JPS5826319A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5826319A JPS5826319A JP12391581A JP12391581A JPS5826319A JP S5826319 A JPS5826319 A JP S5826319A JP 12391581 A JP12391581 A JP 12391581A JP 12391581 A JP12391581 A JP 12391581A JP S5826319 A JPS5826319 A JP S5826319A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone
- magnetic substance
- magnetic
- substance layer
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスパッタリング蒸着法等も含めた真空蒸着法に
より基板上に形成され金属強磁性体を主成分とする磁性
層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
より基板上に形成され金属強磁性体を主成分とする磁性
層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録用の磁性層に蒸着薄膜を用いることの優位性は
、飽和磁束密度が犬であるため、厚さの薄い磁性層とす
ることができ、丑だ、抗磁力も比較的高いものが得られ
るので高密度記録に有利となることである。蒸着薄膜の
他の利点は真空蒸着。
、飽和磁束密度が犬であるため、厚さの薄い磁性層とす
ることができ、丑だ、抗磁力も比較的高いものが得られ
るので高密度記録に有利となることである。蒸着薄膜の
他の利点は真空蒸着。
スパッタリング蒸着等の方法に」：り薄くかつ厚さの一
様な膜が容易に得られることである。これらの理由から
蒸着薄膜を磁気記録用の行別として用いる傾向は近年増
加しつつある。例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どのプラスチック基体上に蒸着によりコバルトを主体と
した合金の磁性層が形成されたビデオ用磁気テープが開
発されている。
様な膜が容易に得られることである。これらの理由から
蒸着薄膜を磁気記録用の行別として用いる傾向は近年増
加しつつある。例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どのプラスチック基体上に蒸着によりコバルトを主体と
した合金の磁性層が形成されたビデオ用磁気テープが開
発されている。
ところで蒸着により形成された磁性層は一般に空孔が多
く空気中で腐食しやすい。そのため、記録、再生時に、
磁性層に磁気ヘッドが摺接することにより磁性層がはが
れてノイズが発生したり、あるいは記録、再生がまっ／
ζく不能となるような実用１一致命的な欠陥が発生ずる
。そこで、金属強磁性体を主成分とする磁性層の耐食性
及び耐摩粍＋Ｊ二を改善する方法として、従来磁性層表
面に有機物層や面ｊ食性の高い金属あるいは金属酸化物
層を形成して保護被膜とする方法や、金属磁性薄膜を冬
湿空気中で加熱処理したり、酸化性溶液中に浸漬処理す
ることにより表向酸化層を形成して、保護被膜とする方
法が行なわれていた。しかし、これらの方法では次の」
：うな問題が生じていた。すなわち、磁性層」−に有機
物層や金属あるいは金属酸化物を被覆する方法では、均
一でピンホールがない保護被膜１〜を形成するためには
０．１ミクロン以−にの膜厚を要する。その／こめ、磁
気ヘッドと磁性層との実効距ガ１が長くなり、記録密度
が低下する。一方、金属磁性薄膜を多湿空気中で加熱処
理し、保護酸化被膜を形成する方法では、磁性層が電解
メッキ、無電解メッキ等のメソギ法で形成されている場
合には磁性層がち密であるため、保護セ１．の高い酸化
被膜が形成される。しかしながら、真空蒸着法により形
