JPS5832831A - クメン酸化生成物の分解法 - Google Patents

クメン酸化生成物の分解法

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JPS5832831A JP57107509A JP10750982A JPS5832831A JP S5832831 A JPS5832831 A JP S5832831A JP 57107509 A JP57107509 A JP 57107509A JP 10750982 A JP10750982 A JP 10750982A JP S5832831 A JPS5832831 A JP S5832831A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、クメン酸化生成物の分解法に関する。
フェノールは、クメンをクメン上1口にルオキシド(0
1−IP)に空気酸化し、次いでCH、P f(酸触媒
の分裂によりフェノールとアセトンとすることによって
、製造される。COPの分解は非常に発熱性の反応であ
り5この反応は通常商業的規模で連続的にかきまぜた反
応器または逆混合した反応器内で実施する。このような
反応において。
CHPの小さい部分のみがいずれの所定の時間において
も未反応であり、そして反応媒質はC1−IPの分解生
成物5すなわち、フェノールおよびアセトンと、使用し
た溶i′(例、クメン)およU; CHPと一緒に反応
器へ添加された他の物質とから本質的に成るっクメンの
酸化の間、少量のジメチルフ(4) エニルカルビノール(DMPC)トアセトフエノンも生
成する。酸触媒の存在下に、D M P (3は脱水し
てα−メチルスチレン(AMS)、有用な副生物となる
。純粋なりMPCからAMSの非常して高い収率、たと
えば、98慢を、300Cの酸性シリカを用いる脱水時
に得ることができる。しかしながら、フェノールの存在
で、より詳しくは工業用CHP/DMPC混合物の分解
において溶媒であるフェノール/アセトン/クメン中で
、究極のAMSの収率は通常DMPCの約50〜60モ
ル係である。主な副生物はAMS二量体とクミルフェノ
ールであり、これらは商業的価値がない。クミルフェノ
ールの形成も、フェノールの収率な低下するっ 米国特許2,757,209号(G、G、Toris 
) It、反応を2工程で実施することにより、生成し
りAMS二量体とりεルフェノールの量を実質的に減少
できることを教示しているっ第1工程において、cHp
yかきまぜたあるいは逆混合した反応器内で少量の触媒
として二酸化イオウと触媒調節剤と(5) して水の存在下に分解する。好ましい条件は、次のとお
りである:温度45〜65C1二酸化イオウ50〜50
0 ppm、水2〜5重量%。これらの条件下で5反応
器から抜き出された反応混合物中のC)IPの濃度は5
重量係より少ないが51重量係より多い、第2工程にお
いて、第1反応器から抜き出された混合物を第2反応器
内で、必要に応じて追加の触媒とともに、加熱して、D
MPCを脱水してAMSとするうこの第2反応器はバッ
チ反応器であるか、あるいは連続のプラグフローの反応
器である。好ましい条件は、次のとおりである:温度1
10〜120C,反応時間5〜15分。
AMSの三量化またはAMSとフェノールとの副生物を
生成する反応を避けるために、AMSの生成がいったん
完結したとき、注意して高温度の反応を停止しなくては
ならないっ 米国特許4,016,213号(C,Y、Yel et
 at ) ’vL逆混合反応器を用いてDMPCの脱
水な避けることからなる、上の方法の変更を教示してい
る。逆混合反応器から抜き出された混合物を塩基で直ち
(6) に処理し、引き続いてDMPCを最終蒸留から回収し、
ここで粗製フェノールはオーバーペッドでk〕す、そし
てD M P Cはアセトフェノンとともに残液中に存
在するっ 米国特許2,668,180号(H,Boardman
  )は、D M P CとC)IPが酸縮合触媒の存
在で相互に作用してジクミルRルオキシド(DCP)を
