーティクルを発生させたりすることなく、開口部542を塞ぐことができる。
露光装置100では、マスクブランクス2の上面2aに垂直な方向から見て、第2カバー560は、マスクブランクス2と重なっている。そのため、ガイド装置510で発生したパーティクルが容器540の開口部542から出てマスクブランクス2の上面2aに至る経路を長くできる。したがって、露光装置100では、マスクブランクス2の上面2aへのパーティクルの付着を低減できる。
露光装置100では、第2カバー560の先端と基部532との間の距離D6は、突出部534の先端と基部532との間の距離D8よりも大きい。そのため、ガイド装置510で発生したパーティクルが容器540の開口部542から出てマスクブランクス2の上面2aに至る経路を長くできる。したがって、露光装置100では、マスクブランクス2の上面2aへのパーティクルの付着を低減できる。
露光装置100では、容器540には、容器540内を排気するための孔544が設けられている。そのため、露光装置100では、ガイド装置510で発生したパーティクルを容器540内から除去できる。
露光装置100では、孔544とチャンバーベース51との間の距離D2は、ブロック514とチャンバーベース51との間の距離D4よりも小さい(D2<D4)。すなわち、孔544は、パーティクルの発生源である、ブロック514とレール512との摺動部分よりも、チャンバーベース51に近い。したがって、ブロック514がレール512を摺動することによって発生したパーティクルが、マスクブランクス2の方向に飛散することを防ぐことができる。
露光装置100では、アライメントチャンバー50には、排気ポート53が設けられている。そのため、アライメントチャンバー50内のパーティクルを効率よく除去できる。また、アライメントチャンバー50では、排気ポート53がチャンバーベース51に設けられ、孔544は、パーティクルの発生源である、ブロック514とレール512との摺動部分よりも、チャンバーベース51に近い(D2<D4)。したがって、容器540内のパーティクルを飛散させることなく、容器540内を効率よく排気できる。
1.6. 変形例
図6は、露光装置100の容器540の変形例を模式的に示す断面図である。図7は、露光装置100の容器540の変形例を模式的に示す斜視図である。以下、図6および図7に示す露光装置100の変形例において、上述した露光装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図6および図7に示すように、容器540は、複数の孔544を有している。図6および図7に示す例では、孔544は、スリット状に形成されている。孔544は、図6に示すように、容器540の外側の第1開口544aと、容器540の内側の第2開口544bと、を有している。孔544の第1開口544aは、チャンバーベース51側を向いている。すなわち、孔544の第1開口544aは、下側を向いている。そのため、孔54
4から出たパーティクルが、マスクブランクス2の方向に飛散することを防ぐことができる。例えば、孔544の第1開口544aが、上側、すなわちマスクブランクス2側を向いている場合、孔544から排気されたパーティクルが上方に飛散して、マスクブランクス2の上面2aに付着する可能性が高くなる。
2. 第2実施形態
2.1. 露光装置
次に、第2実施形態に係る露光装置について図面を参照しながら説明する。図8は、第2実施形態に係る露光装置200を示す機能ブロック図である。図9は、第2実施形態に係る露光装置200のアライメントチャンバー50を模式的に示す図である。以下、第2実施形態に係る露光装置200において、上述した露光装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
露光装置200は、図8および図9に示すように、パーティクルモニター装置210と、ブロー装置220と、制御部230と、を含む。
パーティクルモニター装置210は、アライメントチャンバー50内に配置されている。パーティクルモニター装置210は、アライメントチャンバー50内のパーティクルの数を計測する。パーティクルモニター装置210は、例えば、単位時間あたりのパーティクルの数を計測してもよいし、単位体積あたりのパーティクルの数を計測してもよい。なお、パーティクルモニター装置210は、容器540内に配置されていてもよい。
ブロー装置220は、エアーを吹き付けること、すなわち、ブローによって、パーティクルを吹き飛ばし、パーティクルを除去する。ブロー装置220は、エアーを噴射するノズルを有している。ブロー装置220は、例えば、マスクブランクス2にエアーを吹き付けて、マスクブランクス2の上面2aに付着したパーティクルを除去する。なお、ブロー装置220の位置や、ブロー装置220がエアーを吹き付ける場所は特に限定されない。