成される磁性薄膜は周知の通り）、１；体上において一
次元的に成長した粒子群から構成されている／こめ、ピ
ンホールの多い薄膜となっている。そのため、沙湿空気
中で加熱処理すると、水蒸気日：ビンホール中で毛管凝
縮を起し、液状の水となって磁性体表１（ｉｉ （Ｃ気
腔イ’ｌ−：のない水酸化物を形成させ、＝Ｆ、 ｌｃ
、磁子′１層を爬食させる。−４、／Ｃ金属磁性’１．
’；膜を７１ｊ式処ＩＩＪｊにより保護酸化５詭膜を形
成する方法で（ｃＪ六処理液への浸６′？、乾燥Ｌ（“
１１が入り、広い面積の磁１イ１層に７’Ｊ して均一
な酸化被膜を形成することは極めてｔ１１シい３．さら
に、溶液中の中不純物が表向に旬着残留することにより
、耐食性が低下する。
く空気中で腐食しやすい。そのため、記録、再生時に、
磁性層に磁気ヘッドが摺接することにより磁性層がはが
れてノイズが発生したり、あるいは記録、再生がまっ／
ζく不能となるような実用１一致命的な欠陥が発生ずる
。そこで、金属強磁性体を主成分とする磁性層の耐食性
及び耐摩粍＋Ｊ二を改善する方法として、従来磁性層表
面に有機物層や面ｊ食性の高い金属あるいは金属酸化物
層を形成して保護被膜とする方法や、金属磁性薄膜を冬
湿空気中で加熱処理したり、酸化性溶液中に浸漬処理す
ることにより表向酸化層を形成して、保護被膜とする方
法が行なわれていた。しかし、これらの方法では次の」
：うな問題が生じていた。すなわち、磁性層」−に有機
物層や金属あるいは金属酸化物を被覆する方法では、均
一でピンホールがない保護被膜１〜を形成するためには
０．１ミクロン以−にの膜厚を要する。その／こめ、磁
気ヘッドと磁性層との実効距ガ１が長くなり、記録密度
が低下する。一方、金属磁性薄膜を多湿空気中で加熱処
理し、保護酸化被膜を形成する方法では、磁性層が電解
メッキ、無電解メッキ等のメソギ法で形成されている場
合には磁性層がち密であるため、保護セ１．の高い酸化
被膜が形成される。しかしながら、真空蒸着法により形
成される磁性薄膜は周知の通り）、１；体上において一
次元的に成長した粒子群から構成されている／こめ、ピ
ンホールの多い薄膜となっている。そのため、沙湿空気
中で加熱処理すると、水蒸気日：ビンホール中で毛管凝
縮を起し、液状の水となって磁性体表１（ｉｉ （Ｃ気
腔イ’ｌ−：のない水酸化物を形成させ、＝Ｆ、 ｌｃ
、磁子′１層を爬食させる。−４、／Ｃ金属磁性’１．
’；膜を７１ｊ式処ＩＩＪｊにより保護酸化５詭膜を形
成する方法で（ｃＪ六処理液への浸６′？、乾燥Ｌ（“
１１が入り、広い面積の磁１イ１層に７’Ｊ して均一
な酸化被膜を形成することは極めてｔ１１シい３．さら
に、溶液中の中不純物が表向に旬着残留することにより
、耐食性が低下する。
この」二うに、真空蒸着法により形成され／こ磁性層に
耐食性のすぐれる極めて薄い保護被膜を形成させる実用
的な方法は従来なかった。
耐食性のすぐれる極めて薄い保護被膜を形成させる実用
的な方法は従来なかった。
本発明は、従来における以上のような間）偵を解決する
／こめに、Ｊｉｌｊ体上に蒸着に６１：り形成７Ｎれ／
こ磁性層にオゾンを用いて酸化処理を行なうものである
。
／こめに、Ｊｉｌｊ体上に蒸着に６１：り形成７Ｎれ／
こ磁性層にオゾンを用いて酸化処理を行なうものである
。
本発明の一例をｄ）ａ明すると、ノ、（体上に蒸着によ
り形成され／こ例えばコハル１−（Ｃｏ）を主成分とす
る７ − 磁性層をオゾン濃度０．０１〜１０容量％の雰囲気中に
１０〜６０分間放置する。これにより磁性層表面及び粒
界に安定なＣｏの高次の酸化物すなわちＣＯの四三酸化
物を形成させる。なおここで、オゾン酸化処理を行なう
前の前処理として磁性層をチッソガスなどの不活性ガス
雰囲気中で１００°Ｃ程度の温度で熱処理し、吸着水、
結晶水を除去すく、それは次の理由に基づく。オゾン濃
度が０．０１容量係以下の領域においてはオゾンの酸化
作用かは、オゾンの酸化作用が強ずぎて、基体扛゛丹書
秀し吹プラスチックフィルムからなる場合、そのフィル