生成することを教示している。反応媒質は過剰のDMP
Cである。使用する触媒の例は、p−トルエンスルホン
酸、硫酸および三フッ化ホウ素である。
Ko 、TsunodaおよびT、Kato + N1
ppon KagaguZasshi +Vol 81
 + A2 + 311]−4’−ジは、均質なベンゼ
ン/酢酸溶液中で触媒として過塩素酸を用いて、また2
相のベンゼン/水混合物中で触媒として硫酸を用いて、
D M 、P CとCI−IPとの反応を研究した。v
lらの報告によると、2種類の反応が同時に起こる: 
 a)DMPC;とC1−IPが縮合してDCPが生成
する反応、およびCHI□Pが分解してフェノールとア
セトンが生成する反応。
これらの最後の2つの文献は、工業用CHPの(7) 酸触媒分解によりDCPも生成しつることを示してイル
。M、S、Kharash et al+ Journ
al of OganieChemistry+ Vo
l 、 753−Z−ジ(1950)は、DCPが酢酸
溶液中で触媒量の過酢酸の存在で分解してフェノール、
アセトンおよびAMS二量体になることを報告しfcっ
したがって、DCPが工業用C)(Pの分解の間に生成
すること、そしてAMSの二量体の少なくとも一部分が
DCPの引き続く分解から生ずる過程の間に生成するこ
とが起こりつる。
本発明によれば、 a)クメンセドロ綬ルオキシ(CHP)とジメチルフェ
ニルカルビノールCDMPC)、!=を含有する、クメ
ン酸化生成物混合物を酸触媒と、逆混合(back −
mix )  反応器内で5反応器合物の約0.4〜約
4.5重量%の水の存在下に、約50c〜約9Orの温
度において、十分な時間反応させて、逆混合反応混合物
のcap濃度を約0.5〜約5.0重量%の間に低下し
、かつクメン酸化生成物中のD Ni P Cの少なく
とも4ozvジクミルはルオキ(8) シト(DCP)に変え、 b)逆混合反応混合物を約50tZ’〜約90Cにおい
てプラグフロー (plug−b1σ、v)ノ条件下に
十分な時間反応させて、cHpg度が約0.4%よりも
大きくない第二混合物を生成し、そして C)この第2反応器合物を約120〜約15DCの間の
温度においてプラグフローの条件下に十分な時間反応さ
せて、DCPの少なくとも90%をAMS、フェノール
およびアセトンに変える、 工程からなることを特徴とするクメンヒト90ペルオキ
シ)” (G t−I P )とジメチルフェニルカル
°ピノールCDMPC)とを含有するクメン酸化生成物
混合物を分解して、副生物の生成を低下゛させてフェノ
ール、アセトンおよびα−メチル゛スチレン(AMS 
)Y生成する方法が、提供される。
こうして、本発明は、意図的に、工程(a )において
CHPt9度が少なくとも0.5%にと(9) とまっている間D M−P Cの実質的な量をDCPに
変え、工程(b)においてAMSが実質的に生成しない
おだやがな条件下にCHF2度を04%以下に低下し、
そして工程(c)において、DMPCおよびDCPをA
MSに急速に変えることを包含するっ工程(c)の間の
DCP濃度は、好ましくは、たとえばガスクロマトグラ
フィーにより監視し、そしてDCPの0.5〜5%が未
分解のままであるとき、反応を冷却または中和により停
止する。
(10) ゛工業用CHPをかきまぜたまたは逆混合反応器中で酸
触媒の存在で分解すると、変化量のDCPが生成するこ
とを、われわれは発見した。生成するDCPの量は反応
混合物中のCHPの濃度が増加するとともに増加し、そ
してそれはCHP供給物中に存在するDMPCの量70
モル係程度に高いことがある。DCPは実質的なCHP
の分解を生ずる条件下で比較的安定であり、そしてそれ
はより強制的な条件下で、たとえば、高い濃度の酸触媒
の存在であるいは高い温度において、分解して主として
フエノーノペアセトンおよびAMSを生成しうる。高い
AMSの収率はDCPから120〜150℃の温度範囲
において得られることがわかった。DCPからAMSの
生成に好適な同じより高い温度の条件は、またDMPC
のAMSへの脱水に好適である。したがって、かきまぜ