制御部230は、パーティクルモニター装置210におけるパーティクルの計測結果に基づいて、ブロー装置220を制御する。また、制御部230は、アクチュエーター54を制御する処理や、排気装置60を制御する処理などの処理を行う。制御部230は、例えば、CPU(Central Processing Unit)などのプロセッサと、RAM(Random Access
Memory)およびROM(Read Only Memory)などを含む記憶装置と、を含む。制御部230では、CPUで記憶装置に記憶されたプログラムを実行することにより、各種制御処理を行う。
2.2. 露光装置の動作
図10は、露光装置200の制御部230の処理の一例を示すフローチャートである。
マスクブランクス2がアライメントチャンバー50に搬送されると、制御部230は、アクチュエーター54の駆動部58を動作させる(S100)。これにより、アーム装置56のブロック514が移動し、アーム530が移動する。この結果、マスクブランクス2が3つの位置決めピン52に押し当てられて位置決めされる。
次に、制御部230は、排気装置60にアライメントチャンバー50の排気を開始させる(S102)。これにより、排気ポート53に接続された排気装置60によってアライメントチャンバー50内の排気が開始される。
なお、ここでは、アクチュエーター54にマスクブランクス2の位置決めを行わせる処理(S100)の後に、排気装置60に排気を開始させる処理(S102)を行う場合に
ついて説明したが、処理S102の後に、処理S100を行ってもよいし、処理S100と処理S102を同時に行ってもよい。
次に、制御部230は、パーティクルモニター装置210におけるパーティクルの計測結果に基づいて、ブロー装置220を動作させる。具体的には、制御部230は、パーティクルモニター装置210から計測結果を取得し(S104)、パーティクルの数が所定数以上か否かを判定する(S106)。
制御部230は、パーティクルの数が所定数以上と判定した場合(S106のYes)、ブロー装置220にブローを開始させる(S108)。これにより、ブロー装置220からエアーが吹き出し、マスクブランクス2上のパーティクルを除去できる。
制御部230は、再び、パーティクルモニター装置210から計測結果を取得し(S104)、パーティクルの数が所定数以上か否かを判定する(S106)。制御部230は、パーティクルの数が所定数以上でないと判定されるまで、ブロー装置220にブローを継続させる。
制御部230は、パーティクルの数が所定数以上でないと判定した場合(S106のNo)、ブロー装置220にブローを停止させ、排気装置60にアライメントチャンバー50の排気を停止させる(S110)。そして、制御部230は、処理を終了する。
以上の処理により、マスクブランクス2の位置決めが終了する。位置決めされたマスクブランクス2は、搬送ロボット32によって、アライメントチャンバー50からメインチャンバー20内に搬送され、ステージ22に配置される。
2.3. 作用効果
露光装置200は、アライメントチャンバー50内に配置され、パーティクルを計測するパーティクルモニター装置210を含む。そのため、露光装置200では、アライメントチャンバー50内のパーティクルを計測できる。
露光装置200では、アライメントチャンバー50内に配置され、パーティクルをブローによって除去するブロー装置220と、パーティクルモニター装置210におけるパーティクルの計測結果に基づいて、ブロー装置220を制御する制御部230と、を含む。そのため、露光装置200では、マスクブランクス2の上面2aに多数のパーティクルが付着した状態で、メインチャンバー20に搬送されることを防ぐことができる。
2.4. 変形例
2.4.1. 第1変形例
図11は、露光装置200の制御部230の処理の第1変形例を示すフローチャートである。以下では、上述した図10に示す制御部230の処理と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
上述した図10に示す制御部230の処理では、パーティクルの数が所定数以上と判定した場合(S106のYes)、ブロー装置220にブローを開始させた(S108)。
これに対して、図11に示す制御部230の処理では、パーティクルの数が所定数以上と判定した場合(S106のYes)、パーティクルの数が所定数以上であることをユーザーに通知する処理を行う(S107)。制御部230は、ユーザーに通知する処理(S107)の後、ブロー装置220にブローを開始させる(S108)。
ユーザーへの通知方法としては、例えば、光や音による通知、表示部にパーティクルの数が所定数以上であることを通知するメッセージを表示するなどが挙げられる。
また、上述した図10に示す制御部230の処理では、パーティクルの数が所定数以上でないと判定した場合(S106のNo)、ブロー装置220にブローを停止させ、排気装置60にアライメントチャンバー50の排気を停止させた(S110)。