ムを構成する高分子をも酸化し分解することがある。
り形成され／こ例えばコハル１−（Ｃｏ）を主成分とす
る７ − 磁性層をオゾン濃度０．０１〜１０容量％の雰囲気中に
１０〜６０分間放置する。これにより磁性層表面及び粒
界に安定なＣｏの高次の酸化物すなわちＣＯの四三酸化
物を形成させる。なおここで、オゾン酸化処理を行なう
前の前処理として磁性層をチッソガスなどの不活性ガス
雰囲気中で１００°Ｃ程度の温度で熱処理し、吸着水、
結晶水を除去すく、それは次の理由に基づく。オゾン濃
度が０．０１容量係以下の領域においてはオゾンの酸化
作用かは、オゾンの酸化作用が強ずぎて、基体扛゛丹書
秀し吹プラスチックフィルムからなる場合、そのフィル
ムを構成する高分子をも酸化し分解することがある。
本発明により形成される例えばＣＯの四三酸化物は低次
の酸化物に比べ耐食性及び耐摩耗性にすぐれており、址
た、磁性層表面酸化層の自己修復作用をもっている。′
ｉ／こ、本発明によると、磁性層に低温で保護性の高い
高次酸化物を形成でき、このため高部処理に対して熱負
けなどの悪影響が生じるプラスチックフィルムを用いた
基体に蒸着され／ζ磁性層に対して、本発明は特に有効
である。
の酸化物に比べ耐食性及び耐摩耗性にすぐれており、址
た、磁性層表面酸化層の自己修復作用をもっている。′
ｉ／こ、本発明によると、磁性層に低温で保護性の高い
高次酸化物を形成でき、このため高部処理に対して熱負
けなどの悪影響が生じるプラスチックフィルムを用いた
基体に蒸着され／ζ磁性層に対して、本発明は特に有効
である。
なおここで、本発明によらず、通常の空気あるいは酸素
中で熱処理した場合にｄ、低次の酸化物が形成される。
中で熱処理した場合にｄ、低次の酸化物が形成される。
一方、この場合、四三酸化物を形成するだめには、一般
的に数１００′Ｃの温度を必要とする。
的に数１００′Ｃの温度を必要とする。
次に具体的に本発明の詳細な説明する。
ポリエチレンテレフタレートフィルノ、上ニコバルト８
０係、ニッケル２ｏ％の磁性層を真空蒸着法で形成させ
ノζものにオゾン処理を行なった。処理条件はオゾン濃
度１係、雰囲気温度５０°Ｃ９処理時間３Ｑ分間とした
。この」：うに本発明に」：り磁性層にオゾン処理した
磁気記録媒体および、比較として、未処理の磁気記録媒
体、１００°Ｃ９１時間の条件で磁性層を空気酸化した
磁気記録媒体をそれぞれ反射電子線回折（ＥＤ）、Ｘ線
光電子分７ 。
０係、ニッケル２ｏ％の磁性層を真空蒸着法で形成させ
ノζものにオゾン処理を行なった。処理条件はオゾン濃
度１係、雰囲気温度５０°Ｃ９処理時間３Ｑ分間とした
。この」：うに本発明に」：り磁性層にオゾン処理した
磁気記録媒体および、比較として、未処理の磁気記録媒
体、１００°Ｃ９１時間の条件で磁性層を空気酸化した
磁気記録媒体をそれぞれ反射電子線回折（ＥＤ）、Ｘ線
光電子分７ 。
先広（ＥＳＣＡ）、お」：びオージェ電子分光法（ＡＥ
Ｓ）により磁性層表面の酸化状態、および深さ方向の分
析を行なっ／こ。分析結果の一例として、ＡＥＳでの深
さ方向分析結果を第１図、第２図、第３図にそれぞれ示
す。なおここで、第１図は磁性層未処理の磁気妃録ｆｉ
’！ｌ（体について、第２図は磁性層を空気酸化処理し
／こ磁気記録媒体について、第３図は本発明に」：り磁
性層をオゾン処理しゾζ磁気記録媒体について、それぞ
れ分析した結果を示す。第１図に示すように、未処理品
は表面にＣｏｏ、Ｎｉ○が形成されているが、その酸化
層−二厚さ２０〜３０Ａ千７度の極めて薄い自然酸化層
であり、保護膜とはならない。まだ、第２図に示すよう
に空気酸化した磁性層表面にもＣ００，Ｎ ｉ Ｏが形
成されており、その酸化層の厚さはほぼ５０Ａであり、
前記の自然酸化層の厚さより増加している。しかし、形
成されている酸化層はコバルトの低次の酸化物であり、
保護膜としての作用は比較的弱い。これに対して、第３
図に示すように、オゾン処理ではＣＯ３Ｏ４゜Ｎｉ○が
形成されており、その酸化層の厚さはほぼ７０λであり
、前記空気酸化層の厚さ、１：り厚いことがわかっ／こ