たもしくは逆混合反応器内で工業用CI−I Pの酸触
媒分解から生ずる反応混合物中に存在するDMPCおよ
びDCPの両方をその混合物を120〜150°Cに制
限された時間プラグフロー反応器中で、必要(11) に応じて酸触媒を加えて、加熱することにより転化する
ことが便利である。プラグフロー反応器は、一般に、反
応混合物を所望温度にする熱交換器と、それと直列に配
置され、反応を完結する管またはそらせ板付き槽とから
構成される。この反応器の後者の部分は、本質的に等温
である。この反応において生成するAMSの収率はDC
Pおよび残留DMPCが分解するとき時間とともに増加
し、次いで最大となり、そしてAMSがさらに反応して
AMS二量体とクミルフェノールを生成−するにつれて
減少する。最適な反応時間は、温度および混合物中に存
在する酸触媒と水の濃度に依存する。
一般に、より高い温度、およびより高い濃度の酸および
より低い濃度の水の存在において、時間はより短かい。
プラグフロー反応器内の反応条件を最適とする最良の方
法は、DCP、濃度を監視することであることがわかっ
た。添付□゛した第2図は、典型的な供給原料を等温プ
ラグフロー反応器内で種々な時間種々な温度(矢印の上
の数字で示す。′c)に加熱(12) することによって、生成したAMSの収率と未反応のま
まであるDCPの百分率を示す。この特定の供給原料は
、工業用CHP (クメン中86重量%、また3、0重
量%のDMPClo、4重量%のアセトフェノンおよび
02重量%のD’CPを含有する)逆混合反応器内で、
28分の滞留時間の間、75℃に、75p−の硫酸およ
び1重量%の添加した水の存在で、分解することによっ
て製造した。
反応混合物は096重量%のCHP、0.69重量%の
DMPClo、92重量%のAMS、2.40重量%の
DCPおよび少量のAMS二量体、クミルフェノールお
よびクミルフェニルエーテルヲ含有した。この図面に示
したものに類似するプロットは、い(つかの他の供給原
料組成物から出発して得た。これらのプロットは、2つ
の共通の特徴を有する: a)DCPの消失は、実際的に興味あるすべての条件下
で、対数目盛りで直線である、すなわち、それは第一次
の動力学に従う、そして b)最大のAMSの収率は、残留するDCP濃(13) 度が等温プラグフロー反応器中に供給されるDCP濃度
の約0.5%〜約5係の間であるとき得られる。
DCP濃度は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマト
グラフィーまたはヨード滴定法により、好適に検知でき
る。プラグフロー反応器の出口におけるDCP濃度は比
較的低(、こうして所望のDCP濃度に大きい分析誤差
を生ずるので、反応器の中間点においてDCPを測定す
ることはいっそう好適でありうる。DCPの直線性は対
数目盛り上で消失するので、反応器の出口におけるDC
P濃度は外挿により見いだすことができる。
DMPCをDCPに実質的に転化させるために、かきま
ぜ反応器内の工業的CHPの分解、すなわち、工程(a
)から生ずる反応混合物中に存在する、CHPの濃度を
0.5〜5重量係、好ましくは約0.8〜約2重量係と
することが必要である。未反応のCHPの百分率は、酸
触媒の濃度、反応温度、水の濃度および反応器内の滞留
時間を適当に組み合わせることによって調整できる。こ
れらの(14) 要素の特定の組み合わせの選択は、日常実験によって容
易に決定される。こうして、二酸化イオウに加えて、種
々の強い安定な鉱酸、たとえば、硫酸、過塩素酸などを
使用でき、あるいはルイス酸、たとえば、三ツフッ化ホ
ウ素または塩化アルミニウムを使用でき、あるいは有機
酸、たとえば、トルエンスルホン酸を使用できる。典型
的な酸のレベルは60〜400ppm(0,003〜0
.04係)である。DMPCとCHPとのDCPを生成
する所望反応により、DMP、Cの他の縮合によりある
いはDMPCのAMSを生成する脱水により生成する水
に加えて、逆混合反応器へ水を加えることが望ましい。
工程(a)において存在する好ましい水の濃度は、0.