これに対して、図11に示す制御部230の処理では、パーティクルの数が所定数以上でないと判定した場合(S106のNo)、パーティクルの数が所定数以上でないことをユーザーに通知する処理を行う(S109)。制御部230は、ユーザーに通知する処理(S109)の後、ブロー装置220にブローを停止させ、排気装置60にアライメントチャンバー50の排気を停止させる(S110)。
ユーザーへの通知方法としては、例えば、光や音による通知、表示部にパーティクルの数が所定数以上でないことを通知するメッセージを表示するなどが挙げられる。
なお、上記では、パーティクルの数が所定数以上でないと判定されるまで、ブローを継続する場合について説明したが、パーティクルの数が所定数以上と判定した回数が予め設定された回数以上となった場合には、制御部230はその旨を通知して、処理を終了してもよい。
2.4.2. 第2変形例
上述した第2実施形態では、ブロー装置220がマスクブランクス2にエアーを吹き付ける場合について説明したが、ブロー装置220が、アライメントチャンバー50の壁面やアクチュエーター54にエアーを吹き付けてもよい。
図12は、制御部230の処理の第2変形例を示すフローチャートである。以下では、上述した図10に示す制御部230の処理と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
制御部230は、搬送ロボット32がアライメントチャンバー50にマスクブランクス2を搬入する前に、排気装置60にアライメントチャンバー50の排気を開始させる(S202)。
例えば、制御部230は、搬送ロボット32がエアロックチャンバー40内のマスクブランクス2を保持したタイミングで、排気装置60にエアロックチャンバー40内の排気を開始させる処理S202を行ってもよい。なお、排気装置60に排気を開始させる処理S202を行わせるタイミングは、搬送ロボット32がアライメントチャンバー50にマスクブランクス2を搬送する前であれば特に限定されない。
次に、制御部230は、パーティクルモニター装置210から計測結果を取得し(S204)、パーティクルの数が所定数以上か否かを判定する(S206)。制御部230は、パーティクルの数が所定数以上と判定した場合(S206のYes)、ブロー装置220にブローを開始させる(S208)。
制御部230は、再び、パーティクルモニター装置210から計測結果を取得し(S204)、パーティクルの数が所定数以上か否かを判定する(S206)。制御部230は、パーティクルの数が所定数以上でないと判定されるまで、ブロー装置220にブローを継続させる。
制御部230は、パーティクルの数が所定数以上でないと判定した場合(S206のNo)、ブロー装置220にブローを停止させ、排気装置60にアライメントチャンバー50の排気を停止させる(S210)。
次に、制御部230は、アライメントチャンバー50に対するパーティクル除去処理が完了したことを示す信号を、搬送ロボット32を制御する制御装置に送る(S212)。これにより、マスクブランクス2が、搬送ロボット32によって、アライメントチャンバー50に搬送される。
マスクブランクス2がアライメントチャンバー50に搬送されると、制御部230は、アクチュエーター54の駆動部58を動作させる(S214)。これにより、マスクブランクス2が3つの位置決めピン52に押し当てられて位置決めされる。そして、制御部230は、処理を終了する。
位置決めされたマスクブランクス2は、搬送ロボット32で、アライメントチャンバー50からメインチャンバー20内に搬送され、ステージ22に配置される。
第2変形例では、マスクブランクス2をアライメントチャンバー50内に搬送する前に、アライメントチャンバー50内のパーティクルを除去できる。
3. その他
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
上述した第1実施形態では、露光装置100が、電子ビームを用いて露光する装置である場合について説明したが、露光装置100は、レーザー光を用いて露光する装置であってもよいし、レーザー光以外の光を用いて露光する装置であってもよいし、イオンビーム等の電子ビーム以外の荷電粒子ビームを用いて露光する装置であってもよい。第2実施形態に係る露光装置200についても同様である。
第1実施形態および第2実施形態では、露光対象がマスクブランクス2である場合について説明したが、露光対象はこれに限定されない。例えば、露光対象は、半導体基板などであってもよい。例えば、露光装置100および露光装置200は、半導体基板を回路パターンが形成されたフォトマスクで覆って光を照射し、半導体基板上のフォトレジストを露光する装置であってもよい。