。一方オシン処理で形成され／ζＣ０３０４Ｕ１、Ｃｏ
ｏ に比べ面１食１イ１：及び面１摩耗性にに１、るか
にすぐれており、表面酸化層の自己修復作用をもってい
る。さらに、オゾンは磁性体の粒界内部に侵入（〜、柱
状粒子表面ずなわぢ磁性体内部の活性部を安定なＣｏ３
Ｏ４に改質する作用を呈するものと考えられる。
Ｓ）により磁性層表面の酸化状態、および深さ方向の分
析を行なっ／こ。分析結果の一例として、ＡＥＳでの深
さ方向分析結果を第１図、第２図、第３図にそれぞれ示
す。なおここで、第１図は磁性層未処理の磁気妃録ｆｉ
’！ｌ（体について、第２図は磁性層を空気酸化処理し
／こ磁気記録媒体について、第３図は本発明に」：り磁
性層をオゾン処理しゾζ磁気記録媒体について、それぞ
れ分析した結果を示す。第１図に示すように、未処理品
は表面にＣｏｏ、Ｎｉ○が形成されているが、その酸化
層−二厚さ２０〜３０Ａ千７度の極めて薄い自然酸化層
であり、保護膜とはならない。まだ、第２図に示すよう
に空気酸化した磁性層表面にもＣ００，Ｎ ｉ Ｏが形
成されており、その酸化層の厚さはほぼ５０Ａであり、
前記の自然酸化層の厚さより増加している。しかし、形
成されている酸化層はコバルトの低次の酸化物であり、
保護膜としての作用は比較的弱い。これに対して、第３
図に示すように、オゾン処理ではＣＯ３Ｏ４゜Ｎｉ○が
形成されており、その酸化層の厚さはほぼ７０λであり
、前記空気酸化層の厚さ、１：り厚いことがわかっ／こ
。一方オシン処理で形成され／ζＣ０３０４Ｕ１、Ｃｏ
ｏ に比べ面１食１イ１：及び面１摩耗性にに１、るか
にすぐれており、表面酸化層の自己修復作用をもってい
る。さらに、オゾンは磁性体の粒界内部に侵入（〜、柱
状粒子表面ずなわぢ磁性体内部の活性部を安定なＣｏ３
Ｏ４に改質する作用を呈するものと考えられる。
次に前記のようにして作成した三ｆ小の磁気記録媒体の
面１食件及び面］摩耗性を調べる／ζめ、４０°Ｃ９相
対？Ｗ １ｆＪｌ ９０係の腐食試験を行ない、表面層
の変色状態、光学顕微鏡での錆の観察、および磁気ヘッ
ドに」：る引っかき試験を行なった。未処理品の場合、
１週間で黄色に変色しており、全面に錆発生が認められ
た。寸だ、引っかき試験で磁性層のはく前が起こった。
面１食件及び面］摩耗性を調べる／ζめ、４０°Ｃ９相
対？Ｗ １ｆＪｌ ９０係の腐食試験を行ない、表面層
の変色状態、光学顕微鏡での錆の観察、および磁気ヘッ
ドに」：る引っかき試験を行なった。未処理品の場合、
１週間で黄色に変色しており、全面に錆発生が認められ
た。寸だ、引っかき試験で磁性層のはく前が起こった。
空気酸化処理品でに］：１週間で部分的な錆発生が認め
られ、引っかき試験でも一部磁性層のはく肉１（が認め
らＪｌだ。これに対して、本発明によるオゾン処理品の
」場合、１ケ月の腐食試験でもほとんど錆は認められず
、寸だ、引っか − き試験においても何ら問題がないことが確認された。一
方、コバルト・ニッケルよりなる磁性層の表面に７０Ａ
程度の酸化保護被膜を形成させても、電磁変換特性には
４つたく問題がないことが確認された。
られ、引っかき試験でも一部磁性層のはく肉１（が認め
らＪｌだ。これに対して、本発明によるオゾン処理品の
」場合、１ケ月の腐食試験でもほとんど錆は認められず
、寸だ、引っか − き試験においても何ら問題がないことが確認された。一
方、コバルト・ニッケルよりなる磁性層の表面に７０Ａ
程度の酸化保護被膜を形成させても、電磁変換特性には
４つたく問題がないことが確認された。
以上のように、本発明によると、面１食性ならびに而［
摩耗性にすぐれる磁気記録媒体を容易に製造することが
できる。
摩耗性にすぐれる磁気記録媒体を容易に製造することが
できる。
第１図、第２凹かよび第３昭１ ｔｄ、−Ｃｏ Ｎ ｉ
よりなる磁性層表向におけるオージェ電子分光法による
深さ方向の分析結果を示す図で、このうち、第１図は磁
性層未処理の磁気記録媒体について、第２図は磁性層を
空気酸化処理した磁気記録媒体について、第３図は本発