8〜1.5重量係である。
DMPCの縮合および分解から生ずる水は、DMPCが
酸化生成物の約6〜7係でありかつDMPCの約70〜
80チが第1工程において縮合されるかあるいは脱水さ
れるとき、016〜0.7チであろう。第1工程に望ま
しい水のレベル、04〜45%、好ましくは0.8〜1
5%はDMPCから(15) 生成する水により達成することができ、あるいは、追加
の水を必要とすることがある。
工程(a)のための温度は50〜90℃、好ましくは6
0〜80℃である。50℃より低いと、反応の熱の除去
は非効率的となり、そして90’Cより高いとCHPか
ら生成するフェノールとアセトンの収率は有意に減少す
る。反応器内の滞留時間は、温度と、反応混合物中の酸
および水の含量に依存する。典型的な組み合わせは、7
0℃、70ppの硫酸触媒、1%の添加した水、20分
の滞留時間である。これらの条件下で、反応生成物は0
.5〜5重量係のCHPを含有し、DMPCの一部分は
未反応のままで残り、一部分はAMSに転化し、そして
大部分はDCPに転化される。わずかに少量のAMS二
量体とクミルフェノールが生成する。
この反応器の生成物0円、引き続いて、より高い温度に
第2プラグフロー反応器内で加熱することができる。こ
の処理は残留CHPをフェノールとアセトンに分解し、
またDCPをフェノール、ア(16) 七トンおよびAMSに分解しかっDMPCをAMSに分
解する。
しかしながら、CHPのフェノールおよびアセトンへの
酸触媒による分解は90℃よりも低い温度において高収
率で進行することが、また発見された。より高い温度で
、より多くの量のDMPC関連副生物が生成する。未反
応のCHPが第1反応器の反応生成物中に存在する程度
にかつそれが第2反応器内の高温において分解する程度
に、少ないが有意のフェノールおよびアセトンの収率の
損失は起こる(以下の実施例1〜5に説明するように)
。これらの損失は、すでに述べた2つの反応器の間に第
3反応器を配置することによって、避けることができる
ことを発見した。この反応器はプラグフローであり、そ
して第1反応器の温度にほぼ等しい温度に維持される。
滞留時間は数分である。必要な滞留時間は短かいので、
この反応器は単に他の2つの反応器の間を接続する管で
あることができる。残留するCHPはこの反応器内で0
.4係以下、好ましくは0.2係以下に実質的に(17
) 分解されるが、これに対してDCPとDMPCは本質的
に影響を受けない。次いで、この反応器からの生成物は
、DCPおよびDMPCを高温において分解するために
、下流に送ることができる。
本発明を、米国特許2,757,209号の図面に匹敵
しうる第1図を参照しながら、説明する。工程(a)は
、逆混合反応器1内で50℃〜90’Cにおいて5〜1
20分の滞留時間を達成する条件下に、実施する。工業
用CHP、酸触媒および水を反応器へそれぞれ人口2,
6および4を通して導入する。所望の温度は冷却器5を
通る循環により維持する。CHPの分解は強(発熱性で
あるため、冷却器5における消費時間を含む反応器1内
の最小の滞留時間は冷却器の設計および冷却流体の性質
により決定される。はぼ5分の実際的下限は、冷媒が水
であるとき、付与される。
これにより短かい滞留時間は冷却系を用いるとき達成で
きるが、これは有用な目的に役立たない。
滞留時間の上限は温度、反応混合物の酸分および水分に
依存する。はぼ120分の滞留時間は、上(18) 限と考えることができる。好ましい滞留時間は、10〜
60分である。
反応器1からの生成物は、次に1本の管6を通して加熱
器7へ送る。反応の工程(b)は管6中で実施し、この
管は0.1〜10分の滞留時間を提供するために十分な
容量を有する。管6内の温度はほぼ反応器1内の温度と
同一である。冷却手段は設置しない。なぜなら、この工
程において起こる唯一の有意の反応は、工程(a)にお
いて05〜5チのレベルにすでに減少した残留CHPの
分解であるからである。加熱器7において、生成物は1
20〜150℃に加熱され、次いで・ξイブ8を通って
冷却器9へ送られる。加熱器7およびパイプ内の合計の
滞留時間は、DCPを分解しかつDMPCをAMSに脱
水し、ならびに、残留CHPを完全に分解するために十
分なものである。最良のAMSの収率は、加熱器7内の