上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、さらに種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成を含む。実質的に同一の構成とは、例えば、機能、方法、及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成である。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
2…マスクブランクス、2a…上面、10…描画部、20…メインチャンバー、22…ステージ、30…ロボットチャンバー、32…搬送ロボット、40…エアロックチャンバー
、42…第1仕切り弁、44…第2仕切り弁、50…アライメントチャンバー、51…チャンバーベース、52…位置決めピン、53…排気ポート、54…アクチュエーター、56…アーム装置、58…駆動部、60…排気装置、100…露光装置、200…露光装置、210…パーティクルモニター装置、220…ブロー装置、230…制御部、510…ガイド装置、512…レール、514…ブロック、520…台座、530…アーム、532…基部、534…突出部、540…容器、542…開口部、543…側壁部、544…孔、544a…第1開口、544b…第2開口、546…天井部、550…第1カバー、552…第1部分、554…第2部分、560…第2カバー

Claims (9)

  1. 露光対象を移動させるアクチュエーターと、
    前記アクチュエーターが収容されたチャンバーと、
    を含み、
    前記アクチュエーターは、
    レール、および前記レールに沿って移動可能なブロックを備えたガイド装置と、
    前記ブロックに固定され、前記ブロックの移動に伴って移動可能なアームと、
    前記ガイド装置を収容し、前記アームを通す開口部を有する容器と、
    前記容器内に配置され、前記開口部を塞ぎ、前記アームの移動に伴って移動する第1カバーと、
    前記容器の外に配置され、前記開口部を塞ぎ、前記アームの移動に伴って移動する第2カバーと、
    を有する、露光装置。
  2. 請求項1において、
    前記露光対象の露光面に垂直な方向から見て、前記第2カバーは、前記露光対象と重なっている、露光装置。
  3. 請求項1または2において、
    前記アームは、前記ブロックの移動に伴って第1方向および前記第1方向とは反対方向の第2方向に移動可能であり、
    前記アームは、基部と、前記基部から前記第1方向に突出した突出部と、を有し、
    前記第2カバーの前記第1方向の先端と前記基部との間の距離は、前記突出部の先端と前記基部との間の距離よりも大きい、露光装置。
  4. 請求項1ないし3のいずれか1項において、
    前記容器には、前記容器内を排気するための孔が設けられている、露光装置。
  5. 請求項4において、
    前記レールが配置されたチャンバーベースを含み、
    前記孔と前記チャンバーベースとの間の距離は、前記ブロックと前記チャンバーベースとの間の距離よりも小さい、露光装置。
  6. 請求項5において、
    前記孔は、前記容器の外側の第1開口と、前記容器の内側の第2開口と、を有し、
    前記第1開口は、前記チャンバーベース側を向いている、露光装置。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1項において、
    前記チャンバーには、排気ポートが設けられている、露光装置。
  8. 請求項1ないし7のいずれか1項において、
    前記チャンバー内に配置され、パーティクルを計測するパーティクルモニター装置を含む、露光装置。
  9. 請求項8において、
    前記チャンバー内に配置され、パーティクルをブローによって除去するブロー装置と、
    前記パーティクルモニター装置におけるパーティクルの計測結果に基づいて、前記ブロー装置を制御する制御部と、
    を含む、露光装置。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014071208A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006234003A (ja) 2005-02-22 2006-09-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd 直動機構
JP2017111243A (ja) 2015-12-15 2017-06-22 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

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