明により磁性層をオゾン処理した磁気記録媒体について
、それぞれ分析した結果を示す。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第 ３ 図 ら窒ざび） 像−：Ｊ（Ａ）
よりなる磁性層表向におけるオージェ電子分光法による
深さ方向の分析結果を示す図で、このうち、第１図は磁
性層未処理の磁気記録媒体について、第２図は磁性層を
空気酸化処理した磁気記録媒体について、第３図は本発
明により磁性層をオゾン処理した磁気記録媒体について
、それぞれ分析した結果を示す。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第 ３ 図 ら窒ざび） 像−：Ｊ（Ａ）
Claims (4)
- （１）基体上に形成され強磁性金属よりなる磁性層をオ
ゾンを用い処理することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - （２）オゾンの濃度が０．０１〜１０容量係の範囲内に
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
記録媒体の製造方法。 - （３） 強磁性金属がコバルトを含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法
。 - （４）基体がプラスチックフィルムからなることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12391581A JPS5826319A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12391581A JPS5826319A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5826319A true JPS5826319A (ja) | 1983-02-16 |
| JPS644255B2 JPS644255B2 (ja) | 1989-01-25 |
Family
ID=14872488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12391581A Granted JPS5826319A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5826319A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0436219A2 (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for making magnetic recording media |
| US7513266B2 (en) | 2004-06-09 | 2009-04-07 | Shibuya Ryutsu Co., Ltd. | Collapsible umbrella |
-
1981
- 1981-08-06 JP JP12391581A patent/JPS5826319A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0436219A2 (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for making magnetic recording media |
| US7513266B2 (en) | 2004-06-09 | 2009-04-07 | Shibuya Ryutsu Co., Ltd. | Collapsible umbrella |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS644255B2 (ja) | 1989-01-25 |
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