滞留時間がパイプ8内の滞留時間(少なくともきらに6
0秒)に比べて比較的短かい(たとえば60秒以下)で
あるとき、得られる。なぜなら、そのようにして、(1
9) DMPCの大部分はAMSの生成に好適であるより高い
温度において脱水されるからである。パイプ8は大口8
A、中間点8Bおよび出口8Cに試料採取口を有し、D
CPの濃度を監視する。冷却器9において、反応生成物
は60〜50°Cに冷却され、次いで陰イオン交換樹脂
床10に送られて、酸触媒を中和される。次いで、中和
された生成物は種々の成分の分留および回収のため蒸留
トレインへ送られる。
実施例1〜5;純粋なCHPの分解 53重量%のフェノール、32重量%のアセトンおよび
15重量%のクメンから構成された混合物の0.8dを
、2チの水性硫酸の0.04 mlと混合した。生ずる
混合物は05チの水とIDOppmの酸を含有した。そ
れを、温度計と磁気をかきまぜ機とを備える2ml容の
密閉反応器へ入れた。この混合物を油浴中に入れ、70
°Cに加熱し、次いでシリコーンゴムのセプタム゛(s
eptum)  を通して注射器により、0.75 m
lの純粋なCHPを7分以内に導入した。温度をCHP
の添加の間とその後1(20) 分間70℃に維持した。次いで、反応混合物を冷却し、
ガスクロマトグラフィーによりフェノール、AMS、D
MPC1AMS二量体、クミルフェノール、クミルフェ
ニルエーテルお、よびアセトフェノンについて分析した
。フェノール以外のすべての成分は、CHPの望ましく
ない分解を表わす(なぜなら、DMPCは初め実質的に
存在しなかったからである)。簡単のため、AMS、D
MPC。
AMS二量体、クミルフェノールおよびクミルフェニル
エーテルを当量基準で一緒に加え、そして1生成したフ
ェノールの1モル当りの生成したカルビノールの当量”
として報告した。アセトフェノンは、その生成がDMP
Cの中介を含まないので、別に報告した。実験は種々の
温度において反復し、そして結果を表I中に要約する。
表■のデータから明らかなように、CHP分解の温度が
増加するにつれて、生成されるカルビノール当量および
アセトフェノンの量も増加する。これらの副生物による
フェノールの収量の損失は90℃において0.7モル係
であり、そしてより高い温度にお(21) いて非常に有意となる。
DMPCも初めに存在するとき、表Iに示すCHPから
のカルビノール当量はDMPCからのカルビノール当量
に加えられることを認識すべきである。
表1 1 70、0.36  0.060.422 900.
61  0.06 0.70  ’31101.24 
 0.15 1.4941222.19  0.25 
2.44514.65.04  0.69 5.75初
めに0.5重量係の水と100p−の硫酸を含有するフ
ェノール/アセトン/クメン溶液中において。
(22) 実施例6〜8: DMPCの脱水 6重量%のDMPC115重量%のクメンおよび50 
ppmの硫酸と等モル量のフェノールおよびアセトンか
ら構成された残部とを含有する原料溶液を、いく本か融
点管の間に分配し、それらを引き続いて密閉し、かきま
ぜた油浴中で種々の時間加熱した。次いで管を水浴中へ
の浸漬により急速に冷却し、そして内容物をガスクロマ
トグラフィーにより分析した。生成するAMSO量は時
間とともに最大収率に増加し、次いでAMS二量体とク
ミルフェノールの生成量が増加するにつれて、減少した
。表■に、各温度において得られた最大AMS収率、な
らびにその収率に到達するために要する加熱時間を記載
する。表■のデータから明らかなように、AMSの最良
の収率は90℃以上の温度、たとえば、120°Cおよ
び160℃の温度において得られた。
(23) 表■ 68068   15 7 120  86   1.5 8130  87   1.0 50 ppmの硫酸を含有するフェノール/アセトン/
クメン中において。
実施例1〜8を一緒に考察すると、明らかなように、C
HPとカルビノールとの所定の混合物について、CHP
からフェノールおよびカルビノールからAMSへの最高
の収率は単一温度において得ることはできない。なぜな
ら、第1の転化は90℃以下の温度において最良の収率
を与えるが、これに対して第2の転化は90℃より高い
温度において最良の収率を与え□るからである。
6.2重量%のカルビノールおよび0.4重量%(24
) のアセトフェノンをも含有し、残部がクメンである、工
業用CHP、86重量%を50°Cに維持されたかきま
ぜた容器中に送入した。同時に、フェノール中の硫酸の
1%溶液を前記容器に、反応混合物中の55 ppmの
硫酸の濃度を維持するために十分な速度で、送入した。
反応生成物を容器から連続的に抜き出して、容器内の混
合物の量を一定に維持した。容器内の反応混合物の滞留
時間は17分であった。2時間連続的に実施した後、反
応生成物をガスクロマトグラフィーによって分析し、そ
して1%のCHP、0.4%のアセトフェノンおよび6
゜4%の合計のカルビノール当量を含有することがわか
った。後者はDMPCとして報告したDMPCの反応に
より生成しうるすべての生成物の合計(重量%)として
定義される。カルビノール当量は次の成分から構成され
ていた(合計のカルビノール当量の当量%): AMS
18.0、DMPC15,8、AMS二量体10.0S
DCP46.5、クミルフェノール9.5.クミルフェ
ニルエーテル0.7゜ (25) 他の実施例を表■に要約する。
これらの実施例が示すように、CHPの有意の量が未反
応のままにとどまるようなおだやかな条件下で、CHP
を分解すると、DMPCはDCPへ実質的に転化する。
他方において、分解条件が非常にわずかのCHPが未反
応で残るようなものであるとき、有意な量のDCPは生
成しない。こうして、比較例12において、0.1重量
%のCHPが反応混合物中に残り、DMPC誘導生成物
のわずかに6.0モル%はDCPであり、そのうえ、D
MPCの大部分はAMS二量体とクミル/フェノールに
この比較例において転化された。
表 ■ 温度’C50607575 時間、分    17  13   13   30H
zSO< 、 T)T)m   50  50   5
0   75(26) 加えたH20重量%        0.5  1.0
 −アセトフェノン、重量%  0.4   0.4 
  0.4   0.4G)(P 、重量%     
1.0  0.9  1.2  0.1合計のCE、重
量%   3.4  3.4   ろ、4   3.6
AMS、GE  のモル% 18.0  8.7 22
.7  51.7DMPC,CEbのモル%15,8 
21.6  19・78.ろCPE、。  、、   
、、     0.7   1.8   1.6   
0.9DCP、   u   u    46.5  
 /S5.2  47.7   6−0クミルフエ 、、、   u   n    9.5  2.2  
4・6 13.1初期の組成二86重量%のCHP、3
.2重量%のDMPC。
0.4重量%のアセトフェノン、残部クメンbCF、−
カルビノール当量 CCPE−クミルフェニルエーテル 6重量%のDCP、15重量%、のクメン、1重量%の
水および50 ppmの硫酸誉誉有し、残部が等モル量
のフェノールとアセトンから構成された原料溶液をいく
本かの融点管の間に分配し、引き(27) 続いてそれらを密閉し、かきまぜた油浴中で種々の時間
加熱した。次いで管を水浴中の浸漬により急冷し、そし
て内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。A
MSの生成量は時間とともに最高収率まで増加し、次い
でAMSこ量体とクミルフェノールの生成量が増加する
につれて、減少した。表■に、各温度において得られた
最高のAMSの収率と、その収率に到達するのに要する
加熱時間を記載する。表■のデータから明らかなように
、AMSの最良の収率は100”0以上の温度、たとえ
ば、120〜150℃において得られる。
表■ 13      84      ’68     1
614  120、 82  6 15  130  88  4 16     140     89      31
7     150     90      1.5
(28) 実施例18 6.4重量%のDMPC:、 0.4重量%のアセトフ
ェノンおよび0.6重量%のDCPをも含有する工業用
86重量%のCHPを、2ml 7分の速度で6211
Ilのホールドアツプ容量のかきまぜたガラス容器へ送
入した。0.49重量%の硫酸水溶液を、この溶器に0
.02−l/分の速度でまた送入した。こうして、生ず
る反応混合物は1%の加えた水と49ppmの硫酸を含
有し、滞留時間は16分であった。
容器内の温度は75℃に維持した。反応器からの流出液
は2.7重量%のCHP、0.72%のDMPClo、
4重量%のアセトフェノン、4.2重量%のDCP、0
.47重量%のAMSおよび少量のクミルフェニルエー
テル、AMS二量体およびクミルフェノールを含有した
。反応器からの流出液を、75℃の浴中に浸漬した長さ
150cmのコイル状ポリテトラフルオロエチレン管に
通して供給した。
滞留時間は2.6分であった。この管からの流出液は0
.14%のCHPを含有し、他の成分は比較的未変化の
ままであった。
(29) 次に、この管の流出液を、130℃の浴中に浸漬した内
径2.2mmのステンレス鋼管に通して供給した。滞留
時間は1.5分であった。流出液を、冷水中に浸漬した
内径2.2mmのステンレス鋼管に通して、冷却した。
最終生成物は2,64重量%のAMs、0.4重量%の
アセトフェノン、0.26重量%I)DMPC,0,1
重ik%のDCP、0.16重量%のAMS二量体およ
び0.66重量%のクミルフェノールを含有し、残部の
他の成分は、ガスクロマトグラフィーにより分析すると
、フェノール、アセトンおよびクメンであった。最終生
成物の100gを110℃および2−67KPa (2
0mmHg)において短かい通路で蒸留すると、1.6
019の残留物が得られた。
実施例19(比較) 実施例18の実験を、次のように変更して、反復した。
すなわち、水を反応器に加えず、ポリテトラルオロエチ
レンの管を256nLに短が(シ、室温に維持し、内径
2.2mmのステンレス鋼管中の滞留時間は1分であり
、そして温度は115℃で(,30) あった。かきまぜた反応器の流出液は0.10重量%の
CT(P、0.4重゛量%のアセトフェノン、0.34
重量%のDMPCll、46重量%のAMS、 [1,
91重量%のDCP、 0.51重量%のAMS二量体
および0.4重量%のクミルフェノールを含有した。最
終生成物は2,02重量%のAMS、0.4重量%のア
セトフェノン、0.16重量%のDMPClo、60重
量%のAMS二量体および0.78重量%のクミルフェ
ノールを含有し、残りの成分は、ガスクロマトグラフィ
ーにより分析すると、フェノール、アセトンおよびクメ
ンであった。最終生成物の1DO9を110”Cおよび
2.67KPaの短かい通路で蒸留すると、2.63g
の残留物が得られた。
CHP分解混合物のガスクロマトグラフ分析80〜10
0メツシユの高性能クロモソーズ(Chromosor
b) W上に3%のQF−1および3%の○V−17を詰めた
、2フイート(61cIrL)×内径2inのパイレッ
クスカラムを用いた。カラムの充填はアプライド8・サ
イエンス・ラボラドI)−ズ・インコーホ(31) レーテッドから得た。カラムを50℃に1分間保持し、
次いで5℃/分で180°Cに加熱し、180°Cに3
分間保持した。注入温度は150℃であった。ヘリウム
をキャリヤーガスとして40m//分で使用した。溶出
時間は、次のとおりであった(分):クメン、1.6;
AMS、2.6;フェノール3〜5 ; DMPC15
ゆ2;アセトフェノン、5.7;CHP、人6:ヘキサ
メチルベンゼン(内部標準)11.9;クミルエーテル
、16,1;AMS二量体、17.6.18.6.19
.5および20.2に相当する0、0510.20/1
.[]010.23に等しい面積比の4つのピーク; 
DCP、20.2;クミルフェノール、22.6oDC
Pの量の決定において、DCPと最後の二量体ピークの
オーバーラツプのため、AMS二i体のDCPのピーク
への寄与について補正を適用した。DCPの定量 0.1重量%以下のDCPまできわめて信頼性があった
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明において用いる反応装置の略(32) 図である。 第2図は、DCPの初期のモル%およびAMSの収率と
反応時間との関係を示すグラフである。 1 逆混合反応器 2.3.4  人口 5 冷却器6
 管  7 加熱器  8 ノミイブ8A 入口  8
B 中間点  8C出口9 冷却i   10  陰イ
オン交換樹脂床特許出願人  アライト8・コーポレー
ション(33) 207 第1頁の続き 0発 明 者 フレッド・ウィリアム・コッフアメリカ
合衆国ニューシャーシ ー州078530ング・バレー・バ ートレー・ロード196 手続補装置(方式) 1、事件の表示 昭和57年 析 願第107fD7 号りメン内饗イレ
士へ゛イ檜/]4プ゛術♀〉久3、補正をする者 事件との関係  出 願 人 住所 7?)#  了り4F′・ コーf〜oL/−ショ/4
、代理人 5、補正命令の日付  昭和ダγ年り月β日(発送日)
6゜補正の対象 図   面 Z補正の内容

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、a)クメンヒドロにルオキシト5(C)IP)とジ
    メチルフェニルカルビノールCDMPC>とを含有する
    クメン酸化生成物混合物を酸触媒と、逆混合反応器内で
    、反応混合物の約04〜約4,5重量係の水の存在下に
    、約50C〜約90Cの温度において、十分な時間反応
    させて、逆混合反応混合物のCHP濃度を約0.5〜約
    5,0重量係の間に低下し、かつクメン酸化生成物中の
    DMPCの少なくとも40%をジクdルRルオキシドC
    DCP )に変え、b)逆混合反応混合物を約50C〜
    約9DCにおいてプラグブローの条件下に十分な時間反
    応させて、CHP濃度が約0.4%よりも大きくない第
    二混合物を生成し、そして C)この第2反芯温合物を約120〜約150Cの間の
    温度においてプラグフローの条件下に十分な時間反応さ
    せて、DCPの少なくとも90チい) をAMS、フェノールおよびアセトンに変える、工程か
    らなることを特徴とするクメンヒビロ深ルオキシド(C
    )IP)とジメチルフェニルカルビノール(DMPC)
    とを含有するクメン酸化生成物混合物を分解して、副生
    物の生成を低下させてフェノール、アセトンおよびα−
    メチルスチレン(AMS ) &生成する方法。 2、逆混合反応混合物は約0.8〜1.5係の水と約5
    0〜約10[3ppmの二酸化イオウまたは硫酸を含有
    し、そして約60〜約80Cの間である特許請求の範囲
    第1項記載の方法。 ろ、工程b)の時間はOHP濃度を約0.2チより多く
    ない程度に低下させるのに十分である特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 4、工程1))からの生成物を工程C)の温度に30秒
    以内で加熱し、次いでその温度に少なくとも60秒間さ
    らに維持する特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、d)前記工程C)の間DCPの濃度を測定し。 そして第2混合物中のDCPの約[1,5〜約5チが(
    2) 未転化のままであるとき、反応混合物を100C以下に
    冷却して反応を停止する、 工程をさらに含む特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、a)フェノール、アセトン、クメンおよびジクばル
    Rルオキシドからなる第1混合物を、約120C〜約1
    500の間の温度に、プラグフローの条件のもとに加熱
    し、 b)ジクミルはルオキシドの濃度を測定し、C)ジクミ
    ルはルオキシドの濃度が前記第1混合物のジクミルRル
    オキシ)” n 6度の約0.5〜約5.0チの間であ
    るとき、反応0)塊を10口C以下に冷却して反応を停
    止し、α−メチルスチレンからの副生物の生成を減少す
    る、 工程からなることを特徴とするフェノール−アセトン−
    クメン溶液中でα−メチルスチレンな製造する方法。 :・1 ・・ご Z 前記側足工程は反応の塊のアリコートをガスクロマ
    ゛トゲラブイーにより分析し、そしてジクミルはルオキ
    シドのピークの面積を測定すること(3) からなる特許請求の範囲第6項記載の方法っ8、前記第
    1混合物を前記温度に60秒以内に加熱し、次いで前記
    温度に少なくとも60秒間さらに維持する特許請求の範
    囲第6または7項記載の方法。
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